彩色濾光片及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種彩色濾光片及其制造方法，包括：提供一基板；在所述基板上形成黑矩陣層；在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案；在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案；在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案；其中，所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。
【專利說明】彩色濾光片及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及彩色濾光片及其制造方法，特別是涉及一種共用同一掩膜實現(xiàn)具有紅(R)，綠(G)，藍(B)三原色的濾光層的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置已被廣泛應(yīng)用于人類的生活和工作中，其中液晶顯示裝置的液晶面板攸關(guān)到液晶顯示裝置的顯示效果，包括視角、明暗程度以及顏色等。
[0003]主流的薄膜晶體管液晶裝置(TFT-1XD)，其生產(chǎn)流程主要是通過曝光和掩模實現(xiàn)，由于液晶裝置屬于被動發(fā)光顯示模式，其基板包括彩色濾光片和薄膜晶體管陣列兩個部分，雖然目前發(fā)展有一種彩色濾光片陣列基板(Color film On Array, C0A)設(shè)計,但由于COA工藝較為復(fù)雜，良率也較低，因此主流的技術(shù)仍為彩色濾光片和薄膜晶體管陣列基板分離的結(jié)構(gòu)。
[0004]上述薄膜晶體管陣列基板主要包括數(shù)據(jù)線、掃描線、薄膜晶體管開關(guān)、像素電極、外圍電路等；而彩色濾光片基板上主要包括黑矩陣(Black Matrix，BM)、紅(R)，綠(G)，藍(B)三原色的濾光層等。由于液晶面板是通過改變驅(qū)動集成芯片的電壓來控制液晶分子的排列狀態(tài)，決定背光源的開關(guān)，經(jīng)由濾光層形成不同色光，從而創(chuàng)造出各種色彩，可使液晶顯示器呈現(xiàn)逼真，鮮艷的畫面，因此彩色濾光片為液晶顯示器的關(guān)鍵組件。
[0005]傳統(tǒng)的彩色濾光片生產(chǎn)至少需要下列5道掩膜(Mask)如下:在玻璃基板上以濺鍍樹脂層膜以形成黑矩陣、接著在黑矩陣之間的開口部形成紅色濾光圖案、重復(fù)上述步驟再依序形成綠色濾光圖案、藍色濾光圖案、最后再形成間隙層(Photo Spacer, PS),而垂直配向液晶顯示器(Mult1-domain Vertical Alignment, MVA IXD)更需要通過六道掩膜:黑矩陣、紅色濾光圖案、綠色濾光圖案、藍色濾光圖案、共用電極、間隙層才能實現(xiàn)。
[0006]其中，上述紅色濾光圖案、綠色濾光圖案與藍色濾光圖案必須使用三張不同的掩膜，依序進行三次曝光、顯影等步驟而完成，如圖1至3所示，先利用第一張掩膜11形成紅色濾光圖案110之后,利用第二張掩膜12形成綠色濾光圖案120，再利用第三張掩膜13形成藍色濾光圖案130。由于在現(xiàn)有技術(shù)中，形成紅色濾光圖案、綠色濾光圖案與藍色濾光圖案必須利用三張不同的掩膜而完成，因此生產(chǎn)成本高，花費時間長。故，有必要提供一種彩色濾光片基板的制造方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種彩色濾光片及其制造方法，特別是一種共用同一掩膜實現(xiàn)具有紅(R)，綠(G)，藍(B)三原色濾光層的制造方法以降低掩膜成本。
[0008]為實現(xiàn)本發(fā)明目的，提供一種彩色濾光片的制造方法如下:提供一基板；在所述基板上形成黑矩陣層；在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案；在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案；在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案；其中，所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。
[0009]在本發(fā)明的一實施例中，所述彩色濾光片的制造方法還可包括:在設(shè)置有所述黑矩陣層、第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的基板上，形成一保護層；在所述保護層的上方形成一公用電極層；以及在所述公用電極層上方形成一間隙層。
[0010]本發(fā)明的特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案具有不同的顏色且直列并排在所述基板上，所述在形成有所述黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案包括:清洗設(shè)置有所述黑矩陣層的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第一濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；將涂覆有所述第一光阻材料的所述基板進行紫外線曝光以及顯影以形成第一濾光圖案。
[0011]接著，在所述形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案包括:清洗設(shè)置有所述黑矩陣層以及所述第一濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第二光阻材料，所述第二光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第二濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；將涂覆有所述第二光阻材料的所述基板進行紫外線曝光以及顯影以形成第二濾光圖案。
[0012]以及，在所述形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案包括:清洗設(shè)置有所述黑矩陣層、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第三光阻材料，所述第三光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第三濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；將涂覆有所述第三光阻材料的所述基板進行紫外線曝光以及顯影以形成第三濾光圖案。
[0013]所述第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料為有機負型光阻。
[0014]所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別為紅光、綠光、藍光圖案。
[0015]在本發(fā)明的一實施例中，提供一種由上述制造方法所完成的彩色濾光片，所述彩色濾光片包括:基板；多個黑矩陣，設(shè)置于所述基板上；以及多個不同顏色的濾光圖案，直列并列于所述基板上且每一所述濾光圖案設(shè)置于兩相鄰的所述黑矩陣之間。
[0016]在本發(fā)明的另一實施例中，所述彩色濾光片還可包括:一保護層，設(shè)置于所述黑矩陣與所述多個不同顏色的濾光圖案上方；一公用電極層，設(shè)置于所述保護層上方；以及一間隙層，設(shè)置于所述公用電極層上方。
[0017]由于本發(fā)明所述的掩膜可根據(jù)第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案不同的透光光譜，選擇第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料的感光頻率，因此所述第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案可共用同一張掩膜，進而減少兩張掩膜量，簡化彩色濾光片的制程并且降低液晶顯示裝置的生產(chǎn)成本。
[0018]為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合所附圖示，做詳細說明如下:
【專利附圖】

【附圖說明】[0019]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的第一濾光圖案制造工藝示意圖。
[0020]圖2為現(xiàn)有技術(shù)的第二濾光圖案制造工藝示意圖。
[0021]圖3為現(xiàn)有技術(shù)的第三濾光圖案制造工藝示意圖。
[0022]圖4為本發(fā)明彩色濾光片的制造流程圖。
[0023]圖5為本發(fā)明的黑矩陣制造工藝示意圖。
[0024]圖6為本發(fā)明的第一濾光圖案制造工藝示意圖。
[0025]圖7為本發(fā)明的第二濾光圖案制造工藝示意圖。
[0026]圖8為本發(fā)明的第三濾光圖案制造工藝示意圖。
[0027]圖9為本發(fā)明第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的紫外線穿透率光譜圖。
[0028]圖10為本發(fā)明第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的感光頻率圖。
[0029]圖11為本發(fā)明一實施例的彩色濾光片的結(jié)構(gòu)剖面圖。
[0030]圖12為本發(fā)明另一實施例的彩色濾光片的結(jié)構(gòu)剖面圖。
【具體實施方式】
[0031]以下各實施例的說明是參考附圖，用以式例本發(fā)明可以用以實施的特定實施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「偵愐」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。
[0032]請參照圖4，顯示本發(fā)明第一優(yōu)選實施的彩色濾光片的制造流程圖。在本實施例中，所述彩色濾光片10可透過顏料分散法(Pigment Dispersed Method)所形成,具體步驟如下:
[0033]步驟S1:提供一基板50，所述基板50為透明玻璃基板。
[0034]步驟S2:請參照圖5，在所述基板50上形成黑矩陣層51，具體可包括:步驟S211，通過裂縫式或旋轉(zhuǎn)式涂覆機將有機黑色負型光阻材料51涂覆在所述基板上50 ;步驟S212，通過真空干燥機干燥所述有機黑色負型光阻材料51 ;步驟S213，將干燥后的基板50送入EBR(Edge Bead Rinse)去除邊緣光阻；步驟S214，預(yù)烘烤與冷卻；步驟S215，利用紫外線曝光機，將具有黑矩陣圖案(pattern)的掩模100設(shè)置于所述有機黑色負型光阻材料51上方，對所述有機黑色負型光阻材料51進行曝光；步驟S216，利用顯影劑對所述有機黑色負型光阻材料51進行顯影蝕刻；以及步驟S217，烘烤固化，以形成多個黑矩陣層51。
[0035]在上述步驟S2中，所述的黑矩陣層51還可選用不同的材料所形成，例如:在鉻或其合金上涂覆正型光阻材料。因此，上述步驟S2還可選用下列方式完成:步驟S221，以蒸鍍或濺鍍的方式在基板上形成鉻或鉻合金的薄膜；步驟S222，在所述薄膜表面涂覆正型光阻材料；步驟S223，利用紫外線曝光機，將具有黑矩陣圖案的掩模設(shè)置于所述正型光阻材料上方，對所述正型光阻材料進行曝光；步驟S224，利用顯影劑所述正型光阻材料進行顯影蝕刻，以去除所述曝光處的鉻或鉻合金的薄膜；以及步驟S225，利用去除劑將所述正型光阻材料完全去除，以形成鉻或鉻合金材料的黑矩陣層51。
[0036]可以理解的是，上述步驟S2也可使用有機黑色正型光阻材料，或在鉻或鉻合金上涂覆負型光阻材料，除了在步驟S215或S223中曝光處的材料是不可溶(負型光阻材料)或可溶(正型光阻材料)的差異之外，并不影響本發(fā)明的實施。
[0037]步驟S3:在形成有多個黑矩陣層51的基板上50，通過一掩模200形成第一濾光圖案52，具體包括:步驟S31，清洗設(shè)置有所述黑矩陣層51的所述基板50，并且在清洗后的所述基板50上涂覆第一光阻材料52，所述第一光阻材料52的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第一濾光圖案52的透光光譜的范圍內(nèi)；步驟S32，將涂覆有所述第一光阻材料52的所述基板50依序進行真空干燥、去掉邊緣光阻、預(yù)烘烤、冷卻、紫外線曝光、顯影以及固化等步驟以形成第一濾光圖案52。請參照圖6，由于所述第一光阻材料52是依據(jù)所述第一濾光圖案52的透光光譜所選擇的，因此當(dāng)將所述掩模200設(shè)置于所述第一光阻材料52上方時，自然可根據(jù)所述第一光阻材料52的感光頻率對所述第一光阻材料52進行曝光，以形成第一濾光圖案52，所述第一濾光圖案52為紅色濾光圖案。
[0038]步驟S4:在形成有所述黑矩陣層51以及所述第一濾光圖案52的基板50上，通過所述掩模200形成第二濾光圖案53，具體包括:步驟S41，清洗設(shè)置有所述黑矩陣層51以及所述第一濾光圖案52的所述基板50，并且在清洗后的所述基板50上涂覆第二光阻材料53，所述第二光阻材料53的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第二濾光圖案53的透光光譜的范圍內(nèi)；步驟S42，將涂覆有所述第二光阻材料53的所述基板50依序進行真空干燥、去掉邊緣光阻、預(yù)烘烤、冷卻、紫外線曝光、顯影以及固化等步驟以形成第二濾光圖案53。請參照圖7，由于所述第二光阻材料53是依據(jù)所述第二濾光圖案53的透光光譜所選擇的，因此當(dāng)將所述掩模200設(shè)置于所述第二光阻材料53上方時，自然可根據(jù)所述第二光阻材料53的感光頻率對所述第二光阻材料53進行曝光，以形成第二濾光圖案53，所述第二濾光圖案53為綠色濾光圖案。
[0039]步驟S5:在形成有所述黑矩陣層51、所述第一濾光圖案52以及所述第二濾光圖案53的基板50上，通過所述掩模200形成第三濾光圖案54，具體包括:步驟S51，清洗設(shè)置有所述黑矩陣層51、所述第一濾光圖案52以及所述第二濾光圖案53的所述基板50，并且在清洗后的所述基板50上涂覆第三光阻材料54，所述第三光阻材料54的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第三濾光圖案54的透光光譜的范圍內(nèi)；步驟S52，將涂覆有所述第三光阻材料54的所述基板50依序進行真空干燥、去掉邊緣光阻、預(yù)烘烤、冷卻、紫外線曝光、顯影以及固化等步驟以形成第三濾光圖案54。請參照圖8，由于所述第三光阻材料54是依據(jù)所述第三濾光圖案54的透光光譜所選擇的，因此當(dāng)將所述掩模200設(shè)置于所述第三光阻材料54上方時，自然可根據(jù)所述第三光阻材料54的感光頻率對對所述第三光阻材料54進行曝光，以形成第三濾光圖案54，所述第三濾光圖案54為藍色濾光圖案。
[0040]需特別說明的是，在上述步驟S3至S5系通過所述掩膜提供的不同紫外線透光光譜，在所述基板上分別形成所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案具有不同的顏色且直列并排在所述基板上。如圖9所示，其特征在于所述第一濾光圖案52、第二濾光圖案53以及第三濾光圖案54所共用的掩膜200在對應(yīng)于所述第一濾光圖案52、所述第二濾光圖案53以及所述第三濾光圖案54的位置上具有不同的紫外光光譜透過率，藉由根據(jù)所述第一濾光圖案52、所述第二濾光圖案53以及所述第三濾光圖案54不同的透光光譜，選擇與上述透光光譜對應(yīng)的所述第一光阻材料52、所述第二光阻材料53以及所述第三光阻材料54。光阻材料選定后，自然就可確定其感光頻率，因此所述第一濾光圖案52、第二濾光圖案53以及第三濾光圖案54可適用于同一張掩膜來完成。如圖10所示，其中虛線部分表示所述第一光阻材料52、所述第二光阻材料53以及所述第三光阻材料54的感光頻率。由于本發(fā)明所述的第一濾光圖案52、所述第二濾光圖案53以及所述第三濾光圖案54僅需一張掩膜來完成，相對于現(xiàn)有技術(shù)，無須因應(yīng)不同的濾光圖案而使用不同的掩膜。因此，可減少兩張掩膜，在簡化彩色濾光片基板制程的同時也減少彩色濾光片的制造成本。
[0041]本發(fā)明的第二優(yōu)選實施例的彩色濾光片的制造方法可進一步包括:步驟S6，形成間隙層55于所述黑矩陣層51、第一濾光圖案52、第二濾光圖案53以及第三濾光圖案54上方，所述間隙層55的主要功用為支撐兩層玻璃基板與維持液晶層間距的均勻性。其方法具體可為:基板清洗、正光阻涂覆、真空干燥、去掉邊緣光阻、預(yù)烘烤與冷卻、紫外線曝光、顯影、以及烘烤等步驟?；蚴窃诓襟ES5與步驟S6之間更進一步包括:步驟S7，采用旋轉(zhuǎn)涂覆或裂縫涂覆等方法，在所述基板50上形成覆蓋所述黑矩陣層51、第一濾光圖案52、第二濾光圖案53以及第三濾光圖案54的一保護層56，用于保護濾光圖案以及增加表面平滑性；以及步驟S8，采用真空濺鍍裝置進行濺鍍等方法，在所述保護層56上方形成一公用電極層57,用于與液晶設(shè)計圖案電極(Pattern Electrodes)構(gòu)成正負極以驅(qū)動液晶分子旋轉(zhuǎn)。上述步驟S7及步驟S8亦可同時進行，即在所述基板50上同時形成覆蓋所述黑矩陣層51、第一濾光圖案52、第二濾光圖案53以及第三濾光圖案54的保護層56與公用電極層57。
[0042]請參照圖11，本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例提供一種彩色濾光片10，所述彩色濾光片10可由上述制造方法所形成，其包括:基板50 ;多個黑矩陣51，設(shè)置于所述基板50上；多個不同顏色的濾光圖案52、53、54，直列并列于所述基板50上，且每一所述濾光圖案52、53、54設(shè)置于兩相鄰的所述黑矩陣51之間，并且可更進一步形成一間隙層55于所述黑矩陣51以及所述多個不同顏色的濾光圖案52、53、54上方。
[0043]請參照圖12，在本發(fā)明的另一實施例中，所述彩色濾光片10還可包括:一保護層56，設(shè)置于所述黑矩陣51與所述多個不同顏色的濾光圖案52、53、54上方，并位于所述間隙層55之下；以及一公用電極層57，設(shè)置于所述保護層56以及所述間隙層55之間。
[0044]其中，所述基板50為透明玻璃基板，厚度可選自為0.7mm或以下，但不局限于此。
[0045]由于構(gòu)成TFT半導(dǎo)體層的非晶硅體具有光導(dǎo)電性，因此為了維持汲極電極與源極電極之間的非導(dǎo)通狀態(tài)，所述黑矩陣51必須能遮蔽外光以及避免TFT之光電子流，
[0046]且需具有改善色彩對比值、防止相鄰的所述多個不同顏色的濾光圖案52、53、54互相混色等功能，為達上述目的，所述黑矩陣51需具備低反射率，并且光學(xué)濃度3倍以上的遮光率，其厚度優(yōu)選為Ium以下，但不局限于此。
[0047]所述多個不同顏色的濾光圖案52、53、54的光阻材料即為一種光刻膠，又稱光致抗蝕劑，光刻膠在接受一定波長的光或者射線時，會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。其系為由感光樹脂、光增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體，所述感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得光阻材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化，其具備高色純度、高光穿透率、高旋光性與高耐熱性等特性，并且其厚度一般可約為I?2μπι，但不局限于此。
[0048]根據(jù)光阻材料的化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，其可分負型光阻材料和正型光阻材料兩類。當(dāng)光照后形成不可溶物質(zhì)時為負型光阻材料；反之，對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正型光阻材料。而本發(fā)明所述的第一光阻材料52、第二光阻材料53以及第三光阻材料54優(yōu)選采用有機負型光阻材料。
[0049]并且，所述保護層56可選用環(huán)氧樹脂系、聚亞酰胺樹脂系、聚乙烯醇樹脂或壓克力樹脂系等高分子材料，并且其厚度可選自為2?2.5 μ m左右，但不局限于此。
[0050]所述公用電極層57可以是透明導(dǎo)電層或金屬導(dǎo)電層，其厚度可選自為0.15μπι左右，但不局限于此。若為透明導(dǎo)電層可選用氧化銦錫薄膜(Indium Tin Oxide, ITO);若為金屬導(dǎo)電層則可選用招金屬作為導(dǎo)電材料。然而，由于ITO具有高導(dǎo)電度(I?5χ10_6Ωηι)、高透光度及耐候性佳等優(yōu)勢，因此優(yōu)選為透明導(dǎo)電層。
[0051]綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭露如上，但上述優(yōu)選實施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可做各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟: 提供一基板； 在所述基板上形成黑矩陣層； 在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案； 在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案； 在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案；其中 所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。
2.根據(jù)權(quán) 利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩陣層包括: 將一黑色光阻材料涂覆在所述基板上； 利用紫外線曝光機，將一具有黑矩陣圖案的掩模設(shè)置于所述黑色光阻材料上方，對所述黑色光阻材料進行曝光； 利用顯影劑對所述黑色光阻材料進行顯影蝕刻，以形成多個黑矩陣層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩陣層包括: 以蒸鍍或濺鍍方式于基板上形成鉻或鉻合金的薄膜； 將一黑色光阻材料涂覆在所述基板上； 利用紫外線曝光機，將一具有黑矩陣圖案的掩模設(shè)置于所述黑色光阻材料上方，對所述黑色光阻材料進行曝光； 利用顯影劑對所述黑色光阻材料進行顯影蝕刻； 利用去除劑將所述黑色光阻材料去除，以形成多個黑矩陣層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案具有不同的顏色且直列并排在所述基板上，所述在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案包括: 清洗設(shè)置有所述黑矩陣層的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第一濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)； 將涂覆有所述第一光阻材料的所述基板進行紫外線曝光以及顯影，以形成第一濾光圖案。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案包括: 清洗設(shè)置有所述黑矩陣層以及所述第一濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第二光阻材料，所述第二光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第二濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)； 將涂覆有所述第二光阻材料的所述基板進行紫外線曝光以及顯影，以形成第二濾光圖案。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案包括: 清洗設(shè)置有所述黑矩陣層、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第三光阻材料，所述第三光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第三濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)； 將涂覆有所述第三光阻材料的所述基板進行紫外線曝光以及顯影，以形成第三濾光圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述方法還可包括: 在設(shè)置有所述黑矩陣層、第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的基板上，形成一保護層； 在所述保護層的上方形成一公用電極層； 在所述公用電極層上方形成一間隙層。
8.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料為有機負型光阻。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別為紅色、綠色以及藍色濾光圖案。
10.一種彩色濾光片，根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法制成，所述彩色濾光片包括: 基板； 多個黑矩陣，設(shè)置于所述基板上； 多個不同顏色的濾光圖案，直列并列于所述基板上且每一所述濾光圖案設(shè)置于兩個相鄰的所述黑矩陣之間。
【文檔編號】G02B5/20GK103984052SQ201410184693
【公開日】2014年8月13日 申請日期:2014年5月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月4日
【發(fā)明者】徐向陽 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司