摩擦裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種摩擦裝置，該摩擦裝置包括摩擦輥和摩擦基臺，所述摩擦基臺用于承載待摩擦基板，所述摩擦輥上設置有摩擦布，所述摩擦輥設置在所述摩擦基臺上方，用于對所述待摩擦基板進行摩擦，所述摩擦裝置還包括預摩擦基板，所述摩擦輥能夠沿所述預摩擦基板的表面與所述預摩擦基板發(fā)生相對移動，所述預摩擦基板能夠朝向或遠離所述摩擦基臺移動。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明能夠減少預摩擦時間，提高生產(chǎn)效率，減輕操作人員的工作量。
【專利說明】摩擦裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示裝置的制作領域，尤其涉及一種摩擦裝置。
【背景技術】
[0002]在液晶顯示面板的制造過程中，摩擦工藝起著重要作用，摩擦效果的好壞直接關系著顯示面板的品質(zhì)。摩擦工藝，即采用設置有摩擦布的摩擦輥對基板表面的聚酰亞胺(PD膜進行摩擦，使Pl膜表面形成排列一致的具有一定預傾角的溝槽，保證液晶分子沿溝槽均勻排列。摩擦輥表面的摩擦布的毛向及均勻性，直接決定了摩擦效果，即摩擦后PI膜溝槽的效果。
[0003]但是，在摩擦過程中會不可避免的產(chǎn)生一些碎屑，因而一般在基板摩擦工藝之前需要對摩擦布進行預摩擦處理，即采用預摩擦基板對摩擦布進行預摩擦，以除去摩擦布上的易脫落粒子，同時使得摩擦布的絨毛朝向一致。現(xiàn)有的預摩擦過程通常采用在多個的預摩擦基板上對摩擦布進行摩擦的方式對摩擦輥的摩擦布進行清理。該方式具體包括:首先，將多個預摩擦基板順序排列固定在夾固件內(nèi)，隨后，將摩擦布依次對多個預摩擦基板進行摩擦，從而將摩擦布上的顆粒去除，并使得摩擦布上的絨毛朝向一致。目前，預摩擦工藝通常在進行摩擦工藝的裝置上進行，這種方法至少存在下列問題:
[0004]第一、耗時長，效率低；例如，目前正常情況下對40片預摩擦基板(通常為玻璃基板)進行預摩擦，對一片預摩擦基板進行預摩擦耗時約2分鐘，那么完成整個預摩擦過程則大約需要80分鐘，預摩擦的時間再加上搬運預摩擦基板的時間，整個過程耗時更長，從而影響后續(xù)的摩擦工藝，降低了生產(chǎn)效率；
[0005]第二、占用的預摩擦基板數(shù)量較多，且占用的固定件的數(shù)目較多，產(chǎn)線資源浪費較大；
[0006]第三、不同預摩擦基板的表面情況不同，摩擦時對貼布造成的影響不同，影響摩擦布的毛向和均勻性，從而影響摩擦效果和產(chǎn)品品質(zhì)；
[0007]第四、人工對固定件和預摩擦基板的搬運，降低了生產(chǎn)效率，且容易造成生產(chǎn)事故。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種摩擦裝置，以減少預摩擦的時間，提高生產(chǎn)效率。
[0009]本發(fā)明提供一種摩擦裝置，該摩擦裝置包括摩擦輥和摩擦基臺，所述摩擦基臺用于承載待摩擦基板，所述摩擦輥上設置有摩擦布，所述摩擦輥設置在所述摩擦基臺上方，用于對所述待摩擦基板進行摩擦，所述摩擦裝置還包括預摩擦基板，所述摩擦輥能夠沿所述預摩擦基板的表面與所述預摩擦基板發(fā)生相對移動，所述預摩擦基板能夠朝向或遠離所述摩擦基臺移動。
[0010]優(yōu)選地，所述摩擦裝置還包括預摩擦承載機構，該預摩擦承載機構用于承載所述預摩擦基板，所述預摩擦承載機構能夠帶動所述預摩擦基板朝向或遠離所述摩擦基臺移動。
[0011]優(yōu)選地，所述摩擦裝置還包括導軌，所述預摩擦承載機構設置在所述導軌上，所述預摩擦承載機構沿所述導軌滑動。
[0012]優(yōu)選地，所述預摩擦基板能夠在第一預設位置和第二預設位置之間移動，所述第一預設位置與所述摩擦基臺之間的距離小于所述第二預設位置與所述摩擦基臺之間的距離，當所述預摩擦基板位于所述第一預設位置時，所述摩擦輥的摩擦布能夠與所述預摩擦基板相接觸。
[0013]優(yōu)選地，所述摩擦裝置還包括位置檢測器件，用于檢測所述預摩擦基板的位置，當所述位置檢測器件測得所述預摩擦基板位于所述第一預設位置時，所述摩擦輥與所述預摩擦基板的表面之間能夠發(fā)生相對移動；當所述位置檢測器件測得所述預摩擦基板位于所述第二預設位置時，所述摩擦輥與所述待摩擦基板的表面之間能夠發(fā)生相對移動。
[0014]優(yōu)選地，所述預摩擦承載機構包括承載臺，用于承載所述預摩擦基板。
[0015]優(yōu)選地，所述摩擦輥的軸心位于所述承載臺的承載面與所述摩擦基臺的承載面所成角度的平分面上。
[0016]優(yōu)選地，所述承載臺的承載面垂直于所述摩擦基臺的承載面。
[0017]優(yōu)選地，所述承載臺能夠沿垂直于所述摩擦基臺的承載面的方向移動。
[0018]優(yōu)選地，所述預摩擦承載機構還包括第一限位器件，用于限定所述承載臺的上升和/或下降的高度。
[0019]優(yōu)選地，所述承載臺上設置有固定所述預摩擦基板的固定件。
[0020]優(yōu)選地，所述固定件包括設置在所述承載臺上的至少一個第一固定件和至少一個第二固定件，所述第一固定件用于將所述預摩擦基板的下端固定在所述承載臺上，所述第二固定件用于將所述預摩擦基板的上端固定在所述承載臺上。
[0021]優(yōu)選地，所述摩擦裝置還包括用于支撐所述摩擦輥的支架和兩個滑動組件，每個所述滑動組件包括第一楔形塊和設置在該第一楔形塊上方的第二楔形塊，所述第一楔形塊和所述第二楔形塊的斜面相對設置，所述支架的兩端分別設置在兩個所述滑動組件的第二楔形塊上，所述第一楔形塊和所述第二楔形塊之間能夠相對滑動，以使所述摩擦輥上升或下降。
[0022]優(yōu)選地，所述第一楔形塊和所述第二楔形塊的斜面之間設置有滑道和滑塊，所述第二楔形塊上設置有絲杠，該絲杠的螺桿設置在所述第二楔形塊內(nèi)，所述絲杠的螺母與所述第一楔形塊固定連接。
[0023]優(yōu)選地，所述滑道上設置有第二限位器件，該第二限位器件用于限定所述第二楔形塊沿所述滑道上移和/或下移的距離。
[0024]在本發(fā)明中，當需要對所述摩擦輥的摩擦布預摩擦時，只需將所述預摩擦基板移動至與所述摩擦輥接觸即可，可以減少所述預摩擦基板的調(diào)用時間，從而減少預摩擦工藝的時間，提高生產(chǎn)效率；另一方面，多次預摩擦可以在同一個所述預摩擦基板上進行，因而可以減少所述預摩擦基板的更換頻率，從而提高生產(chǎn)效率并減輕操作人員的工作量；再一方面，由于所述摩擦輥在所述預摩擦基板和所述待摩擦基板進行摩擦時均位于所述摩擦基臺和所述預摩擦基板之間的角平分面上，因而可以使得所述摩擦輥的摩擦布在所述預摩擦基板的壓入量和在所述待摩擦基板上的壓入量相等，從而可以提高摩擦質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]附圖是用來提供對本發(fā)明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的【具體實施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構成對本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0026]圖1所示的是本發(fā)明提供的摩擦裝置的結構示意圖；
[0027]圖2所示的是實施例中預摩擦承載機構的主視圖；
[0028]圖3所示的是實施例中預摩擦承載機構的側視圖；
[0029]圖4所示的是實施例中摩擦輥的設置側視圖；
[0030]圖5所示的是實施例中摩擦輥的設置主視圖。
[0031]附圖標記說明
[0032]101:摩擦輥；102:摩擦基臺；103:待摩擦基板；104:預摩擦基板；200:預摩擦承載機構；201:承載臺；202:螺旋桿；203:支撐件；204:第一限位器件；204a:第三傳感器；204b:第四傳感器；205:第一固定件；205a:螺栓；205b:螺帽；206:第二固定件；300:導軌；401:第一傳感器；402:第二傳感器；501:支架；502:滑動組件；503:第一楔形塊；504:第二楔形塊；505:滑道；506:滑塊；507:絲杠；508:第二限位器件。
【具體實施方式】
[0033]以下結合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0034]本發(fā)明提供一種摩擦裝置，如圖1所示，該摩擦裝置包括摩擦輥101和摩擦基臺102，摩擦基臺102用于承載待摩擦基板103，摩擦輥101上設置有摩擦布，摩擦輥101設置在摩擦基臺102上方，用于對待摩擦基板103進行摩擦，所述摩擦裝置還可以包括預摩擦基板104，摩擦輥101可以沿預摩擦基板104的表面與預摩擦基板104發(fā)生相對移動，預摩擦基板104可以朝向或遠離摩擦基臺102移動。摩擦輥101與預摩擦基板104之間的相對移動可以為摩擦棍101的位置固定，預摩擦基板104移動；也可以為預摩擦基板104的位置固定，摩擦輥101移動，只要可以使摩擦輥101在預摩擦基板的表面滾動，從而在預摩擦基板104的表面進行預摩擦即可。
[0035]在本發(fā)明中，當摩擦輥101對待摩擦基板103進行摩擦時，預摩擦基板104可以遠離摩擦基臺102 ;當摩擦輥101摩擦一定的時間而需要對摩擦輥101的摩擦布進行預摩擦時，預摩擦基板104可以靠近摩擦基臺102，使得摩擦布在預摩擦基板104的表面進行預摩擦。與現(xiàn)有技術相比，不需要將預摩擦基板104移動至摩擦基臺102，因而可以減少預摩擦基板104的調(diào)用時間，從而減少預摩擦工藝的時間，提高生產(chǎn)效率；另一方面，多次預摩擦可以在同一個預摩擦基板上進行，因而可以減少預摩擦基板的更換頻率，從而提高生產(chǎn)效率并減輕操作人員的工作量。
[0036]通常，預摩擦基板104可以為正常的白玻璃或ITO玻璃，也可以為其他高分子材料制成的基板；待摩擦基板103為表面設置有聚酰亞胺(PI)膜的基板。
[0037]為了便于預摩擦基板104的設置，更進一步地，如圖1所示，所述摩擦裝置還可以包括預摩擦承載機構200，預摩擦承載機構200用于承載預摩擦基板104，預摩擦承載機構200可以帶動預摩擦基板104朝向或遠離摩擦基臺102移動。
[0038]更進一步地，為了便于預摩擦承載機構200的移動，如圖2所示，所述摩擦裝置還可以包括導軌300，預摩擦承載機構200設置在導軌300上，預摩擦承載機構200沿導軌300滑動。
[0039]本發(fā)明對預摩擦承載機構200的移動方式不作具體限制，只要可以沿導軌300朝向或遠離摩擦基臺102移動即可。預摩擦承載機構200的移動可以人工操作，也可以自動進行。為了提高工作效率，所述摩擦裝置還可以包括與預摩擦承載機構200電連接的驅動裝置(未示出)，預摩擦承載機構200可以在所述驅動裝置的驅動沿導軌300滑動。
[0040]為了使得摩擦輥101在預摩擦基板104表面進行的預摩擦與在待摩擦基板103表面進行的摩擦互不影響，更進一步地，如圖1所示，預摩擦基板104可以在第一預設位置Pl和第二預設位置P2之間移動，第一預設位置Pl與摩擦基臺102之間的距離小于第二預設位置P2與摩擦基臺102之間的距離，當預摩擦基板104位于第一預設位置Pl時，摩擦輥101的摩擦布可以與預摩擦基板104相接觸，從而在預摩擦基板104的表面進行預摩擦，此時，可以將待摩擦基板103從摩擦基臺上取下，以防止未完成預摩擦的摩擦輥101與待摩擦基板103接觸而影響摩擦效果；當預摩擦基板104位于第二預設位置P2時，摩擦輥101可以沿待摩擦基板103的表面對待摩擦基板103進行摩擦，此時，預摩擦基板104與摩擦輥101不接觸，從而防止預摩擦基板104在摩擦輥101對待摩擦基板103摩擦時與摩擦輥101的摩擦布相接觸而影響摩擦布的絨毛朝向。
[0041]可以理解的是，如圖3所示，預摩擦基板104還可以移動至第三預設位置P3，該第三預設位置P3與摩擦基臺102之間的距離大于第二預設位置P2與摩擦基臺102之間的距離。當所述摩擦裝置停止工作時，預摩擦基板104可以移動至第三預設位置P3，以便于進行預摩擦基板104的更換或其他設備維護工作。
[0042]為了對預摩擦承載機構200進行自動控制，所述摩擦裝置還可以包括位置檢測器件，用于檢測預摩擦基板的位置，當所述位置檢測器件測得所述預摩擦基板位于第一預設位置Pl時，摩擦輥101與所述預摩擦基板的表面之間可以發(fā)生相對移動；當所述位置檢測器件測得預摩擦基板104位于第二預設位置P2時，摩擦輥101與待摩擦基板103的表面之間可以發(fā)生相對移動。具體地，如圖3所示，所述位置檢測器件可以包括設置在第一預設位置Pl處的第一傳感器401和設置在第二預設位置處的第二傳感器402，第一傳感器401和第二傳感器402可以均與驅動預摩擦承載機構200的驅動裝置電連接。當?shù)谝粋鞲衅?01測得預摩擦基板104移動至第一預設位置Pl時，可以向所述驅動裝置發(fā)送相應的第一信號，所述驅動裝置根據(jù)所述第一信號控制摩擦輥101與預摩擦基板104發(fā)生相對移動，以進行預摩擦，此時，可以將待摩擦基板103從摩擦基臺102上取下；當?shù)诙鞲衅?02測得預摩擦基板104移動至第二預設位置P2時，可以向所述驅動裝置發(fā)送相應的第二信號，所述驅動裝置根據(jù)所述第二信號控制摩擦輥101與待摩擦基板103發(fā)生相對移動，以對待摩擦基板103進行摩擦。
[0043]更進一步地，如圖2和圖3所示，預摩擦承載機構200可以包括承載臺201，用于承載預摩擦基板104，本發(fā)明對承載臺201的設置不作具體限定，承載臺201的承載面與摩擦基臺102的承載面之間的角度可以為0°?180°之間的任意角度，只要可以穩(wěn)定地承載預摩擦基板104即可。[0044]為了提高對待摩擦基板103的摩擦質(zhì)量,更進一步地,如圖1所示，摩擦棍101的軸心可以位于承載臺201的承載面與摩擦基臺102的承載面所成角度的平分面上，以使得摩擦輥101對預摩擦基板104的壓力和摩擦輥101對待摩擦基板103的壓力相等，從而使得摩擦輥101的摩擦布在預摩擦基板104上的壓入量和在待摩擦基板103上的壓入量相等，因而可以使得摩擦布在待摩擦基板103上進行摩擦時，摩擦布的毛向和預摩擦時一致，進而提高摩擦質(zhì)量。
[0045]如圖1中所示，當摩擦輥101位于圖1中的B位置時，摩擦輥101的軸心位于所述角度的平分面上，因此，摩擦輥101可以由B位置開始沿預摩擦基板104的表面進行預摩擦(此時，預摩擦承載機構200位于第一預設位置Pl處)；預摩擦結束后，將預摩擦承載機構200移動至第二預設位置P2處,將摩擦棍101移動至位置A處,或其他任何可以遠離預摩擦基板和摩擦基臺的位置，并將待摩擦基板103設置于摩擦基臺102上；隨后，再次將摩擦輥移動至位置B處，并開始沿待摩擦基板104的表面進行摩擦。
[0046]為了便于摩擦輥101沿預摩擦基板104的表面進行摩擦，優(yōu)選地，如圖1所示，承載臺201的承載面垂直于摩擦基臺102的承載面，以便于對摩擦輥101的移動方向或預摩擦基板104的移動方向的控制。需要說明的是，所述“垂直”可以為90° ±3°。
[0047]如上文中所述，摩擦輥101沿預摩擦基板104的表面進行摩擦，可以為摩擦輥101固定，預摩擦基板104移動的方式，或者為預摩擦基板104固定，摩擦輥101移動的方式。作為本發(fā)明的一種【具體實施方式】，摩擦輥101沿預摩擦基板104的表面進行預摩擦時，將摩擦輥101固定，預摩擦基板104移動，即承載臺201可以沿垂直于摩擦基臺102的承載面的方向移動。
[0048]具體地，如圖2所示，預摩擦承載機構200還可以包括螺旋桿202和支撐承載臺
201的支撐件203，螺旋桿202設置在導軌300上，該支撐件203的側邊與螺旋桿202的螺紋相貼合，當螺旋桿202旋轉時，支撐件203可以沿垂直于摩擦基臺102的承載面的方向移動。
[0049]為了增大摩擦輥101沿預摩擦基板104表面進行摩擦的面積，更進一步地，如圖2所示，預摩擦承載機構200還可以包括第一限位器件204，用于限定承載臺201的上升和/或下降的高度，即，預摩擦基板104上升和/或下降的高度，從而使得預摩擦基板104的上端和下端均可以與摩擦輥101接觸，增大預摩擦面積，同時防止摩擦輥101超出預摩擦基板104的邊界。本發(fā)明中所述的“上端”和“下端”分別為圖2中所標識的“上”和“下”的方向。
[0050]具體地，第一限位器件204可以與所述位置檢測器件具有相同的結構，如圖2所示，第一限位器件204可以包括第三傳感器204a和第四傳感器204b，第三傳感器204a設置在第一預設高度處，用于檢測承載臺201上端的位置，第四傳感器204b設置在第二預設高度處，用于檢測承載臺201下端的位置。當承載臺201的上端到達所述第一預設高度處時，摩擦輥101與預摩擦基板104的上端平齊，此時，第三傳感器204a可以發(fā)送相應的第三信號至所述驅動裝置，以驅動載物臺201下降；當承載臺201的下端到達所述第二預設高度處時，摩擦輥101與預摩擦基板104的下端平齊，此時，第四傳感器204b可以發(fā)送相應的第四信號至所述驅動裝置，以驅動載物臺201上升。
[0051]為了對預摩擦基板104進行固定，承載臺201上可以設置有固定預摩擦基板104的固定件。
[0052]所述固定件的結構可以有多種，如吸盤，夾具等。作為本發(fā)明的一種【具體實施方式】，如圖2所示，所述固定件可以包括設置在承載臺201上的至少一個第一固定件205和至少一個第二固定件206，第一固定件205用于將預摩擦基板104的下端固定在承載臺201上，第二固定件206用于將預摩擦基板104的上端固定在承載臺201上。
[0053]具體地，如圖2和圖3所示，所述固定件可以包括多個第一固定件205和多個第二固定件206，第一固定件205包括螺栓205a和螺帽205b，螺栓205a的一端與承載臺201固定連接，螺栓205a的另一端與螺帽205b旋轉連接。第二固定件206的一端與承載臺201固定連接，第二固定件206的另一端將預摩擦基板104夾固在承載臺201上，從而使得預摩擦基板104在承載臺201上保持穩(wěn)定且便于更換。
[0054]如上文中所述，將摩擦輥101移動至圖1中所示的位置B處開始在預摩擦基板104的表面進行預摩擦，預摩擦結束后，將摩擦輥101移動至位置A處，或其他遠離摩擦基臺102的位置。為了便于摩擦輥101在位置B和位置A(或其他遠離摩擦基臺的位置)之間的移動，如圖5所示，所述摩擦裝置還可以包括用于支撐摩擦輥101的支架501和兩個滑動組件502，支架501的兩端分別設置在兩個滑動組件502上，如圖4所示，每個滑動組件502可以包括第一楔形塊503和設置在該第一楔形塊503上方的第二楔形塊504，第一楔形塊503和第二楔形塊504的斜面相對設置，支架501的兩端分別設置在兩個滑動組件502的第二楔形塊504上，第一楔形塊503和第二楔形塊504之間可以相對滑動，以使摩擦輥101上升或下降。
[0055]本發(fā)明對第一楔形塊503和第二楔形塊504的傾角不作嚴格限定。例如，當預摩擦基板104的表面與摩擦基臺102的承載面相互垂直時，可以將第一楔形塊503和第二楔形塊504的傾角設置為45°，以使摩擦輥101在位置A和位置B之間移動。
[0056]為了便于第一楔形塊503和第二楔形塊504之間的滑動，如圖4所示，第一楔形塊503和第二楔形塊504的斜面之間可以設置有滑道505和滑塊506，第二楔形塊504上設置有絲杠507，該絲杠的螺桿設置在第二楔形塊內(nèi)，絲杠507的螺母與第一楔形塊503固定連接，當絲杠507順時針旋轉時，由于絲杠507的螺母與第一楔形塊503相對固定，因而可以使得第二楔形塊504在絲杠507的螺桿的推動下沿滑道505上移；當絲杠507逆時針旋轉時，第二楔形塊504的重力作用可以使得第二楔形塊504沿滑道505下移。
[0057]為了增大摩擦輥101的移動范圍，同時減小對預摩擦基板104和待摩擦基板103的壓力，更進一步地，如圖4所示，滑道505還包括第二限位器件508，該第二限位器件508用于限定第二楔形塊504沿滑道505上移和/或下移的距離。第二限位器件508可以為與第一限位器件204相同的傳感器，第二限位器件508對第二楔形塊504位置限定的原理與第一限位器件204相同，這里不再贅述。
[0058]以上為對本發(fā)明所提供的摩擦裝置的描述，可以看出，當需要對摩擦輥101的摩擦布預摩擦時，只需將預摩擦基板104移動至與摩擦輥101接觸即可，與現(xiàn)有技術相比，不需要將預摩擦基板104移動至摩擦基臺102，因而可以減少預摩擦基板104的調(diào)用時間，從而減少預摩擦工藝的時間，提高生產(chǎn)效率；另一方面，多次預摩擦可以在同一個預摩擦基板104上進行，因而可以減少預摩擦基板104的更換頻率，從而提高生產(chǎn)效率并減輕操作人員的工作量；再一方面，由于摩擦輥101在預摩擦基板104和待摩擦基板103進行摩擦時均位于摩擦基臺102和預摩擦基板104之間的角平分面上，因而可以使得摩擦輥101的摩擦布在預摩擦基板104的壓入量和在待摩擦基板103上的壓入量相等，從而可以提高摩擦質(zhì)量。
[0059]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內(nèi)的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種摩擦裝置，該摩擦裝置包括摩擦輥和摩擦基臺，所述摩擦基臺用于承載待摩擦基板，所述摩擦輥上設置有摩擦布，所述摩擦輥設置在所述摩擦基臺上方，用于對所述待摩擦基板進行摩擦，其特征在于，所述摩擦裝置還包括預摩擦基板，所述摩擦輥能夠沿所述預摩擦基板的表面與所述預摩擦基板發(fā)生相對移動，所述預摩擦基板能夠朝向或遠離所述摩擦基臺移動。
2.根據(jù)權利要求1所述的摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦裝置還包括預摩擦承載機構，該預摩擦承載機構用于承載所述預摩擦基板，所述預摩擦承載機構能夠帶動所述預摩擦基板朝向或遠離所述摩擦基臺移動。
3.根據(jù)權利要求2所述的摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦裝置還包括導軌，所述預摩擦承載機構設置在所述導軌上 ，所述預摩擦承載機構沿所述導軌滑動。
4.根據(jù)權利要求2所述的摩擦裝置，其特征在于，所述預摩擦基板能夠在第一預設位置和第二預設位置之間移動，所述第一預設位置與所述摩擦基臺之間的距離小于所述第二預設位置與所述摩擦基臺之間的距離，當所述預摩擦基板位于所述第一預設位置時，所述摩擦輥的摩擦布能夠與所述預摩擦基板相接觸。
5.根據(jù)權利要求4所述的摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦裝置還包括位置檢測器件，用于檢測所述預摩擦基板的位置，當所述位置檢測器件測得所述預摩擦基板位于所述第一預設位置時，所述摩擦輥與所述預摩擦基板的表面之間能夠發(fā)生相對移動；當所述位置檢測器件測得所述預摩擦基板位于所述第二預設位置時，所述摩擦輥與所述待摩擦基板的表面之間能夠發(fā)生相對移動。
6.根據(jù)權利要求2所述的摩擦裝置，其特征在于，所述預摩擦承載機構包括承載臺，用于承載所述預摩擦基板。
7.根據(jù)權利要求6所述的摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦輥的軸心位于所述承載臺的承載面與所述摩擦基臺的承載面所成角度的平分面上。
8.根據(jù)權利要求6所述的摩擦裝置，其特征在于，所述承載臺的承載面垂直于所述摩擦基臺的承載面。
9.根據(jù)權利要求8所述的摩擦裝置，其特征在于，所述承載臺能夠沿垂直于所述摩擦基臺的承載面的方向移動。
10.根據(jù)權利要求9所述的摩擦裝置，其特征在于，所述預摩擦承載機構還包括第一限位器件，用于限定所述承載臺的上升和/或下降的高度。
11.根據(jù)權利要求6至10中任意一項所述的摩擦裝置，其特征在于，所述承載臺上設置有固定所述預摩擦基板的固定件。
12.根據(jù)權利要求11所述的摩擦裝置，其特征在于，所述固定件包括設置在所述承載臺上的至少一個第一固定件和至少一個第二固定件，所述第一固定件用于將所述預摩擦基板的下端固定在所述承載臺上，所述第二固定件用于將所述預摩擦基板的上端固定在所述承載臺上。
13.根據(jù)權利要求1至10中任意一項所述的摩擦裝置，其特征在于，所述摩擦裝置還包括用于支撐所述摩擦輥的支架和兩個滑動組件，每個所述滑動組件包括第一楔形塊和設置在該第一楔形塊上方的第二楔形塊，所述第一楔形塊和所述第二楔形塊的斜面相對設置，所述支架的兩端分別設置在兩個所述滑動組件的第二楔形塊上，所述第一楔形塊和所述第二楔形塊之間能夠相對滑動，以使所述摩擦輥上升或下降。
14.根據(jù)權利要求13所述的摩擦裝置，其特征在于，所述第一楔形塊和所述第二楔形塊的斜面之間設置有滑道和滑塊，所述第二楔形塊上設置有絲杠，該絲杠的螺桿設置在所述第二楔形塊內(nèi)，所述絲杠的螺母與所述第一楔形塊固定連接。
15.根據(jù)權 利要求14所述的摩擦裝置，其特征在于，所述滑道上設置有第二限位器件，該第二限位器件用于限定所述第二楔形塊沿所述滑道上移和/或下移的距離。
【文檔編號】G02F1/1337GK104035236SQ201410218806
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2014年5月22日 優(yōu)先權日:2014年5月22日
【發(fā)明者】樊利寬, 石虎兆, 孫鵬, 鄭英花 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司