一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其選用導(dǎo)電薄膜（2）即PI或PET等材料作為柔性襯底，價(jià)格低廉，質(zhì)量輕便，柔韌性好，易彎曲；該方法中采用滾涂的方式在導(dǎo)電薄膜（2）上滾涂一層光刻膠（6），光刻膠（6）具有厚度薄、粘附力強(qiáng)的特點(diǎn)，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及柔性顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體而言，涉及一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著信息技術(shù)的飛速發(fā)展，顯示技術(shù)在市場(chǎng)的重要地位越來(lái)越突出。隨著傳統(tǒng)的電視、電腦、便攜式終端的顯示領(lǐng)域日臻成熟。目前市場(chǎng)上應(yīng)用的液晶顯示器是以玻璃為基材制作而成。是在玻璃基板上先制作ΙΤ0(氧化銦錫)圖形，再經(jīng)過(guò)定向?qū)佑∷⒓岸ㄏ蛱幚?、框膠印刷、噴粉、成盒、玻璃切割、灌注液晶、封口、偏光片貼附、檢驗(yàn)等過(guò)程完成液晶顯示器的制作。玻璃基板的液晶顯示器制作工藝和技術(shù)已經(jīng)比較成熟，但是由于采用玻璃基板，制成的成品無(wú)法彎曲，不易實(shí)現(xiàn)輕薄便攜的要求，而且在受到?jīng)_擊或撞擊時(shí)容易破碎。
[0003]ΙΤ0導(dǎo)電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上，利用濺射、蒸發(fā)等多種方法鍍上一層氧化銦錫(ΙΤ0)膜加工制作而成的。液晶顯示器專(zhuān)用ΙΤ0導(dǎo)電玻璃還要在鍍?chǔ)│?層之前，鍍上一層二氧化硅阻擋層，以防止基片玻璃上的鈉離子向盒內(nèi)液晶里擴(kuò)散。現(xiàn)有技術(shù)中高檔液晶顯示器專(zhuān)用Ι--玻璃在濺鍍?chǔ)│?層之前基片玻璃還要進(jìn)行拋光處理，以得到均勻的顯示控制，液晶顯示器專(zhuān)用ΙΤ0玻璃基板一般屬超浮法玻璃，所有的鍍膜面為玻璃的浮法錫面，因此，最終的液晶顯示器都會(huì)沿浮法方向規(guī)律地出現(xiàn)不平整波紋情況。
[0004]而目前柔性顯示器的圖形化方法采用柔性基板貼附感光毛細(xì)軟片的方式，不易提高顯示分辨率；增加了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性，降低生產(chǎn)效率，增加生產(chǎn)成本。
[0005]例如申請(qǐng)?zhí)枮?00810172655.1的中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利，其公開(kāi)了一種超薄柔性液晶顯示器及其制造方法，所述柔性液晶顯示器包括:彼此相對(duì)設(shè)置的第1基板和第2基板，所述第1基板和第2基板通過(guò)環(huán)氧樹(shù)脂粘結(jié)膠貼合在一起；設(shè)置在第1基板和第2基板的相對(duì)表面上刻有所需的第1電極和第2電極，所述第1電極和第2電極涂覆有定向膜；在所述第1基板和第2基板之間還設(shè)置有用于控制兩基板的間隔的間隔球，本發(fā)明的液晶顯示器具有厚度薄、可彎曲、耐壓、不易碎、防震等優(yōu)點(diǎn)，但是該制造方法較為復(fù)雜；另外，本發(fā)明在使用絨布對(duì)上下電極的定向膜進(jìn)行摩擦，不易提高顯示分辨率，增加了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性。
[0006]又例如申請(qǐng)?zhí)枮?00910091255.2的中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利，其公開(kāi)了一種微結(jié)構(gòu)薄膜圖形和TFT-1XD陣列基板制造方法。微結(jié)構(gòu)薄膜圖形制造方法包括，在基板上形成一層薄膜；采用噴墨打印裝置以設(shè)定的刻蝕圖形在所述薄膜上噴射或滴下刻蝕劑；所述刻蝕劑對(duì)所述薄膜進(jìn)行腐蝕；清洗所述刻蝕劑，在所述基板上形成薄膜圖形。本發(fā)明不需要昂貴的設(shè)備投資，減少了交叉污染風(fēng)險(xiǎn)。但是，所選的材料為懸浮體膠質(zhì)，最終的產(chǎn)品都會(huì)沿浮法方向規(guī)律地出現(xiàn)不平整波紋情況，另外制造出產(chǎn)品比較厚，在受到?jīng)_擊或撞擊時(shí)容易破碎。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述技術(shù)缺陷，本發(fā)明的目的在于提供一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，選用導(dǎo)電薄膜即PI或PET等材料作為柔性襯底，價(jià)格低廉，質(zhì)量輕便，柔韌性好，易彎曲；該方法中采用滾涂的方式在導(dǎo)電薄膜上滾涂一層光刻膠，光刻膠具有厚度薄、粘附力強(qiáng)的特點(diǎn)，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
[0008]按照本發(fā)明的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，包括清洗、曝光、顯影、蝕刻和脫膜工序，具體步驟如下:
第一步，選取一透明導(dǎo)電薄膜，將其貼附在一剛性基板上形成復(fù)合基板；
第二步，對(duì)上述復(fù)合基板進(jìn)行清洗；
第三步，在清洗過(guò)后的復(fù)合基板表面涂布一層光刻膠；
第四步，對(duì)涂有光刻膠層的復(fù)合基板進(jìn)行預(yù)烘；
第五步，將上述預(yù)烘完成后的復(fù)合板送入曝光機(jī)中進(jìn)行圖形化曝光處理；
第六步，對(duì)上述曝光后的復(fù)合板進(jìn)行顯影、清洗處理；
第七步，對(duì)上述的復(fù)合板進(jìn)行蝕刻、脫膜。
[0009]優(yōu)選的是，在第三步驟中通過(guò)傳動(dòng)軸帶動(dòng)剛性基板移動(dòng)。
[0010]在上述任一方案中優(yōu)選的是，在第三步驟中剛性基本移動(dòng)的過(guò)程中通過(guò)涂布輪與擠壓輪相互擠壓對(duì)復(fù)合板進(jìn)行滾涂光刻膠。
[0011]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述復(fù)合板涂布光刻膠的過(guò)程中涂布輪和擠壓輪只是轉(zhuǎn)動(dòng)，并不發(fā)生移動(dòng)。
[0012]在上述任一方案中優(yōu)選的是，第三步驟中涂布方式為滾涂。
[0013]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述剛性基板為玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。
[0014]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述光刻膠的粘度為20-60CP。
[0015]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟二中的復(fù)合基板的清洗環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中清洗2分鐘，然后再放入12-18ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
[0016]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟四中涂有光刻膠層的復(fù)合基板的預(yù)烘環(huán)境為在溫度為90-100°C下持續(xù)2分鐘。
[0017]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為50-100mj/cm2。
[0018]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟六中曝光后的復(fù)合板的顯影環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中進(jìn)行曝光，其曝光時(shí)間為90-120秒。
[0019]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟六中曝光后的復(fù)合板在顯影后再在12-18ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
[0020]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟七中的復(fù)合板的蝕刻環(huán)境為在含18%的鹽酸、3%的硝酸、溫度為45°C的混合溶液中浸泡6分鐘，然后再在12-18ΜΩ去離子水清洗3分鐘。
[0021]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述步驟七中的復(fù)合板蝕刻后先進(jìn)行波長(zhǎng)365納米紫外光照射，曝光量為50-100mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分鐘，最后再使用12-18ΜΩ的去離子水清洗5分鐘。
[0022]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述光刻膠層的厚度為1-3微米。在滿足粘附力較強(qiáng)的情況下本發(fā)明中的光刻膠層更薄，大大地提高了光刻分辨率。
[0023]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述導(dǎo)電薄膜選用PET或PN或FRP或PES或PC材料。以上這些材料具有輕便、價(jià)廉、柔韌、易彎曲的特點(diǎn)，最終降低了成本，便于廣泛應(yīng)用。
[0024]在上述任一方案中優(yōu)選的是，第五步驟中曝光采用接近式曝光。
[0025]本發(fā)明的另一方面是提供一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造的裝置，其包括導(dǎo)電薄膜、剛性基板，導(dǎo)電薄膜鋪設(shè)在剛性基板上。
[0026]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述剛性基板的下面設(shè)有傳動(dòng)軸，剛性基板在傳動(dòng)軸的帶動(dòng)下向前移動(dòng)。
[0027]在上述任一方案中優(yōu)選的是，在基板的上方進(jìn)行光刻膠的滴附，光刻膠在滴入剛性基板之前滴落到涂布輪上。
[0028]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述涂布輪與擠壓輪接觸，在導(dǎo)電膜圖形化制造的過(guò)程中，通過(guò)涂布輪與擠壓輪相互擠壓對(duì)復(fù)合板進(jìn)行滾涂光刻膠形成光刻膠層。采用涂布輪與擠壓輪的擠壓方式使光刻膠層的厚度更薄，而且光刻膠層的厚度均勻，不會(huì)發(fā)生厚度薄厚不勻的情況。
[0029]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述復(fù)合板涂布光刻膠的過(guò)程中涂布輪和擠壓輪只是轉(zhuǎn)動(dòng)，并不發(fā)生移動(dòng)。在滾涂過(guò)程中，涂布輪和擠壓輪的轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中將上方滴下的光刻膠加壓成厚度均勻的光刻膠層，光刻膠層最終均勻地鋪設(shè)在剛性基板上。
[0030]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述第三步驟中涂布方式為滾涂。采用滾涂的方式涂布的光刻膠層厚度薄、粘附力強(qiáng)，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性,增加生產(chǎn)效率,降低生產(chǎn)成本。
[0031]在上述任一方案中優(yōu)選的是，所述剛性基板為玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。為了保證光刻膠層鋪設(shè)的平整性和厚度的均勻性，故選用表面光滑的玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。
[0032]在本實(shí)施例中，所述光刻膠的粘度為20-60CP。在本實(shí)施例中那個(gè)光刻膠的型號(hào)為AZREP-230K2，當(dāng)然在滿足具有足夠的粘附力的條件下可以根據(jù)需要選用其它型號(hào)的光刻膠。
[0033]綜上所述，本發(fā)明的特點(diǎn)是:選用導(dǎo)電薄膜選用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作為柔性襯底，價(jià)格低廉，質(zhì)量輕便，柔韌性好，易彎曲；該方法中采用滾涂的方式在導(dǎo)電薄膜上滾涂一層光刻膠，光刻膠具有厚度薄、粘附力強(qiáng)的特點(diǎn)；在滾涂過(guò)程中，涂布輪和擠壓輪的轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中將上方滴下的光刻膠加壓成厚度均勻的光刻膠層，光刻膠層最終均勻地鋪設(shè)在剛性基板上，保證了光刻膠層的厚度均勻。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0034]圖1為按照本發(fā)明的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法的一優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0035]附圖中標(biāo)號(hào):
剛性基板1，導(dǎo)電薄膜2，光刻膠層3，涂布輪4，擠壓輪5，光刻膠6，傳動(dòng)軸7。

【具體實(shí)施方式】
[0036]以下的說(shuō)明本質(zhì)上僅僅是示例性的而并不是為了限制本公開(kāi)、應(yīng)用或用途。下面結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖對(duì)本發(fā)明柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0037]參閱圖1所示，按照本發(fā)明的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法的一優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。按照本發(fā)明的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，包括清洗、曝光、顯影、蝕刻和脫膜工序，其特征在于具體包括如下步驟:
第一步，選取一透明導(dǎo)電薄膜2，將其貼附在一剛性基板1上形成復(fù)合基板；
第二步，對(duì)上述復(fù)合基板進(jìn)行清洗；
第三步，在清洗過(guò)后的復(fù)合基板表面涂布一層光刻膠6 ;
第四步，對(duì)涂有光刻膠層3的復(fù)合基板進(jìn)行預(yù)烘；
第五步，將上述預(yù)烘完成后的復(fù)合板送入曝光機(jī)中進(jìn)行圖形化曝光處理；
第六步，對(duì)上述曝光后的復(fù)合板進(jìn)行顯影、清洗處理；
第七步，對(duì)上述的復(fù)合板進(jìn)行蝕刻、脫膜。
[0038]在本實(shí)施例中，本發(fā)明的方法中采用滾涂的方式在導(dǎo)電薄膜2上滾涂一層光刻膠層3，光刻膠層3具有厚度薄、粘附力強(qiáng)的特點(diǎn)，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
[0039]在本實(shí)施例中，在第三步驟中通過(guò)傳動(dòng)軸7帶動(dòng)剛性基板1移動(dòng)，剛性基板1按照?qǐng)D1所示的方向移動(dòng)。傳動(dòng)軸7位于剛性基板1的底部，傳遞軸7轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中帶動(dòng)鋪設(shè)了光刻膠層3的剛性基板1向右運(yùn)行。為了使剛性基板1在傳動(dòng)軸7的帶動(dòng)下勻速、順利的移動(dòng)，可以將剛性基板1的底面進(jìn)行壓紋處理等粗糙處理，以增加剛性基板1的粗糙度?’另夕卜，也可以在傳動(dòng)軸7的外曲面上進(jìn)行壓紋等粗糙處理。當(dāng)然在保證剛性基板1水平均勻移動(dòng)的前題下，也可以在剛性基板1和傳動(dòng)軸7的表面均進(jìn)行粗糙處理，以增加剛性基板1與傳動(dòng)軸7的粗糙性，進(jìn)而保證了剛性基板1在傳動(dòng)軸7的帶動(dòng)下勻速地移動(dòng)。
[0040]在本實(shí)施例中，在第三步驟中剛性基本1移動(dòng)的過(guò)程中通過(guò)涂布輪4與擠壓輪5相互擠壓對(duì)復(fù)合板進(jìn)行滾涂光刻膠6。采用涂布輪4與擠壓輪5的擠壓方式使光刻膠層3的厚度更薄，而且光刻膠層3的厚度均勻，不會(huì)發(fā)生厚度薄厚不勻的情況。
[0041]在本實(shí)施例中，所述復(fù)合板涂布光刻膠6的過(guò)程中涂布輪4和擠壓輪5只是轉(zhuǎn)動(dòng)，并不發(fā)生移動(dòng)。在滾涂過(guò)程中，涂布輪4和擠壓輪5的轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中將上方滴下的光刻膠6加壓成厚度均勻的光刻膠層3，光刻膠層3最終均勻地鋪設(shè)在剛性基板1上。
[0042]在本實(shí)施例中，第三步驟中涂布方式為滾涂。采用滾涂的方式涂布的光刻膠層厚度薄、粘附力強(qiáng)，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性，增加生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。
[0043]在本實(shí)施例中，所述剛性基板1為玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。為了保證光刻膠層鋪設(shè)的平整性和厚度的均勻性，故選用表面光滑的玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。
[0044]在本實(shí)施例中，所述光刻膠6的粘度為20-60CP。在本實(shí)施例中那個(gè)光刻膠的型號(hào)為AZREP-230K2，當(dāng)然在滿足具有足夠的粘附力的條件下可以根據(jù)需要選用其它型號(hào)的光刻膠。
[0045]在本實(shí)施例中，所述步驟二中的復(fù)合基板的清洗環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中清洗2分鐘，然后再放入12ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
[0046]在本實(shí)施例中，所述步驟二中的復(fù)合基板的清洗環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中清洗2分鐘，然后再放入14ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
[0047]在本實(shí)施例中，所述步驟二中的復(fù)合基板的清洗環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中清洗2分鐘，然后再放入16ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
[0048]在本實(shí)施例中，所述步驟二中的復(fù)合基板的清洗環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中清洗2分鐘，然后再放入18ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
[0049]在本實(shí)施例中，所述步驟四中涂有光刻膠層3的復(fù)合基板的預(yù)烘環(huán)境為在溫度為90°C下持續(xù)2分鐘。
[0050]在本實(shí)施例中，所述步驟四中涂有光刻膠層3的復(fù)合基板的預(yù)烘環(huán)境為在溫度為95 °C下持續(xù)2分鐘。
[0051]在本實(shí)施例中，所述步驟四中涂有光刻膠層3的復(fù)合基板的預(yù)烘環(huán)境為在溫度為98 °C下持續(xù)2分鐘。
[0052]在本實(shí)施例中，所述步驟四中涂有光刻膠層3的復(fù)合基板的預(yù)烘環(huán)境為在溫度為100°C下持續(xù)2分鐘。
[0053]在本實(shí)施例中，所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為50mj/cm2。
[0054]在本實(shí)施例中，所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為60mj/cm2。
[0055]在本實(shí)施例中，所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為70mj/cm2。
[0056]在本實(shí)施例中，所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為80mj/cm2。
[0057]在本實(shí)施例中，所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為lOOmj/cm2。
[0058]在本實(shí)施例中，所述步驟六中曝光后的復(fù)合板的顯影環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中進(jìn)行曝光，其曝光時(shí)間為90秒。
[0059]在本實(shí)施例中，所述步驟六中曝光后的復(fù)合板的顯影環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中進(jìn)行曝光，其曝光時(shí)間為100秒。
[0060]在本實(shí)施例中，所述步驟六中曝光后的復(fù)合板的顯影環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中進(jìn)行曝光，其曝光時(shí)間為110秒。
[0061]在本實(shí)施例中，所述步驟六中曝光后的復(fù)合板的顯影環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中進(jìn)行曝光，其曝光時(shí)間為120秒。
[0062]在本實(shí)施例中，所述步驟七中的復(fù)合板的蝕刻環(huán)境為在含18%的鹽酸、3%的硝酸、溫度為45°C的混合溶液中浸泡6分鐘，然后再在12-18ΜΩ去離子水清洗3分鐘。使用去離子水進(jìn)行清洗的目的是去除復(fù)合板在含18%的鹽酸、3%的硝酸、溫度為45°C的混合溶液中浸泡后表面會(huì)附著的陰離子。
[0063]在本實(shí)施例中，所述步驟七中的復(fù)合板蝕刻后先進(jìn)行波長(zhǎng)365納米紫外光照射，曝光量為50mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分鐘，最后再使用12ΜΩ的去離子水清洗5分鐘。
[0064]在本實(shí)施例中，所述步驟七中的復(fù)合板蝕刻后先進(jìn)行波長(zhǎng)365納米紫外光照射，曝光量為60mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分鐘，最后再使用14ΜΩ的去離子水清洗5分鐘。
[0065]在本實(shí)施例中，所述步驟七中的復(fù)合板蝕刻后先進(jìn)行波長(zhǎng)365納米紫外光照射，曝光量為80mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分鐘，最后再使用16ΜΩ的去離子水清洗5分鐘。
[0066]在本實(shí)施例中，所述步驟七中的復(fù)合板蝕刻后先進(jìn)行波長(zhǎng)365納米紫外光照射，曝光量為100mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分鐘，最后再使用18ΜΩ的去離子水清洗5分鐘。
[0067]在本實(shí)施例中，所述光刻膠層3的厚度為1-3微米。在滿足粘附力較強(qiáng)的情況下本發(fā)明中的光刻膠層更薄，大大地提高了光刻分辨率。生產(chǎn)過(guò)程中可以通過(guò)調(diào)整擠壓輪5與涂布輪4直接的距離來(lái)制造出不同厚度的光刻膠層3。
[0068]在本實(shí)施例中，所述導(dǎo)電薄膜2選用PET或PN或FRP或PES或PC材料。選用導(dǎo)電薄膜選用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作為柔性襯底，具有價(jià)格低廉，質(zhì)量輕便，柔韌性好，易彎曲，可以采用卷對(duì)卷工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)方式有利于提高效率、便于運(yùn)輸?shù)葍?yōu)點(diǎn)。
[0069]另外，為了有效地提高柔性導(dǎo)電薄膜的各項(xiàng)性能，在基材上制作導(dǎo)電層之前，需先對(duì)基材做預(yù)處理。預(yù)處理方法與導(dǎo)電層的制備方法及工藝有著密切關(guān)系，如目前柔性透明氧化物導(dǎo)電膜對(duì)基材的預(yù)處理方法主要是在基材上沉積緩沖層，使其阻隔性提高，以利于導(dǎo)電層生長(zhǎng)，從而降低導(dǎo)電薄膜的電阻率。上述的緩沖層選用A1203、Si02、Zn0、和PI等。
[0070]在本實(shí)施例中，第五步驟中曝光采用接近式曝光，可以避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。
[0071]本發(fā)明的另一方面是提供一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造的裝置，其包括導(dǎo)電薄膜2、剛性基板1，導(dǎo)電薄膜2鋪設(shè)在剛性基板1上。所述剛性基板1的下面設(shè)有傳動(dòng)軸7，剛性基板1在傳動(dòng)軸7的帶動(dòng)下向前移動(dòng)。在基板1的上方進(jìn)行光刻膠6的滴附，光刻膠6在滴入剛性基板1之前滴落到涂布輪4上。所述涂布輪4與擠壓輪5接觸，在導(dǎo)電膜圖形化制造的過(guò)程中，通過(guò)涂布輪4與擠壓輪5相互擠壓對(duì)復(fù)合板進(jìn)行滾涂光刻膠6形成光刻膠層3。采用涂布輪4與擠壓輪5的擠壓方式使光刻膠層3的厚度更薄，而且光刻膠層3的厚度均勻，不會(huì)發(fā)生厚度薄厚不勻的情況。
[0072]在本實(shí)施例中，所述復(fù)合板涂布光刻膠6的過(guò)程中涂布輪4和擠壓輪5只是轉(zhuǎn)動(dòng)，并不發(fā)生移動(dòng)。在滾涂過(guò)程中，涂布輪4和擠壓輪5的轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中將上方滴下的光刻膠6加壓成厚度均勻的光刻膠層3，光刻膠層3最終均勻地鋪設(shè)在剛性基板1上。
[0073]在本實(shí)施例中，第三步驟中涂布方式為滾涂。采用滾涂的方式涂布的光刻膠層厚度薄、粘附力強(qiáng)，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性顯示器生產(chǎn)工藝復(fù)雜性，增加生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。
[0074]在本實(shí)施例中，所述剛性基板1為玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。為了保證光刻膠層鋪設(shè)的平整性和厚度的均勻性，故選用表面光滑的玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料，所述剛性基板1具有一個(gè)表面光滑即可，用于粘貼導(dǎo)電薄膜1。
[0075]在本實(shí)施例中，所述光刻膠6的粘度為20-60CP。在本實(shí)施例中那個(gè)光刻膠的型號(hào)為AZREP-230K2，當(dāng)然在滿足具有足夠的粘附力的條件下，可以根據(jù)需要選用其它型號(hào)的光刻膠。
[0076]在本實(shí)施例中，所述光刻膠層3的厚度為1-3微米。在滿足粘附力較強(qiáng)的情況下本發(fā)明中的光刻膠層更薄，能夠使光刻膠層3的光刻分辨率更高。
[0077]在本實(shí)施例中，所述導(dǎo)電薄膜2選用PET或PN或FRP或PES或PC材料。選用導(dǎo)電薄膜選用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作為柔性襯底，具有價(jià)格低廉，質(zhì)量輕便，柔韌性好，易彎曲，可以采用卷對(duì)卷工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)方式有利于提高效率、便于運(yùn)輸?shù)葍?yōu)點(diǎn)。
[0078]綜上所述，本發(fā)明的特點(diǎn)是:所述導(dǎo)電薄膜2選用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作為柔性襯底，價(jià)格低廉，質(zhì)量輕便，柔韌性好，易彎曲；該方法中采用滾涂的方式在導(dǎo)電薄膜2上滾涂一層光刻膠6，光刻膠具有厚度薄、粘附力強(qiáng)的特點(diǎn)；在滾涂過(guò)程中，涂布輪4和擠壓輪5的轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中將上方滴下的光刻膠6加壓成厚度均勻的光刻膠層3，光刻膠層3最終均勻地鋪設(shè)在剛性基板1上，保證了光刻膠層3的厚度均勻。
[0079]本領(lǐng)域技術(shù)人員不難理解，本發(fā)明的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法包括本說(shuō)明書(shū)中各部分的任意組合。限于篇幅且為了使說(shuō)明書(shū)簡(jiǎn)明，在此沒(méi)有將這些組合一一詳細(xì)介紹，但看過(guò)本說(shuō)明書(shū)后，由本說(shuō)明書(shū)構(gòu)成的各部分的任意組合構(gòu)成的本發(fā)明的范圍已經(jīng)不言自明。
【權(quán)利要求】
1.一種柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，包括清洗、曝光、顯影、蝕刻和脫膜工序，其特征在于具體包括如下步驟: 第一步，選取一透明導(dǎo)電薄膜(2)，將其貼附在一剛性基板(I)上形成復(fù)合基板； 第二步，對(duì)上述復(fù)合基板進(jìn)行清洗； 第三步，在清洗過(guò)后的復(fù)合基板表面涂布一層光刻膠(6)； 第四步，對(duì)涂有光刻膠層(3)的復(fù)合基板進(jìn)行預(yù)烘； 第五步，將上述預(yù)烘完成后的復(fù)合板送入曝光機(jī)中進(jìn)行圖形化曝光處理； 第六步，對(duì)上述曝光后的復(fù)合板進(jìn)行顯影、清洗處理； 第七步，對(duì)上述的復(fù)合板進(jìn)行蝕刻、脫膜。
2.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:在第三步驟中，通過(guò)傳動(dòng)軸(7 )帶動(dòng)剛性基板(I)移動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:在第三步驟中，剛性基本(I)移動(dòng)的過(guò)程中通過(guò)涂布輪(4)與擠壓輪(5)相互擠壓對(duì)復(fù)合板進(jìn)行滾涂光刻膠(6)。
4.如權(quán)利要求1或3所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:所述復(fù)合板涂布光刻膠(6)的過(guò)程中涂布輪(4)和擠壓輪(5)只是轉(zhuǎn)動(dòng)，并不發(fā)生移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:第三步驟中涂布方式為滾涂。
6.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:所述剛性基板(I)為玻璃或剛性塑料或剛性金屬材料。
7.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:所述光刻膠(6)的粘度為 20-60CP。
8.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:所述步驟二中的復(fù)合基板的清洗環(huán)境為在0.5%的NaOH溶液中清洗2分鐘，然后再放入12-18ΜΩ的去離子水中清洗5分鐘。
9.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:所述步驟四中涂有光刻膠層(3)的復(fù)合基板的預(yù)烘環(huán)境為在溫度為90-100°C下持續(xù)2分鐘。
10.如權(quán)利要求1所述的柔性導(dǎo)電膜圖形化制造方法，其特征在于:所述步驟五中預(yù)烘完成后的復(fù)合板的曝光環(huán)境為在波長(zhǎng)為365納米的平行紫外光中進(jìn)行曝光，其曝光量為50-1OOmj/cm2。
【文檔編號(hào)】G03F7/32GK104375382SQ201410124707
【公開(kāi)日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年3月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月31日
【發(fā)明者】曹河文, 鐘明賢, 李永崗, 李靖, 曹晨 申請(qǐng)人:中能柔性光電（滁州）有限公司