投影光學(xué)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種投影光學(xué)系統(tǒng)，沿其光軸方向從物面一側(cè)依次包括第一透鏡至第三透鏡、孔徑光闌、第四透鏡至第六透鏡。該投影光學(xué)系統(tǒng)采用對稱式結(jié)構(gòu)，可以有效地校正垂軸像差，同時采用正負(fù)光焦度平衡匹配有效地校正軸向像差，滿足瑞利判據(jù)的要求；采用盡量少的透鏡實現(xiàn)較大的視場，結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、重量輕，有利于各種實驗的開展，可以用于偏振照明系統(tǒng)的偏振態(tài)測量實驗，可以用于光瞳濾波實驗，還可以用于照明方式優(yōu)化實驗等。
【專利說明】投影光學(xué)系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種投影光學(xué)系統(tǒng)，特別涉及一種用于偏振照明系統(tǒng)中偏振測量的投影光學(xué)系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]采用氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光技術(shù)和浸液光刻技術(shù)，并配合雙圖形曝光技術(shù)，目前已經(jīng)實現(xiàn)32nm節(jié)點半導(dǎo)體光刻技術(shù)量產(chǎn)，實現(xiàn)該技術(shù)的典型設(shè)備是荷蘭ASML公司型號為TWINSCAN NXT:1950i的光刻機(jī)。對于目前的22nm節(jié)點光刻技術(shù)量產(chǎn)，由于極紫外光刻技術(shù)(EUVL)目前尚有一些關(guān)鍵技術(shù)需要改善和提高，同時ArF浸液光刻技術(shù)得到偏振照明技術(shù)、雙圖形及多圖形技術(shù)的支持，依然表現(xiàn)出強(qiáng)大的生命力，例如ASML公司型號為TWINSCAN NXT:1960Bi和1970Ci的光刻機(jī)依然是22nm節(jié)點強(qiáng)有力的競爭者之一，這三款設(shè)備均采用業(yè)界最大數(shù)值孔徑(NA=L 35)的投影物鏡。
[0003]ArF光刻技術(shù)發(fā)展到NA=L 35時代(第5代浸液光刻技術(shù))得到了若干關(guān)鍵技術(shù)的大力支持，ASML公司早在PAS系列光刻機(jī)的NA=0.75時代就開始研究浸液技術(shù)、偏振照明技術(shù)等等若干關(guān)鍵技術(shù)以延續(xù)ArF光刻技術(shù)的生命。例如，PAS5500/1150C光刻機(jī)實現(xiàn)90nm節(jié)點光刻技術(shù)是采用傳統(tǒng)技術(shù)，對于TWINSCAN XT: 1450H光刻機(jī)(ΝΑ=0.93)采用傳統(tǒng)技術(shù)可以實現(xiàn)65nm節(jié)點技術(shù)，而采用偏振照明技術(shù)就可以將分辨率提高到57nm?？梢姡跇O紫外光刻技術(shù)(EUVL)目前尚有一些關(guān)鍵技術(shù)(比如光源功率問題、掩模版問題、光刻膠問題等)需要改善和提高的情況下，研究浸液光刻技術(shù)、偏振照明技術(shù)等就顯得非常有現(xiàn)實意義。
[0004]研究浸液光刻技術(shù)、偏振照明技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)，首先需要有一個實驗用的光刻投影物鏡，它可以用于偏振照明系統(tǒng)的偏振態(tài)測量實驗，可以用于光瞳濾波實驗，還可以用于照明方式優(yōu)化實驗等等。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種投影光學(xué)系統(tǒng)，該投影光學(xué)系統(tǒng)可以用于偏振照明系統(tǒng)的偏振態(tài)測量，可以用于光瞳濾波，還可以用于照明方式優(yōu)化等等。
[0006]本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:
[0007]—種投影光學(xué)系統(tǒng)，沿其光軸方向從物面一側(cè)依次包括:第一透鏡至第三透鏡、孔徑光闌、第四透鏡至第六透鏡，其特征在于，第一透鏡和第六透鏡具有正光焦度并且焦距相同，第二透鏡和第五透鏡具有負(fù)光焦度并且焦距相同，第三透鏡和第四透鏡具有負(fù)光焦度并且焦距相同，第一透鏡和第六透鏡為雙凸透鏡，第二透鏡和第四透鏡為凹面朝向像面的彎月透鏡，第三透鏡和第五透鏡為凹面朝向物面的彎月透鏡。
[0008]所有六塊透鏡均采用高透過率的熔石英材料制成。
[0009]所有六塊透鏡均采用高透過率的熔石英材料，可選康寧公司7980牌號的熔石英材料，也可以選肖特公司的LithosilTMQ0/l-E193熔石英材料。[0010]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下的優(yōu)點和積極效果:
[0011]1、本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)，采用對稱式結(jié)構(gòu)，可以有效地校正垂軸像差，同時采用正負(fù)光焦度平衡匹配有效地校正軸向像差，滿足瑞利判據(jù)的要求；
[0012]2、本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)，采用盡量少的透鏡實現(xiàn)較大的視場，結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、重量輕，有利于各種實驗的開展。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)及光路圖；
[0014]圖2為本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)的調(diào)制傳遞函數(shù)MTF圖；
[0015]圖3為本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)的RMS波像差分布圖。
【具體實施方式】
[0016]以下將對本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
[0017]本發(fā)明的目的在于提供一種投影光學(xué)系統(tǒng)，可以用于偏振照明系統(tǒng)的偏振態(tài)測量實驗，可以用于光瞳濾波實驗，還可以用于照明方式優(yōu)化實驗等。
[0018]本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)的約束參數(shù)如表1所示，工作波長為193.368nm (采用氟化氬ArF準(zhǔn)分子激光光源 )，因此所有透鏡全部采用高透過率的熔石英材料，可選康寧公司7980牌號的熔石英材料，也可以選肖特公司的LithosilTMQ0/l-E193熔石英材料。像方數(shù)值孔徑為0.02，像方視場直徑為8.192mm，放大倍率為-1倍，光學(xué)總長(共軛距)為小于101.6mm ο
[0019]表1本發(fā)明的投影光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計約束參數(shù)
[0020]
【權(quán)利要求】
1.一種投影光學(xué)系統(tǒng)，沿其光軸方向從物面一側(cè)依次包括第一透鏡至第三透鏡、孔徑光闌、第四透鏡至第六透鏡，其特征在于，第一透鏡和第六透鏡具有正光焦度并且焦距相同，第二透鏡和第五透鏡具有負(fù)光焦度并且焦距相同，第三透鏡和第四透鏡具有負(fù)光焦度并且焦距相同，第一透鏡和第六透鏡為雙凸透鏡，第二透鏡和第四透鏡為凹面朝向像面的彎月透鏡，第三透鏡和第五透鏡為凹面朝向物面的彎月透鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所有六塊透鏡均采用高透過率的熔石英材料制成。
【文檔編號】G03F7/20GK103926801SQ201410129665
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年4月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月1日
【發(fā)明者】蔡燕民, 王向朝, 唐鋒 申請人:中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所