一種光配向設(shè)備及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提出一種光配向設(shè)備及其光配向制作方法。該光配向設(shè)備包含產(chǎn)生紫外光的燈箱組件，從紫外光燈箱中照射出來的偏振紫外光經(jīng)過的紫外光垂直配向掩模板后，照射到紫外光垂直配向掩模板下方的玻璃基板上。紫外光照射的方向與玻璃基板的運(yùn)行方向垂直。液晶面板陣列基板側(cè)的玻璃基板和彩膜基板側(cè)的玻璃基板分別進(jìn)行光配向處理，貼合后可以實(shí)現(xiàn)的配向方式從現(xiàn)有的四種增加為八種。通過本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)高透過率的配向方式，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
【專利說明】一種光配向設(shè)備及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種平板顯示領(lǐng)域的光配向技術(shù)，尤其涉及一種光配向設(shè)備及其工作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]早期用來控制液晶配向方向的實(shí)用方法是在高分子膜上用摩擦布進(jìn)行摩擦(Rubbing)配向的摩擦法。不過，摩擦法用于面板時(shí)只能在水平方向上配向，已被TN(Twisted Nematic)液晶面板廣泛采用，但用與電視液晶面板的VA模式要擴(kuò)大視角，需要部分改變配向方向，分割成多個(gè)區(qū)域，因此不能采用摩擦法。VA模式在不施加電場的狀態(tài)下，液晶分子基本垂直于面板的水平面進(jìn)行垂直配向。施加電場后，液晶分子傾倒，排列狀態(tài)發(fā)生變化。為了控制施加電場后液晶分子的傾倒方向，VA模式的液晶面板都會(huì)設(shè)計(jì)突起(Protrusion)和狹縫(Slit),通過改變它們的形狀來實(shí)現(xiàn)未施加電場時(shí),液晶分子呈稍微傾斜的穩(wěn)定狀態(tài)。施加電場后，突起和狹縫附近的液晶分子首先開始傾倒，然后按照多米諾骨牌效應(yīng)，隨著推倒其他液晶分子，最后同一個(gè)區(qū)域的所有液晶分子都向一個(gè)方向傾倒。
[0003]紫外光垂直配向(ultraviolet induced mult1-domain vertical alignment,UV2A)技術(shù)是日本夏普公司開發(fā)的最先進(jìn)的垂直配向(vertical alignment, VA)液晶顯示技術(shù)。使用UV2A技術(shù)，可以省去在VA顯示模式的液晶面板中用于控制液晶分子配向的狹縫和突起，在提升像素開口率、面板對(duì)比度和液晶響應(yīng)速度等方面都有明顯的效果。
[0004]UV2A技術(shù)能夠通過配向膜實(shí)現(xiàn)所有液晶分子沿著設(shè)計(jì)方向整體傾斜的狀態(tài)，所以施加電場后，液晶分子同時(shí)向一個(gè)方向傾倒。因此，液晶的響應(yīng)速度增至原來的2倍，可以達(dá)到4ms以下。由于不使用突起和狹縫也能分割成多個(gè)區(qū)域，因此開口率比原來利用突起分割成多個(gè)區(qū)域的面板提高20%以上。背照燈亮度很小即可獲得與原來同等的亮度，降低耗電量和削減背照燈光源數(shù)量有利于節(jié)能和節(jié)省成本。高精細(xì)化和3D顯示器等也易于實(shí)現(xiàn)。另外，過去背照燈的光在突起和狹縫部分散射，在前面漏光，因此泛黑。而UV2A技術(shù)在突起和狹縫部分不會(huì)漏光，因此使用UV2A技術(shù)的液晶面板的靜態(tài)對(duì)比度達(dá)到5000:1，是原來的1.6倍。此外，使用UV2A技術(shù)，還可以省去設(shè)計(jì)突起和狹縫的工藝，簡化液晶面板的制造工藝，提聞生廣能力。
[0005]UV2A技術(shù)的關(guān)鍵部材是配向膜。這種配向膜中的特殊高分子材料能夠在紫外光照射下起化學(xué)反應(yīng)。配向膜表面的高分子主鏈向紫外光照射方向傾斜，液晶分子就會(huì)沿著這條主鏈方向傾斜。從而，能夠按照設(shè)計(jì)角度控制液晶的配向方向。液晶分子的配向精度是相對(duì)于液晶分子長度(約2nm)成±20pm的角度。
[0006]UV2A可以使得液晶的響應(yīng)速度更快，面板的對(duì)比度更高，但是考慮到傾斜視角情況下的視角特性，還需要對(duì)UV2A面板進(jìn)行分區(qū)，使得一個(gè)子像素內(nèi)的液晶傾倒方向可以有多個(gè)傾倒方向，以補(bǔ)償傾斜視角特性。目前常用的光配向設(shè)備如圖1所示，在垂直方向由上至下依次設(shè)置UV燈箱10，UV2Amaskll，機(jī)臺(tái)13，基板12，所述基板12放置在機(jī)臺(tái)13上，所述UV燈箱10內(nèi)置主要組件為聚光罩14、高壓水銀燈15、波長過濾片16、偏光片17，所述高壓水銀燈發(fā)射的光經(jīng)過所述聚光罩14聚集照射到波長過濾片16得到紫外光16，所述紫外光16經(jīng)過偏光板得到偏振紫外光17照射到所述UV2Amaskll上，并對(duì)其垂直下方的基板12進(jìn)行曝光，其中，如圖1所示，所述紫外光16的入射曝光方向Yl與所述機(jī)臺(tái)13上所述基板12的運(yùn)行方向Xl在同一平面內(nèi)，相應(yīng)的液晶面板配向原理如圖2所示。
[0007]如圖1和圖2所示的為現(xiàn)有光配向設(shè)備與原理，可以配向出如圖3所示的四種液晶分子的傾倒方向。下面以圖3中配向方式2所示的配向方式為例，說明現(xiàn)有光配向設(shè)備的配向方法。
[0008]參考圖3，粗線黑框所表示的區(qū)域代表一個(gè)子像素；一個(gè)子像素內(nèi)用兩條縱橫交錯(cuò)的細(xì)線區(qū)分出4個(gè)區(qū)域(Domain),相應(yīng)的子像素結(jié)構(gòu)就叫做4Domain結(jié)構(gòu)。虛線所示的垂直方向的箭頭表示液晶面板陣列基板一側(cè)的液晶的配向方向；斷線所示的水平方向的箭頭表示液晶面板彩膜基板一側(cè)的液晶的配向方向；傾斜的實(shí)線箭頭所示一個(gè)區(qū)域內(nèi)液晶受陣列基板側(cè)和彩膜基板側(cè)配向所形成的合成配向方向。一般來說該合成配向方向是與水平方向成45度角。如圖3所示，在陣列基板側(cè)和彩膜基板側(cè)分別有兩個(gè)配向方向，進(jìn)行排列組合后，形成了 4個(gè)傾斜的配向方向，從而實(shí)現(xiàn)4Domain結(jié)構(gòu)。
[0009]參考圖2，以陣列基板側(cè)配向?yàn)槔?，X2表示機(jī)臺(tái)上陣列基板22的運(yùn)行方向，Y2表示曝光方向，UV2A mask21表面包括遮光部24和透光部25，說明UV2A配向設(shè)備21的配向方法如下:
[0010]在陣列基板22側(cè)的一個(gè)子像素23內(nèi)，分別在所述子像素23的左側(cè)和右側(cè)進(jìn)行向上和向下兩個(gè)方向的配向方向，那么對(duì)每個(gè)像素內(nèi)可以用UV2A mask21的遮光部24首先遮住子像素23的左側(cè)，其透光部25對(duì)右側(cè)進(jìn)行向下的照射，再用UV2A mask21的遮光部24遮住子像素的右側(cè)，其透光部25對(duì)左側(cè)進(jìn)行向上的照射，那么就可以在較簡潔的方式下完成對(duì)陣列基板側(cè)22的配向。同樣的道理，對(duì)彩膜基板側(cè)配向的方法與陣列基板側(cè)相同。
[0011]但是目前設(shè)備可以配向的配向方向，陣列基板側(cè)只有兩種，彩膜基板側(cè)也只有兩種，他們的組合也只有如圖3所列的四種。其中，圖3所示的配向方式2和配向方式3是最優(yōu)的配向方案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]有鑒于此，本發(fā)明的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供一種光配向設(shè)備及其光配向制作方法，可以實(shí)現(xiàn)高透過率的配向方式，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
[0013]為達(dá)上述或其它目的，本發(fā)明提出一種光配向設(shè)備，其包括:燈箱，用于照射偏振紫外光；紫外光垂直配向掩模板，其包括遮光部和透光部，用于選擇性透過紫外光；機(jī)臺(tái)，用于放置需要進(jìn)行光配向的基板；從所述燈箱照射出所述偏振紫外光，其以一傾斜角照射到所述紫外光垂直配向掩模板上，部分所述紫外光被照射在所述紫外光垂直配向掩模板的所述遮光部遮擋，另一部分所述紫外光照射到所述紫外光垂直配向掩模板的所述透光部，所述紫外光透過所述紫外光垂直配向掩模板后，以所述傾斜角照射到放置在所述機(jī)臺(tái)上的所述基板上。
[0014]優(yōu)選的，所述紫外光從所述基板的垂直左上方照射，且所述紫外光的入射面方向與所述陣列基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直，其中。
[0015]優(yōu)選的，所述傾斜角的范圍為30?90度。[0016]優(yōu)選的，所述機(jī)臺(tái)上的所述基板為橫向放置或縱向放置。
[0017]優(yōu)選的，所述基板為陣列基板和/或彩膜基板。
[0018]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，提供一種光配向設(shè)備的制作方法，其上述實(shí)施例中所述的光配向設(shè)備，具體包括以下步驟:
[0019]a)提供紫外光垂直配向掩模板，將陣列基板放置在所述機(jī)臺(tái)上，所述紫外光垂直配向掩模板將所述陣列基板上每個(gè)子像素的左側(cè)遮住，調(diào)整所述紫外光的照射方向，使所述紫外光從所述陣列基板的垂直左上方照射到子像素的右側(cè)，且所述紫外光的入射面方向與所述陣列基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直，從而形成所述子像素的所述右側(cè)區(qū)域的配向方向；
[0020]b)保持所述紫外光和所述機(jī)臺(tái)上的所述陣列基板運(yùn)行方向不變，所述紫外光垂直配向掩模板將所述陣列基板上的每個(gè)所述子像素的右側(cè)遮住，使得所述紫外光照射到所述子像素的左側(cè)，形成所述子像素左側(cè)配向方向；
[0021]c)提供所述紫外光垂直配向掩模板，將陣列基板放置在所述機(jī)臺(tái)上，并將所述彩膜基板相對(duì)于所述陣列基板的放置方向逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)90度，將所述彩膜基板上每個(gè)子像素的下側(cè)遮住，調(diào)整紫外光的照射方向，使所述紫外光從所述彩膜基板的垂直左上方照射到子像素的上側(cè)，且所述紫外光的入射面方向與所述彩膜基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直，從而形成所述子像素上側(cè)配向方向。
[0022]d)保持所述紫外光和所述機(jī)臺(tái)上的所述彩膜基板運(yùn)行方向不變，所述紫外光垂直配向掩模板將所述彩膜基板上每個(gè)所述子像素的上側(cè)遮住，使得所述紫外光照射到所述子像素的下側(cè)，形成所述子像素下側(cè)配向方向。
[0023]優(yōu)選地，所述機(jī)臺(tái)上的所述陣列基板和所述彩膜基板分別為橫向放置或縱向放置。
[0024]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0025]本發(fā)明提供一種光配向設(shè)備及其制作方法，通過調(diào)整所述紫外光照射方向以及所述機(jī)臺(tái)上的所述基板運(yùn)行方向，實(shí)現(xiàn)液晶面板陣列側(cè)的基板和彩膜側(cè)的基板分別進(jìn)行光配向處理，貼合后可以實(shí)現(xiàn)的配向方式從現(xiàn)有的四種增加為八種。通過本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)高透過率的配向方式，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
[0026]為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖作詳細(xì)說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1為現(xiàn)有光配向設(shè)備的基本構(gòu)造圖；
[0028]圖2為現(xiàn)有光配向設(shè)備的工作原理圖；
[0029]圖3為使用現(xiàn)有光配向設(shè)備的四種液晶分子傾倒方向示意圖；
[0030]圖4A為本發(fā)明一實(shí)施例中的配向方式示意圖；
[0031]圖4B為圖4A所示配向方式的液晶盒透過率的模擬結(jié)果；
[0032]圖5A為傳統(tǒng)UV2A配向方式的透過率；
[0033]圖5B為本發(fā)明一實(shí)施例配向方式的透過率；
[0034]圖6為本發(fā)明一實(shí)施例的光配向設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)示意圖；[0035]圖7為本發(fā)明光配向設(shè)備的工作原理；
[0036]圖8為陣列基板側(cè)基板的配向結(jié)果不意圖；
[0037]圖9為彩膜基板側(cè)基板的配向結(jié)果示意圖；
[0038]圖10為本發(fā)明一實(shí)施例的光配向結(jié)果示意圖；
【具體實(shí)施方式】
[0039]本發(fā)明基于如圖4A所示的配向方式，提出一種新型UV2A配向設(shè)備及其配向方式。
[0040]參考圖4A，虛線41表示的垂直方向箭頭為液晶面板陣列基板一側(cè)的液晶的配向方向；斷線42表示的水平方向的箭頭為液晶面板彩膜基板一側(cè)的液晶的配向方向；傾斜的實(shí)線箭頭43表示一個(gè)區(qū)域內(nèi)液晶受陣列基板側(cè)和彩膜基板側(cè)配向所形成的合成配向方向，所述合成配向方向與水平方向成45度角。其中，圖4B為圖4A所示配向方式形成的液晶盒的透過率的模擬結(jié)果。
[0041]如圖5所示，使用上述配向方式，相較于現(xiàn)有的配向方式的最優(yōu)方案，其透過率由24.3%提升至25.8%，透過率提高6.2%。
[0042]本發(fā)明在現(xiàn)有設(shè)備上做相應(yīng)的技術(shù)改造，使得光配向設(shè)備可以完成如圖4所示的新型配向方式，對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)提升，能耗下降，都具有重大的意義。
[0043]如圖6所示，本發(fā)明提供一種光配向設(shè)備的基本結(jié)構(gòu):在垂直方向由上至下依次設(shè)置UV燈箱60，UV2Amask61，機(jī)臺(tái)63，基板62，所述基板62放置在機(jī)臺(tái)63上，所述UV燈箱60內(nèi)置主要組件為聚光罩64、高壓水銀燈65、波長過濾片66、偏光片67，所述高壓水銀燈發(fā)射的光經(jīng)過所述聚光罩64聚集照射到波長過濾片66得到紫外光66，所述紫外光66經(jīng)過偏光板得到偏振紫外光67照射到所述UV2Amask61上，并對(duì)其垂直下方的基板62進(jìn)行曝光，其中，如圖7所示，所述紫外光76的入射曝光方向Yl與所述機(jī)臺(tái)73上所述基板72的運(yùn)行方向Xl不在同一平面內(nèi)，所述偏振紫外光從所述陣列基板的垂直左上方照射到子像素的右側(cè)，且所述紫外光的入射面方向與所述陣列基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直。
[0044]圖7為圖6所不的光配向設(shè)備對(duì)應(yīng)的光配向工作原理圖。以陣列基板側(cè)配向?yàn)槔琗7表示機(jī)臺(tái)上陣列基板72的運(yùn)行方向，Y7表示曝光方向，相鄰的縱向遮光條74與縱向曝光條75對(duì)應(yīng)玻璃基板上的一列子像素，并且把子像素左右區(qū)域進(jìn)行切割。
[0045]UV2A配向設(shè)備71的配向方法如下:在陣列基板72側(cè)的一個(gè)子像素73內(nèi)，分別在所述子像素73的左側(cè)和右側(cè)進(jìn)行向上和向下兩個(gè)方向的配向方向，那么對(duì)每個(gè)像素內(nèi)可以用UV2A mask71的遮光部74首先遮住子像素73的左側(cè)，其透光部75對(duì)右側(cè)進(jìn)行向下的照射，再用UV2A mask71的遮光部74遮住子像素的右側(cè)，其透光部75對(duì)左側(cè)進(jìn)行向上的照射，那么就可以在較簡潔的方式下完成對(duì)陣列基板側(cè)72的配向。同樣的道理，對(duì)彩膜基板側(cè)配向的方法與陣列基板側(cè)相同。與現(xiàn)有技術(shù)圖1對(duì)比，玻璃基板的運(yùn)動(dòng)方向從右邊到左邊。
[0046]在具體的實(shí)現(xiàn)中，紫外光垂直配向掩模板上方的紫外光從右側(cè)以一定的傾斜角度往左側(cè)照射，并在玻璃基板的子像素右側(cè)區(qū)域形成一種控制液晶向左邊傾斜的配向方式。在本實(shí)施例中，所述傾斜角的范圍為30?90度。
[0047]對(duì)于紫外光垂直配向掩模板面積不足以覆蓋整個(gè)玻璃基板的情況，通過控制玻璃基板從下側(cè)往上側(cè)運(yùn)動(dòng)，使整個(gè)玻璃基板通過紫外光垂直配向掩模板后，完成對(duì)玻璃基板上所有像素的右側(cè)區(qū)域的光配向。
[0048]本發(fā)明的配向設(shè)備，與現(xiàn)有設(shè)備的區(qū)別在于配向方向的變化，本發(fā)明的UV燈照射方向?yàn)榇怪庇诨暹\(yùn)動(dòng)方向。完成子像素右側(cè)區(qū)域的光配向后，紫外光垂直配向掩模板和玻璃基板相對(duì)錯(cuò)開橫向半個(gè)子像素的寬度，并從左側(cè)以一定的傾斜角度把紫外光照射到玻璃基板上，對(duì)玻璃基板上的子像素左側(cè)區(qū)域進(jìn)行光配向，在玻璃基板的子像素左側(cè)區(qū)域形成一種控制液晶向右邊傾斜的配向方式。
[0049]本發(fā)明對(duì)現(xiàn)有的光配向設(shè)備做相應(yīng)的技術(shù)改造，使得光配向設(shè)備可以完成如圖4所示的新型配向方式。
[0050]該光配向設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)如圖6所示:紫外光通過紫外光垂直配向掩模板后，照射到玻璃基板上，玻璃基板的運(yùn)動(dòng)方向?yàn)閺耐饷娴嚼锩?。作為?duì)比，在圖1所示的現(xiàn)有設(shè)備中，玻璃基板的運(yùn)動(dòng)方向從右邊到左邊。
[0051]與圖7所不的光配向設(shè)備對(duì)應(yīng)的光配向工作原理如圖7所不。在紫外光垂直配向掩模板上，相鄰的縱向遮光條與縱向曝光條對(duì)應(yīng)玻璃基板上的一列子像素，并且把子像素左右區(qū)域進(jìn)行切割。
[0052]本發(fā)明配向設(shè)備的與現(xiàn)有設(shè)備的區(qū)別在于配向方向的變化，本發(fā)明的UV燈照射方向?yàn)榇怪庇诨暹\(yùn)動(dòng)方向。
[0053]陣列基板側(cè)基板的配向方式如下:
[0054]首先，使用陣列基板側(cè)用的紫外光垂直配向掩模板，將玻璃基板上每個(gè)子像素的左側(cè)遮住，調(diào)整紫外燈如圖6和圖7中所述的方式照射，使得紫外光以垂直于基板運(yùn)動(dòng)方向向左的方向照射到子像素的右側(cè)。形成如圖8所示的子像素右側(cè)配向方向。
[0055]然后，以同樣的方式，再用紫外光垂直配向掩模板將玻璃基板上每個(gè)子像素的右側(cè)遮住，使得紫外光以垂直于基板運(yùn)動(dòng)方向向右的方向照射到子像素的左側(cè)。形成如圖8所示的子像素左側(cè)配向方向。
[0056]彩膜基板側(cè)基板的配向方式如下:
[0057]首先，使用彩膜基板側(cè)用的紫外光垂直配向掩模板，并將玻璃基板逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)90度，將玻璃基板上每個(gè)子像素的下側(cè)遮住，調(diào)整紫外燈如圖6和圖7中所述的方式照射，使得紫外光以垂直于基板運(yùn)動(dòng)方向向左的方向照射到子像素的上側(cè)。形成如圖9所示的子像素上側(cè)配向方向。
[0058]然后，以同樣的方式，再用紫外光垂直配向掩模板將玻璃基板上每個(gè)子像素的上側(cè)遮住，使得紫外光以垂直于基板運(yùn)動(dòng)方向向右的方向照射到子像素的下側(cè)。形成如圖9所示的子像素下側(cè)配向方向。
[0059]合成圖8和圖9的配向方向，可以形成如圖10所示的配向效果。
[0060]本發(fā)明的配向設(shè)備可以對(duì)基板形成如圖10所示的四種配向方式，該配向方式與現(xiàn)有配向設(shè)備形成的四種配向均不相同，因此采用本設(shè)備可以形成全新的四種配向方式。其中圖10所示的第一種配向方式即為所述8種配向方式中的最優(yōu)方案。該最優(yōu)方案由目前的技術(shù)條件來看，只有在本發(fā)明的配向設(shè)備上才可以完成，因此本發(fā)明具有巨大的應(yīng)用潛力。
[0061]根據(jù)所述實(shí)施例的描述，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了新型光配向技術(shù)的光配向工藝，最大限度地降低了設(shè)備工藝的改造成本。[0062]以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本發(fā)明并不限于所述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種等同變換，這些等同變換均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0063]另外需要說明的是，在所述【具體實(shí)施方式】中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對(duì)各種可能的組合方式不再另行說明。
【權(quán)利要求】
1.一種光配向設(shè)備，其包括: 燈箱，用于照射偏振紫外光； 紫外光垂直配向掩模板，其包括遮光部和透光部，用于選擇性透過紫外光； 機(jī)臺(tái)，用于放置需要進(jìn)行光配向的基板； 從所述燈箱照射出所述偏振紫外光，其以一傾斜角照射到所述紫外光垂直配向掩模 板上，部分所述紫外光被照射在所述紫外光垂直配向掩模板的所述遮光部遮擋，另 一部分所述紫外光照射到所述紫外光垂直配向掩模板的所述透光部，所述紫外光透 過所述紫外光垂直配向掩模板后，以所述傾斜角照射到放置在所述機(jī)臺(tái)上的所述基 板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述紫外光從所述基板的垂直左上方照射，且所述紫外光的入射面方向與所述基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述傾斜角的范圍為30?90度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述機(jī)臺(tái)上的所述基板為橫向放置或縱向放置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述基板為陣列基板和/或彩膜基板。
6.一種光配向設(shè)備的制作方法，其包括權(quán)利要求1-5之一所述的光配向設(shè)備,具體包括以下步驟: a)提供紫外光垂直配向掩模板，將陣列基板放置在所述機(jī)臺(tái)上，所述紫外光垂直配向掩模板將所述陣列基板上每個(gè)子像素的左側(cè)遮住，調(diào)整所述紫外光的照射方向，使所述紫外光從所述陣列基板的垂直左上方照射到子像素的右側(cè)，且所述紫外光的入射面方向與所述陣列基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直，從而形成所述子像素的所述右側(cè)區(qū)域的配向方向； b)保持所述紫外光和所述機(jī)臺(tái)上的所述陣列基板運(yùn)行方向不變，所述紫外光垂直配向掩模板將所述陣列基板上的每個(gè)所述子像素的右側(cè)遮住，使得所述紫外光照射到所述子像素的左側(cè)，形成所述子像素左側(cè)配向方向； c)提供所述紫外光垂直配向掩模板，將彩膜基板放置在所述機(jī)臺(tái)上，并將所述彩膜基板相對(duì)于所述陣列基板的放置方向逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)90度，將所述彩膜基板上每個(gè)子像素的下側(cè)遮住，調(diào)整紫外光的照射方向，使所述紫外光從所述彩膜基板的垂直左上方照射到子像素的上側(cè)，且所述紫外光的入射面方向與所述彩膜基板的運(yùn)動(dòng)面方向空間垂直，從而形成所述子像素上側(cè)配向方向； d)保持所述紫外光和所述機(jī)臺(tái)上的所述彩膜基板運(yùn)行方向不變，所述紫外光垂直配向掩模板將所述彩膜基板上每個(gè)所述子像素的上側(cè)遮住，使得所述紫外光照射到所述子像素的下側(cè)，形成所述子像素下側(cè)配向方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光配向設(shè)備的制作方法，其特征在于:所述機(jī)臺(tái)上的所述陣列基板和所述彩膜基板分別為橫向放置或縱向放置。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK103869547SQ201410125308
【公開日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2014年3月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月31日
【發(fā)明者】吳劍龍, 馬群剛, 焦峰, 王海宏, 嚴(yán)光能 申請(qǐng)人:南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司