一種寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和光刻設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和光刻設(shè)備。寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)為在物方和像方皆接近遠(yuǎn)心光路的縮小的投影光學(xué)系統(tǒng)，其從物平面到像平面依次包括具有正光焦度的第一鏡組、可變孔徑光闌、第二鏡組和具有正光焦度的第三鏡組。第二鏡組滿足關(guān)系式：vd＝(nd－1)/(nF－nC)，nd＜1.65且vd＞65的正透鏡最少有2個，nd＞1.50且vd＜55的負(fù)透鏡最少有2個。第三鏡組中，最接近像平面的透鏡為負(fù)透鏡，負(fù)透鏡具有一個面向像平面的凹面，且滿足以下關(guān)系式：nd＜1.66且vd＞58，0.6＜ri/ti＜5.0。各鏡組滿足關(guān)系式：0.05<f1/L<1.3，|f2|/L>0.3，0.03<f3/L<0.8。
【專利說明】一種寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和光刻設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種微細(xì)加工用光刻設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)，尤其涉及一種寬譜線投影光學(xué) 系統(tǒng)和應(yīng)用所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻設(shè)備，所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)主要應(yīng)用于微 機電系統(tǒng)（MEMS, Micro-Electro-Mechanical System)，半導(dǎo)體、太陽能電池、液晶、印刷電 路板等光刻系統(tǒng)以及照相制版的投影光學(xué)系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著投影光刻技術(shù)的發(fā)展，投影光學(xué)系統(tǒng)的性能逐步提高，投影光學(xué)系統(tǒng)已經(jīng)可 以適用于多種微細(xì)加工用領(lǐng)域。高產(chǎn)率的投影光學(xué)系統(tǒng)需求日益增加。在使用寬光譜光源 如汞燈時，希望盡可能同時使用多種特征譜線，這樣可以成倍提高產(chǎn)率。超高壓水銀燈光源 的特征譜線如圖2所示。
[0003] 專利CN 101063743公開了一種光刻鏡頭，包含12個鏡片。對軸向色差的二次光譜 沒能充分校正，僅能使用光譜g線和i線，難以滿足產(chǎn)率需求。
[0004] 在很多電路基板的實際生產(chǎn)過程中，由不同的設(shè)備生產(chǎn)制造的基板，其圖形尺寸 和倍率會有細(xì)微差異，同時在各種物理和化學(xué)加工處理過程中，基板會有細(xì)微的膨脹或收 縮，也會導(dǎo)致基板圖形尺寸的變化，而且不同的基板的圖形尺寸變化也不盡相同。所以在很 多基板的生產(chǎn)制造過程中，尤其是多層基板需要層間定位過程中，為了提高定位精度和布 線密度，需要根據(jù)實際基板的圖形尺寸或倍率變化，修正或調(diào)節(jié)投影光學(xué)系統(tǒng)的投影倍率。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和應(yīng)用所 述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻設(shè)備（如光刻機），實現(xiàn)了光學(xué)系統(tǒng)的球面像差、彗差、像散、 像場彎曲和畸變，軸向色像差和倍率色像差等各項像差都得到良好校正。尤其對軸向色差 的二級光譜校正良好，又可以降低鏡頭的加工，測試和裝校的難度和成本。
[0006] 同時在保持良好的雙遠(yuǎn)心投影光學(xué)特性和良好的光學(xué)成像質(zhì)量的條件下，可以方 便有效地修正或調(diào)節(jié)投影倍率的光學(xué)系統(tǒng)。
[0007] 本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其用于將物平面內(nèi)的圖形成像 到像平面內(nèi)，所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)從放大一側(cè)到縮小一側(cè)沿其光軸方向，即從物平面 到像平面依次包括第一鏡組（G1)、光闌（AS)、第二鏡組（G2)和第三鏡組（G3);所述寬譜 線投影光學(xué)系統(tǒng)為在物方和像方皆為接近遠(yuǎn)心光路的縮小的投影光學(xué)系統(tǒng)，第一鏡組（G1) 和第三鏡（G3)組均具有正光焦度，光闌（AS)在第一鏡組（G1)與第三鏡組（G3)中間，
[0008] 第二鏡組（G2)滿足關(guān)系式：
[0009] vd = (nd - 1) / (nF - nC),
[0010] nd < 1. 65且vd > 65的正透鏡最少有2個，
[0011] nd > 1. 50且vd < 55的負(fù)透鏡最少有2個，
[0012] 其中，Vd為色散系數(shù)、體現(xiàn)光學(xué)材料的色散程度的常數(shù)，
[0013] nF為波長486nm的F線折射率，
[0014] nd為波長587nm的d線折射率，
[0015] nC為波長656nm的C線折射率；
[0016] 第三鏡組（G3)中，最接近所述像平面的透鏡為負(fù)透鏡，所述負(fù)透鏡具有一個面向 所述像平面的凹面，且滿足以下關(guān)系式：
[0017] nd < 1. 66,
[0018] vd > 58,
[0019] 0. 6 < ri/ti < 5. 0,
[0020] 其中，ri為所述負(fù)透鏡的凹面的曲率半徑，
[0021] ti為所述負(fù)透鏡的凹面到所述像平面之間的距離；
[0022] 第一鏡組（G1)、第二鏡組（G2)、第三鏡組（G3)各鏡組之間滿足關(guān)系式：
[0023] 0. 05<fl/L<l. 3,
[0024] f2|/L>0. 3,
[0025] 0. 03<f3/L<0. 8,
[0026] 其中，fl為第一鏡組（G1)的組合焦距，
[0027] f2為第二鏡組（G2)的組合焦距，
[0028] f3為第三鏡組（G3)的組合焦距，
[0029] L為物平面到像平面之間的距離。
[0030] 作為上述方案的進一步改進，第三鏡組（G3)中，nd > 1. 50且vd < 54的正透鏡 最少有1個。
[0031] 作為上述方案的進一步改進，第一鏡組（G1)中，nd > 1. 50且vd < 54的正透鏡 最少有1個。
[0032] 作為上述方案的進一步改進，第二鏡組（G2)沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方 向依次包括第四透鏡（L4)、第五透鏡（L5)、第六透鏡（L6)、第七透鏡（L7)、第八透鏡（L8)、 第九透鏡（L9)、第十透鏡（L10)、第十一透鏡（L11)，第四透鏡（L4)、第六透鏡（L6)、第八透 鏡（L8)與第十透鏡（L10)均具有負(fù)光焦度，第五透鏡（L5)、第七透鏡（L7)、第九透鏡（L9)、 第十一透鏡（L11)均具有正光焦度。優(yōu)選地，第四透鏡（L4)具有一個面向該像平面的凹面， 第十透鏡（L10)為雙凹透鏡，第五透鏡（L5)、第九透鏡（L9)、第十一透鏡（L11)均為雙凸透 鏡，第六透鏡（L6)、第八透鏡（L8)均具有一個面向該物平面的凹面，第七透鏡（L7)具有一 個面向該像平面的凸面。
[0033] 作為上述方案的進一步改進，第三鏡組（G3)沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方 向依次包括第十二透鏡（L12)、第十三透鏡（L13)、第十四透鏡（L14)、第十五透鏡（L15)、 第十六透鏡（L16)，第十二透鏡（L12)、第十三透鏡（L13)、第十四透鏡（L14)均具有正光焦 度，第十五透鏡（L15)、第十六透鏡（L16)均具有負(fù)光焦度；第十二透鏡（L12)、第十三透鏡 (L13)、第十四透鏡（L14)均具有一個面向該物平面的凸面，第十五透鏡（L15)、第十六透鏡 (L16)均具有一個面向該像平面的凹面。
[0034] 作為上述方案的進一步改進，第一鏡組（G1)沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方 向依次包括第一透鏡（L1)、第二透鏡（L2)、第三透鏡（L3)，第一透鏡（L1)與第二透鏡（L2) 均具有正光焦度，第三透鏡（L3)具有負(fù)光焦度；第一透鏡（L1)具有一個面向該像平面的凸 面，第二透鏡（L2)為雙凸透鏡，第三透鏡（L3)具有一個面向該物平面的凹面。
[0035] 作為上述方案的進一步改進，所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡總數(shù)量位于10到 24之間；所述光闌為可變孔徑光闌且在所述第一鏡組與所述第二鏡組中間。
[0036] 本發(fā)明還提供一種光刻設(shè)備，其包括投影光學(xué)系統(tǒng)和使用所述投影光學(xué)系統(tǒng)將物 面位置的光學(xué)掩膜上的圖像投影到像面位置的涂有感光材料的基板，對基板進行微細(xì)光刻 加工，所述投影光學(xué)系統(tǒng)為上述任意所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)。
[0037] 作為上述方案的進一步改進，使用所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)將物面位置的光學(xué)掩 膜上的圖像投影到像面位置的涂有感光材料的基板，對基板進行微細(xì)光刻加工的光刻設(shè) 備。
[0038] 本發(fā)明的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和應(yīng)用所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻設(shè)備在寬 光譜范圍內(nèi)補償軸向色差和倍率色差，寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的軸向色差如圖3所示，使具 有該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻機能夠同時使用超高壓水銀燈光源具有的i線（365nm)，h 線（405nm)和g線（436nm)等多種特征譜線，超高壓水銀燈光源的特征譜線如圖2所示；具 有這樣寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的投影鏡頭設(shè)計十分復(fù)雜困難，也是投影式光刻機中極其少見 的，不僅能夠適用于多種不同需要的感光膠和基板，擴大應(yīng)用范圍，又因為使用多波長的同 時曝光，增大曝光光強，成倍縮短曝光時間。
[0039] 本發(fā)明的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和應(yīng)用所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻設(shè)備的光 學(xué)結(jié)構(gòu)特點，決定了可以在使用折射率比較小的光學(xué)玻璃材料的情況下，也可以實現(xiàn)二次 光譜的完全校正，并良好校正其他像差。由于折射率比較?。╪d< 1.60)的光學(xué)玻璃材料 一般才具有較高的i線透光率，因此不僅意味著可以提高光源利用效率，更可以大幅度提 高光學(xué)系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，十分適合光刻設(shè)備的實際需要。
[0040] 本發(fā)明的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和應(yīng)用所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻設(shè)備在投 影倍率放大時和縮小時，光學(xué)系統(tǒng)的分辨率和焦點深度幾乎可以維持不變，十分適合光刻 設(shè)備的實際需要。
[0041] 本發(fā)明的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)和應(yīng)用所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻設(shè)備在投 影倍率放大時和縮小時，光學(xué)系統(tǒng)在調(diào)節(jié)投影倍率時的畸變幾乎沒有改變，十分適合光刻 設(shè)備的實際需要。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0042] 圖1為本發(fā)明較佳實施方式提供的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0043] 圖2為超高壓水銀燈光源的特征譜線。
[0044] 圖3為圖1中寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的0. 7孔徑處軸向色差曲線示意圖。
[0045] 圖4a、圖4b、圖4c分別為光線為i線（365nm), h線（405nm)和g線（436nm)時， 圖1中光學(xué)系統(tǒng)在投影倍率為中間值時的傳遞函數(shù)MTF示意圖。
[0046] 圖4d、圖4e、圖4f分別為光線為i線（365nm), h線（405nm)和g線（436nm)時， 圖1中光學(xué)系統(tǒng)在投影倍率放大時的傳遞函數(shù)MTF示意圖。
[0047] 圖4g、圖4h、圖4i分別為光線為i線（365nm), h線（405nm)和g線（436nm)時， 圖1中光學(xué)系統(tǒng)處在投影倍率縮小時的傳遞函數(shù)MTF示意圖。
[0048] 圖5a、圖5b、圖5c分別為圖1中光學(xué)系統(tǒng)在投影倍率為中間值、放大時、縮小時的 畸變像差不意圖。

【具體實施方式】
[0049] 為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對 本發(fā)明進行進一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本發(fā)明，并不 用于限定本發(fā)明。
[0050] 請參閱圖1，其為本發(fā)明較佳實施方式提供的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。 該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)用于將物平面（Object)內(nèi)的圖形成像到像平面（image)內(nèi)。該寬 譜線投影光學(xué)系統(tǒng)從放大一側(cè)到縮小一側(cè)沿其光軸方向，即從物平面到像平面依次包括第 一鏡組G1、光闌AS、第二鏡組G2和第三鏡組G3。所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)為在物方和像方 皆為接近遠(yuǎn)心光路的縮小的投影光學(xué)系統(tǒng)，第一鏡組G1和第三鏡G3組均具有正光焦度，光 闌AS在第一鏡組G1和第三鏡G3中間。該投影光學(xué)系對光學(xué)系統(tǒng)的各項像差都進行了良 好的校正，尤其是對軸向色差的二次光譜校正良好，得到了很好復(fù)消色差效果（寬譜線投 影光學(xué)系統(tǒng)的在〇. 7通光孔徑處軸向色差曲線示意圖如圖3所示）。同時可以保證倍率色 差也得到良好校正。
[0051] 本發(fā)明的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，能在寬光譜范圍內(nèi)補償軸向色差和倍率色差，寬 譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的軸向色差如圖3所示，使具有該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光刻機能夠同 時使用超高壓水銀燈光源具有的i線（365nm)，h線（405nm)和g線（436nm)等多種特征譜 線，超高壓水銀燈光源的特征譜線如圖2所示；具有這樣寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的投影鏡頭 設(shè)計十分復(fù)雜困難，也是投影式光刻機中極其少見的，不僅能夠適用于多種不同需要的感 光膠和基板，擴大應(yīng)用范圍，又因為使用多波長的同時曝光，增大曝光光強，成倍縮短曝光 時間。
[0052] 在本實施方式中，光闌為可變孔徑光闌，且在第一鏡組G1與第二鏡組G2中間，可 以調(diào)節(jié)光學(xué)系統(tǒng)的分辨率和焦點深度，同時為光闌的安裝調(diào)節(jié)和控制提供足夠的物理空 間。
[0053] 第一鏡組G1、第二鏡組G2、第三鏡組G3各鏡組之間滿足關(guān)系式：
[0054] 0. 05<fl/L<l. 3 ；
[0055] f 2 I /L>0. 3 ；
[0056] 0· 03〈f3/L〈0. 8。
[0057] 其中，fl為第一鏡組G1的組合焦距；
[0058] f2為第二鏡組G2的組合焦距；
[0059] f3為第三鏡組G3的組合焦距；
[0060] L為物體到像面之間的距離。
[0061] 在本實施方式中，第一鏡組G1沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括第 一透鏡L1、第二透鏡L2、第三透鏡L3。第一透鏡L1與第二透鏡L2均具有正光焦度，第三透 鏡L3具有負(fù)光焦度。第一透鏡L1具有一個面向該像平面I的凸面，第二透鏡L2為雙凸透 鏡，第三透鏡L3具有一個面向該物平面0的凹面。
[0062] 總之，在第一鏡組中，nd > 1. 50且vd < 54的正透鏡最少有1個。這樣的設(shè)定， 軸上的色差，特別是二次光譜可以有效校正。尤其是，第一鏡組G1、滿足關(guān)系式：0.05〈Π / L〈l. 3,確保光學(xué)系統(tǒng)在物方能夠保持良好的遠(yuǎn)心光路特性，同時能夠使倍率色差和畸變得 到良好校正。
[0063] 第二鏡組G2滿足關(guān)系式：
[0064] vd = (nd - 1) / (nF - nC)；
[0065] nd < 1. 65且vd > 65的正透鏡最少有2個；
[0066] nd > 1. 50且vd < 55的負(fù)透鏡最少有2個。
[0067] 其中，vd為色散系數(shù)、體現(xiàn)光學(xué)材料的色散程度的常數(shù)；
[0068] nF為波長486nm的F線折射率；
[0069] nd為波長587nm的d線折射率；
[0070] nC為波長656nm的C線折射率。
[0071] 在本實施方式中，第二鏡組G2沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括第 四透鏡L4、第五透鏡L5、第六透鏡L6、第七透鏡L7、第八透鏡L8、第九透鏡L9、第十透鏡 L10、第i^一透鏡L11。第四透鏡L4、第六透鏡L6、第八透鏡L8與第十透鏡L10均具有負(fù)光 焦度，第五透鏡L5、第七透鏡L7、第九透鏡L9、第i^一透鏡L11均具有正光焦度。第四透鏡 L4具有一個面向該像平面I的凹面，第十透鏡L10為雙凹透鏡，第五透鏡L5、第九透鏡L9、 第十一透鏡L11均為雙凸透鏡，第六透鏡L6、第八透鏡L8均具有一個面向該物平面0的凹 面，第七透鏡L7具有一個面向該像平面I的凸面。
[0072] 總之，第二鏡組G2在本實施方式中的設(shè)定，使光學(xué)系統(tǒng)的光焦度良好均衡地分 布，提供了足夠的空間確保軸向色差的校正，尤其能對二次光譜校正良好，取得了很好復(fù)消 色差效果。同時也使初級和高級球差得到校正，有效降低珀茲伐（Petzval)和使得光學(xué)系 統(tǒng)的場曲得到良好校正。
[0073] 在第三鏡組G3中，最接近所述像平面I的透鏡為負(fù)透鏡，所述負(fù)透鏡具有一個面 向所述像平面I的凹面，且滿足關(guān)系式：
[0074] nd < 1. 66 ；
[0075] vd > 58 ；
[0076] 0. 6 < ri/ti < 5. 0〇
[0077] 其中，ri為所述負(fù)透鏡的凹面的曲率半徑；
[0078] ti為所述負(fù)透鏡的凹面到所述像平面之間的距離。
[0079] 第三鏡組G3的設(shè)定使光學(xué)系統(tǒng)的像面接近齊明點位置，防止產(chǎn)生過多的球差，減 少校正球差的負(fù)擔(dān)，也有效地降低珀茲伐（Petzval)和有助于光學(xué)系統(tǒng)校正場曲像差。同 時使光學(xué)系統(tǒng)的像方能夠保持良好的遠(yuǎn)心光路特性，并使倍率色差得到良好校正。
[0080] 在本實施方式中，第三鏡組G3沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括第 十二透鏡L12、第十三透鏡L13、第十四透鏡L14、第十五透鏡L15、第十六透鏡L16。第十二 透鏡L12、第十三透鏡L13、第十四透鏡L14均具有正光焦度，第十五透鏡L15、第十六透鏡 L16均具有負(fù)光焦度。
[0081] 第十二透鏡L12、第十三透鏡L13、第十四透鏡L14均具有一個面向該物平面0的 凸面，第十五透鏡L15、第十六透鏡L16均具有一個面向該像平面I的凹面。
[0082] 第三鏡組G3中，nd > 1. 50且vd < 54的正透鏡最少有1個。這樣的設(shè)定，軸上 的色差，特別是二次光譜可以有效校正，寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的軸向色差如圖3所示，同時 能夠使倍率色差和畸變得到良好校正。
[0083] 總之，在本實施方式中，三組透鏡采用這樣的鏡片結(jié)構(gòu)最終確保和實現(xiàn)了光學(xué)系 統(tǒng)的球面像差、彗差、像散、像場彎曲和畸變，軸向色像差和倍率色像差等各項像差都得到 良好校正。又可以降低鏡頭的加工，測試和裝校的難度和成本。
[0084] 所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡總數(shù)量位于10到24之間，使系統(tǒng)有效控制了制 造成本并良好校正各項像差，取得最佳性價比。
[0085] 提出投影光學(xué)系的參數(shù)值：
[0086] β = -0. 5 ；
[0087] ΝΑ = 0. 21 ；
[0088] Hy = 25 ；
[0089] L = 987. 848。
[0090] 其中，β為投影倍率；
[0091] ΝΑ為像側(cè)開口數(shù)；
[0092] Hy為最大像
[0093] 第一至第十六透鏡L1?L16的元件參數(shù)如表1所示。
[0094] 表1光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)
[0095]

【權(quán)利要求】
1. 一種寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其用于將物平面內(nèi)的圖形成像到像平面內(nèi)，所述寬譜線 投影光學(xué)系統(tǒng)從放大一側(cè)到縮小一側(cè)沿其光軸方向，從物平面到像平面依次包括第一鏡組 (G1)、光闌（AS)、第二鏡組（G2)和第三鏡組（G3);其特征在于：所述寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng) 為在物方和像方皆為接近遠(yuǎn)心光路的縮小的投影光學(xué)系統(tǒng)，第一鏡組（G1)和第三鏡（G3) 組均具有正光焦度，光闌（AS)在第一鏡組（G1)與第三鏡組（G3)中間， 第二鏡組（G2)滿足關(guān)系式： vd = (nd - 1) / (nF - nC), nd < 1. 65且vd > 65的正透鏡最少有2個， nd > 1. 50且vd < 55的負(fù)透鏡最少有2個， 其中，vd為色散系數(shù)、體現(xiàn)光學(xué)材料的色散程度的常數(shù)， nF為波長486nm的F線折射率， nd為波長587nm的d線折射率， nC為波長656nm的C線折射率； 第三鏡組（G3)中，最接近所述像平面的透鏡為負(fù)透鏡，所述負(fù)透鏡具有一個面向所述 像平面的凹面，且滿足以下關(guān)系式： nd < 1. 66, vd > 58, 0. 6 < ri/ti < 5. 0, 其中，ri為所述負(fù)透鏡的凹面的曲率半徑， ti為所述負(fù)透鏡的凹面到所述像平面之間的距離； 第一鏡組（G1)、第二鏡組（G2)、第三鏡組（G3)各鏡組之間滿足關(guān)系式： 0.05<fl/L<l. 3, f2|/L>0. 3, 0·03〈f3/L〈0. 8, 其中，Π 為第一鏡組（G1)的組合焦距， f2為第二鏡組（G2)的組合焦距， f3為第三鏡組（G3)的組合焦距， L為物平面到像平面之間的距離。
2. 如權(quán)利要求1所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：第三鏡組（G3)中，nd > 1. 50且vd < 54的正透鏡最少有1個。
3. 如權(quán)利要求1所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：第一鏡組（G1)中，nd > 1. 50且vd < 54的正透鏡最少有1個。
4. 如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：第二鏡 組（G2)沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括第四透鏡（L4)、第五透鏡（L5)、第 六透鏡（L6)、第七透鏡（L7)、第八透鏡（L8)、第九透鏡（L9)、第十透鏡（L10)、第^^一透鏡 (L11)，第四透鏡（L4)、第六透鏡（L6)、第八透鏡（L8)與第十透鏡（L10)均具有負(fù)光焦度， 第五透鏡（L5)、第七透鏡（L7)、第九透鏡（L9)、第i^一透鏡（L11)均具有正光焦度。
5. 如權(quán)利要求4所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：第四透鏡（L4)具有一個面 向該像平面的凹面，第十透鏡（L10)為雙凹透鏡，第五透鏡（L5)、第九透鏡（L9)、第十一透 鏡（L11)均為雙凸透鏡，第六透鏡（L6)、第八透鏡（L8)均具有一個面向該物平面的凹面，第 七透鏡（L7)具有一個面向該像平面的凸面。
6. 如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：第三鏡組 (G3)沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括第十二透鏡（L12)、第十三透鏡（L13)、 第十四透鏡（L14)、第十五透鏡（L15)、第十六透鏡（L16)，第十二透鏡（L12)、第十三透鏡 (L13)、第十四透鏡（L14)均具有正光焦度，第十五透鏡（L15)、第十六透鏡（L16)均具有負(fù) 光焦度；第十二透鏡（L12)、第十三透鏡（L13)、第十四透鏡（L14)均具有一個面向該物平面 的凸面，第十五透鏡（L15)、第十六透鏡（L16)均具有一個面向該像平面的凹面。
7. 如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：第一鏡組 (G1)沿該寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向依次包括第一透鏡（L1)、第二透鏡（L2)、第三透 鏡（L3)，第一透鏡（L1)與第二透鏡（L2)均具有正光焦度，第三透鏡（L3)具有負(fù)光焦度；第 一透鏡（L1)具有一個面向該像平面的凸面，第二透鏡（L2)為雙凸透鏡，第三透鏡（L3)具 有一個面向該物平面的凹面。
8. 如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述寬譜 線投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡總數(shù)量位于10到24之間。
9. 如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述光闌 為可變孔徑光闌且在所述第一鏡組與所述第二鏡組中間；所述第一鏡組到所述第二鏡組中 間距離為L1，滿足關(guān)系式；L1>0. 06L。
10. -種光刻設(shè)備，其包括投影光學(xué)系統(tǒng)和使用所述投影光學(xué)系統(tǒng)將物面位置的光學(xué) 掩膜上的圖像投影到像面位置的涂有感光材料的基板，對基板進行微細(xì)光刻加工，其特征 在于：所述投影光學(xué)系統(tǒng)為權(quán)利要求1至3中任意一項所述的寬譜線投影光學(xué)系統(tǒng)。
【文檔編號】G02B27/18GK104062761SQ201410340211
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年7月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月17日
【發(fā)明者】劉鵬 申請人:張家港中賀自動化科技有限公司