密封結(jié)構(gòu)、干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供密封結(jié)構(gòu)、干涉濾波器、光學(xué)模塊及電子設(shè)備。本發(fā)明具備：設(shè)置有固定反射膜（54）的第一基板（51）；與第一基板（51）相對且設(shè)置有可動反射膜（55）的第二基板（52）；接合第一基板（51）及第二基板（52）的第一接合膜（571）；和密封材料（575），配置于第一間隙部（573），密封第一內(nèi)部空間（581），第一間隙部（573）在第一基板（51）及第二基板（52）之間使被第一基板（51）及第二基板（52）夾著的第一內(nèi)部空間（581）與外部連通，第一間隙部（573）中的、第一基板（51）及第二基板（52）的基板間距離隨著從基板厚度方向觀察的俯視觀察中從基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
【專利說明】密封結(jié)構(gòu)、干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及密封結(jié)構(gòu)、干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 在現(xiàn)有技術(shù)中，已知有如下所述的分光濾波器：其使光在一對反射鏡之間反射，通 過干涉使反射鏡之間的距離所對應(yīng)的特定波長之外的光相互抵銷，從而從入射光中獲取特 定波長的光。此外，作為這樣的分光濾波器，已知有構(gòu)成為可以通過調(diào)整反射鏡之間的距離 來選擇所獲取的光的波長的波長可變型干涉濾波器(波長可變干涉濾波器）（例如，參照專 利文獻1)。
[0003] -般地，波長可變干涉濾波器因濕度、異物等環(huán)境因素，存在由于變更鏡間尺寸的 驅(qū)動部、鏡的劣化等而導(dǎo)致驅(qū)動特性、光學(xué)特性劣化且可靠性降低的擔(dān)憂。
[0004] 針對于此，專利文獻1中記載的波長可變干涉濾波器具備：第一基板，形成有固定 反射面；第二基板，與該第一基板相對并接合，形成有可動反射面；以及玻璃基板，隔著隔 離片而與第二基板的與第一基板相反的一側(cè)接合。并且，形成于第一基板和第二基板、以及 第二基板和玻璃基板各自間的內(nèi)部空間被密封。
[0005] 在先技術(shù)文獻
[0006] 專利文獻
[0007] 專利文獻1 :日本專利特開2005-309174號公報
[0008] 但是，由于是在接合第一基板和第二基板的同時來進行密封，因此，可以使用的接 合方法有限。例如，一般可以用于氣密密封的直接接合、陽極接合以及表面活性化接合等接 合方法極容易受接合面的平坦性等表面狀態(tài)的影響。即、需要接合面平滑，如果不平滑則存 在無法獲得充分的接合強度的擔(dān)憂。
[0009] 另一方面，使用等離子體聚合膜、樹脂的接合難以受接合面的平坦性的影響，可以 獲得充分的接合強度。但是，密封性能的維持則很困難。
[0010] 這樣，在接合一對基板的同時從外部密封設(shè)置于基板間的空間時，難以兼顧接合 強度和密封性能。特別是，在干涉濾波器中，在接合第一基板以及第二基板時，為了使鏡間 的距離成為設(shè)計值，需要控制接合層的厚度，接合方法受到限制。因此，兼顧接合強度和密 封性能變得更加困難。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 本發(fā)明的目的在于提供可以容易地兼顧接合強度以及密封性能的提高的密封結(jié) 構(gòu)、干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備。
[0012] 本發(fā)明的密封結(jié)構(gòu)，其特征在于，具備：第一基板；第二基板，與所述第一基板相 對；接合部，接合所述第一基板及所述第二基板；以及密封部，配置于在所述第一基板及所 述第二基板間使被所述第一基板及所述第二基板夾著的內(nèi)部空間與外部連通的間隙部，用 于密封所述內(nèi)部空間，其中，所述間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距離 隨著在從基板厚度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中從所述第一基板 及所述第二基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
[0013] 在本發(fā)明中，第一基板以及第二基板通過接合部而接合，并且，在間隙部中配置有 用于密封內(nèi)部空間的密封部。
[0014] 由此，可以通過不同的材料、方法來進行接合和密封。因此，可以在通過接合部確 保接合強度的同時，通過密封部獲得密封性能，可以容易地實現(xiàn)接合強度和密封性能的兼 容。
[0015] 此外，間隙部構(gòu)成為隨著從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而基板間距離變小。由此，在使密封材 料從基板外周緣向內(nèi)側(cè)滲透來形成密封部時，可以延長密封材料的滲透膜距離、即由密封 部密封的密封距離，可以提高密封性能。
[0016] 在本發(fā)明的密封結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選所述間隙部通過形成于所述第一基板及所述第二基 板中的至少任一個上的多個高低差而構(gòu)成。
[0017] 在本發(fā)明中，通過以基板間距離隨著從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小的方式設(shè)有多個高 低差來構(gòu)成間隙部。這樣的高低差例如可以通過蝕刻等而容易地形成。因此，可以容易地 形成間隙部。
[0018] 在本發(fā)明的密封結(jié)構(gòu)中，優(yōu)選所述間隙部通過形成于所述第一基板及所述第二基 板中的至少任一個上的傾斜面而構(gòu)成。
[0019] 在本發(fā)明中，通過在第一基板及第二基板中的至少任一個上設(shè)置基板間距離隨著 從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小的傾斜面來構(gòu)成間隙部。由此，在使密封材料滲透在基板間時，可 以使密封材料滲透至內(nèi)側(cè)，可以提高密封部的密封性能。
[0020] 本發(fā)明的干涉濾波器，其特征在于，具備：第一基板；第二基板，與所述第一基板 相對；第一反射膜，設(shè)置于所述第一基板，反射入射光的一部分而使至少一部分透過；第二 反射膜，設(shè)置于所述第二基板，與所述第一反射膜相對，反射入射光的一部分而使至少一部 分透過；接合部，接合所述第一基板及所述第二基板；以及密封部，配置于在所述第一基板 及所述第二基板間使被所述第一基板及所述第二基板夾著的第一內(nèi)部空間與外部連通的 第一間隙部，用于密封所述第一內(nèi)部空間，其中，所述第一間隙部處的、所述第一基板及所 述第二基板的基板間距離隨著在從基板厚度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯 視觀察中從所述第一基板及所述第二基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
[0021] 這里，第一反射膜以及第二反射膜反射入射光的一部分而使至少一部分透過是指 本發(fā)明包括：反射入射光的一部分，透過一部分，吸收剩余部分的情況；以及反射入射光的 一部分，透過剩余部分的情況這兩種情況。
[0022] 在本發(fā)明中，具備：在第一間隙部中密封第一內(nèi)部空間的密封部、以及接合第一基 板和第二基板的第一接合部。
[0023] 由此，可以在通過接合部確保接合強度的同時，通過密封部獲得密封性能，可以容 易地實現(xiàn)接合強度和密封性能的兼容。
[0024] 此外，第一間隙部構(gòu)成為隨著從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而基板間距離縮小，因此，如上所 述，可以延長密封部的密封距離，可以使密封性能提高。
[0025] 此外，由于可以使密封性能提高，從而可以抑制在第一內(nèi)部空間內(nèi)混入來自于外 部的異物，可以抑制環(huán)境因素導(dǎo)致的各反射膜的劣化。因此，可以抑制驅(qū)動特性、光學(xué)特性 的劣化，可以提供能夠長時期維持可靠性的干涉濾波器。
[0026] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述第一間隙部通過形成于所述第一基板及所述 第二基板中的至少任一個上的多個高低差而構(gòu)成。
[0027] 在本發(fā)明中，第一間隙部是通過在第一基板及第二基板中的至少任一個上設(shè)置多 個高低差而構(gòu)成的。這樣的高低差例如可以通過蝕刻等而容易地形成。因此，可以容易地 制造具有良好密封性能的干涉濾波器。
[0028] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述第一間隙部通過形成于所述第一基板及所述 第二基板中的至少任一個上的傾斜面而構(gòu)成。
[0029] 在本發(fā)明中，通過在第一基板及第二基板中的至少任一個上設(shè)置基板間距離隨著 從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小的傾斜面來構(gòu)成第一間隙部。由此，可以使密封材料滲透至更內(nèi) 偵牝因此，可以進一步延長密封部的密封距離，可以提高密封性能。
[0030] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選還具備：第三基板，與所述第二基板的與所述第一 基板相反的一側(cè)相對配置；以及第二接合部，接合所述第二基板及所述第三基板，其中，所 述密封部配置于在所述第二基板及所述第三基板間使被所述第二基板及所述第三基板夾 著的第二內(nèi)部空間與外部連通的第二間隙部，用于密封所述第二內(nèi)部空間，所述第二間隙 部處的、所述第二基板及所述第三基板的基板間距離在所述俯視觀察中，隨著從所述第二 基板及所述第三基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
[0031] 在本發(fā)明中，第二基板以及第三基板具備和第一間隙部相同的第二間隙部，在該 第二間隙部中設(shè)置有密封部。
[0032] 由此，在第二基板和第三基板之間也可以同時實現(xiàn)接合強度以及密封性能的提 商。
[0033] 此外，由于可以提高第二內(nèi)部空間的密封性能，因此，可以抑制第二內(nèi)部空間的壓 力變動，可以抑制壓力變動導(dǎo)致的干涉濾波器的分光精度的降低。
[0034] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述第二間隙部通過形成于所述第二基板及所述 第三基板中的至少任一個上的多個高低差而構(gòu)成。
[0035] 在本發(fā)明中，第二間隙部和第一間隙部相同，通過以基板間距離隨著從外周緣朝 向內(nèi)側(cè)而減小的方式設(shè)置多個高低差而構(gòu)成。這樣的高低差例如可以通過蝕刻等而容易地 形成。因此，可以容易地形成第二間隙部，可以容易地實現(xiàn)第二內(nèi)部空間的壓力變動的抑 制。
[0036] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述第二間隙部通過形成于所述第二基板及所述 第三基板中的至少任一個上的傾斜面而構(gòu)成。
[0037] 在本發(fā)明中，通過在第二基板及第三基板中的至少任一個上設(shè)置基板間距離隨著 從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小的傾斜面來構(gòu)成第二間隙部。由此，可以使密封材料滲透至第二 間隙部的更內(nèi)側(cè)，從而可以進一步延長密封部的密封距離，可以提高密封性能。因此，可以 更加有效地抑制第二內(nèi)部空間的壓力變動。
[0038] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述第一內(nèi)部空間以及所述第二內(nèi)部空間的內(nèi)部 壓力低于大氣壓。
[0039] 這樣，通過降低第一內(nèi)部空間以及所述第二內(nèi)部空間內(nèi)的壓力，從而在變更第一 反射膜以及所述第二反射膜間的間隙尺寸的情況下，可以降低對于移動的反射膜的阻力， 可以獲得良好的反應(yīng)性。
[0040] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選還具備：間隙變更部，用于變更所述第一反射膜及 所述第二反射膜間的間隙的尺寸，其中，所述第二基板具有連通所述第一內(nèi)部空間以及所 述第二內(nèi)部空間的貫通孔。
[0041] 在本發(fā)明中，在第二基板上設(shè)置有用于連通第一內(nèi)部空間以及第二內(nèi)部空間的貫 通孔。由此，可以使第一內(nèi)部空間和第二內(nèi)部空間的壓力均一。因此，在通過間隙變更部使 反射膜間的間隙的尺寸變更時，不會產(chǎn)生各內(nèi)部空間的壓力差，可以精度良好地使第二基 板撓曲。
[0042] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述密封部是對二甲苯類聚合物。
[0043] 在本發(fā)明中，將對二甲苯類聚合物(聚對二甲苯）用作形成密封部的密封材料。聚 對二甲苯可以滲透在細微的間隙內(nèi)部，使密封材料成膜至間隙的深處。因此，可以延長密封 距離，可以實現(xiàn)密封性能的提高。
[0044] 此外，聚對二甲苯可以在室溫下成膜，可以抑制熱對于干涉濾波器的影響、即熱膨 脹導(dǎo)致的應(yīng)力的產(chǎn)生、反射膜的劣化等。
[0045] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述密封部是通過原子層沉積法或化學(xué)氣相沉積 法而形成的。
[0046] 這樣，通過原子層沉積法、化學(xué)氣相沉積法來形成密封部，從而例如在晶片上并排 形成多個干涉濾波器后對它們進行分片處理來同時制造多個干涉濾波器時，可以同時對它 們進行密封，因此，可以提高制造效率。
[0047] 在本發(fā)明的干涉濾波器中，優(yōu)選所述接合部是等離子聚合膜。
[0048] 由此，在基板的制造時，即使是由于多個加工工序而導(dǎo)致接合面的面精度變差的 情況下，等離子聚合膜也可以吸收表面的凹凸。由此，即使不對表面進行平坦化處理，也能 夠以強接合強度使基板之間接合。
[0049] 本發(fā)明的光學(xué)模塊，其特征在于，具備：第一基板；第二基板，與所述第一基板相 對；第一反射膜，設(shè)置于所述第一基板，反射入射光的一部分而使至少一部分透過；第二反 射膜，設(shè)置于所述第二基板，與所述第一反射膜相對，反射入射光的一部分而使至少一部分 透過；接合部，接合所述第一基板及所述第二基板；密封部，配置于在所述第一基板及所述 第二基板間使被所述第一基板及所述第二基板夾著的第一內(nèi)部空間與外部連通的第一間 隙部，用于密封所述第一內(nèi)部空間；以及檢測部，用于檢測通過所述第一反射膜及所述第二 反射膜所提取的光，其中，所述第一間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距 離在從基板厚度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中，隨著從所述第一基 板及所述第二基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
[0050] 本發(fā)明的光學(xué)模塊具備：在第一間隙部中密封第一內(nèi)部空間的密封部、以及用于 接合第一基板和第二基板的接合部。因此，可以和上述發(fā)明同樣地通過不同材料、方法來進 行接合和密封，可以容易地實現(xiàn)接合強度和密封性能的兼容。
[0051] 此外，在本發(fā)明的光學(xué)模塊中，第一間隙部構(gòu)成為隨著從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而基板 間距離變小，因此，如上所述，可以延長密封部的密封距離，可以提高密封性能。
[0052] 此外，由于可以使密封性能提高，從而可以抑制在第一內(nèi)部空間內(nèi)混入來自于外 部的異物，可以抑制環(huán)境因素導(dǎo)致的各反射膜的劣化。因此，可以抑制驅(qū)動特性、光學(xué)特性 的劣化，可以提供能夠長時期維持可靠性的光學(xué)模塊。
[0053] 本發(fā)明的電子設(shè)備，其特征在于，具備：干涉濾波器、以及控制所述干涉濾波器的 控制部，所述干涉濾波器具備：第一基板；第二基板，與所述第一基板相對；第一反射膜，設(shè) 置于所述第一基板，反射入射光的一部分而使至少一部分透過；第二反射膜，設(shè)置于所述第 二基板，與所述第一反射膜相對，反射入射光的一部分而使至少一部分透過；接合部，接合 所述第一基板及所述第二基板；以及密封部，配置于在所述第一基板及所述第二基板間使 被所述第一基板及所述第二基板夾著的第一內(nèi)部空間與外部連通的第一間隙部，用于密封 所述第一內(nèi)部空間，其中，所述第一間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距 離在從基板厚度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中，隨著從所述第一基 板及所述第二基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
[0054] 本發(fā)明的電子設(shè)備具備：在第一間隙部中密封第一內(nèi)部空間的密封部、以及用于 接合第一基板和第二基板的接合部。因此，可以和上述發(fā)明同樣地通過不同材料、方法來進 行接合和密封，可以容易地同時實現(xiàn)接合強度和密封性能。
[0055] 此外，在本發(fā)明的電子設(shè)備中，第一間隙部構(gòu)成為隨著從外周緣朝向內(nèi)側(cè)而基板 間距離變小，因此，如上所述，可以延長密封部的密封距離，可以提高密封性能。
[0056] 此外，由于可以使密封性能提高，從而可以抑制在第一內(nèi)部空間內(nèi)混入來自于外 部的異物，可以抑制環(huán)境因素導(dǎo)致的各反射膜的劣化。因此，可以抑制驅(qū)動特性、光學(xué)特性 的劣化，可以提供能夠長時期維持可靠性的電子設(shè)備。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0057] 圖1是示出第一實施方式的分光測定裝置的概略構(gòu)成的框圖。
[0058] 圖2是示出上述實施方式的波長可變干涉濾波器的概略構(gòu)成的俯視圖。
[0059] 圖3是圖2的波長可變干涉濾波器的III-III'線上的截面圖。
[0060] 圖4是圖2的波長可變干涉濾波器的IV-IV'線上的截面圖。
[0061] 圖5是從第二基板側(cè)觀察上述實施方式的第一基板的俯視圖。
[0062] 圖6是從第一基板側(cè)觀察上述實施方式的第二基板的俯視圖。
[0063] 圖7是從第二基板側(cè)觀察上述實施方式的第三基板的俯視圖。
[0064] 圖8是示出上述實施方式的制造工序中的密封工序的圖。
[0065] 圖9是示出第二實施方式的波長可變干涉濾波器的概略構(gòu)成的截面圖。
[0066] 圖10是示出波長可變干涉濾波器的一個變形例的概略構(gòu)成的截面圖。
[0067] 圖11是示出具備本發(fā)明的波長可變干涉濾波器的測色裝置（電子設(shè)備）的概略構(gòu) 成的圖。
[0068] 圖12是示出具備本發(fā)明的波長可變干涉濾波器的氣體檢測裝置（電子設(shè)備）的概 略構(gòu)成的圖。
[0069] 圖13是示出圖12的氣體檢測裝置的控制系統(tǒng)的框圖。
[0070] 圖14是示出具備本發(fā)明的波長可變干涉濾波器的食物分析裝置（電子設(shè)備）的概 略構(gòu)成的圖。
[0071] 圖15是示出具備本發(fā)明的波長可變干涉濾波器的分光照相機（電子設(shè)備）的概略 構(gòu)成的圖。

【具體實施方式】
[0072] 下面，參照附圖對本發(fā)明所涉及的各實施方式進行說明。此外，在以下各圖中，為 了使各層、各部件成為可識別程度的大小，適當變更各層、各部件的比例尺進行了示意性示 出。
[0073] (第一實施方式）
[0074] 下面，根據(jù)附圖對本發(fā)明所涉及的第一實施方式進行說明。
[0075](分光測定裝置的構(gòu)成）
[0076] 圖1是示出本發(fā)明的第一實施方式所涉及的分光測定裝置的概略構(gòu)成的框圖。
[0077] 分光測定裝置1是分析被測定對象X反射的測定對象光中的各波長的光強度來測 定分光光譜的電子設(shè)備。此外，例如在使用液晶顯示器等發(fā)光體作為測定對象X的情況下， 可以將該發(fā)光體發(fā)出的光作為測定對象光。
[0078] 如圖1所示，該分光測定裝置1具備光學(xué)模塊10、以及控制光學(xué)模塊10的控制部 20 〇
[0079](光學(xué)模塊的構(gòu)成）
[0080] 光學(xué)模塊10具備：波長可變干涉濾波器5、檢測部11、I-V轉(zhuǎn)換器12、放大器13、 A/D轉(zhuǎn)換器14、和電壓控制部15。
[0081] 光學(xué)模塊10通過入射光學(xué)系統(tǒng)(省略圖示）將測定對象光引導(dǎo)至波長可變干涉濾 波器5,通過波長可變干涉濾波器5使測定對象光中的規(guī)定波長的光透過，由檢測部11接收 透過后的光。來自于檢測部11的檢測信號通過I-V轉(zhuǎn)換器12、放大器13、以及A/D轉(zhuǎn)換器 14輸出至控制部20。
[0082](波長可變干涉濾波器的構(gòu)成）
[0083] 圖2是示出波長可變干涉濾波器5的概略構(gòu)成的俯視圖，圖3是示出沿圖2中 的III-III'線截斷時的波長可變干涉濾波器5的概略構(gòu)成的截面圖。圖4是沿圖2中的 IV-IV'線截斷時的波長可變干涉濾波器5的概略構(gòu)成的截面圖。
[0084] 如圖2?圖4所示，波長可變干涉濾波器5是平面正方形狀的板狀的光學(xué)部件。該 波長可變干涉濾波器5具備第一基板51、第二基板52以及第三基板53。
[0085] 這些各基板51、52、53分別由例如鈉玻璃、結(jié)晶玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻璃、 硼硅玻璃、無堿玻璃等各種玻璃、水晶等形成。
[0086] 此外，在以后的說明中，將從各基板51、52、53的基板厚度方向觀察到的俯視觀 察、即從第一基板51、第二基板52以及第三基板53的層壓方向觀察到的波長可變干涉濾波 器5的俯視觀察稱為濾波器俯視觀察。
[0087] 在濾波器俯視觀察中，從第二基板52以及第三基板53側(cè)觀察時，第一基板51的 一對頂點突出，形成第一電極引出部513A。此外，第一基板51的其它頂點也是同樣地，從第 二基板52以及第三基板53側(cè)觀察時突出，形成第二電極引出部513B。
[0088] (第一基板的構(gòu)成）
[0089] 圖5是從第二基板52側(cè)觀察第一基板51時的俯視圖。
[0090] 如圖3?圖5所不，第一基板51形成有電極配置槽511以及反射膜設(shè)置部514。 該第一基板51形成為比第二基板52厚度尺寸更大，第一基板51不會因在構(gòu)成靜電致動器 56的固定電極561以及可動電極562之間施加電壓時的靜電引力、固定電極561的內(nèi)部應(yīng) 力而發(fā)生撓曲。
[0091] 在濾波器俯視觀察中，反射膜設(shè)置部514形成為以波長可變干涉濾波器5的平面 中心點0為中心并向基板厚度方向突出的大致圓柱狀。反射膜設(shè)置部514的突出前端面為 反射膜設(shè)置面514A，設(shè)置有固定反射膜54。
[0092] 在所述俯視觀察中，反射膜設(shè)置部514形成為從電極配置槽511的中心部向第二 基板52側(cè)突出。
[0093] 在濾波器俯視觀察中，電極配置槽511形成為以波長可變干涉濾波器5的平面中 心點0為中心并具有比反射膜設(shè)置部514更大的直徑的環(huán)狀。電極配置槽511的槽底面為 配置固定電極561的電極設(shè)置面511A。
[0094] 此外，在第一基板51上，從電極配置槽511朝向第一電極引出部513A設(shè)置有第一 電極引出槽512A、朝向第二電極引出部513B設(shè)置有第二電極引出槽512B。
[0095] 在電極配置槽511的電極設(shè)置面511A上設(shè)置有固定電極561。該固定電極561設(shè) 置于電極設(shè)置面511A中的與后述的可動部521的可動電極562相對的區(qū)域中。
[0096] 并且，在第一基板51上，設(shè)置有從固定電極561的外周緣通過第一電極引出槽 512A延伸至第一電極引出部513A的固定引出電極563。該固定引出電極563的延伸前端 部在第一電極引出部513A處構(gòu)成固定電極墊563P。
[0097] 此外，在本實施方式中，示出了在電極設(shè)置面511A上設(shè)置一個固定電極561的構(gòu) 成，但是，例如也可以是設(shè)置以平面中心點〇為中心呈同心圓的兩個電極的構(gòu)成(雙電極構(gòu) 成）等。
[0098] 在第二電極引出槽512B中設(shè)置有第一可動引出電極564A、以及用于使第一可動 引出電極564A與后述的可動電極電連接的凸起電極565。凸起電極565例如通過在聚酰亞 胺等樹脂所形成的芯部的周圍鍍金等金屬而形成。
[0099] 此外，第一可動引出電極564A的延伸前端部在第二電極引出部513B處構(gòu)成可動 電極墊564P。
[0100] 并且，在第一基板51的與第二基板52相對的面中，除了形成有電極配置槽511、各 電極引出槽512A、512B、各電極引出部513A、513B、以及反射膜設(shè)置部514的面之外的面構(gòu) 成第一平面部515以及第二平面部516。
[0101] 在濾波器俯視觀察中，第一平面部515的內(nèi)緣沿電極配置槽511而形成。
[0102] 第二平面部516是在濾波器俯視觀察中具有除了形成有位于正方形狀的基板的 頂點的各電極引出部513A、513B的區(qū)域之外的八角形狀的外緣且在距外緣規(guī)定距離D1的 位置上具有內(nèi)緣的平面。第二平面部516與第一平面部515相比基板的厚度更小，在第一 平面部515和第二平面部516之間設(shè)置有高低差(段差)。
[0103] (第二基板的構(gòu)成）
[0104] 圖6是從第一基板51側(cè)觀察第二基板52的俯視圖。
[0105] 在圖6所示的濾波器俯視觀察中，第二基板52具備：以平面中心點0為中心的圓 形的可動部521、以及設(shè)置于可動部521的外側(cè)以保持可動部521的保持部522。
[0106] 此外，第二基板52在與第一電極引出部513A以及第二電極引出部513B相對的區(qū) 域、即與正方形狀的四個頂點對應(yīng)的區(qū)域上形成有切口，在濾波器俯視觀察中，第二基板52 具有八角形狀的外形。
[0107] 可動部521形成為與保持部522相比其厚度尺寸更大。在濾波器俯視觀察中，該 可動部521形成為至少比反射膜設(shè)置面514A的外周緣的直徑尺寸更大的直徑尺寸。并且， 在該可動部521上，設(shè)置有可動電極562以及作為本發(fā)明的第二反射膜的可動反射膜55。
[0108] 可動反射膜55在可動部521的可動面521A的中心部隔著反射膜間間隙G1和固 定反射膜54相對設(shè)置。
[0109] 保持部522是包圍可動部521的周圍的隔膜，形成為與可動部521相比其厚度尺 寸更小。這樣的保持部522比可動部521更易撓曲，微小的靜電引力即可使可動部521向 第一基板51側(cè)位移。
[0110] 在保持部522中，在基板厚度方向上形成有使形成于第二基板52的兩側(cè)的空間連 通的貫通孔522A。
[0111] 可動電極562與固定電極561相對，形成為與固定電極561相同形狀的環(huán)狀。
[0112] 此外，在第二基板52上，形成有從可動電極562的外周緣朝向第二基板52的兩個 頂點、具體而言是與設(shè)置有可動電極墊564P的第一基板51的頂點相對的兩個頂點延伸的 第二可動引出電極564B。第二可動引出電極564B形成為一部分與第一可動引出電極564A 相對。在第一基板51以及第二基板52接合時，通過設(shè)置于第一基板51側(cè)的凸起電極565 與第二可動引出電極564B抵接，從而可動電極562與可動電極墊564P電連接。
[0113] 并且，如圖3、圖4所示，第二基板52的與第一基板51相對的面中，在濾波器俯視 觀察中比保持部522更靠外側(cè)的面構(gòu)成第三平面部523、第四平面部524以及第五平面部 525。
[0114] 在濾波器俯視觀察中，第三平面部523其內(nèi)緣沿保持部522的形成區(qū)域而形成。
[0115] 在濾波器俯視觀察中，第四平面部524是將八角形狀的第二基板52的外周作為外 緣并在距外緣規(guī)定距離D2的位置上具有內(nèi)緣的平面。
[0116] 第五平面部525是形成在第四平面部524的與各電極引出槽512A、512B相對的區(qū) 域中并在距上述外緣規(guī)定距離D1的位置上具有內(nèi)緣的平面。
[0117] 第四平面部524與第三平面部523相比其基板的厚度更小，在第三平面部523與 第四平面部524之間設(shè)置有高低差。
[0118] 此外，第五平面部525與第四平面部524相比其基板的厚度更小，在第四平面部 524與第五平面部525之間設(shè)置有高低差。
[0119] (第三基板的構(gòu)成）
[0120] 圖7是從第二基板52側(cè)觀察第三基板53的俯視圖。
[0121] 在圖7所示的濾波器俯視觀察中，第三基板53在以平面中心點0為中心、且與第 二基板52的保持部522相對的區(qū)域中，形成有與保持部522相同尺寸的間隙形成槽531。
[0122] 此外，第三基板53在與第一電極引出部513A以及第二電極引出部513B相對的區(qū) 域、即與正方形狀的四個頂點對應(yīng)的區(qū)域中，形成有切口，在濾波器俯視觀察中，第三基板 53具有八角形狀的外形。
[0123] 此外，在第三基板53的兩面上，用于反射或吸收規(guī)定范圍外的波長的光的光學(xué)膜 532與固定反射膜54以及可動反射膜55形成為同心圓狀。
[0124] 并且，如圖3、圖4所示，第三基板53的與第二基板52相對的面中，在濾波器俯視 觀察中比間隙形成槽531更靠外側(cè)的面構(gòu)成第六平面部533、第七平面部534以及第八平面 部 535。
[0125] 在濾波器俯視觀察中，第六平面部533其內(nèi)緣沿間隙形成槽531而形成。
[0126] 在濾波器俯視觀察中，第七平面部534具有以距第三基板53的八角形狀的外緣規(guī) 定距離D2的位置為內(nèi)緣并以距第三基板53的八角形狀的外緣規(guī)定距離D1的位置為外緣 的平面。
[0127] 在濾波器俯視觀察中，第八平面部535是在距第三基板53的八角形狀的外緣規(guī)定 距離D1的位置具有內(nèi)緣的平面。
[0128] 第七平面部534與第六平面部533相比其基板的厚度更小，在第六平面部533與 第七平面部534之間設(shè)置有高低差。
[0129] 此外，第八平面部535與第七平面部534相比其基板的厚度更小，在第七平面部 534與第八平面部535之間設(shè)置有高低差。
[0130] (第一接合膜、第二接合膜）
[0131] 第一基板51以及第二基板52通過在濾波器俯視觀察中配置在第一平面部515的 沿電極配置槽511 (第三平面部523的保持部522)的形成區(qū)域的圓環(huán)狀的區(qū)域(接合區(qū)域 Arl)上的第一接合膜571而接合。
[0132] 第二基板52以及第三基板53通過在濾波器俯視觀察中配置在第二基板的上表面 526的沿保持部522的、以及第六平面部533的沿間隙形成槽531的圓環(huán)狀的區(qū)域(接合區(qū) 域Arl)上的第二接合膜572而接合。
[0133] 作為第一接合膜571以及第二接合膜572,例如可以例示出以硅氧烷為主成分的 等離子聚合膜等。這些各接合膜571、572相當于本發(fā)明的接合部。
[0134] (密封材料）
[0135] 如圖3以及圖4所示，上述的第一基板51、第二基板52以及第三基板53在接合區(qū) 域Arl處通過第一接合膜571以及第二接合膜572而接合。
[0136] 其結(jié)果是，在濾波器俯視觀察中，在接合區(qū)域Arl的外側(cè)，形成有從各基板51、52、 53分別相對的區(qū)域的外周朝向內(nèi)側(cè)，各基板間的距離d(下面，也稱為基板間距離d，參照圖 3以及圖4)變小的間隙。即、在第一基板51以及第二基板52之間形成有第一間隙部573， 在第二基板52以及第三基板53之間形成有第二間隙部574。通過相當于本發(fā)明的密封部 的密封材料575來密封這些各間隙部573、574,從而形成波長可變干涉濾波器5。將形成有 各間隙部573、574的區(qū)域設(shè)為密封區(qū)域Ar2。
[0137] 此外，基板間距離d是相對的各基板51、52、53各自的相對面之間的距離，是沿垂 直于各反射膜54、55的方向測定時的各基板間的距離。
[0138] 作為密封材料575,可以使用由聚對二甲苯C、聚對二甲苯N、聚對二甲苯D、以及 聚對二甲苯HT等所例示的對二甲苯類聚合物(聚對二甲苯）；通過原子層沉積法（A L D : Atomic Layer Deposition)、化學(xué)氣相沉積法（CVD:Chemical Vapor Deposition)等所成 膜的Si02、SiN以及A1203等無機薄膜；以及環(huán)氧樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚乙烯、聚對苯二甲酸 乙二酯、偏二氯乙烯、聚乙烯醇、尼龍以及乙烯-乙烯醇等樹脂。
[0139] (檢測部、I-V轉(zhuǎn)換器、放大器、A/D轉(zhuǎn)換器以及電壓控制部的構(gòu)成）
[0140] 檢測部11接收(檢測）透過了波長可變干涉濾波器5的各反射膜54、55相對的光 干涉區(qū)域ArO的光，并輸出基于受光量的檢測信號。
[0141] I-V轉(zhuǎn)換器12將從檢測部11輸入的檢測信號轉(zhuǎn)換為電壓值，并向放大器13輸出。
[0142] 放大器13對從I-V轉(zhuǎn)換器12輸入的檢測信號所對應(yīng)的電壓(檢測電壓）進行放 大。
[0143] A/D轉(zhuǎn)換器14將從放大器13輸入的檢測電壓(模擬信號）轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號，并向 控制部20輸出。
[0144] 電壓控制部15基于控制部20的控制，對波長可變干涉濾波器5的靜電致動器56 施加電壓。由此，在靜電致動器56的固定電極以及可動電極之間產(chǎn)生靜電引力，可動部521 向第一基板51側(cè)位移，反射膜間間隙G的尺寸被設(shè)定為規(guī)定值。
[0145] (控制部的構(gòu)成）
[0146] 返回到圖1，對分光測定裝置1的控制部20進行說明。
[0147] 控制部20例如通過組裝CPU、存儲器等而構(gòu)成，用于控制分光測定裝置1的整體動 作。如圖1所示，該控制部20具備濾波器驅(qū)動部、光量取得部22、以及分光測定部23。
[0148] 此外，控制部20具備用于存儲各種數(shù)據(jù)的存儲部30。該存儲部30存儲表示透過 波長可變干涉濾波器5的光的波長相對于施加于該波長可變干涉濾波器5的靜電致動器56 的驅(qū)動電壓的關(guān)系的V-λ數(shù)據(jù)。
[0149] 濾波器驅(qū)動部設(shè)定用于設(shè)定由波長可變干涉濾波器5提取的光的波長的驅(qū)動電 壓（目標電壓)，并將設(shè)定后的目標電壓所對應(yīng)的電壓指示信號向電壓控制部15輸出。
[0150] 這里，濾波器驅(qū)動部從存儲部30所存儲的V- λ數(shù)據(jù)中讀出作為測定對象的目的 波長所對應(yīng)的驅(qū)動電壓，并將讀出的驅(qū)動電壓施加于靜電致動器56。
[0151] 光量取得部22基于檢測部11所獲取的光量，獲取透過了波長可變干涉濾波器5 的目的波長的光的光量。
[0152] 分光測定部23基于光量取得部22所獲取的光量，對測定對象光的光譜特性進行 測定。
[0153] (波長可變干涉濾波器的制造方法）
[0154] 下面，對波長可變干涉濾波器5的制造方法進行說明。
[0155] 首先，形成上述的各基板51、52、53。此外，第一基板51以及第三基板53的厚度形 成為在使第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582成為減壓狀態(tài)時，可以確保不撓曲的程 度的剛性。
[0156] 接著，接合各基板51、52、53。這里，例如等離子聚合膜被用作各接合膜571、572。 具體而言，在各基板51、52、53的接合區(qū)域Arl處通過等離子聚合法等形成等離子聚合膜， 在對等離子聚合膜照射紫外線或進行了等離子處理之后，重疊各基板51、52、53,從而來接 合各基板51、52、53。等離子聚合膜優(yōu)選將聚硅氧烷用作主材料，其平均厚度大致為1〇11 111至 lOOOnm。
[0157] 這樣，通過實施使用了硅氧烷的等離子聚合膜的活性化接合，可以不依賴于溫度 而容易地接合等離子聚合膜。
[0158] 此外，通過使用硅氧烷的等離子聚合膜，可以不依賴于作為接合對象的各基板51、 52、53的材質(zhì)，或者即使是表面的平坦性不夠良好的情況下，也可以獲得良好的接合強度。
[0159] 此外，各基板51、52、53的接合除了利用上述接合方法之外，例如還可以利用借助 粘著性薄膜(粘結(jié)劑）的接合方法、借助金屬膜的接合方法等。
[0160] (密封工序以及芯片形成工序）
[0161] 圖8是示出接合了各基板51、52、53之后的密封以及芯片形成工序的圖。這里，對 分別將各基板51、52、53形成在一張基材上并將該基材分別接合、最后單片化為單獨的波 長可變干涉濾波器5的制造方法進行說明。
[0162] 圖8 (A)示出接合了各基板51、52、53的狀態(tài)。在接合各基板51、52、53之后，使 第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582成為從大氣壓減壓的狀態(tài)。在第一內(nèi)部空間581 以及第二內(nèi)部空間582被減壓的狀態(tài)(例如真空狀態(tài)）下，通過密封材料575對第一間隙部 573以及第二間隙部574進行密封(參照圖8 (B))。
[0163] 例如將對二甲苯類聚合物(聚對二甲苯）用作密封材料575。具體而言，通過向配 置有接合后的各基板51、52、53的真空室內(nèi)導(dǎo)入聚對二甲苯的單體氣體，從而在室溫下在 接合后的各基板51、52、53的表面上成膜均勻的聚對二甲苯薄膜。
[0164] 聚對二甲苯也滲透在細微的間隙中。因此，聚對二甲苯也滲透在第一間隙部573 以及第二間隙部574的內(nèi)部，并且成膜而形成密封材料575。由此，第一間隙部573以及第 二間隙部574被密封。
[0165] 在借助密封材料575進行了密封后，通過反應(yīng)性離子蝕刻（RIE :Reactive Ion Etching)等等離子處理，在基板的厚度方向上進行各向異性蝕刻，去除在第三基板53的上 表面上成膜的密封材料575、和覆蓋固定電極墊563P以及可動電極墊564的整個面的密封 材料575的一部分(參照圖8 (C))。例如，在將聚對二甲苯用作密封材料575的情況下，進 行使用〇2氣體的等離子處理。
[0166] 接著，通過沿圖8 (D)的虛線所示的切斷線LI、L2進行切斷，從而進行分片處理， 形成多個波長可變干涉濾波器5 (參照圖8 (E))。
[0167] (第一實施方式的作用效果）
[0168] 在本實施方式中，第一基板51以及第二基板52形成隨著從其外周緣朝向內(nèi)側(cè)而 基板間距離d減小的第一間隙部573。并且，在濾波器俯視觀察中，第一接合膜571配置于 第一間隙部573的內(nèi)側(cè)，各基板51、52相接合，第一間隙部573被密封材料575密封。
[0169] 由此，可以通過不同的材料、方法來進行接合和密封。因此，第一接合膜571可以 不考慮密封性能地以能夠獲得期望的接合強度的方式來進行接合。另一方面，借助密封材 料575的密封可以不考慮接合強度地選擇能夠獲得期望的密封性能的材料和方法。由此， 可以容易地同時實現(xiàn)接合強度和密封性能的提高。
[0170] 此外，由于是在接合之后進行密封，因此，接合方法的自由度提高。例如，可以在大 氣壓環(huán)境下進行接合，能夠?qū)崿F(xiàn)接合工序的簡化。
[0171] 此外，第一基板51以及第二基板52形成在濾波器俯視觀察中隨著從外周緣朝向 內(nèi)側(cè)而基板間距離d減小的第一間隙部573。特別是在本實施方式中，由多個高低差所構(gòu) 成。
[0172] 由此，可以使密封材料575成膜至間隙的更內(nèi)側(cè)。由此，可以延長密封距離，能夠 實現(xiàn)密封性能的提1?。
[0173] 即、在如本實施方式所示，通過蒸鍍使填充于真空室內(nèi)部的密封材料575的材料 成膜的情況下，根據(jù)間隙的基板厚度方向的尺寸（高度）來確定密封距離。即、如果高度大， 則密封距離長，如果高度小，則密封距離短。
[0174] 因此，通過在接合區(qū)域Arl的外側(cè)設(shè)置多個高低差，從而與單純設(shè)置與接合區(qū)域 Arl相同高度的間隙的情況相比，可以使密封材料575成膜至內(nèi)側(cè)，能夠延長密封距離。由 此，可以實現(xiàn)密封性能的提高。
[0175] 此外，在具備這樣的密封結(jié)構(gòu)的波長可變干涉濾波器5中，通過不同的部件來進 行接合和密封，從而可以容易地選擇各自適合的材料以及方法。
[0176] S卩、就接合方法而言，當然需要是獲得適當?shù)慕雍蠌姸鹊姆椒?，而且需要使基板間 平行且以適當?shù)木嚯x（設(shè)計值）來進行接合。因此，能夠使用的方法有限，在這樣的限制下， 則不容易同時滿足密封性能。針對于此，如本實施方式所示，在接合區(qū)域Arl的外側(cè)設(shè)置基 板間距離d隨著從外側(cè)朝向內(nèi)側(cè)而減小的密封區(qū)域Ar2并對該密封區(qū)域Ar2進行密封，從 而可以容易地兼顧接合強度以及密封性能的提高。
[0177] 在本實施方式中，在第二基板52和第三基板53之間也同樣地設(shè)置有接合區(qū)域Arl 和密封區(qū)域Ar2,在第二基板52和第三基板53之間也具備上述密封結(jié)構(gòu)，從而可以容易地 兼顧接合強度以及密封性能的提高。
[0178] 此外，在本實施方式中，由于可以使密封性能提高，從而可以抑制來自于外部的異 物混入第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582,可以抑制由環(huán)境因素所導(dǎo)致的靜電致動 器56、各反射膜54、55的劣化。因此，可以抑制驅(qū)動特性、光學(xué)特性的劣化，可以提供能夠長 時間維持可靠性的波長可變干涉濾波器5。
[0179] 而且，由于光學(xué)模塊10以及分光測定裝置1具備這樣的波長可變干涉濾波器5,從 而可以在長時間內(nèi)進行高精度的測定。
[0180] 在本實施方式中，將對二甲苯類聚合物(聚對二甲苯)用作密封材料575,從而可以 實現(xiàn)密封性能的提高，并且，可以高效制作具有高性能的波長可變干涉濾波器5。
[0181] 即、聚對二甲苯可以在細微的間隙中成膜，可以使密封材料成膜至間隙的深處。因 此，可以延長密封距離，可以實現(xiàn)密封性能的提高。
[0182] 此外，聚對二甲苯可以在室溫下成膜，可以抑制熱對波長可變干涉濾波器5的影 響、即熱膨脹導(dǎo)致的應(yīng)力的產(chǎn)生、鏡的劣化等，可以制造具有高性能的波長可變干涉濾波器 5 〇
[0183] 此外，在大的基板上形成多個波長可變干涉濾波器5并對它們進行分片處理來制 造多個波長可變干涉濾波器5時，可以同時對它們進行密封，因此，可以提高制造效率。
[0184] 此外，特別是聚對二甲苯C具有高氣體阻隔性，因此，通過將該聚對二甲苯C用作 密封材料，可以進一步提高密封性能。
[0185] 此外，密封材料575并不限定于聚對二甲苯，也可以由ALD、CVD形成。作為由ALD、 CVD形成的密封材料575,例如是Si02、SiN、A1203等無機薄膜。
[0186] 這樣，通過ALD、CVD來成膜密封材料575,從而可以如上所述地同時密封多個波長 可變干涉濾波器5,因此，可以提高制造效率。
[0187] 在本實施方式中，將等離子聚合膜用作接合膜。在各基板51、52、53的制造時，即 使是因多個加工工序而使接合面的面精度劣化的情況下，等離子聚合膜也可以吸收表面的 凹凸。由此，即使不對表面進行平坦化處理，也可以使各基板51、52、53接合。
[0188] 此外，在本實施方式中，保持部522具有連通第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間 582的貫通孔522A。
[0189] 由此，可以使第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582的壓力均一。因此，可以抑 制由各內(nèi)部空間的壓力差導(dǎo)致的對于可動反射膜55的外力變化，可以精度良好地使可動 反射膜55移動。
[0190] 此外，在使用了這樣的波長可變干涉濾波器5的光學(xué)模塊10以及分光測定裝置1 中，可以精度良好地使波長可變干涉濾波器5的可動反射膜55移動，因此，可以高精度地分 光并接收測定對象光，高精度地對測定對象光進行分析。
[0191] 此外，在本實施方式中，第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582的內(nèi)部壓力低于 大氣壓。這樣，通過降低第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582內(nèi)的壓力，可以使可動部 521的反應(yīng)性好。
[0192] (第二實施方式）
[0193] 下面，根據(jù)附圖對本發(fā)明所涉及的第二實施方式進行說明。
[0194] 圖9是示出作為本發(fā)明的第二實施方式的波長可變干涉濾波器5A的概略構(gòu)成的 截面圖。此外，在以后的說明中，對于和第一實施方式相同的構(gòu)成標注相同的符號，并省略 或簡化其說明。
[0195] 上述第一實施方式的波長可變干涉濾波器5在密封區(qū)域Ar2中具有由多個高低 差所形成的、隨著從外緣朝向內(nèi)部而基板間距離d減小的第一間隙部573以及第二間隙部 574。
[0196] 針對于此，本實施方式的波長可變干涉濾波器5A具有由傾斜面所形成的第一間 隙部573A以及第二間隙部574A。
[0197] (波長可變干涉濾波器的構(gòu)成）
[0198] 如圖9所示，波長可變干涉濾波器5A具備第一基板51A、第二基板52A以及第三基 板 53A。
[0199] 在第一基板51A的與第二基板52A相對的面中的、除了形成有電極配置槽511、反 射膜設(shè)置部514、各電極引出槽512A、512B、各電極引出部513A、513B的面之外的面構(gòu)成第 一平面部515以及第一傾斜部516A。
[0200] 在濾波器俯視觀察中，第一平面部515的內(nèi)緣沿電極配置槽511而形成。
[0201] 在濾波器俯視觀察中，第一傾斜部516A具有將八角形狀的外周作為其外緣且以 隨著從外緣朝向距外緣規(guī)定距離D1的位置第一基板51A的厚度變大的方式傾斜的傾斜面。
[0202] 在第二基板52A的與第一基板51A相對的面中，在濾波器俯視觀察中比保持部522 更靠外側(cè)的面構(gòu)成第三平面部523以及第二傾斜部524A。
[0203] 在濾波器俯視觀察中，第二傾斜部524A具有將八角形狀的外周作為外緣且以隨 著從外緣朝向距外緣規(guī)定距離D2的位置第二基板52A的厚度變大的方式傾斜的傾斜面。
[0204] 在第三基板53A的與第二基板52A相對的面中，在濾波器俯視觀察中比間隙形成 槽531更靠外側(cè)的面構(gòu)成第六平面部533以及第三傾斜部534A。
[0205] 在濾波器俯視觀察中，第六平面部533其內(nèi)緣沿間隙形成槽531而形成。
[0206] 在濾波器俯視觀察中，第三傾斜部534A具有將八角形狀的第三基板53A的外周作 為外緣且以隨著從外緣朝向距外緣規(guī)定距離D2的位置第三基板53A的厚度變大的方式傾 斜的傾斜面。
[0207] 第一基板51A、第二基板52A以及第三基板53A和第一實施方式相同地，在接合區(qū) 域Arl處通過第一接合膜571以及第二接合膜572而接合。
[0208] 此外，在濾波器俯視觀察中，在接合區(qū)域Arl的外側(cè)，形成有從各基板51A、52A、 53A各自相對的區(qū)域的外周朝向內(nèi)側(cè)、基板間距離d變小的密封區(qū)域Ar2。即、在第一基板 51A以及第二基板52A之間形成有第一間隙部573A，在第二基板52A以及第三基板53A之 間形成有第二間隙部574A。通過密封材料575來密封這些各間隙部573A、574A，從而形成 波長可變干涉濾波器5A。
[0209] 這樣構(gòu)成的波長可變干涉濾波器5A也是通過和第一實施方式的波長可變干涉濾 波器5相同的方法制造的。
[0210] (第二實施方式的作用效果）
[0211] 在本實施方式中也和第一實施方式相同地，形成有在濾波器俯視觀察中隨著從其 外周緣朝向內(nèi)側(cè)而基板間距離d變小的密封區(qū)域Ar2,并通過密封材料575進行密封。由 此，可以容易地兼顧接合強度和密封性能的提高。
[0212] 特別是在本實施方式中，由第一傾斜部516A、第二傾斜部524A以及第三傾斜部 534A構(gòu)成密封區(qū)域Ar2,從而可以使基板間距離d連續(xù)地變化。由此，可以使密封材料575 形成至第一間隙部573A以及第二間隙部574A的更內(nèi)側(cè)，可以進一步延長密封距離，可以使 密封性能提高。
[0213] (實施方式的變形）
[0214] 此外，本發(fā)明并不限定于上述的各實施方式，可以達成本發(fā)明目的的范圍內(nèi)的變 形、改良等均包含于本發(fā)明之中。
[0215] 例如，在上述各實施方式中，例示出了在第二基板52、52A上設(shè)置可動反射膜55的 波長可變干涉濾波器5、5A，但是，并不限定于此。本發(fā)明并不限于在一對基板各自上設(shè)置反 射膜的構(gòu)成，也可以適用于在一個基板上相對設(shè)置一對反射膜的法布里-珀羅標準具。
[0216] 圖10是示出作為本發(fā)明的一個變形例的波長可變干涉濾波器5B的概略構(gòu)成的截 面圖。
[0217] 如圖10所不，在第一基板601上設(shè)置有固定反射膜602。在該固定反射膜602上 設(shè)置有犧牲層603,可動反射膜604支撐并設(shè)置于該犧牲層603上。此外，在可動反射膜604 上設(shè)置有使可動反射膜604的兩側(cè)的空間連通的貫通孔(未圖示)。
[0218] 在固定反射膜602上設(shè)置有固定電極605,在可動反射膜604的與固定電極605相 對的區(qū)域中設(shè)置有可動電極606。
[0219] 這樣的結(jié)構(gòu)是在第一基板601上依次形成固定反射膜602以及固定電極605之 后，在其上形成犧牲層，在該犧牲層之上依次形成可動電極606以及可動反射膜604。并且， 通過例如蝕刻去除犧牲層的一部分，形成支撐可動反射膜604并維持反射膜間間隙的犧牲 層603。該犧牲層603作為用于在固定反射膜602和可動反射膜604之間形成空間607的 隔離器而發(fā)揮功能。此外，該空間607、即反射膜間間隙是通過去除犧牲層而形成的。
[0220] 這樣，固定反射膜602和可動反射膜604相對，形成法布里-珀羅標準具。
[0221] 而且，如圖10所示，以覆蓋固定反射膜602和可動反射膜604的方式，在第一基板 601上配置第二基板608。
[0222] 第二基板608和第一實施方式的第三基板53相同，形成有間隙形成槽608A，沿該 間隙形成槽608A形成有接合區(qū)域。在該接合區(qū)域中設(shè)置有接合膜609,將第一基板601和 第二基板608接合。
[0223] 此外，第二基板608和第一實施方式的第三基板53相同，在接合區(qū)域的外側(cè)具有 多個高低差，形成有隨著從外側(cè)朝向內(nèi)側(cè)、作為第一基板601和第二基板608之間的距離的 基板間距離d變小的密封區(qū)域。在該密封區(qū)域中成膜有密封材料610,密封由間隙形成槽 608A形成的內(nèi)部空間611。
[0224] 在這樣構(gòu)成的波長可變干涉濾波器5B中，可以獲得和上述各實施方式相同的效 果。
[0225] 此外，對第二基板608和第一實施方式同樣地通過多個高低差形成密封區(qū)域的構(gòu) 成進行了說明，但是，并不限定于此，也可以采用和第二實施方式同樣地由傾斜部形成密封 區(qū)域的構(gòu)成。
[0226] 在上述各實施方式中，例示出了貫通孔522A設(shè)置于保持部522的構(gòu)成，但是，本發(fā) 明并不限定于此。貫通孔522A可以連通第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582即可，例 如可以設(shè)置于可動部521。
[0227] 在上述各實施方式中，例示出了隔膜狀的保持部522,但是，并不限定于此，例如可 以采用設(shè)置以平面中心點〇為中心、以等角度間隔配置的梁狀的保持部的構(gòu)成。在這種情 況下，不需要貫通孔522A。
[0228] 在上述各實施方式中，例示出了第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582為減壓 狀態(tài)的構(gòu)成，但是，本發(fā)明并不限定于此，例如也可以采用在第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi) 部空間582中填充惰性氣體，第一內(nèi)部空間581以及第二內(nèi)部空間582為大氣壓或加壓狀 態(tài)的構(gòu)成。
[0229] 在上述各實施方式以及變形例中，例示出了靜電致動器作為本發(fā)明的間隙變更 部，但是，并不限定于此。例如，也可以是采用電磁致動器作為間隙變更部的構(gòu)成，其中，該 電磁致動器配置有第一電磁感應(yīng)線圈來取代固定電極561，并配置有第二電磁感應(yīng)線圈或 永磁鐵來取代可動電極562。此外，只要是使用壓電元件使可動部521位移的構(gòu)成、通過氣 壓使反射膜間間隙變化的構(gòu)成等可以使反射膜間間隙G變化的構(gòu)成，可以使用任意驅(qū)動單 元作為間隙變更部。
[0230] 在上述各實施方式以及變形例中，對作為波長可變型法布里-珀羅標準具的波長 可變干涉濾波器5、5A、5B進行了說明，但是，本發(fā)明并不限定于此。即、也可以是不具備間 隙變更部的波長固定型法布里-珀羅標準具。在這種情況下，也可以恰當?shù)剡M行內(nèi)部空間 的密封，可以抑制反射膜的劣化。此外，在這種情況下，不需要使可動反射膜的兩側(cè)的空間 連通的貫通孔。
[0231] 在上述各實施方式以及變形例中，對波長可變干涉濾波器5、5A、5B中的基板間的 密封結(jié)構(gòu)進行了說明，但是，本發(fā)明并不限定于此，也可以用于進行兩片基板的接合以及基 板間形成的空間的密封時的密封結(jié)構(gòu)。
[0232] 此外，作為本發(fā)明的電子設(shè)備，在上述各實施方式中，例示了分光測定裝置1，此 夕卜，也可以根據(jù)各種領(lǐng)域來應(yīng)用本發(fā)明的光學(xué)模塊以及電子設(shè)備。
[0233] 例如，如圖11所示，可以將本發(fā)明的電子設(shè)備應(yīng)用于用于測定顏色的測色裝置。
[0234] 圖11是示出具備波長可變干涉濾波器的測色裝置400的一個例子的框圖。
[0235] 如圖11所示，該測色裝置400具備：向測定對象X射出光的光源裝置410、測色傳 感器420 (光學(xué)模塊)、以及用于控制測色裝置400的整體動作的控制裝置430。并且，該測 色裝置400是使測定對象X反射從光源裝置410射出的光，由測色傳感器420接收所反射 的測定對象光，并基于從測色傳感器420輸出的檢測信號，對測定對象光的色度、即測定對 象X的顏色進行分析、測定的裝置。
[0236] 光源裝置410具備光源411、多個透鏡412(在圖11中僅記載了一個)，并向測定對 象X射出如基準光(例如，白色光)。此外，在多個透鏡412中，可以包含準直透鏡，在這種情 況下，光源裝置410通過準直透鏡使從光源411射出的基準光成為平行光，從未圖示的投射 透鏡向測定對象X射出。此外，在本實施方式中，例示了具備光源裝置410的測色裝置400， 但是，例如在測定對象X是液晶顯示器等發(fā)光部件的情況下，也可以是不設(shè)置光源裝置410 的構(gòu)成。
[0237] 測色傳感器420是本發(fā)明的光學(xué)模塊，如圖11所示，具備：波長可變干涉濾波器 5 ;檢測部11，其接收透過波長可變干涉濾波器5的光；以及電壓控制部15,其使由波長可 變干涉濾波器5透過的光的波長所對應(yīng)的電壓施加。另外，測色傳感器420在與波長可變 干涉濾波器5相對的位置上具備將測定對象X所反射的反射光(測定對象光)引導(dǎo)至內(nèi)部的 未圖示的入射光學(xué)透鏡。并且，該測色傳感器420通過波長可變干涉濾波器5將從入射光 學(xué)透鏡射入的檢查對象光中的規(guī)定波長的光進行分光，并由檢測部11接收分光后的光。此 夕卜，也可以采用代替波長可變干涉濾波器5而設(shè)置上述波長可變干涉濾波器5A、5B的構(gòu)成。
[0238] 控制裝置430控制測色裝置400的整體動作。
[0239] 作為該控制裝置430,可以使用例如通用個人電腦、便攜式信息終端、其它測色專 用電腦等。并且，如圖11所示，控制裝置430構(gòu)成為具備：光源控制部431、測色傳感器控 制部432、及測色處理部433等。
[0240] 光源控制部431與光源裝置410相連，例如根據(jù)使用者的設(shè)定輸入，向光源裝置 410輸出規(guī)定的控制信號，使其射出規(guī)定亮度的白色光。
[0241] 測色傳感器控制部432與測色傳感器420連接，基于例如用戶的設(shè)定輸入，設(shè)定由 測色傳感器420所接收的光的波長，并向測色傳感器420輸出旨為檢測該波長的光的受光 量的控制信號。由此，測色傳感器420的電壓控制部15基于控制信號對靜電致動器56施 加電壓，使波長可變干涉濾波器5驅(qū)動。
[0242] 測色處理部433根據(jù)被檢測部11檢測到的受光量來分析測定對象X的色度。
[0243] 另外，作為本發(fā)明的電子設(shè)備，例如，可以作為用于檢測特定物質(zhì)的存在的基于光 的系統(tǒng)來使用。作為這樣的系統(tǒng)，例如可以例示出：采用使用了本發(fā)明的光學(xué)濾波器裝置的 分光計量方式來高敏度檢測特定氣體的車載用氣體泄漏檢測器、呼吸檢查用的光聲惰性氣 體檢測器等氣體檢測裝置。
[0244] 下面，根據(jù)附圖對這樣的氣體檢測裝置的一個例子進行說明。
[0245] 圖12是示出具備光學(xué)濾波器裝置的氣體檢測裝置的一個例子的概略圖。
[0246] 圖13是示出圖12所示的氣體檢測裝置的控制系統(tǒng)的構(gòu)成的框圖。
[0247] 如圖12所示，該氣體檢測裝置100構(gòu)成為具備：傳感器芯片110、流路120和主體 部130,流路120具備吸入口 120A、吸入流路120B、排出流路120C以及排出口 120D。
[0248] 主體部130由檢測裝置、控制部138、以及電力供給部139等構(gòu)成，檢測裝置包括具 有可以裝卸流路120的開口的傳感器部蓋131、排出單元133、殼體134、光學(xué)部135、濾光器 136、波長可變干涉濾波器5、以及受光元件137 (檢測部)等，控制部138處理檢測到的信號 并控制檢測部，電力供給部139用于供給電力。此外，光學(xué)部135由射出光的光源135A、光 束分離器135B、以及透鏡135C、135D、135E構(gòu)成，光束分離器135B向傳感器芯片110側(cè)反射 從光源135A射入的光，并使從傳感器芯片側(cè)射入的光透過至受光元件137偵k
[0249] 另外，如圖12所示，在氣體檢測裝置100的表面設(shè)有操作面板140、顯示部141、用 于和外部的接口的連接部142、電力供給部139。在電力供給部139是二次電池的情況下， 還可以具備用于充電的連接部143。
[0250] 而且，如圖13所示，氣體檢測裝置100的控制部138具備：由CPU等構(gòu)成的信號處 理部144、用于控制光源135A的光源驅(qū)動器電路145、用于控制波長可變干涉濾波器5的電 壓控制部146、用于接收來自于受光元件137的信號的受光電路147、接收來自于傳感器芯 片檢測器148的信號的傳感器芯片檢測電路149、以及控制排出單元133的排出驅(qū)動器電路 150等，其中，傳感器芯片檢測器148讀取傳感器芯片110的代碼，檢測傳感器芯片110的有 無。
[0251] 下面，將對上述的氣體檢測裝置100的動作進行說明。
[0252] 在主體部130的上部的傳感器部蓋131的內(nèi)部設(shè)置有傳感器芯片檢測器148,通 過該傳感器芯片檢測器148檢測傳感器芯片110的有無。信號處理部144在檢測到來自于 傳感器芯片檢測器148的檢測信號時，判斷為是安裝有傳感器芯片110的狀態(tài)，并向顯示部 141輸出使其顯示可實施檢測動作的旨意的顯示信號。
[0253] 并且，例如在用戶操作操作面板140,從操作面板140向信號處理部144輸出旨在 開始檢測處理的指示信號時，首先，信號處理部144向光源驅(qū)動器電路145輸出光源動作的 信號，使光源135A進行動作。在光源135A被驅(qū)動的情況下，從光源135A以單一波長射出直 線偏振光的穩(wěn)定的激光。此外，在光源135A中內(nèi)置有溫度傳感器、光量傳感器，其信息向信 號處理部144輸出。并且，信號處理部144在基于從光源135A輸入的溫度、光量判斷為光 源135A在穩(wěn)定動作中的情況下，控制排出驅(qū)動器電路150,使排出單元133動作。由此，含 有要檢測的目標物質(zhì)(氣體分子）的氣體樣本從吸入口 120A被引向吸入流路120B、傳感器 芯片110內(nèi)、排出流路120C、排出口 120D。此外，在吸入口 120A設(shè)置有除塵過濾器120A1， 用于去除比較大的粉塵、一部分的水蒸氣等。
[0254] 此外，傳感器芯片110是組裝有多個金屬納米結(jié)構(gòu)體、利用了局域表面等離子體 共振的傳感器。在這樣的傳感器芯片110中，通過激光在金屬納米結(jié)構(gòu)體之間形成增強電 場，如果氣體分子進入該增強電場內(nèi)，則會產(chǎn)生含有分子振動的信息的拉曼散射光以及瑞 利散射光。
[0255] 這些瑞利散射光、拉曼散射光通過光學(xué)部135射入濾光器136,瑞利散射光被濾光 器136分離，拉曼散射光射入到波長可變干涉濾波器5。于是，信號處理部144控制電壓控 制部146,調(diào)整施加于波長可變干涉濾波器5的電壓，由波長可變干涉濾波器5使作為檢測 對象的氣體分子所對應(yīng)的拉曼散射光分光。之后，在分光后的光被受光元件137接收的情 況下，受光量所對應(yīng)的受光信號經(jīng)由受光電路147被輸出至信號處理部144。
[0256] 信號處理部144將如上所述地獲得的作為檢測對象的氣體分子所對應(yīng)的拉曼散 射光的光譜數(shù)據(jù)和ROM中存儲的數(shù)據(jù)進行比較，判斷是否是目標氣體分子，并進行物質(zhì)的 指定。此外，信號處理部144使顯示部141顯示其結(jié)果信息，或從連接部142向外部輸出。
[0257] 此外，在上述圖12以及圖13中，例示了由波長可變干涉濾波器5分光拉曼散射 光、且從分光后的拉曼散射光來進行氣體檢測的氣體檢測裝置100,但是，作為氣體檢測裝 置，也可以用作通過檢測氣體固有的吸光度來指定氣體類別的氣體檢測裝置。在這種情況 下，將使氣體流入傳感器內(nèi)部、檢測入射光中被氣體吸收的光的氣體傳感器用作本發(fā)明的 光學(xué)模塊。并且，將通過這樣的氣體傳感器來分析、判斷流入傳感器內(nèi)的氣體的氣體檢測裝 置作為本發(fā)明的電子設(shè)備。在這樣的構(gòu)成中，也可以采用光學(xué)濾波器裝置來檢測氣體的成 分。
[0258] 此外，作為用于檢測特定物質(zhì)的存在的系統(tǒng)，并不限定于上述的氣體的檢測，還可 以例示出利用近紅外線分光的糖類的非侵入式測定裝置、或食物、生物體、礦物等信息的非 侵入式測定裝置等物質(zhì)成分分析裝置。
[0259] 下面，作為上述物質(zhì)成分分析裝置的一個例子，對食物分析裝置進行說明。
[0260] 圖14是示出作為利用了波長可變干涉濾波器5的電子設(shè)備的一個例子的食物分 析裝置的概略構(gòu)成的圖。
[0261] 如圖14所示，該食物分析裝置200具備檢測器210 (光學(xué)模塊)、控制部220、和顯 示部230。檢測器210具備射出光的光源211、被導(dǎo)入來自于測定對象物的光的攝像透鏡 212、 對從攝像透鏡212導(dǎo)入的光進行分光的波長可變干涉濾波器5、以及檢測分光后的光 的攝像部213 (檢測部)。
[0262] 此外，控制部220具備：光源控制部221，實施光源211的亮燈/滅燈控制、亮燈 時的亮度控制；電壓控制部222,控制波長可變干涉濾波器5 ;檢測控制部223,控制攝像部 213, 獲取攝像部213所拍攝的分光圖像；信號處理部224 ;以及存儲部225。
[0263] 在該食物分析裝置200中，若使系統(tǒng)驅(qū)動，則由光源控制部221控制光源211，從光 源211對測定對象物照射光。于是，被測定對象物所反射的光通過攝像透鏡212射入波長 可變干涉濾波器5中。波長可變干涉濾波器5通過電壓控制部222的控制而被施加有可將 期望的波長分光的電壓，分光后的光被例如由CCD照相機等構(gòu)成的攝像部213所拍攝。并 且，被拍攝的光作為分光圖像被存儲在存儲部225中。此外，信號處理部224控制電壓控制 部222,使施加于波長可變干涉濾波器5的電壓值發(fā)生變化，從而獲取對于各波長的分光圖 像。
[0264] 并且，信號處理部224對存儲部225中存儲的各圖像中的各像素的數(shù)據(jù)進行運算 處理，求得各像素中的光譜。此外，在存儲部225中，存儲有例如對應(yīng)光譜的食物的成分相 關(guān)的信息，信號處理部224基于存儲部225中存儲的食物相關(guān)的信息對求得的光譜的數(shù)據(jù) 進行分析，求出檢測對象所包含的食物成分及其含量。此外，還可以從獲得的食物成分及含 量算出食物卡路里、新鮮度等。而且，通過分析圖像內(nèi)的光譜分布，還可以實施檢查對象食 物中新鮮度下降的部分的提取等，進而，還可以實施食物內(nèi)所含的異物等的檢測。
[0265] 并且，信號處理部224進行使顯示部230顯示如上所述地獲得的檢查對象食物的 成分、含量、卡路里、新鮮度等信息的處理。
[0266] 此外，在圖14中，示出了食物分析裝置200的例子，但是，也可以基于大致相同的 構(gòu)成，用作如上所述的其它的信息的非侵入式測定裝置。例如，可以用作血液等體液成分的 測定、分析等的進行生物體成分的分析的生物體分析裝置。作為這樣的生物體分析裝置，例 如作為測定血液等體液成分的裝置，如果是用于檢測酒精的裝置，則可以用作檢測駕駛員 的飲酒狀態(tài)的防酒駕裝置。此外，還可以用作具備這樣的生物體分析裝置的電子內(nèi)窺鏡系 統(tǒng)。
[0267] 進而，還可以用作實施礦物的成分分析的礦物分析裝置。
[0268] 進而，本發(fā)明的干涉濾波器、光學(xué)模塊、以及電子設(shè)備可適用于以下這樣的裝置。
[0269] 例如，通過使各波長的光的強度隨著時間的推移發(fā)生變化，還可以通過各波長的 光來傳送數(shù)據(jù)，在這種情況下，在具備本發(fā)明的干涉濾波器的光學(xué)模塊中，通過干涉濾波器 對特定波長的光進行分光，并由受光部來接收光，從而可以提取由特定波長的光所傳送的 數(shù)據(jù)，通過具備這樣的數(shù)據(jù)提取用光學(xué)模塊的電子設(shè)備來處理各波長的光的數(shù)據(jù)，從而還 可以實施光通信。
[0270] 此外，作為電子設(shè)備，還可以應(yīng)用于通過本發(fā)明的光學(xué)濾波器裝置所具備的干涉 濾波器對光進行分光、從而拍攝分光圖像的分光照相機、分光分析機等。作為這樣的分光照 相機的一個例子，可以列舉內(nèi)置有波長可變干涉濾波器的紅外線照相機。
[0271] 圖15是示出分光照相機的概略構(gòu)成的示意圖。如圖15所示，分光照相機300具 備照相機主體310、攝像透鏡單元320、和攝像部330 (檢測部)。
[0272] 照相機主體310是由用戶把持、操作的部分。
[0273] 攝像透鏡單元320設(shè)置于照相機主體310,將射入的圖像光引導(dǎo)至攝像部330。此 夕卜，如圖15所示，該攝像透鏡單元320構(gòu)成為具備物鏡321、成像透鏡322、以及設(shè)置在這些 透鏡之間的波長可變干涉濾波器5。
[0274] 攝像部330由受光元件構(gòu)成，用于拍攝被攝像透鏡單元320引導(dǎo)的圖像光。
[0275] 在這樣的分光照相機300中，通過波長可變干涉濾波器5使作為拍攝對象的波長 的光透過，從而可以拍攝期望波長的光的分光圖像。
[0276] 進而，還可以將具備本發(fā)明的干涉濾波器的光學(xué)濾波器裝置用作帶通濾波器，例 如還可以用作由干涉濾波器僅對發(fā)光元件射出的規(guī)定波長區(qū)域的光中以規(guī)定波長為中心 的窄波段的光進行分光并使其透過的光學(xué)式激光裝置。
[0277] 此外，還可以將具備本發(fā)明的干涉濾波器的光學(xué)濾波器裝置用作生物體認證裝 置，例如還可應(yīng)用于利用近紅外區(qū)域、可見區(qū)域的光的、血管、指紋、視網(wǎng)膜、虹膜等的認證 裝直。
[0278] 而且，可以將光學(xué)模塊以及電子設(shè)備用作濃度檢測裝置。在這種情況下，通過干涉 濾波器對從物質(zhì)射出的紅外能量(紅外光）進行分光、分析，從而來測定樣品中的被檢體濃 度。
[0279] 如上所述，本發(fā)明的干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備還可以應(yīng)用于從入射光 對規(guī)定的光進行分光的任何裝置。并且，如上所述，具備本發(fā)明的干涉濾波器的光學(xué)濾波器 裝置能夠以一個裝置來對多個波長進行分光，因此，可以高精度地實施多個波長的光譜的 測定、對多個成分的檢測。因此，與通過多個裝置來提取期望波長的現(xiàn)有的裝置相比，可以 促進光學(xué)模塊和電子設(shè)備的小型化，例如，可適合用作便攜用或車載用的光學(xué)裝置。
[0280] 此外，實施本發(fā)明時的具體結(jié)構(gòu)可以在能夠達成本發(fā)明目的的范圍內(nèi)對上述各實 施方式以及變形例適當組合來構(gòu)成，并且也可以適當變更為其它結(jié)構(gòu)等。
【權(quán)利要求】
1. 一種密封結(jié)構(gòu)，其特征在于，具備： 第一基板； 第二基板，與所述第一基板相對； 接合部，接合所述第一基板及所述第二基板；以及 密封部，配置于在所述第一基板及所述第二基板間使被所述第一基板及所述第二基板 夾著的內(nèi)部空間與外部連通的間隙部，用于密封所述內(nèi)部空間， 其中，所述間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距離在從基板厚度方 向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中，隨著從所述第一基板及所述第二基板 的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封結(jié)構(gòu)，其特征在于， 所述間隙部通過形成于所述第一基板及所述第二基板中的至少任一個上的多個高低 差而構(gòu)成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封結(jié)構(gòu)，其特征在于， 所述間隙部通過形成于所述第一基板及所述第二基板中的至少任一個上的傾斜面而 構(gòu)成。
4. 一種干涉濾波器，其特征在于，具備： 第一基板； 第二基板，與所述第一基板相對； 第一反射膜，設(shè)置于所述第一基板； 第二反射膜，設(shè)置于所述第二基板，與所述第一反射膜相對； 接合部，接合所述第一基板及所述第二基板；以及 密封部，配置于在所述第一基板及所述第二基板間使被所述第一基板及所述第二基板 夾著的第一內(nèi)部空間與外部連通的第一間隙部，用于密封所述第一內(nèi)部空間， 其中，所述第一間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距離在從基板厚 度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中，隨著從所述第一基板及所述第二 基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述第一間隙部通過形成于所述第一基板及所述第二基板中的至少任一個上的多個 高低差而構(gòu)成。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述第一間隙部通過形成于所述第一基板及所述第二基板中的至少任一個上的傾斜 面而構(gòu)成。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉濾波器，其特征在于，還具備： 第三基板，與所述第二基板的與所述第一基板相反的一側(cè)相對配置；以及 第二接合部，接合所述第二基板及所述第三基板， 其中，所述密封部配置于在所述第二基板及所述第三基板間使被所述第二基板及所述 第三基板夾著的第二內(nèi)部空間與外部連通的第二間隙部，用于密封所述第二內(nèi)部空間， 所述第二間隙部處的、所述第二基板及所述第三基板的基板間距離在所述俯視觀察 中，隨著從所述第二基板及所述第三基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述第二間隙部通過形成于所述第二基板及所述第三基板中的至少任一個上的多個 高低差而構(gòu)成。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述第二間隙部通過形成于所述第二基板及所述第三基板中的至少任一個上的傾斜 面而構(gòu)成。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述第一內(nèi)部空間以及所述第二內(nèi)部空間的內(nèi)部壓力低于大氣壓。
11. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的干涉濾波器，其特征在于，還具備： 間隙變更部，用于變更所述第一反射膜及所述第二反射膜間的間隙的尺寸， 其中，所述第二基板具有連通所述第一內(nèi)部空間以及所述第二內(nèi)部空間的貫通孔。
12. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述密封部是對二甲苯類聚合物。
13. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述密封部是通過原子層沉積法或化學(xué)氣相沉積法而形成的。
14. 根據(jù)權(quán)利要求4至13中任一項所述的干涉濾波器，其特征在于， 所述接合部是等離子聚合膜。
15. -種光學(xué)模塊，其特征在于，具備： 第一基板； 第二基板，與所述第一基板相對； 第一反射膜，設(shè)置于所述第一基板； 第二反射膜，設(shè)置于所述第二基板，與所述第一反射膜相對； 接合部，接合所述第一基板及所述第二基板； 密封部，配置于在所述第一基板及所述第二基板間使被所述第一基板及所述第二基板 夾著的第一內(nèi)部空間與外部連通的第一間隙部，用于密封所述第一內(nèi)部空間；以及 檢測部，用于檢測通過所述第一反射膜及所述第二反射膜所提取的光， 其中，所述第一間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距離在從基板厚 度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中，隨著從所述第一基板及所述第二 基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
16. -種電子設(shè)備，其特征在于，具備： 干涉濾波器、以及控制所述干涉濾波器的控制部， 所述干涉濾波器具備：第一基板；第二基板，與所述第一基板相對；第一反射膜，設(shè)置 于所述第一基板；第二反射膜，設(shè)置于所述第二基板，與所述第一反射膜相對；接合部，接 合所述第一基板及所述第二基板；以及密封部，配置于在所述第一基板及所述第二基板間 使被所述第一基板及所述第二基板夾著的第一內(nèi)部空間與外部連通的第一間隙部，用于密 封所述第一內(nèi)部空間， 其中，所述第一間隙部處的、所述第一基板及所述第二基板的基板間距離在從基板厚 度方向觀察所述第一基板及所述第二基板的俯視觀察中，隨著從所述第一基板及所述第二 基板的外周緣朝向內(nèi)側(cè)而變小。
【文檔編號】G02B5/28GK104062699SQ201410096462
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年3月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月18日
【發(fā)明者】廣久保望 申請人:精工愛普生株式會社