一種多邊形壓彎反射鏡的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種多邊形壓彎反射鏡，用于將光源發(fā)射的光反射聚焦、發(fā)散或準(zhǔn)直，所述反射鏡為等厚的片體，且所述片體的反射面為邊數(shù)大于4的多邊形，以所述多邊形任一邊為選定邊，對所述片體施以平行于反射面并垂直于所述選定邊的彎矩，使所述反射鏡彈性壓彎后的鏡面面形趨近于一條二次曲線。本發(fā)明采用多邊形壓彎反射鏡，壓彎面形趨近于一條理想二次曲線，該多邊形可根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整，從而可在壓彎時(shí)使得面形精度較高，而且多邊形壓彎反射鏡可通過傳統(tǒng)工藝加工成型。
【專利說明】一種多邊形壓彎反射鏡
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及反射鏡，具體涉及多邊形壓彎反射鏡。
【背景技術(shù)】
[0002]各種光學(xué)工程尤其是同步輻射X射線多采用反射鏡實(shí)現(xiàn)聚焦、發(fā)散或準(zhǔn)直等功能，因此也被稱為聚焦鏡、準(zhǔn)直鏡等等。從理論上講，采用曲邊壓彎鏡作為反射鏡可以獲得無面形誤差的理想面形，但是曲邊鏡的鏡體加工工藝難度很大，成本很高，周期很長。尤其對于較長的鏡體(如Im長)，更是無法進(jìn)行加工。因此，由于加工難度、成本等原因，目前市場上還沒有曲邊鏡出現(xiàn)。目前，限于鏡體加工的工藝難度，有人采用了梯形壓彎鏡(或矩形壓彎鏡)。梯形壓彎鏡和矩形壓彎鏡雖然可通過傳統(tǒng)工藝完成加工，但是其壓彎的面形精度較低，對于要求較高的光學(xué)系統(tǒng)(比如低發(fā)射度的第三代同步輻射光源的高品質(zhì)相空間調(diào)制)則無法滿足聚焦、發(fā)散或準(zhǔn)直等要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明的目的為提供一種易于加工且壓彎面形精度較聞的多邊形壓彎反射鏡。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0005]一種多邊形壓彎反射鏡，用于將光源發(fā)射的光反射聚焦、發(fā)散或準(zhǔn)直，所述反射鏡為等厚的片體，且所 述片體的反射面為邊數(shù)大于4的多邊形，以所述多邊形任一邊為選定邊，對所述片體施以平行于反射面并垂直于所述選定邊的彎矩，使所述反射鏡彈性壓彎后的鏡面面形趨近于一條二次曲線，該二次曲線的方程為:
【權(quán)利要求】
1.一種多邊形壓彎反射鏡，用于將光源發(fā)射的光反射聚焦、發(fā)散或準(zhǔn)直，其特征在于，所述反射鏡為等厚的片體，且所述片體的反射面為邊數(shù)大于4的多邊形，以所述多邊形任一邊為選定邊，對所述片體施以平行于反射面并垂直于所述選定邊的彎矩，使所述反射鏡彈性壓彎后的鏡面面形趨近于一條二次曲線，該二次曲線的方程為:
2.如權(quán)利要求1所述的多邊形壓彎反射鏡，其特征在于，所述多邊形中除所述選定邊外的頂點(diǎn)總數(shù)為η,每個(gè)頂點(diǎn)到所述選定邊距離為Wi,位置坐標(biāo)為(XpWi), i=l, 2...，η,在所述選定邊兩端施加在所述反射鏡中心處的彎矩值為Mtlf，兩端施加在鏡面上彎矩分布的相對斜率值為kMf ;上述各參數(shù)X1、W1、Mtlf和kMf通過下述過程獲得: (1)上述各對頂點(diǎn)X坐標(biāo)
3.如權(quán)利要求1所述的多邊形壓彎反射鏡，其特征在于，所述多邊形中除所述選定邊外的頂點(diǎn)總數(shù)為η,每個(gè)頂點(diǎn)到所述選定邊距離為Wi,位置坐標(biāo)為(XpWi), i=l, 2...，η,在所述選定邊兩端施加在所述反射鏡中心處的彎矩值為Mtlf，兩端施加在鏡面上彎矩分布的相對斜率值為kMf ;上述各參數(shù)X1、W1、Mtlf和kMf通過下述過程獲得: (1)上述各對頂點(diǎn)X坐標(biāo)Xi,i=l, 2...，η如下取值: 兩端頂點(diǎn)坐標(biāo)
4.如權(quán)利要求1所述的多邊形壓彎反射鏡，其特征在于，所述多邊形中除所述選定邊外的頂點(diǎn)總數(shù)為η,每個(gè)頂點(diǎn)到所述選定邊距離為Wi,位置坐標(biāo)為(XpWi), i=l, 2...，η,在所述選定邊兩端施加在所述反射鏡中心處的彎矩值為Mtlf，兩端施加在鏡面上彎矩分布的相對斜率值為kMf ;上述各參數(shù)X1、W1、Mtlf和kMf通過下述過程獲得: (1)上述各對頂點(diǎn)X坐標(biāo)Xi,i=l, 2...，η如下取值: 兩端頂點(diǎn)坐標(biāo)
5.如權(quán)利要求1所述的多邊形壓彎反射鏡，其特征在于，所述多邊形中除所述選定邊外的頂點(diǎn)總數(shù)為η,每個(gè)頂點(diǎn)到所述選定邊距離為Wi,位置坐標(biāo)為(XpWi), i=l, 2...，η,在所述選定邊兩端施加在所述反射鏡中心處的彎矩值為Mtlf，兩端施加在鏡面上彎矩分布的相對斜率值為kMf ;上述各參數(shù)X1、W1、Mtlf和kMf通過下述過程獲得: (1)上述各對頂點(diǎn)χ坐標(biāo)Xi,i=l, 2...，η如下取值: 兩端頂點(diǎn)坐標(biāo)
【文檔編號】G02B5/10GK103869394SQ201410096394
【公開日】2014年6月18日 申請日期:2014年3月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月14日
【發(fā)明者】李明, 王立超, 盛偉繁, 劉鵬 申請人:中國科學(xué)院高能物理研究所