一種反射相位延遲鏡及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種反射相位延遲鏡及其制備方法，反射相位延遲鏡，包括平面基底片，在平面基底片的一面鍍有高反射膜，高反射膜的構(gòu)成為Au（LH）m，其中，Au為鍍Au層，L為低折射率層，H為高折射率層，m為低折射率層和高折射率層交替重復(fù)的次數(shù)。其制備方法為在平面基底片一面首先鍍金層，然后交替鍍低折射率層和高折射率層，線偏振光以45°角入射到反射相位延遲鏡表面上時(shí)，使線偏振光分解為互相垂直且振幅基本相等的S偏振光、P偏振光矢量，實(shí)現(xiàn)S偏振光、P偏振光的高反射率及相位延遲，還可使激光光源輸出的線偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光，圓偏振光是切割與焊接的優(yōu)良光束，使切口或焊縫一致，切口面光滑且垂直于加工表面。
【專利說明】一種反射相位延遲鏡及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域，特別是指一種用于激光高精度切割及焊接的反射相位延遲鏡及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在光學(xué)系統(tǒng)中使用大量光學(xué)元件，實(shí)現(xiàn)光波的產(chǎn)生、放大以及光束的折轉(zhuǎn)、偏振等功能。其中相位延遲片是一種在光學(xué)系統(tǒng)中大量使用的光學(xué)元件，是一種重要的偏振光調(diào)制器件，以實(shí)現(xiàn)入射光束兩種偏振光相位差的調(diào)節(jié)。如在有機(jī)發(fā)光顯示器中的復(fù)合相位延遲片(CN102798921A)，具有良好視覺特性適用于移動(dòng)裝置液晶顯示器中的復(fù)合相位延遲片(CN1932560A)，補(bǔ)償硅基液晶顯示屏產(chǎn)生殘余雙折射的微調(diào)相位延遲器(CN1661420A)。為了實(shí)現(xiàn)相位延遲，必須使用具有調(diào)節(jié)入射兩種偏振光相位差能力的各向異性材料或在利用斜入射情況下透反射相位延遲差異，如液晶(CN1078049A，CN102707362A)，雙折射晶體材料(CN102383808A, CN102508328A)，鋯鈦酸鉛鑭電光陶瓷材料(CN102722041A)及相位延遲光纖(CN2791666Y)等。通常情況下，相位延遲器件透射使用，依據(jù)該器件對(duì)入射光束兩種偏振光相位差的調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)一定的相位延遲量。專利CN201166717Y，借助與兩個(gè)斜入射下使用的薄膜型相位延遲薄膜，兩個(gè)光學(xué)調(diào)整架以及一個(gè)精密調(diào)整平臺(tái)可以實(shí)現(xiàn)可調(diào)反射相位延遲功能，雖然此類設(shè)計(jì)是基于反射型相位延遲器件，但需要多個(gè)部件組合在一起才能實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的相位延遲功能，系統(tǒng)設(shè)計(jì)較為復(fù)雜。
[0003]光學(xué)諧振腔(optical resonant cavity)是光波在其中來回反射從而提供光能反饋的空腔，是激光器的必要組成部分，通常由兩塊與工作介質(zhì)軸線垂直的平面或反射鏡構(gòu)成。激光諧振腔全反射鏡，鍍制難度非常大。但它不涉及光的偏振及相位延遲，故不能應(yīng)用于激光的高精度切割及焊接。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提出一種反射相位延遲鏡及其制備方法，主要用于激光器，可實(shí)現(xiàn)激光高精度的切割和焊接。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種反射相位延遲鏡，包括平面基底片，在所述平面基底片的一面鍍有高反射膜，所述高反射膜的構(gòu)成為Au (LH) m，其中，Au為鍍Au層，L為低折射率層，H為高折射率層，m為低折射率層和高折射率層交替重復(fù)的次數(shù)。
[0006]其中，優(yōu)選地，所述低折射率層為YF3層，所述高折射率層為ZnSe層。
[0007]其中，優(yōu)選地，所述m的值為1、2、3、4、5、6或7。
[0008]其中，優(yōu)選地，所述平面基底片為硅基底片或銅基底片。
[0009]一種反射相位延遲鏡的制備方法，包括以下步驟:
[0010]I)將平面基底片清洗后裝入鍍膜機(jī)；
[0011]2 )采用電子槍蒸發(fā)源，在平面基底片的一面首先鍍制Au層，然后交替重復(fù)鍍制低折射率層和高折射率層；[0012]3)膜層鍍制完成后，自然冷卻至室溫，即得。
[0013]本發(fā)明的有益效果為:
[0014]1.本發(fā)明在平面基底片首先鍍金層，然后交替鍍低折射率YF3層和高折射率ZnSe層，線偏振光以45°角入射到反射相位延遲鏡表面上時(shí)，使線偏振光分解為互相垂直且振幅基本相等的S偏振光、P偏振光矢量，實(shí)現(xiàn)S偏振光、P偏振光的高反射率及相位延遲。
[0015]2.本發(fā)明中低折射率YF3層和高折射率ZnSe層交替重復(fù)鍍制的次數(shù)為7時(shí)，線偏振光以45°角入射到反射相位延遲鏡表面上時(shí)，可實(shí)現(xiàn)S偏振光、P偏振光的高反射率及相位延遲90°，從而達(dá)到實(shí)現(xiàn)圓偏振光的目的。
[0016]3.本發(fā)明的反射相位延遲鏡可使激光光源輸出的線偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光，圓偏振光是切割與焊接的優(yōu)良光束，使切口或焊縫一致，切口面光滑且垂直于加工表面，大幅度提高加工速度，效率高，加工質(zhì)量好。
[0017]4.本發(fā)明反射相位延遲鏡的原理和制造方法、使用方法不但適用于高功率C02激光光源，同樣適用于其它激光光源。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1反射相位延遲鏡的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為圖1中聞`反射I旲局部放大不意圖。
[0021]圖中:
[0022]1.基底片，2.鍍 Au 層，3.YF3 層，4.ZnSe 層。
【具體實(shí)施方式】
[0023]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0024]實(shí)施例1
[0025]如圖1和圖2所示，本實(shí)施例公開一種反射相位延遲鏡，包括平面基底片1，在所述平面基底片I的一面鍍有高反射膜，所述高反射膜的構(gòu)成為Au (LH) 7，其中，Au為鍍Au層2，L為低折射率層，H為高折射率層，7表示低折射率層和高折射率層交替重復(fù)的次數(shù)。
[0026]其中，低折射率層為YF3層3，高折射率層為ZnSe層4。
[0027]其中，鍍Au層2的厚度為200nm，YF3層3和ZnSe層4的厚度依次如下:
[0028]
【權(quán)利要求】
1.一種反射相位延遲鏡，包括平面基底片，其特征在于，在所述平面基底片的一面鍍有高反射膜，所述高反射膜的構(gòu)成為Au (LH) m，其中，Au為鍍Au層，L為低折射率層，H為高折射率層，m為低折射率層和高折射率層交替重復(fù)的次數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射相位延遲鏡，其特征在于，所述低折射率層為YF3層，所述高折射率層為ZnSe層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反射相位延遲鏡，其特征在于，所述m的值為1、2、3、4、5、6 或 7。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種反射相位延遲鏡，其特征在于，所述平面基底片為硅基底片或銅基底片。
5.—種權(quán)利要求1?4任一項(xiàng)所述的反射相位延遲鏡的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 1)將平面基底片清洗后裝入鍍膜機(jī)； 2)采用電子槍蒸發(fā)源，在平面基底片的一面首先鍍制Au層，然后交替重復(fù)鍍制低折射率層和高折射率層； 3)膜層鍍制完成后，自然冷卻至室溫，即得。
【文檔編號(hào)】G02B1/10GK103777266SQ201410036039
【公開日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2014年1月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月24日
【發(fā)明者】張鴻恩 申請(qǐng)人:大連波能激光光學(xué)有限公司