黑矩陣結(jié)構(gòu)及制備方法、陣列基板、彩膜基板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種黑矩陣結(jié)構(gòu)及其制備方法、陣列基板、彩膜基板及顯示裝置，所述黑矩陣結(jié)構(gòu)包括第一黑矩陣，以及所述第一黑矩陣圍成的呈陣列分布的多個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，每個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置開(kāi)口區(qū)，且至少一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置一個(gè)或間隔設(shè)置的多個(gè)第二黑矩陣，第二黑矩陣的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)接觸，或者，其與第一黑矩陣的至少一條邊接觸，且與第一黑矩陣的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣與第二黑矩陣接觸的邊的長(zhǎng)度。所述黑矩陣結(jié)構(gòu)在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，可以降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，從而可以改善“黑紋”不良。
【專利說(shuō)明】黑矩陣結(jié)構(gòu)及制備方法、陣列基板、彩膜基板及顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體地，涉及一種黑矩陣結(jié)構(gòu)及制備方法、陣列基板、彩膜基板及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]像素是顯示裝置中的最小顯示單元，每個(gè)像素包括多個(gè)子像素，多個(gè)子像素內(nèi)分別設(shè)置有不同顏色的彩色濾光片，使多個(gè)子像素分別顯示相應(yīng)的顏色；在顯示過(guò)程中，通過(guò)調(diào)節(jié)光線在每個(gè)子像素中的透過(guò)率，即多個(gè)子像素的亮度，使像素能顯示相應(yīng)的亮度和色彩。
[0003]子像素所顯示的最大亮度與彩色濾光片的透光率(由種類及厚度等因素決定)、子像素的開(kāi)口區(qū)面積有關(guān)。一般情況下，多個(gè)子像素中的彩色濾光片的透光率、開(kāi)口區(qū)面積相同，以使每個(gè)像素內(nèi)的多個(gè)子像素所顯示的最大亮度相同，從而避免產(chǎn)生偏色。而在多個(gè)子像素中的彩色濾光片的透光率不同時(shí)，一般通過(guò)調(diào)節(jié)各子像素的開(kāi)口區(qū)面積進(jìn)行補(bǔ)償，以使各子像素所顯示的最大亮度相同。
[0004]以每個(gè)像素包括R子像素、G子像素和B子像素為例，為了實(shí)現(xiàn)某種特定的高色域顯示，G子像素可能需要采用顏色飽和度較大的彩色濾光片(其透光率較低)，在此情況下，如圖1所示，一般通過(guò)增加R子像素和B子像素中環(huán)繞開(kāi)口區(qū)12的黑矩陣15的寬度，減少R子像素和B子像素的開(kāi)口區(qū)12的面積，從而降低R子像素和B子像素所能顯示的最大亮度，使各子像素所顯示的最大亮度相同。
[0005]但在實(shí)際中，增加黑矩陣15的寬度容易造成黑矩陣15的寬度過(guò)寬，從而使觀看者會(huì)觀察到“黑紋”，特別是在單位面積內(nèi)的像素?cái)?shù)量較少(PPI較低)的情況下，這種“黑紋”不良就更加嚴(yán)重。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一，提出了一種黑矩陣結(jié)構(gòu)及其制備方法、陣列基板、彩膜基板及顯示裝置，所述黑矩陣結(jié)構(gòu)可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，從而改善“黑紋”不良。
[0007]為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種黑矩陣結(jié)構(gòu)，包括第一黑矩陣，以及所述第一黑矩陣圍成的呈陣列分布的多個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，其特征在于，每個(gè)所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置開(kāi)口區(qū)，且至少一個(gè)所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置一個(gè)或間隔設(shè)置的多個(gè)第二黑矩陣，所述第二黑矩陣的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)接觸，或者，所述第二黑矩陣與所述第一黑矩陣的至少一條邊接觸，且與所述第一黑矩陣的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣與第二黑矩陣接觸的邊的長(zhǎng)度。
[0008]其中，所述第二黑矩陣的數(shù)量為多個(gè)，且所述多個(gè)第二黑矩陣在所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)均勻設(shè)置。
[0009]其中，所述第一黑矩陣和所述第二黑矩陣在一次構(gòu)圖工藝中形成。
[0010]其中，具有所述第二黑矩陣的子像素的所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)還包括第三黑矩陣，所述第三黑矩陣與所述第一黑矩陣的一條或多條邊接觸，且與其中至少一條邊接觸的長(zhǎng)度等于所述第一黑矩陣的與該所述第三黑矩陣接觸的邊的長(zhǎng)度。
[0011]其中，所述第三黑矩陣與所述第一黑矩陣、所述第二黑矩陣在一次構(gòu)圖工藝中形成。
[0012]其中，所述第二黑矩陣為多邊形、圓形或橢圓形。
[0013]其中，所述第二黑矩陣在至少一個(gè)方向上的尺寸小于人眼所能觀察的最小長(zhǎng)度。
[0014]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種上述黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，包括:制備上述第一黑矩陣的步驟和在至少一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)制備上述第二黑矩陣的步驟。
[0015]其中，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成所述第一黑矩陣和所述第二黑矩陣的圖形。
[0016]其中，還包括在制備所述第二黑矩陣的所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)制備上述第三黑矩陣的步驟。
[0017]其中，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成所述第一黑矩陣、所述第二黑矩陣和所述第三黑矩陣的圖形。
[0018]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種陣列基板，所述陣列基板包括本發(fā)明提供的上述黑矩陣結(jié)構(gòu)。
[0019]其中，所述陣列基板包括多個(gè)像素，每個(gè)所述像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素，每個(gè)子像素包括一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域；所述綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，所述紅色子像素和所述藍(lán)色子像素的所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
[0020]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種彩膜基板，所述彩膜基板包括本發(fā)明提供的上述黑矩陣結(jié)構(gòu)。
[0021]其中，所述彩膜基板包括多個(gè)像素，每個(gè)所述像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素，每個(gè)子像素包括一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域；所述綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，所述紅色子像素和所述藍(lán)色子像素的所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
[0022]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括本發(fā)明提供的上述陣列基板，或者，包括本發(fā)明提供的上述彩膜基板。
[0023]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0024]本發(fā)明提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其設(shè)置第二黑矩陣的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)接觸，或者，設(shè)置第二黑矩陣與第一黑矩陣的至少一條邊接觸，且與第一黑矩陣的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣與第二黑矩陣接觸的邊的長(zhǎng)度，可以避免第二黑矩陣與第一黑矩陣融合而形成一個(gè)為寬度和面積較大的黑矩陣區(qū)域，或者，減少第二黑矩陣與第一黑矩陣融合后的黑矩陣區(qū)域的厚度和面積，與現(xiàn)有技術(shù)相比，這樣可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0025]本發(fā)明提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，其制備的黑矩陣結(jié)構(gòu)可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0026]本發(fā)明提供的陣列基板，其采用本發(fā)明提供的上述黑矩陣結(jié)構(gòu)，可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0027]本發(fā)明提供的彩膜基板，其采用本發(fā)明提供的上述黑矩陣結(jié)構(gòu)，可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0028]本發(fā)明提供的顯示裝置，其采用本發(fā)明提供的上述陣列基板或彩膜基板，可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0029]附圖是用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0030]圖1為現(xiàn)有的一種黑矩陣結(jié)構(gòu)的示意圖；
[0031]圖2為本發(fā)明黑矩陣結(jié)構(gòu)的實(shí)施方式的示意圖；
[0032]圖3為第二黑矩陣與第一黑矩陣的三個(gè)邊接觸的示意圖；
[0033]圖4為第二黑矩陣與第一黑矩陣的一個(gè)邊接觸的示意圖；
[0034]圖5為第二黑矩陣不與第一黑矩陣接觸的示意圖；
[0035]圖6為第二黑矩陣的形狀為矩形或三角形的示意圖；
[0036]圖7為第二黑矩陣的形狀為圓形的示意圖；
[0037]圖8為第二黑矩陣的形狀為橢圓形的示意圖；
[0038]圖9為第三黑矩陣的示意圖。
[0039]其中，附圖標(biāo)記:
[0040]1:子像素；10:預(yù)定開(kāi)口區(qū)域；11:第一黑矩陣；12:開(kāi)口區(qū)；13:第二黑矩陣；14:第三黑矩陣；15:黑矩陣。
【具體實(shí)施方式】
[0041]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說(shuō)明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0042]請(qǐng)參看圖2，圖2為本發(fā)明黑矩陣結(jié)構(gòu)的實(shí)施方式的示意圖。在本實(shí)施方式中，黑矩陣結(jié)構(gòu)包括第一黑矩陣11，以及所述第一黑矩陣11圍成的呈陣列分布的多個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10，每個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)設(shè)置開(kāi)口區(qū)12，至少一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置一個(gè)或間隔設(shè)置的多個(gè)第二黑矩陣13，第二黑矩陣13的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)12接觸，即第二黑矩陣13與第一黑矩陣11不接觸，或者第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的至少一條邊接觸，且與第一黑矩陣11的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度。
[0043]通常，每個(gè)像素包括多個(gè)子像素1，每個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10與一個(gè)子像素I相對(duì)應(yīng)。具體地，每個(gè)像素可以包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素；在本實(shí)施方式中，根據(jù)需要，可以設(shè)置綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于其預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，紅色子像素和藍(lán)色子像素的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
[0044]一般地，陣列基板包括柵線、信號(hào)線及其他信號(hào)線，以及像素電極和薄膜晶體管，其中，柵線、數(shù)據(jù)線及其他信號(hào)線和薄膜晶體管所在區(qū)域存在不受控制的電場(chǎng)。在本實(shí)施方式中，第一黑矩陣11用于遮蔽柵線、數(shù)據(jù)線及其他信號(hào)線，以及薄膜晶體管所在區(qū)域，以避免上述區(qū)域的不受控制的電場(chǎng)影響顯示效果。而所謂“預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10”是指第一黑矩陣11外的區(qū)域。
[0045]具體地，在黑矩陣結(jié)構(gòu)中，根據(jù)各個(gè)子像素I所需具有的開(kāi)口率及開(kāi)口區(qū)12的面積，在一個(gè)或多個(gè)子像素的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)設(shè)置一個(gè)或多個(gè)第二黑矩陣13，并根據(jù)需要，確定位于預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)的所有第二黑矩陣13的面積。例如，對(duì)于RGB像素結(jié)構(gòu)，為了實(shí)現(xiàn)某種特定的高色域顯示，G子像素可能需要采用顏色飽和度較大的彩色濾光片，其透光率最低，R子像素的透過(guò)率次之，B子像素的透過(guò)率最高，所以最終形成的開(kāi)口區(qū)域的面積的關(guān)系為，G子像素的面積>R子像素的面積>R子像素的面積，具體的面積比例需要根據(jù)所采用的材料種類以及顯示目標(biāo)進(jìn)行計(jì)算并設(shè)定。
[0046]在本實(shí)施方式中，第二黑矩陣13的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)12接觸，或者第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的至少一條邊接觸，且與第一黑矩陣11的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度，其具體包括三種情形:①第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的兩個(gè)或兩個(gè)以上的邊接觸，如圖2、圖3所示；②第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的一個(gè)邊接觸，如圖4所示；③第二黑矩陣13不與第一黑矩陣11的任何一邊接觸，如圖5所示。
[0047]首先，參看圖2，第二黑矩陣13的數(shù)量為多個(gè)，其間隔設(shè)置，且每個(gè)第二黑矩陣13的兩個(gè)邊分別與第一黑矩陣11的兩個(gè)邊接觸，且每個(gè)接觸區(qū)的長(zhǎng)度小于該接觸區(qū)所接觸的第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度，從圖中可以看出，第二黑矩陣13與第一黑矩陣11之間具有未被黑矩陣覆蓋的區(qū)域，即開(kāi)口區(qū)12，也就是說(shuō)，第一黑矩陣11與第二黑矩陣13之間被開(kāi)口區(qū)12隔開(kāi)，在此情況下，雖然第一黑矩陣11與第二黑矩陣13接觸，但其二者的寬度并未疊加，也沒(méi)有形成一個(gè)寬度和面積較大的黑矩陣區(qū)域，與現(xiàn)有技術(shù)相比，這樣可以降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0048]參看圖3，第二黑矩陣13的數(shù)量為一個(gè)，其與第一黑矩陣11的三個(gè)邊接觸，且每個(gè)接觸區(qū)的長(zhǎng)度小于該接觸區(qū)所接觸的第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度，從圖中可以看出，與圖2所示情形類似，第一黑矩陣11與第二黑矩陣13之間也被開(kāi)口區(qū)12隔開(kāi)，從而也可以降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0049]參看圖4，第二黑矩陣13的數(shù)量為多個(gè)，其間隔設(shè)置，每個(gè)第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的一個(gè)邊接觸，且該接觸區(qū)的長(zhǎng)度小于該接觸區(qū)所接觸的第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度，從圖中可以看出，在第一黑矩陣11和第二黑矩陣13的接觸區(qū)兩側(cè)的區(qū)域(若第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的接觸區(qū)在第一黑矩陣11的邊的邊緣，則為接觸區(qū)一側(cè)的區(qū)域)，由于不設(shè)有第二黑矩陣13，其厚度較小，與現(xiàn)有技術(shù)相比，這樣減少了第一黑矩陣11與第二黑矩陣13合并在一起的黑矩陣圖形的寬度和面積，可以使觀看者看到的“黑紋”減小，或者，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，從而可以改善“黑紋”不良。
[0050]參看圖5，第二黑矩陣13的數(shù)量為多個(gè)，其間隔設(shè)置，且第二黑矩陣13的邊緣各處均與所述開(kāi)口區(qū)12接觸，也就是，第二黑矩陣13與第一黑矩陣11不接觸，由此可以確定，并從圖5中看出，第一黑矩陣11和第二黑矩陣13不會(huì)融合在一起，形成一個(gè)一體的寬度和面積較大的黑矩陣區(qū)域，與現(xiàn)有技術(shù)相比，這樣可以降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，改善“黑紋”不良。
[0051]根據(jù)上述可知，在本實(shí)施方式中，設(shè)置第二黑矩陣13的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)12接觸，或者，設(shè)置第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的至少一條邊接觸，且與第一黑矩陣11的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度，可以避免第二黑矩陣13與第一黑矩陣11融合而形成一個(gè)為寬度和面積較大的黑矩陣區(qū)域，或者，減少第二黑矩陣13與第一黑矩陣11融合后的黑矩陣區(qū)域的厚度和面積，與現(xiàn)有技術(shù)相比，這樣可以降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0052]在本實(shí)施方式中，優(yōu)選地，具有第二黑矩陣13的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)的所述第二黑矩陣13的數(shù)量為多個(gè)；與僅設(shè)置一個(gè)黑矩陣13的實(shí)施例相比，這樣可以在開(kāi)口區(qū)12的面積相同(即預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)的所有第二黑矩陣13的面積相同)時(shí)，使每個(gè)第二黑矩陣13的面積較小，從而使第二黑矩陣13不易被觀看者觀察到。進(jìn)一步優(yōu)選地，所述多個(gè)第二黑矩陣13在所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)均勻設(shè)置，這樣可以避免多個(gè)第二黑矩陣13在某一區(qū)域內(nèi)聚集，導(dǎo)致觀看者觀察到“黑紋”。
[0053]具體地，所述第一黑矩陣11和第二黑矩陣13在一次構(gòu)圖工藝中形成；這樣就不會(huì)增加制備黑矩陣結(jié)構(gòu)的工藝流程，使生產(chǎn)效率及生產(chǎn)成本基本保持不變。
[0054]在本實(shí)施方式中，第二黑矩陣13的形狀可以為矩形，如圖2、圖4、圖5中所示出的，還可以為三角形等其他多邊形，此外，還可以為圓形、橢圓形及其他形狀。具體地，根據(jù)顯示裝置使用過(guò)程中，人眼距離顯示裝置之間的距離，設(shè)定第二黑矩陣13的形狀、面積等參數(shù)，使人眼在距離顯示裝置正常使用距離時(shí)，不會(huì)觀察到第二黑矩陣13。優(yōu)選地，設(shè)置所述第二黑矩陣13在至少一個(gè)方向上的尺寸小于人眼所能觀察的最小長(zhǎng)度，以使觀看者在距離顯示裝置的任何距離范圍內(nèi)都不會(huì)觀察到第二黑矩陣13，從而徹底避免產(chǎn)生“黑紋”不良。一般地，人眼所能觀察到的最小長(zhǎng)度為0.2_。例如在第二黑矩陣13的形狀為矩形或三角形時(shí)，如圖6所示，第二黑矩陣13的長(zhǎng)度最短的一個(gè)邊的長(zhǎng)度小于人眼所能觀察的最小長(zhǎng)度；在第二黑矩陣13為圓形時(shí)，如圖7所示，圓形的直徑小于人眼所能觀察的最小長(zhǎng)度；在第二黑矩陣13為橢圓形，如圖8所示，橢圓形的短軸小于人眼所能觀察的最小長(zhǎng)度。
[0055]除上述圖2?圖5所示實(shí)施例外，在本實(shí)施方式中，如圖9所示，具有第二黑矩陣13的子像素的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)還可以包括第三黑矩陣14，所述第三黑矩陣14與第一黑矩陣11的一條或多條邊接觸，且與其中至少一條邊接觸的長(zhǎng)度等于所述第一黑矩陣11與該第三黑矩陣14接觸的邊的長(zhǎng)度。從圖中可以看出，第一黑矩陣11和第三黑矩陣14的寬度疊加，形成一個(gè)寬度和面積較大的黑矩陣區(qū)域；但由于預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)還設(shè)有第二黑矩陣13，與現(xiàn)有技術(shù)相比，在開(kāi)口區(qū)12的面積相同(也就是說(shuō)，預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)的所有黑矩陣的面積之和相同)時(shí)，第三黑矩陣14的面積小于現(xiàn)有技術(shù)中位于預(yù)定開(kāi)口區(qū)域10內(nèi)的黑矩陣的面積，因此，本實(shí)施例中第一黑矩陣11與第三黑矩陣14所形成的黑矩陣區(qū)域的寬度和面積小于現(xiàn)有技術(shù)中形成的黑矩陣區(qū)域的寬度和面積，從而與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以在一定程度上降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者觀察到的“黑紋”較小，從而可以改善“黑紋”不良。優(yōu)選地，所述第三黑矩陣14與第一黑矩陣11、第二黑矩陣13在一次構(gòu)圖工藝中形成，這樣就不會(huì)增加制備黑矩陣結(jié)構(gòu)的工藝流程，使生產(chǎn)效率及生產(chǎn)成本基本保持不變。
[0056]本實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其設(shè)置第二黑矩陣13的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)12接觸，或者，設(shè)置第二黑矩陣13與第一黑矩陣11的至少一條邊接觸，且與第一黑矩陣11的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該第一黑矩陣11的邊的長(zhǎng)度，可以避免第二黑矩陣13與第一黑矩陣11融合而形成一個(gè)為寬度和面積較大的黑矩陣區(qū)域，或者，減少第二黑矩陣13與第一黑矩陣11融合后的黑矩陣區(qū)域的厚度和面積，與現(xiàn)有技術(shù)相比，這樣可以在減少開(kāi)口區(qū)12面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0057]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法的實(shí)施方式。在本實(shí)施方式中，黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法用于制備本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其具體包括制備第一黑矩陣的步驟和在至少一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)制備第二黑矩陣的步驟；所制備的第一黑矩陣和第二黑矩陣如上述黑矩陣結(jié)構(gòu)的實(shí)施方式所述，以及相應(yīng)的附圖所
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[0058]具體地，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成第一黑矩陣和第二黑矩陣的圖形；這樣就不會(huì)增加制備黑矩陣結(jié)構(gòu)的工藝流程，使生產(chǎn)效率及生產(chǎn)成本基本保持不變。
[0059]所述黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法還可以包括:在制備第二黑矩陣的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)制備第三黑矩陣的步驟，所制備的第三黑矩陣如上述黑矩陣結(jié)構(gòu)的實(shí)施方式所述，以及相應(yīng)的附圖所示。具體地，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成第一黑矩陣、第二黑矩陣和第三黑矩陣的圖形；這樣就不會(huì)增加制備黑矩陣結(jié)構(gòu)的工藝流程，使生產(chǎn)效率及生產(chǎn)成本基本保持不變。
[0060]本實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，其制備的黑矩陣結(jié)構(gòu)可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0061 ] 作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種陣列基板的實(shí)施方式，在本實(shí)施方式中，陣列基板包括本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)。
[0062]優(yōu)選地，所述陣列基板包括多個(gè)像素，每個(gè)像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素，每個(gè)子像素包括一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域；所述綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，所述紅色子像素和所述藍(lán)色子像素的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
[0063]本實(shí)施方式提供的陣列基板，其采用本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)，可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0064]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種彩膜基板的實(shí)施方式，在本實(shí)施方式中，彩膜基板包括本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)。
[0065]優(yōu)選地，所述彩膜基板包括多個(gè)像素，每個(gè)像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素，每個(gè)子像素包括一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域；所述綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，所述紅色子像素和所述藍(lán)色子像素的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
[0066]本實(shí)施方式提供的彩膜基板，其采用本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的黑矩陣結(jié)構(gòu)，可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0067]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種顯不裝置的實(shí)施方式，在本實(shí)施方式中，顯示裝置包括本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的陣列基板，或者包括本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的彩膜基板。
[0068]本實(shí)施方式提供的顯示裝置，其采用本發(fā)明上述實(shí)施方式提供的陣列基板或彩膜基板，可以在減少開(kāi)口區(qū)面積的同時(shí)，降低觀看者觀察到黑矩陣圖形的幾率，以及使觀看者看到的“黑紋”減小，從而可以改善“黑紋”不良。
[0069]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種黑矩陣結(jié)構(gòu)，包括第一黑矩陣，以及所述第一黑矩陣圍成的呈陣列分布的多個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，其特征在于，每個(gè)所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置開(kāi)口區(qū)，且至少一個(gè)所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置一個(gè)或間隔設(shè)置的多個(gè)第二黑矩陣，所述第二黑矩陣的邊緣各處均與開(kāi)口區(qū)接觸，或者，所述第二黑矩陣與所述第一黑矩陣的至少一條邊接觸，且與所述第一黑矩陣的每條邊接觸的長(zhǎng)度小于該所述第一黑矩陣與所述第二黑矩陣接觸的邊的長(zhǎng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第二黑矩陣的數(shù)量為多個(gè)，且所述多個(gè)第二黑矩陣在所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)均勻設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一黑矩陣和所述第二黑矩陣在一次構(gòu)圖工藝中形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其特征在于，具有所述第二黑矩陣的所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)還包括第三黑矩陣，所述第三黑矩陣與所述第一黑矩陣的一條或多條邊接觸，且與其中至少一條邊接觸的長(zhǎng)度等于所述第一黑矩陣與該所述第三黑矩陣接觸的邊的長(zhǎng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第三黑矩陣與所述第一黑矩陣、所述第二黑矩陣在一次構(gòu)圖工藝中形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第二黑矩陣為多邊形、圓形或橢圓形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1?6任意一項(xiàng)所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第二黑矩陣在至少一個(gè)方向上的尺寸小于人眼所能觀察的最小長(zhǎng)度。
8.—種權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括: 制備權(quán)利要求1所述第一黑矩陣的步驟和在至少一個(gè)所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)制備權(quán)利要求I所述第二黑矩陣的步驟。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成所述第一黑矩陣和所述第二黑矩陣的圖形。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，還包括在制備所述第二黑矩陣的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)制備權(quán)利要求4所述第三黑矩陣的步驟。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成所述第一黑矩陣、所述第二黑矩陣和所述第三黑矩陣的圖形。
12.—種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括權(quán)利要求1?7任意一項(xiàng)所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括多個(gè)像素，每個(gè)所述像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素，每個(gè)子像素包括一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域； 所述綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，所述紅色子像素和所述藍(lán)色子像素的所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
14.一種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括權(quán)利要求1?7任意一項(xiàng)所述的黑矩陣結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括多個(gè)像素，每個(gè)像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素，每個(gè)子像素包括一個(gè)預(yù)定開(kāi)口區(qū)域； 所述綠色子像素的開(kāi)口區(qū)等于所述預(yù)定開(kāi)口區(qū)域，所述紅色子像素和所述藍(lán)色子像素的預(yù)定開(kāi)口區(qū)域內(nèi)設(shè)置有第二黑矩陣。
16.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求12或13所述的陣列基板，或者，包括權(quán)利要求14或15所述的彩膜基板。
【文檔編號(hào)】G02F1/1362GK104375319SQ201410720401
【公開(kāi)日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年12月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月1日
【發(fā)明者】占紅明, 林麗鋒, 邵喜斌, 陳明, 金 雄, 布占場(chǎng), 馬禹, 楊同華 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司