曝光裝置、曝光方法
【專利摘要】本發(fā)明是提高曝光技術(shù)的生產(chǎn)性的曝光裝置和曝光方法。曝光裝置具備：第一移動(dòng)部，其具備保持基板的第一基板保持部，并使第一基板保持部在第一待機(jī)位置與供基板以曝光面朝向第一方向的狀態(tài)配置的第一曝光位置之間移動(dòng)；第二移動(dòng)部，其具備保持基板的第二基板保持部，并使第二基板保持部在第二待機(jī)位置與將保持在第二基板保持部的基板以曝光面朝向第一方向的狀態(tài)且與第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的狀態(tài)配置的第二曝光位置之間移動(dòng)；曝光部，其具備能夠沿著引導(dǎo)件在第一曝光位置與第二曝光位置之間移動(dòng)的曝光頭，并對(duì)配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板進(jìn)行選擇性曝光，該引導(dǎo)件沿著第二方向配置。
【專利說明】曝光裝置、曝光方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及使用了曝光裝置的基板的曝光技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]公知有一種曝光裝置，該曝光裝置基于表示電路等的二維圖案的曝光數(shù)據(jù)，對(duì)在表面上具有感光層的基板的曝光面進(jìn)行曝光，從而在基板上形成該二維圖案。在這種曝光裝置中，在將一個(gè)基板配置在規(guī)定的曝光位置并進(jìn)行了曝光之后，使被曝光的基板從曝光位置移動(dòng)，并且將其他基板配置在曝光位置并進(jìn)行曝光這樣的反復(fù)工序，由此進(jìn)行多個(gè)基板的曝光處理。
[0003]在上述工序中，由于在被曝光后的基板的從曝光位置的移動(dòng)和其他基板向曝光位置的配置所需要的時(shí)間期間無法進(jìn)行曝光，因此生產(chǎn)性低。因此，提出了用于提高生產(chǎn)性的技術(shù)。例如，下述專利文獻(xiàn)I公開了一種曝光裝置，該曝光裝置具備裝載基板而能夠在同一條一維軌道上進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)的兩臺(tái)移動(dòng)工作臺(tái)及固定地設(shè)置在該軌道上的中央的曝光部。該曝光裝置能夠在使一方的移動(dòng)工作臺(tái)與曝光部相對(duì)移動(dòng)而對(duì)一個(gè)基板進(jìn)行曝光處理的期間內(nèi)，在另一方的移動(dòng)工作臺(tái)上，對(duì)曝光完成的基板與新的基板進(jìn)行替換。由此，縮短進(jìn)行曝光處理以外的時(shí)間，從而使生產(chǎn)性提高。
[0004]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開2008-191302號(hào)公報(bào)
[0007]發(fā)明要解決的課題
[0008]然而，在專利文獻(xiàn)I的技術(shù)中，依然在用于曝光處理的時(shí)間之外需要在移動(dòng)工作臺(tái)的移動(dòng)等中花費(fèi)較多的時(shí)間。此外，無法通過一系列的流程來曝光基板的兩面。因此，謀求能夠進(jìn)一步提高生產(chǎn)性的曝光技術(shù)。此外，作為曝光裝置的一般性課題，謀求裝置的低成本化、小型化。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明是為了解決上述課題的至少一部分而完成的，例如能夠通過以下實(shí)施方式來實(shí)現(xiàn)。
[0010]本發(fā)明的第一實(shí)施方式作為對(duì)基板進(jìn)行曝光的曝光裝置而被提供。所述曝光裝置具備第一移動(dòng)部，該第一移動(dòng)部具備保持基板的第一基板保持部。該第一移動(dòng)部使第一基板保持部在第一待機(jī)位置與第一曝光位置之間移動(dòng)，該第一曝光位置供該基板以保持在第一基板保持部的基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)配置。此外，所述曝光裝置具備第二移動(dòng)部，該第二移動(dòng)部具備保持基板的第二基板保持部。該第二移動(dòng)部使第二基板保持部在與第一待機(jī)位置不同的第二待機(jī)位置和下述第二曝光位置之間移動(dòng)，該第二曝光位置供保持在第二基板保持部的基板以如下狀態(tài)配置，該狀態(tài)是保持在第二基板保持部的基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)，且是保持在第二基板保持部的基板的曝光面與配置在第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的狀態(tài)。所述曝光裝置還具備曝光部，該曝光部具備能夠沿著引導(dǎo)件在第一曝光位置與第二曝光位置之間移動(dòng)的曝光頭，該引導(dǎo)件沿著第二方向配置。該曝光部通過曝光頭的沿著第二方向的移動(dòng)對(duì)配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板進(jìn)行選擇性曝光。
[0011]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，能夠在兩個(gè)曝光位置處交替地進(jìn)行曝光。因此，能夠?qū)⒃谝环降钠毓馕恢眠M(jìn)行曝光的時(shí)間分割成用于將在另一方的曝光位置完成曝光的基板排出并且將新的基板配置在另一方的曝光位置的時(shí)間。因此，能夠提高基板的生產(chǎn)性。此夕卜，通過將在一方的曝光位置進(jìn)行曝光后的基板配置在另一方的曝光位置，能夠僅使用一個(gè)曝光部來曝光基板的兩面。因此，與使用兩個(gè)曝光裝置來曝光基板的兩面的情況相比，有助于裝置的低成本化及小型化。
[0012]作為本發(fā)明的第二實(shí)施方式，第一移動(dòng)部也可以具備能夠在第一方向及與第一方向交叉的方向移動(dòng)的被雙層化了的兩個(gè)基板保持部作為第一基板保持部。同樣地，第二移動(dòng)部也可以具備能夠在沿著第一方向的方向及與第一方向交叉的方向上移動(dòng)的被雙層化了的兩個(gè)基板保持部作為第二基板保持部。
[0013]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，對(duì)于一個(gè)曝光位置，能夠同時(shí)進(jìn)行曝光完成的基板的從曝光位置的排出及新的基板的向曝光位置的配置。因此，能夠極力縮短曝光以外的動(dòng)作所需要的時(shí)間。上述狀態(tài)也可以通過如下所述的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn):例如當(dāng)使兩個(gè)基板保持部的一方從第一曝光位置或第二曝光位置向第一待機(jī)位置或第二待機(jī)位置移動(dòng)時(shí)，使另一方從第一待機(jī)位置或第二待機(jī)位置向第一曝光位置或第二曝光位置移動(dòng)?；蛘?，也可以使另一方利用在其他曝光位置處的曝光時(shí)間，從第一待機(jī)位置或第二待機(jī)位置預(yù)先移動(dòng)至規(guī)定的位置。
[0014]作為本發(fā)明的第三實(shí)施方式，第二實(shí)施方式的曝光裝置也可以具備設(shè)有引導(dǎo)件的基底構(gòu)件。此外，該曝光裝置也可以具備基準(zhǔn)板，該基準(zhǔn)板安裝在基底構(gòu)件，該基準(zhǔn)板具有能夠?qū)⒒宀迦氲阶鳛榈谝黄毓馕恢眉暗诙毓馕恢玫?、基?zhǔn)板的內(nèi)部的位置的框架形狀。在上述曝光裝置中，第一基板保持部及第二基板保持部也可以以基板能夠位移的狀態(tài)對(duì)基板進(jìn)行保持。也可以以基準(zhǔn)板的規(guī)定部位與第一基板保持部及第二基板保持部的規(guī)定部位在保持在第一基板保持部及第二基板保持部的各個(gè)基板的外周處接觸的狀態(tài)，將基板配置在第一曝光位置及第二曝光位置。
[0015]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，即使第一移動(dòng)部及第二移動(dòng)部各自并非是高精度地使第一基板保持部及第二基板保持部移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，在第一曝光位置及第二曝光位置處，也能夠?qū)⒈３只宓牡谝换灞３植考暗诙灞３植肯鄬?duì)于曝光頭而高精度地配置在規(guī)定的位置。其結(jié)果是，能夠降低成本。此外，由于能夠使構(gòu)成為能夠移動(dòng)的第一基板保持部及第二基板保持部輕量化，因此能夠增大基板的輸送速度，從而提高生產(chǎn)性。而且，無需用于確保第一移動(dòng)部及第二移動(dòng)部的較高的移動(dòng)精度的、牢固的基礎(chǔ)構(gòu)造，從而能夠使曝光裝置小型化，并且能夠降低成本。
[0016]作為本發(fā)明的第四實(shí)施方式，也可以是第一實(shí)施方式的曝光裝置具備的第一移動(dòng)部及第二移動(dòng)部各自構(gòu)成為，第一基板保持部及第二基板保持部能夠沿著第一方向移動(dòng)。在這種情況下，作為第四實(shí)施方式的曝光裝置也可以具備上述第三實(shí)施方式。上述曝光裝置起到與第三實(shí)施方式相同的效果。[0017]作為本發(fā)明的第五實(shí)施方式，也可以在第三實(shí)施方式或第四實(shí)施方式的曝光裝置具備的基準(zhǔn)板上形成有彼此嵌合的一對(duì)定位結(jié)構(gòu)中的一方。也可以在第一基板保持部及第二基板保持部中的比分別保持在第一基板保持部及第二基板保持部的基板靠外側(cè)的位置形成有定位結(jié)構(gòu)的另一方。保持在第一基板保持部及第二基板保持部的基板也可以以一對(duì)定位結(jié)構(gòu)嵌合的狀態(tài)配置在第一曝光位置及第二曝光位置。
[0018]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，即使第一移動(dòng)部及第二移動(dòng)部各自并非是高精度地使第一基板保持部及第二基板保持部移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，也可以正確地定位與第一方向正交的面上的基板的位置。因此，起到與第三實(shí)施方式及第四實(shí)施方式相同的效果。
[0019]作為本發(fā)明的第六實(shí)施方式，第一實(shí)施方式至第五實(shí)施方式中任一個(gè)曝光裝置也可以具備檢測(cè)部，該檢測(cè)部構(gòu)成為能夠沿著第二方向移動(dòng)，對(duì)配置在第一曝光位置及第二曝光位置的基板的位置及形狀中的至少一方進(jìn)行檢測(cè)。此外，曝光部也可以基于與檢測(cè)部的檢測(cè)結(jié)果對(duì)應(yīng)地修正后的曝光數(shù)據(jù)而進(jìn)行曝光。
[0020]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，讀取賦予到基板上的對(duì)位標(biāo)記，基于其信息來正確地識(shí)別基板的位置、形狀，基于與基板的位置、形狀對(duì)應(yīng)地修正的曝光數(shù)據(jù)，而進(jìn)行適當(dāng)?shù)仄毓?。若在配置在第一曝光位置及第二曝光位置中的一方的基板的曝光過程中，對(duì)另一方的基板檢測(cè)其位置、形狀，也不會(huì)降低生產(chǎn)性。
[0021]作為本發(fā)明的第七實(shí)施方式，第六實(shí)施方式的曝光裝置具備的引導(dǎo)件也可以作為兼用于曝光頭的沿著第二方向的移動(dòng)和檢測(cè)部的沿著第二方向的移動(dòng)這兩者的引導(dǎo)件而設(shè)置。根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，能夠使曝光裝置小型化。
[0022]作為本發(fā)明的第八實(shí)施方式，第一實(shí)施方式至第七實(shí)施方式中任一個(gè)曝光裝置也可以具備:第一輸送部，其用于輸送基板；第二輸送部，其用于在第一輸送部與第一待機(jī)位置之間輸送基板；及第三輸送部，其用于在第一輸送部與第二待機(jī)位置之間輸送基板。根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，能夠通過一系列的流程來有效地連續(xù)處理基板，從而使生產(chǎn)性提聞。
[0023]作為本發(fā)明的第九實(shí)施方式，第一實(shí)施方式至第八實(shí)施方式中任一個(gè)曝光裝置也可以具備測(cè)定部，該測(cè)定部對(duì)曝光頭與配置在第一曝光位置及第二曝光位置的基板的曝光面之間的距離進(jìn)行測(cè)定。此外，該曝光裝置也可以具備使曝光頭沿著第一方向移動(dòng)的第三移動(dòng)部。第三移動(dòng)部也可以與測(cè)定部的測(cè)定結(jié)果對(duì)應(yīng)地調(diào)節(jié)曝光頭與曝光面之間的距離。根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，對(duì)于不光滑的基板的曝光面也總是能夠穩(wěn)定地聚焦。
[0024]作為本發(fā)明的第十實(shí)施方式，第一實(shí)施方式至第九實(shí)施方式中任一個(gè)曝光裝置具備的曝光頭也可以具有多個(gè)曝光單元。根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，通過分成多個(gè)曝光單元，使各曝光單元的掃描寬度變小。即，能夠使曝光單元所使用的透鏡的直徑變小，從而能夠?qū)崿F(xiàn)低成本化。
[0025]本發(fā)明的第十一實(shí)施方式作為利用曝光裝置對(duì)基板進(jìn)行曝光的曝光方法而被提供。上述曝光方法包括準(zhǔn)備曝光裝置的第一工序。在準(zhǔn)備的曝光裝置中設(shè)定有第一曝光位置和第二曝光位置，該第一曝光位置供基板以基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)配置，第二曝光位置供基板以如下狀態(tài)配置，該狀態(tài)是基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)，且是基板的曝光面與配置在第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的狀態(tài)。此外，該曝光裝置具備能夠沿著第二方向在第一曝光位置與第二曝光位置之間移動(dòng)的曝光頭，通過曝光頭的沿著第二方向的移動(dòng)對(duì)配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板進(jìn)行選擇性曝光。此外，曝光方法包括第二工序和第三工序，在第二工序中，在對(duì)配置在第一曝光位置的第一基板的曝光處理結(jié)束之前，將與第一基板不同的第二基板配置在第二曝光位置，在第三工序中，在對(duì)配置在第二曝光位置的第二基板的曝光處理結(jié)束之前，將與第二基板不同的第三基板配置在第一曝光位置。根據(jù)上述曝光方法，起到與第一實(shí)施方式的曝光裝置相同的效果。
[0026]在上述第十一實(shí)施方式中，在第一工序中準(zhǔn)備的曝光裝置還可以具備對(duì)配置在第一曝光位置及第二曝光位置的基板的位置及形狀中的至少一方進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)部。此外，曝光裝置也可以基于檢測(cè)部的檢測(cè)結(jié)果而修正曝光數(shù)據(jù)并進(jìn)行曝光。在這種情況下，在第二工序中，也可以將第二基板配置在第二曝光位置，并且在對(duì)配置在第一曝光位置的第一基板的曝光處理結(jié)束之前，對(duì)配置在第二曝光位置的第二基板進(jìn)行檢測(cè)部的檢測(cè)。另外，也可以在該第二基板的檢測(cè)之外，進(jìn)行基于該檢測(cè)結(jié)果的曝光數(shù)據(jù)的修正。同樣地，在第三工序中，也可以將第三基板配置在第一曝光位置，并且在對(duì)配置在第二曝光位置的第二基板的曝光處理結(jié)束之前，對(duì)配置在第一曝光位置的第三基板進(jìn)行檢測(cè)部的檢測(cè)。另外，也可以在該第三基板的檢測(cè)之外，進(jìn)行基于該檢測(cè)結(jié)果的曝光數(shù)據(jù)的修正。
[0027]上述實(shí)施方式僅是一個(gè)例子，上述的各種實(shí)施方式的各要素在能夠解決本申請(qǐng)所記載的課題的至少一部分的范圍內(nèi)或在起到本申請(qǐng)所記載的效果的至少一部分的范圍內(nèi)，能夠適當(dāng)?shù)亟M合或省略。例如，本發(fā)明也能夠作為以下所示的第十二實(shí)施方式至第十四實(shí)施方式而被提供。第二實(shí)施方式至第十實(shí)施方式中任一個(gè)實(shí)施方式也能夠應(yīng)用于第十二實(shí)施方式至第十四實(shí)施方式。
[0028]本發(fā)明的第十二實(shí)施方式作為曝光裝置而被提供。該曝光裝置具備:第一移動(dòng)部，其具備保持基板的第一基板保持部，并使第一基板保持部在待機(jī)位置與供基板以基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)配置的曝光位置之間移動(dòng)；第二移動(dòng)部，其具備保持基板的第二基板保持部，并使第二基板保持部在待機(jī)位置與曝光位置之間移動(dòng)；及曝光部，其具備曝光頭，并一邊使曝光頭沿著與第一方向正交的第二方向移動(dòng)、一邊對(duì)配置在曝光位置的基板的曝光面進(jìn)行曝光。
[0029]根據(jù)上述實(shí)施方式 的曝光裝置，能夠同時(shí)進(jìn)行曝光完成的基板的從曝光位置的排出及新的基板的向曝光位置的配置。因此，能夠縮短曝光以外的動(dòng)作所需要的時(shí)間，從而使生廣性提聞。
[0030]本發(fā)明的第十三實(shí)施方式作為曝光裝置而被提供。該曝光裝置具備:移動(dòng)部，其具備保持基板的基板保持部，以保持在基板保持部的基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)使基板保持部移動(dòng)，直至基板配置在曝光位置；曝光部，其具備曝光頭，并一邊使曝光頭在與第一方向正交的第二方向上移動(dòng)、一邊對(duì)配置在曝光位置的基板的曝光面進(jìn)行曝光；基底構(gòu)件，其設(shè)有為了使曝光頭沿著第二方向移動(dòng)而沿著第二方向配置的引導(dǎo)件；及基準(zhǔn)板，其安裝在基底構(gòu)件，且具有能夠供基板插入到作為曝光位置的、基準(zhǔn)板的內(nèi)部的位置的框架形狀。在上述曝光裝置中，移動(dòng)部構(gòu)成為基板保持部能夠沿著第一方向移動(dòng)?；灞３植吭诨迥軌蛭灰频臓顟B(tài)下保持基板?；逡曰鶞?zhǔn)板的規(guī)定部位與基板保持部的規(guī)定部位在保持在基板保持部的基板的外周處接觸的狀態(tài)配置在曝光位置。
[0031]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，即使移動(dòng)部并非是高精度地使基板保持部移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，在曝光位置處，也能夠?qū)⒈３只宓幕灞３植肯鄬?duì)于曝光頭而高精度地配置在規(guī)定的位置。其結(jié)果是，能夠降低成本。此外，由于能夠使構(gòu)成為能夠移動(dòng)的基板保持部輕量化，因此能夠增大基板的輸送速度，從而使生產(chǎn)性提高。而且，無需用于確保移動(dòng)部的較高的移動(dòng)精度的、牢固的基礎(chǔ)構(gòu)造，能夠使曝光裝置小型化，并且能夠降低成本。
[0032]本發(fā)明的第十四實(shí)施方式作為曝光裝置而被提供。該曝光裝置具備:移動(dòng)部，其具備保持基板的基板保持部，以保持在基板保持部的基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)使基板保持部移動(dòng)，直至基板配置在曝光位置；曝光部，其具備曝光頭，并一邊使曝光頭在與第一方向正交的第二方向上移動(dòng)、一邊對(duì)配置在曝光位置的基板的曝光面進(jìn)行曝光；基底構(gòu)件，其設(shè)有為了使曝光頭沿著第二方向移動(dòng)而沿著第二方向配置的引導(dǎo)件；及基準(zhǔn)板，其安裝在基底構(gòu)件，且具有能夠供基板插入到作為曝光位置的、基準(zhǔn)板的內(nèi)部的位置的框架形狀。在上述曝光裝置中，移動(dòng)部構(gòu)成為能夠使基板保持部沿著第一方向移動(dòng)?；灞３植吭诨迥軌蛭灰频臓顟B(tài)下保持基板。在基準(zhǔn)板上形成彼此嵌合的一對(duì)定位結(jié)構(gòu)中的一方。在基板保持部中比保持在基板保持部的基板靠外側(cè)的位置形成定位結(jié)構(gòu)的另一方。以形成在基準(zhǔn)板及基板保持部的一對(duì)定位結(jié)構(gòu)嵌合的狀態(tài)，基板配置在曝光位置。
[0033]根據(jù)上述實(shí)施方式的曝光裝置，即使移動(dòng)部并非是高精度地使基板保持部移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，也能夠正確地定位與第一方向正交的面上的基板的位置。因此，起到與第十三實(shí)施方式相同的效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0034]圖1是表示作為本發(fā)明的實(shí)施例的曝光裝置20的整體結(jié)構(gòu)的說明圖。
[0035]圖2是表示曝光裝置20中的、曝光部110的周邊的結(jié)構(gòu)的說明圖。
[0036]圖3是表不第一移動(dòng)部50a的結(jié)構(gòu)的說明圖。
[0037]圖4是表示將基板配置在第一曝光位置P21的動(dòng)作的說明圖。
[0038]圖5是表示曝光裝置20的動(dòng)作流程的說明圖。
[0039]圖6是表示曝光裝置20的動(dòng)作流程的說明圖。
[0040]圖7是表示曝光裝置20的動(dòng)作流程的時(shí)序圖。
[0041]圖8是表示作為第二實(shí)施例的曝光裝置220的結(jié)構(gòu)的說明圖。
[0042]圖9是從水平方向觀察曝光裝置220的說明圖。
[0043]附圖標(biāo)記說明如下:
[0044]20、220…曝光裝置
[0045]30…第一輸送部
[0046]31~34…移動(dòng)工作臺(tái)
[0047]35…翻轉(zhuǎn)裝置
[0048]36…導(dǎo)軌
[0049]40a…第二輸送部
[0050]40b…第三輸送部
[0051]41a、41b…吸附機(jī)構(gòu)
[0052]42a、42b …導(dǎo)軌
[0053]5OaJ5Oa…第一移動(dòng)部[0054]50b、250b…第二移動(dòng)部
[0055]60a、260a…第一移動(dòng)部第一系列
[0056]60b、260b…第二移動(dòng)部第一系列
[0057]70a、270a...第一移動(dòng)部第二系列
[0058]70b、270b…第二移動(dòng)部第二系列
[0059]61a、71a、71b、261a、261b、271a、271b …基底構(gòu)件
[0060]62a、72a、72b、262a、262b、272a、272b …保持構(gòu)件
[0061]63a、73a、73b、263a、263b、273a、273b …凹部
[0062]64a、74a、264a、264b、274a、274b...支承構(gòu)件
[0063]65a、75a、265a、265b、275a、275b …彈簧
[0064]66a、76a、266a、266b、276a、276b …前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)
[0065]67a、77a、267a、267b、277a、277b …左右移動(dòng)機(jī)構(gòu)
[0066]68a、78a、268a、278a …第一基板保持部
[0067]68b、78b、268b 、278b …第二基板保持部
[0068]80、280…基底構(gòu)件
[0069]81…基部
[0070]82…引導(dǎo)部
[0071]83…壁部
[0072]90a、90b、290a、290b …基準(zhǔn)板
[0073]91a、91b …貫通孔
[0074]92a、92b …氣缸
[0075]93a…定位銷
[0076]100a、100b、300a、300b …檢測(cè)部
[0077]IOla…攝像機(jī)
[0078]102a…支承構(gòu)件
[0079]103a …壁部
[0080]104a…移動(dòng)體
[0081]110、310 …曝光部
[0082]111...曝光頭
[0083]112…支承部
[0084]113…移動(dòng)體
[0085]SI~S6…基板
[0086]Pll…第一待機(jī)位置
[0087]P12…第二待機(jī)位置
[0088]P21…第一曝光位置
[0089]P22…第二曝光位置
[0090]Dl…第一方向
[0091]D2…第二方向
[0092]D3…第三方向[0093]D4...第四方向
[0094]HP…起始位置
【具體實(shí)施方式】
[0095]A.第一實(shí)施例:
[0096]圖1表示作為本發(fā)明的實(shí)施例的曝光裝置20的整體結(jié)構(gòu)。曝光裝置20基于表示電路等的二維圖案的曝光數(shù)據(jù)，對(duì)在表面上具有感光層的基板的曝光面進(jìn)行曝光，由此在基板上形成該圖案。在本實(shí)施例中，曝光裝置20在基板的兩面上形成圖案。如圖1所示，曝光裝置20具備第一輸送部30、第二輸送部40a、第三輸送部40b、第一移動(dòng)部50a、第二移動(dòng)部50b、基底構(gòu)件80、基準(zhǔn)板90a和90b、檢測(cè)部IOOa和100b、曝光部110。
[0097]在本申請(qǐng)中，在用于對(duì)基板的表面進(jìn)行曝光的專用結(jié)構(gòu)中，在附圖標(biāo)記的末尾標(biāo)注“a”。此外，在用于對(duì)基板的背面進(jìn)行曝光的專用結(jié)構(gòu)中，在附圖標(biāo)記的末尾標(biāo)注“b”。另一方面，在表面的曝光及背面的曝光所共用的結(jié)構(gòu)中，不標(biāo)注“a”及“b”。即，在圖1中，第二輸送部40a、第一移動(dòng)部50a、基準(zhǔn)板90a及檢測(cè)部IOOa是表面的曝光用結(jié)構(gòu)。第三輸送部40b、第二移動(dòng)部50b、基準(zhǔn)板90b及檢測(cè)部IOOb是背面曝光用的結(jié)構(gòu)。此外，第一輸送部30、基底構(gòu)件80及曝光部110是共用的結(jié)構(gòu)。以下，將用于對(duì)表面進(jìn)行曝光的專用結(jié)構(gòu)稱作表面處理系列，將用于對(duì)基板的背面進(jìn)行曝光的專用結(jié)構(gòu)稱作背面處理系列。
[0098]第一輸送部30依照對(duì)基板進(jìn)行曝光處理的流程而將基板向恒定的方向輸送。在本實(shí)施例中，第一輸送部30具備移動(dòng)工作臺(tái)31~34和導(dǎo)軌36。移動(dòng)工作臺(tái)31~34構(gòu)成為在承載有基板的狀態(tài)下能夠在導(dǎo)軌36上進(jìn)行移動(dòng)。在移動(dòng)工作臺(tái)31~34的、基板的承載面上形成有微小的貫通孔。借助該貫通孔而朝向承載面的相反一側(cè)進(jìn)行吸引，由此被承載的基板固定地保持在承載面上。
[0099]在第一輸送部30的輸送路線的中途設(shè)置有第二輸送部40a和第三輸送部40b。移動(dòng)工作臺(tái)31將未處理的基板SI輸送至第二輸送部40a的設(shè)置位置。在第二輸送部40a的設(shè)置位置，將基板SI從移動(dòng)工作臺(tái)31換載至第二輸送部40a，并且將僅表面被曝光的基板S4從第二輸送部40a換載至移動(dòng)工作臺(tái)32。
[0100]承載在移動(dòng)工作臺(tái)32上的基板在第二輸送部40a的設(shè)置位置與第三輸送部40b的設(shè)置位置之間換載至移動(dòng)工作臺(tái)33。此時(shí)，將基板的表面背面翻轉(zhuǎn)。具體而言，移動(dòng)工作臺(tái)32、33的承載面構(gòu)成為以彼此相對(duì)的方向側(cè)為軸而相反一側(cè)能夠向上方旋轉(zhuǎn)。移動(dòng)工作臺(tái)32、33的承載面旋轉(zhuǎn)90°，在將基板S4夾在該移動(dòng)工作臺(tái)32、33之間且相對(duì)接觸的狀態(tài)下，在移動(dòng)工作臺(tái)33處進(jìn)行吸引，并且在移動(dòng)工作臺(tái)32處解除吸引，由此將基板S4從移動(dòng)工作臺(tái)32換載至移動(dòng)工作臺(tái)33。上述移動(dòng)工作臺(tái)32及移動(dòng)工作臺(tái)33作為使基板的表面背面進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)裝置35而發(fā)揮功能。
[0101]移動(dòng)工作臺(tái)33將翻轉(zhuǎn)后的基板S4輸送至第三輸送部40b的設(shè)置位置。在第三輸送部40b的設(shè)置位置，將基板S4從移動(dòng)工作臺(tái)33換載至第三輸送部40b，并且將在繼表面之后背面被曝光的基板S6從第三輸送部40b換載至移動(dòng)工作臺(tái)34。需要說明的是，在圖1中，表示使移動(dòng)工作臺(tái)34向下游側(cè)退避了用于將基板S4從移動(dòng)工作臺(tái)33換載到第三輸送部40b的空間的量的狀態(tài)。
[0102]第二輸送部40a及第三輸送部40b具有相同的結(jié)構(gòu)。因此，以下,僅對(duì)第二輸送部40a進(jìn)行說明。第二輸送部40a具備吸附機(jī)構(gòu)41a和導(dǎo)軌42a。吸附機(jī)構(gòu)41a構(gòu)成為能夠沿著導(dǎo)軌42a移動(dòng)至第一移動(dòng)部50a的設(shè)置位置。此外，吸附機(jī)構(gòu)41a構(gòu)成為能夠以與導(dǎo)軌42a延伸的方向正交且與水平方向平行的方向?yàn)樾D(zhuǎn)軸而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。此外，吸附機(jī)構(gòu)41a構(gòu)成為能夠使該旋轉(zhuǎn)軸朝上方轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0103]上述第二輸送部40a在移動(dòng)至最接近第一輸送部30側(cè)的狀態(tài)下，對(duì)停止在吸附機(jī)構(gòu)41a的正下方的移動(dòng)工作臺(tái)31上的基板SI進(jìn)行吸附。接著，第二輸送部40a —邊使吸附機(jī)構(gòu)41a向第一移動(dòng)部50a的方向移動(dòng)、一邊使旋轉(zhuǎn)軸朝上方轉(zhuǎn)動(dòng)，并且以基板SI朝向第一移動(dòng)部50a的方向的方式使吸附機(jī)構(gòu)41a旋轉(zhuǎn)。而且，第二輸送部40a在吸附機(jī)構(gòu)41a最接近第一移動(dòng)部50a的狀態(tài)下，將在鉛垂方向上立起的基板SI交給第一移動(dòng)部50a。在圖1中，表示第三輸送部40b將基板S5交給第二移動(dòng)部50b的狀態(tài)。
[0104]上述第二輸送部40a通過進(jìn)行與上述動(dòng)作相反的動(dòng)作而將表面被曝光的基板SI從第一移動(dòng)部50a承接下來并將其換載到移動(dòng)工作臺(tái)32。
[0105]第一移動(dòng)部50a及第二移動(dòng)部50b具有相同的結(jié)構(gòu)。因此，以下,主要對(duì)第一移動(dòng)部50a進(jìn)行說明。第一移動(dòng)部50a具備第一移動(dòng)部第一系列60a和第一移動(dòng)部第二系列70a。第一移動(dòng)部第一系列60a及第一移動(dòng)部第二系列70a是被雙層化了的結(jié)構(gòu)，具有相同的功能。
[0106]第一移動(dòng)部第一系列60a具備第一基板保持部68a。第一基板保持部68a具備:直接保持基板的保持構(gòu)件62a ;對(duì)保持構(gòu)件62a進(jìn)行保持且其鉛垂方向的兩端側(cè)形成得比保持構(gòu)件62a大的基底構(gòu)件61a?；讟?gòu)件61a及保持構(gòu)件62a具有平板形狀。在基底構(gòu)件61a中的比保持構(gòu)件62a靠外側(cè)的部位上形成有兩個(gè)凹部63a。將上述第一移動(dòng)部第一系列60a在與第二輸送部40a之間進(jìn)行基板的交接的位置稱作第一待機(jī)位置P11。第一移動(dòng)部第一系列60a和第一移動(dòng)部第二系列70a都在相同的第一待機(jī)位置Pll處進(jìn)行基板的交接。同樣地，第二移動(dòng)部50b在第二待機(jī)位置P12處進(jìn)行基板的交接。
[0107]第一移動(dòng)部第一系列60a使第一基板保持部68a在第一待機(jī)位置Pll與第一曝光位置P21之間移動(dòng)。第一曝光位置P21是進(jìn)行基板的表面的曝光的位置，詳情在后面進(jìn)行說明。在本實(shí)施例中，第一基板保持部68a的移動(dòng)方向是沿著第一方向Dl的方向(第一方向D1、或與第一方向Dl相反的方向)及第二方向D2。第一方向Dl是指配置在第一曝光位置P21的基板的曝光面朝向的方向。在本實(shí)施例中，基板以其曝光面朝向水平方向(與重力方向正交的方向)的方式配置在第一曝光位置P21上。第二方向D2是與第一方向Dl正交的方向。在本實(shí)施例中，第二方向D2是與水平方向平行的方向。對(duì)于第一移動(dòng)部第二系列70a，也能夠進(jìn)行與第一移動(dòng)部第一系列60a相同的動(dòng)作。
[0108]同樣地，第二移動(dòng)部50b具備第二移動(dòng)部第一系列60b (在圖1中未圖示)及第二移動(dòng)部第二系列70b。第二移動(dòng)部第一系列60b使第二基板保持部68b在第二待機(jī)位置P12與第二曝光位置P22之間移動(dòng)。第二曝光位置P22是進(jìn)行基板的背面曝光的位置，詳情在后面進(jìn)行說明。同樣地，第二移動(dòng)部第二系列70b使第二基板保持部68b在第二待機(jī)位置P12與第二曝光位置P22之間移動(dòng)。上述第二移動(dòng)部50b能夠?qū)崿F(xiàn)與第一移動(dòng)部50a左右對(duì)稱的動(dòng)作。
[0109]基底構(gòu)件80具備形成為大致矩形的基部81、形成在基部81中的第一方向Dl側(cè)的引導(dǎo)部82、及形成在第一方向Dl的相反一側(cè)的壁部83。引導(dǎo)部82形成為沿著第二方向D2延伸。在引導(dǎo)部82的上部形成有其兩側(cè)向沿著第一方向Dl的方向突出的凸部。該凸部作為用于使后述的檢測(cè)部IOOaUOOb及曝光部110向第二方向D2移動(dòng)的引導(dǎo)件而發(fā)揮功能。壁部83形成為大致矩形的框架形狀。在壁部83的內(nèi)部形成有在第一方向Dl上貫通的大致矩形的貫通孔。
[0110]圖2是圖1所示的曝光裝置20中的、曝光部110的周邊的放大圖。以下使用圖2對(duì)基準(zhǔn)板90a和90b、檢測(cè)部IOOa和100b、及曝光部110進(jìn)行說明。兩個(gè)基準(zhǔn)板90a、90b形成為大致矩形的框架形狀。在基準(zhǔn)板90a、90b的內(nèi)部形成有在第一方向Dl上貫通的大致矩形的貫通孔91a、91b?；鶞?zhǔn)板90a、90b形成為其高度與壁部83的貫通孔的高度大致相等。上述基準(zhǔn)板90a、90b以被嵌入到壁部83的貫通孔的狀態(tài)牢固地固定在壁部83上。
[0111]該基準(zhǔn)板90a、90b在與第一方向Dl正交的面上并列配置在第二方向D2上。在本實(shí)施例中，基準(zhǔn)板90a、90b略微分離地配置?；鶞?zhǔn)板90a與基準(zhǔn)板90b之間的分離距離被設(shè)定為滿足如下條件，即，貫通孔91a與貫通孔91b之間的未形成貫通孔的區(qū)域的寬度在后述的曝光部110的寬度以上。在本實(shí)施例中，將該分離距離設(shè)定為滿足該條件的最小值。若滿足該條件，則也可以使基準(zhǔn)板90a、90b不分離而彼此相接地配置。在這種情況下，基準(zhǔn)板也可以構(gòu)成為形成有兩個(gè)貫通孔的一個(gè)板。
[0112]在基準(zhǔn)板90a中的與第一方向Dl正交的面的下部設(shè)有兩個(gè)氣缸92a。對(duì)于基準(zhǔn)板90b，也同樣地設(shè)有兩個(gè)氣缸92b。氣缸92a、92b的作用在后面進(jìn)行說明。
[0113]檢測(cè)部IOOa及檢測(cè)部IOOb具有相同的結(jié)構(gòu)。因此，以下僅對(duì)檢測(cè)部IOOa進(jìn)行說明。檢測(cè)部IOOa用于檢測(cè)第一曝光位置P21中的基板的在與第一方向Dl正交的面上的位置及形狀。該檢測(cè)部IOOa具備攝像機(jī)101a、支承構(gòu)件102a、壁部103a及移動(dòng)體104a。攝像機(jī)IOla通過光學(xué)性地讀取被賦予在基板上的規(guī)定位置的對(duì)位標(biāo)記、圖案，基于讀取的標(biāo)記等的坐標(biāo)位置來檢測(cè)配置在第一曝光位置P21上的基板的形狀及配置位置(以下將該動(dòng)作也稱作基板測(cè)量)。支承構(gòu)件102a支承攝像機(jī)101a。壁部103a在鉛垂方向上延伸形成，以使支承構(gòu)件102a能夠在鉛垂方向上移動(dòng)的方式對(duì)其進(jìn)行支承。移動(dòng)體104a在其上表面處對(duì)壁部103a進(jìn)行支承，沿著引導(dǎo)部82向第二方向D2進(jìn)行移動(dòng)。S卩，本實(shí)施例的檢測(cè)部IOOa構(gòu)成為能夠使攝像機(jī)IOla在鉛垂方向及水平方向上移動(dòng)。需要說明的是，檢測(cè)部IOOa也可以檢測(cè)基板的位置和形狀中的至少一方。此外，在本實(shí)施例中，攝像機(jī)IOla為一臺(tái)，但檢測(cè)部IOOa也可以具備兩臺(tái)以上的攝像機(jī)。另外，曝光裝置20也可以相對(duì)于一個(gè)曝光位置而具備兩個(gè)以上的檢測(cè)部。這樣的話，能夠同時(shí)讀取多個(gè)標(biāo)記等，并基于多個(gè)標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)，因此在不損害生廣性的如提下，能夠提聞形狀識(shí)別精度。
[0114]曝光部110具備曝光頭111、支承部112及移動(dòng)體113。曝光頭111具備多個(gè)曝光單元，該曝光單元具有激光光源和對(duì)光束進(jìn)行偏轉(zhuǎn)掃描的多面鏡。支承部112在鉛垂方向上延伸形成，對(duì)遍及配置在第一曝光位置P21上的基板的曝光面的高度整體而排列的多個(gè)曝光單元即曝光頭111進(jìn)行支承。移動(dòng)體113在其上表面處對(duì)支承部112進(jìn)行支承，沿著引導(dǎo)部82向第二方向D2進(jìn)行移動(dòng)。即，曝光部110構(gòu)成為能夠沿第二方向D2進(jìn)行移動(dòng)，由此能夠?qū)ε渲迷诘谝黄毓馕恢肞21上的基板和配置在第二曝光位置P22上的基板進(jìn)行選擇性曝光。需要說明的是，在曝光處理中，將曝光頭與基板的距離保持為恒定是重要的，優(yōu)選曝光部110在不向第一方向Dl偏離的前提下高精度地移動(dòng)。因此，曝光部110構(gòu)成為沿著作為牢固的構(gòu)造體的基底構(gòu)件80的一部分即引導(dǎo)部82進(jìn)行移動(dòng)。[0115]上述曝光部110的動(dòng)作由處理曝光數(shù)據(jù)的圖像處理單元(省略圖示)控制。該圖像處理單元與檢測(cè)部100a、IOOb的檢測(cè)結(jié)果對(duì)應(yīng)地修正曝光數(shù)據(jù)，并基于修正數(shù)據(jù)來控制曝光部110。而且,曝光部110 —邊從由基準(zhǔn)板90a、90b規(guī)定的、第二方向D2上的第一曝光位置P21與第二曝光位置P22之間的位置(以下也稱作起始位置HP)向檢測(cè)部100a、100b中的任一方的方向移動(dòng)，一邊向基于修正數(shù)據(jù)的基板上的所需位置照射光束。
[0116]由以上說明可知，在本實(shí)施例中，將用于使檢測(cè)部100a、IOOb及曝光部110移動(dòng)的引導(dǎo)件(引導(dǎo)部82)共用化。因此，能夠使曝光裝置20小型化。作為上述部件的驅(qū)動(dòng)源，例如能夠利用移動(dòng)精度高的線性馬達(dá)。
[0117]圖3表不第一移動(dòng)部50a的結(jié)構(gòu)。在圖3中，表不沿著從第二移動(dòng)部50b朝向第一移動(dòng)部50a的方向觀察曝光裝置20的狀態(tài)?；讟?gòu)件80及基準(zhǔn)板90a作為剖面而表示。此外，第一輸送部30、第三輸送部40b、第二移動(dòng)部50b、檢測(cè)部IOOa和IOOb省略圖示。第一移動(dòng)部50a具備上述第一移動(dòng)部第一系列60a及第一移動(dòng)部第二系列70a。第一移動(dòng)部第一系列60a和第一移動(dòng)部第二系列70a具有相同結(jié)構(gòu),在上下方向上對(duì)稱地配置。因此，以下，僅對(duì)第一移動(dòng)部第一系列60a進(jìn)行說明。
[0118]第一移動(dòng)部第一系列60a在上述第一基板保持部68a (基底構(gòu)件61a及保持構(gòu)件62a)之外，還具備支承構(gòu)件64a、彈簧65a、前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)66a及左右移動(dòng)機(jī)構(gòu)67a。支承構(gòu)件64a借助彈性構(gòu)件(在此為彈簧)對(duì)第一基板保持部68a進(jìn)行支承。具體而言，支承構(gòu)件64a借助設(shè)在第一基板保持部68a側(cè)的面的上側(cè)及下側(cè)的彈簧65a主要在水平方向(與重力方向正交的方向)對(duì)第一基板保持部68a進(jìn)行支承。彈簧65a的兩端在鉛垂方向上的相同位置處，固定在第一基板保持部68a(基底構(gòu)件61a)與支承構(gòu)件64a上。此外，雖省略圖示，支承構(gòu)件64a借助吊簧在鉛垂方向上對(duì)第一基板保持部68a進(jìn)行支承。吊簧的一端固定在支承構(gòu)件64a上，另一端在比一端靠下方側(cè)固定在基底構(gòu)件61a上。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，第一基板保持部68a以能夠位移的狀態(tài)即在位置處具有規(guī)定程度的自由度的移動(dòng)狀態(tài)被支承于支承構(gòu)件64a。第一基板保持部68a的位移緣于彈簧的位移,其位移量是微小的。被第一基板保持部68a保持的基板當(dāng)然也以移動(dòng)狀態(tài)被保持。
[0119]前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)66a使對(duì)第一基板保持部68a進(jìn)行支承的支承構(gòu)件64a在沿著第一方向Dl的方向上前后移動(dòng)。在本實(shí)施例中，前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)66a作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)而具備滾珠絲杠和馬達(dá)。第一基板保持部68a及支承構(gòu)件64a的可動(dòng)范圍包含能夠?qū)⒌谝换灞３植?8a保持的基板配置到第一曝光位置P21上的位置。此外，該可動(dòng)范圍被設(shè)定為第一基板保持部68a及支承構(gòu)件64a與第一移動(dòng)部第二系列70a的第一基板保持部78a及支承構(gòu)件74a在不發(fā)生干涉的前提下能夠在第二方向D2上交叉。在本實(shí)施例中，支承構(gòu)件64a形成為大致L字狀。因此，兩者變得難以發(fā)生干涉，能夠?qū)⒖蓜?dòng)范圍設(shè)定得較小。即，能夠使曝光裝置20小型化。左右移動(dòng)機(jī)構(gòu)67a沿著在第二方向D2上延伸形成的引導(dǎo)件而使支承第一基板保持部68a的支承構(gòu)件64a及前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)66a在第二方向D2上左右移動(dòng)。在本實(shí)施例中，左右移動(dòng)機(jī)構(gòu)67a作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)而具備帶、帶輪及馬達(dá)。
[0120]在基準(zhǔn)板90a上，在氣缸92a的設(shè)置位置的背側(cè)，定位銷93a從該背側(cè)的面突出。該定位銷93a與構(gòu)成于基底構(gòu)件61a的凹部63a —并作為定位結(jié)構(gòu)而發(fā)揮功能。
[0121]在本實(shí)施例中，定位銷93a構(gòu)成為能夠利用氣缸92a在沿著第一方向Dl的方向上進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。因此，定位銷93a能夠移動(dòng)到被收容于比基準(zhǔn)板90a的背面靠表面?zhèn)鹊奈恢谩Ｔ趯⒍ㄎ讳N93a收容在基準(zhǔn)板90a內(nèi)的狀態(tài)下，若進(jìn)行使支承構(gòu)件64a與支承構(gòu)件74a在第二方向D2上交叉的動(dòng)作，則第一基板保持部68a變得難以與定位銷93a發(fā)生干涉，因此能夠縮小前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)66a的可動(dòng)范圍。
[0122]圖4表不將基板S3配置在第一曝光位置P21上的動(dòng)作。在圖4中，對(duì)第一移動(dòng)部第二系列70a使基板S3向第一曝光位置P21移動(dòng)的情況進(jìn)行說明。圖4的(A)表示第一基板保持部78a沿著第二方向D2從第一待機(jī)位置Pll移動(dòng)至基準(zhǔn)板90a的背面的狀態(tài)。此時(shí)，基板S3的位置處于基準(zhǔn)板90a的貫通孔91a的、向與第一方向Dl相反的方向去的投射范圍內(nèi)。需要說明的是，在該情況下，對(duì)基板S3的位置不要求較高的精度。
[0123]圖4的(B)表示將第一基板保持部78a從圖4的(A)所示的位置移動(dòng)到在第一曝光位置P21處供基板配置的位置的狀態(tài)。如圖所示，第一基板保持部78a在第一方向Dl上移動(dòng)，直至保持構(gòu)件72a的保持有基板的面?zhèn)鹊钠教姑媾c基準(zhǔn)板90a在保持于保持構(gòu)件72a上的基板S3的外周處接觸。在本實(shí)施例中，保持構(gòu)件72a與基準(zhǔn)板90a以完全包圍基板S3的外周的方式接觸。
[0124]但是，接觸的方式并不限于本實(shí)施例的方式，只要使基準(zhǔn)板90a的規(guī)定部位與第一基板保持部78a在基板S3的外周處接觸即可。例如，也可以在基準(zhǔn)板90a上形成朝向保持構(gòu)件72a側(cè)以相同的突出高度而突出的多個(gè)(例如為三個(gè))突出部，該突出部與保持構(gòu)件72a的保持有基板的面?zhèn)鹊钠教姑嬖诨錝3的外周處接觸。該突出部也可以不形成于基準(zhǔn)板90a而形成于保持構(gòu)件72a?；蛘撸部梢栽诨鶞?zhǔn)板90a與保持構(gòu)件72a這兩者上形成突出部，使上述突出部彼此接觸。如此，也可以使基準(zhǔn)板90a與第一基板保持部78a沿著基板S3的外周在分離的多個(gè)部位處接觸。該情況下，優(yōu)選接觸部位沿著基板S3的外周而分散配置。
[0125]在該接觸狀態(tài)下，基板S3位于基準(zhǔn)板90a的貫通孔91a的內(nèi)部。配置有基板S3的該位置是第一曝光位置P21。在第一曝光位置P21處，基準(zhǔn)板90a與第一基板保持部78a (更具體而言為保持構(gòu)件72a)接觸，因此在第一曝光位置P21處，保持基板S3的第一基板保持部78a相對(duì)于曝光頭111而在Dl方向上高精度地配置在規(guī)定的位置。
[0126]此外，當(dāng)?shù)谝换灞３植?8a在第一方向Dl上進(jìn)行移動(dòng)時(shí),定位銷93a向與第一方向Dl相反的方向延伸并與凹部73a嵌合。因此，正確地定位與第一方向Dl正交的面方向上的基板S3的位置。在本實(shí)施例中，凹部73a的外緣具有倒角形狀。因此，易于將定位銷93a導(dǎo)入到凹部73a的內(nèi)部。
[0127]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，即使第一移動(dòng)部50a并非是高精度地使第一移動(dòng)部第一系列60a及第一移動(dòng)部第二系列70a移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，也能夠在第一曝光位置P21處將保持基板的第一基板保持部68a、78a (更具體而言為保持構(gòu)件62a、72a)相對(duì)于曝光頭111而在與Dl正交的面方向上高精度地配置在規(guī)定的位置。其結(jié)果是，能夠降低成本。此外，能夠使支承構(gòu)件64a、74a及第一基板保持部68a、78a輕量化，因此能夠增大基板的輸送速度，從而使生產(chǎn)性提高。而且，無需用于確保第一移動(dòng)部50a的較高的移動(dòng)精度的牢固的基礎(chǔ)構(gòu)造，能夠使曝光裝置20小型化，并且能夠降低成本。
[0128]圖5及圖6表示曝光裝置20的動(dòng)作流程。圖5的(A)表示初始狀態(tài)的曝光裝置20的狀態(tài)。在圖5及圖6中，也將第二方向D2中的、從曝光部110朝向檢測(cè)部IOOa的方向稱作第三方向D3，將從檢測(cè)部IOOa朝向檢測(cè)部IOOb的方向稱作第四方向D4。[0129]當(dāng)曝光裝置20的動(dòng)作開始時(shí)，首先，如圖5的(B)所示，相對(duì)于基準(zhǔn)板90a而退避至與曝光部Iio相反一側(cè)的檢測(cè)部IOOa向第四方向D4移動(dòng)。該動(dòng)作是使檢測(cè)部IOOa預(yù)先移動(dòng)至賦予在基板的規(guī)定部位上的對(duì)位標(biāo)記的位置的動(dòng)作。在本實(shí)施例中，對(duì)位標(biāo)記賦予在基板的四角附近。接著，如圖5的(C)所示，借助第二輸送部40a及第一移動(dòng)部50a將基板SI配置到基準(zhǔn)板90a的內(nèi)部(第一曝光位置P21)。當(dāng)配置基板SI時(shí)，檢測(cè)部IOOa在圖5的(C)所示的位置即基板的四角附近的賦予有位置標(biāo)記中的兩個(gè)的第二方向D2的位置處，進(jìn)行對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。在本實(shí)施例中，檢測(cè)部IOOa通過使攝像機(jī)IOla在鉛垂方向上移動(dòng)來進(jìn)行兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。如上所述，將檢測(cè)部IOOa預(yù)先移動(dòng)至基板的對(duì)位標(biāo)記的位置，從而在基板SI的配置后，不浪費(fèi)時(shí)間地迅速地進(jìn)行對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。
[0130]接著，如圖5的⑶所示，檢測(cè)部IOOa向第三方向D3移動(dòng)，進(jìn)行賦予到基板SI的剩余兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)?；谠摍z測(cè)結(jié)果，曝光數(shù)據(jù)被修正而生成修正數(shù)據(jù)。接著，如圖5的(E)所示，曝光部110從起始位置HP朝向第三方向D3進(jìn)行掃描，并基于修正數(shù)據(jù)對(duì)基板SI的曝光面進(jìn)行曝光。在曝光時(shí)，檢測(cè)部IOOa退避到圖5的(A)所示的初期位置。當(dāng)曝光完成時(shí)，曝光部110返回到起始位置HP。此外，被曝光的基板SI移動(dòng)至第一待機(jī)位置Pllo該移動(dòng)動(dòng)作與在基板SI的曝光時(shí)間中使配置在第一待機(jī)位置Pll上的基板S2移動(dòng)至第一曝光位置P21的動(dòng)作同時(shí)進(jìn)行。即，基板SI與基板S2以在第二方向D2上交叉的方式移動(dòng)。
[0131]重復(fù)上述圖5的(A)?圖5的(E)的動(dòng)作，直至將在第一曝光位置P21處對(duì)表面曝光后的基板SI借助第二輸送部40a、第一輸送部30及第三輸送部40b配置到第二待機(jī)位置P12上為止。在本實(shí)施例中，在第一曝光位置P21處的兩次曝光動(dòng)作期間，基板SI配置在第二待機(jī)位置P12上。
[0132]圖6的(F)表示在第一曝光位置P21處結(jié)束基板S1、S2的曝光、接著將基板S3配置在第一曝光位置P21上的狀態(tài)。曝光部110返回到起始位置HP。此時(shí),在第二待機(jī)位置P12處，將最初曝光的基板SI配置在第二待機(jī)位置P12上。因此，使相對(duì)于基準(zhǔn)板90b而位于與曝光部110相反一側(cè)的檢測(cè)部IOOb向第三方向D3移動(dòng)，并在起始位置HP的附近待機(jī)。如上所述，該待機(jī)位置是能夠?qū)ε渲迷诘诙毓馕恢肞22上的基板的兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)的位置。
[0133]接著，如圖6的(G)所示，曝光部110從起始位置HP朝向第三方向D3進(jìn)行掃描，對(duì)基板S3的曝光面進(jìn)行曝光。在該曝光動(dòng)作的期間，配置在第二待機(jī)位置P12上的基板SI配置在第二曝光位置P22上。此時(shí)，檢測(cè)部IOOb進(jìn)行基板SI的兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。接著，如圖6的(H)所示，檢測(cè)部IOOb向第四方向D4移動(dòng)，對(duì)基板SI進(jìn)行剩余兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。該檢測(cè)和基于該檢測(cè)結(jié)果的修正數(shù)據(jù)的生成在圖6的(G)所示的基板S3的曝光結(jié)束之前的期間內(nèi)進(jìn)行。
[0134]如圖6的⑴所示，當(dāng)基板S3的曝光結(jié)束時(shí)，曝光部110返回到起始位置HP。檢測(cè)部IOOb退避到圖5的(A)所示的位置。此外，曝光后的基板S3從第一曝光位置P21移動(dòng)到第一待機(jī)位置Pll，與之相對(duì)地，將未處理的基板S4從第一待機(jī)位置Pl I移動(dòng)到第一曝光位置P21。在圖6的(I)中，表示基板S3剛剛從第一曝光位置P21移動(dòng)之后的狀態(tài)。
[0135]接著，如圖6的(J)所示，曝光部110從起始位置HP朝向第四方向D4進(jìn)行掃描，對(duì)基板SI的曝光面(背面)進(jìn)行曝光。在該曝光動(dòng)作的期間，配置在第一待機(jī)位置Pll上的基板S4配置到第一曝光位置P21上。此時(shí)，檢測(cè)部IOOa進(jìn)行基板S4的兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。而且，如圖6的(K)所示，在基板SI的曝光結(jié)束之前的期間內(nèi)，檢測(cè)部IOOa向第四方向D4移動(dòng)，并對(duì)基板S4結(jié)束其剩余兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記的檢測(cè)。基于該檢測(cè)結(jié)果的修正數(shù)據(jù)的生成也在基板SI的曝光結(jié)束之前的期間內(nèi)進(jìn)行。
[0136]然后，當(dāng)基板SI的曝光結(jié)束時(shí)，如圖6的(L)所示，曝光部110返回到起始位置HP。此外，配置在第二曝光位置P22上的基板SI從第二曝光位置P22向第二待機(jī)位置P12移動(dòng)。
[0137]通過重復(fù)上述圖6的(F)?圖6的(L)的動(dòng)作，向曝光裝置20供給的基板的表面與背面這兩者在一系列的流程中由一個(gè)曝光部110曝光處理。在上述一個(gè)周期之內(nèi)，曝光部110在基準(zhǔn)板90a和基準(zhǔn)板90b之間持續(xù)往復(fù)移動(dòng)。
[0138]圖7是針對(duì)圖6的(F)?圖6的(L)所示的曝光裝置20的動(dòng)作的一個(gè)周期的時(shí)序圖。如圖所不，在曝光裝置20中，在表面處理系列的第一曝光位置P21處,在對(duì)第一移動(dòng)部第一系列60a處理的基板進(jìn)行曝光處理的期間(期間T11、T12)，在背面處理系列中進(jìn)行從第二待機(jī)位置P12向第二曝光位置P22的未處理的基板的移動(dòng)(期間Tll)、從第二曝光位置P22向第二待機(jī)位置P12的處理完成的基板的移動(dòng)(期間Tll)及針對(duì)重新設(shè)置在第二曝光位置P22上的、即在接下來的曝光工序中被曝光的基板的基板測(cè)量(期間T12)。此外，在進(jìn)行表面處理系列的第一移動(dòng)部第一系列60a處理的基板的基板測(cè)量(期間T42)、曝光部110的向起始位置HP的移動(dòng)(期間T43)、曝光(期間T11，12)、接下來的曝光部110的向起始位置HP的移動(dòng)(期間T13)的期間內(nèi)，能夠進(jìn)行更換動(dòng)作，利用該更換動(dòng)作進(jìn)行針對(duì)第一移動(dòng)部第二系列70a處理的處理完成的基板的從第一待機(jī)位置Pll向第一輸送部30的移動(dòng)、及針對(duì)未處理的基板的從第一輸送部30向第一待機(jī)位置Pll的移動(dòng)。檢測(cè)部100a、IOOb的退避動(dòng)作與曝光部110的向起始位置HP的移動(dòng)動(dòng)作在相同期間內(nèi)進(jìn)行(期間T13、T23、T33、T43)。此外，雖省略圖示，基于基板測(cè)量的曝光數(shù)據(jù)的修正與曝光部110的向起始位置HP的移動(dòng)動(dòng)作在相同期間內(nèi)進(jìn)行。上述點(diǎn)在著眼于表面處理系列的第一移動(dòng)部第一系列60a、第一移動(dòng)部第二系列70a、背面處理系列的第二移動(dòng)部第一系列60b、第二移動(dòng)部第二系列70b各自處理的基板的任一個(gè)都是相同的。
[0139]如此，曝光裝置20能夠在除去曝光處理后使曝光部110返回到起始位置HP所需要的時(shí)間以外的整個(gè)期間內(nèi)進(jìn)行曝光處理。對(duì)于一個(gè)基板的曝光處理例如能夠?yàn)?2秒。曝光部110的向起始位置HP的移動(dòng)每一次例如能夠?yàn)?秒。在這種情況下，整個(gè)工序的時(shí)間內(nèi)曝光處理所占時(shí)間的比例達(dá)到大約86%。
[0140]根據(jù)以上說明的曝光裝置20，能夠在第一曝光位置P21與第二曝光位置P22之間交替地進(jìn)行曝光。因此，能夠?qū)⒃谝环降钠毓馕恢眠M(jìn)行曝光的時(shí)間分配為用于排出在另一方的曝光位置處完成曝光的基板、并且將新的基板配置在另一方的曝光位置的時(shí)間。因此，能夠提高基板的生產(chǎn)性。而且，根據(jù)曝光裝置20，針對(duì)第一曝光位置P21能夠同時(shí)進(jìn)行曝光完成的基板的從第一曝光位置P21的排出及新的基板的向第一曝光位置P21的配置。因此，曝光以外所需的時(shí)間變得極短，從而能夠大幅度地提高生產(chǎn)性。此外，由于能夠利用一個(gè)曝光部110使基板的兩面自動(dòng)地曝光，因此有利于裝置的低成本化及小型化。
[0141]B.第二實(shí)施例:
[0142]圖8是表示作為第二實(shí)施例的曝光裝置220的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖9表示從正面觀察曝光裝置220的狀態(tài)。作為第二實(shí)施例的曝光裝置220在基板以其曝光面朝向鉛垂方向上方的方式配置在第一曝光位置P21及第二曝光位置P22上，這點(diǎn)和與之相伴的點(diǎn)與第一實(shí)施例的曝光裝置20不同。以下，僅對(duì)與第一實(shí)施例不同的點(diǎn)進(jìn)行說明。需要說明的是，在圖8及圖9中，對(duì)曝光裝置220的各構(gòu)成要素標(biāo)注下述附圖標(biāo)記，該附圖標(biāo)記是通過將作為第一實(shí)施例的曝光裝置20的各構(gòu)成要素所標(biāo)注的附圖標(biāo)記包含在后兩位而成的，省略或簡化其說明。
[0143]如圖8所示，曝光裝置220具備沿著基底構(gòu)件280的上表面移動(dòng)的曝光部310及檢測(cè)部300a、300b。在基底構(gòu)件280的內(nèi)部，基準(zhǔn)板290a、290b朝向第一方向Dl (朝向鉛垂方向上方的方向)并沿著曝光部310的移動(dòng)方向并列配置。在基準(zhǔn)板290a、290b的下方配置第一移動(dòng)部250a及第二移動(dòng)部250b。第一移動(dòng)部250a具備被雙層化了的第一移動(dòng)部第一系列260a及第一移動(dòng)部第二系列270a。
[0144]第一移動(dòng)部第一系列260a的支承構(gòu)件264a在使第一基板保持部268a位于沿著第二方向D2(與曝光部310的移動(dòng)方向正交的方向)延伸形成的左右移動(dòng)機(jī)構(gòu)267a、277a的內(nèi)側(cè)的狀態(tài)下，對(duì)第一基板保持部268a進(jìn)行支承。第一基板保持部268a構(gòu)成為能夠利用左右移動(dòng)機(jī)構(gòu)267a并經(jīng)由形成于基底構(gòu)件280的開口部在基底構(gòu)件280的內(nèi)部與外部之間沿第二方向D2移動(dòng)。此外，第一基板保持部268a構(gòu)成為能夠利用前后移動(dòng)機(jī)構(gòu)266a在沿著第一方向Dl的方向上移動(dòng)。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，第一基板保持部268a構(gòu)成為能夠在第一待機(jī)位置Pll與第一曝光位置P21之間移動(dòng)。第一移動(dòng)部第二系列270a具備與第一移動(dòng)部第一系列260a相同的結(jié)構(gòu)。此外,第二移動(dòng)部250b具備與第一移動(dòng)部250a相同的結(jié)構(gòu)。
[0145]如圖9所不,第一基板保持部268a與第一基板保持部278a能夠配置在鉛垂方向的不同位置，因此能夠以與水平方向交叉的方式同時(shí)向相反方向移動(dòng)。
[0146]在上述曝光裝置220中，如圖8所示，利用吸附機(jī)構(gòu)(省略圖示)按照基板S1、S2、S3、S4的位置順序?qū)暹M(jìn)行換載輸送。即，在曝光裝置220中，能夠省略與第一實(shí)施例的導(dǎo)軌42a、42b相當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)。因此，能夠使曝光裝置220小型化。
[0147]C.變形例:
[0148]C-1.變形例 1:
[0149]曝光裝置20也可以是僅對(duì)基板的一側(cè)面進(jìn)行曝光的裝置。在這種情況下，曝光裝置20也可以具有將在第一曝光位置P21及第二曝光位置P22處曝光的基板分別獨(dú)立排出的兩條輸送路線。
[0150]C-2.變形例 2:
[0151]曝光裝置20中的基板的輸送方向能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。例如，在第一移動(dòng)部50a未被雙層化的情況下，第一移動(dòng)部50a也可以構(gòu)成為能夠?qū)⒒鍍H在沿著第一方向Dl的方向上輸送。在這種情況下，也可以省略第二輸送部40a及第三輸送部40b。例如，也可以將沿著與第一方向Dl交叉的方向輸送基板的第一輸送部30設(shè)置在基準(zhǔn)板90a的背面?zhèn)?，利用吸附機(jī)構(gòu)，將基板從第一輸送部30換載到在第一輸送部30附近且是基準(zhǔn)板90a的背面設(shè)定的第一待機(jī)位置PlI。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，第一移動(dòng)部50a僅通過沿著第一方向Dl將基板從第一待機(jī)位置Pll輸送到第二待機(jī)位置P12，就能夠?qū)⒒迮渲迷诘谝黄毓馕恢肞21上。
[0152]或者，在第一移動(dòng)部50a及第二移動(dòng)部50b構(gòu)成為能夠以較高的移動(dòng)精度進(jìn)行移動(dòng)，由此能夠在第一曝光位置及第二曝光位置處相對(duì)于曝光頭111而高精度地將第一基板保持部68a及第二基板保持部68b配置在規(guī)定的位置，在這種情況下，在第二輸送部40a及第三輸送部40b之外，也可以省略基準(zhǔn)板90a、90b。在這種情況下，通過使第一基板保持部68a及第二基板保持部68b在第一方向Dl上移動(dòng),不一定需要配置在第一曝光位置P21及第二曝光位置P22上。因此，基板也可以僅在第二方向D2上被輸送，從第一待機(jī)位置Pll或第二待機(jī)位置P12被輸送到設(shè)定在上述待機(jī)位置的沿著第二方向D2的延長線上的第一曝光位置P21或第二曝光位置P22上。
[0153]C-3.變形例 3:
[0154]曝光裝置20也可以具備測(cè)定部，該測(cè)定部用于對(duì)曝光部110與配置在第一曝光位置P21及第二曝光位置P22上的基板的曝光面之間的距離進(jìn)行測(cè)定。上述測(cè)定部例如也可以具備激光距離計(jì)。此外，曝光裝置20也可以具備使曝光部110沿著第一方向Dl移動(dòng)的移動(dòng)部。上述移動(dòng)部例如也可以是線性行駛機(jī)構(gòu)。該移動(dòng)部也可以與測(cè)定部的測(cè)定結(jié)果對(duì)應(yīng)地調(diào)節(jié)曝光部110與基板的曝光面之間的距離。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，即使對(duì)于不太光滑的基板的曝光面，也總是能夠穩(wěn)定地聚焦。
[0155]C-4.變形例 4:
[0156]作為將來自光源的光選擇性地照射到基板的曝光面的任意區(qū)域的機(jī)構(gòu)并不限于多面鏡，能夠通過各種方式來實(shí)現(xiàn)。例如，該機(jī)構(gòu)也可以是DMD (Digital Mirror Device)。此外，光源并不限于激光源，能夠利用各種發(fā)光元件。例如，光源也可以是UV燈、LED等。
[0157]以上，基于數(shù)個(gè)實(shí)施例而對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但上述發(fā)明的實(shí)施方式是用于使本發(fā)明的理解變得容易的實(shí)施方式，而并非限定本發(fā)明的實(shí)施方式。本發(fā)明在不脫離其主旨的前提下能夠變更、改進(jìn)，并且在本發(fā)明中包含其等價(jià)物是不言而喻的。此夕卜，在能夠解決上述課題的至少一部分的范圍、或起到效果的至少一部分的范圍內(nèi)，能夠?qū)?quán)利要求書及說明書所記載的各構(gòu)成要素進(jìn)行組合或省略。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光裝置，該曝光裝置對(duì)基板進(jìn)行曝光，其中， 所述曝光裝置具備: 第一移動(dòng)部，其具備保持所述基板的第一基板保持部，并使所述第一基板保持部在第一待機(jī)位置與第一曝光位置之間移動(dòng)，該第一曝光位置供該基板以保持在所述第一基板保持部的所述基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)配置； 第二移動(dòng)部，其具備保持所述基板的第二基板保持部，并使所述第二基板保持部在與所述第一待機(jī)位置不同的第二待機(jī)位置和下述第二曝光位置之間移動(dòng)，該第二曝光位置供保持在所述第二基板保持部的所述基板以如下狀態(tài)配置，該狀態(tài)是保持在所述第二基板保持部的所述基板的曝光面朝向所述第一方向的狀態(tài)，且是保持在所述第二基板保持部的所述基板的曝光面與配置在所述第一曝光位置的所述基板的所述曝光面在同所述第一方向正交的第二方向上并列的狀態(tài)；及 曝光部，其具備能夠沿著引導(dǎo)件在所述第一曝光位置與所述第二曝光位置之間移動(dòng)的曝光頭，該引導(dǎo)件沿著所述第二方向配置，該曝光部通過所述曝光頭的沿著所述第二方向的移動(dòng)對(duì)配置在所述第一曝光位置的所述基板和配置在所述第二曝光位置的所述基板進(jìn)行選擇性曝光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中， 所述第一移動(dòng)部及所述第二移動(dòng)部各自具備能夠在沿著所述第一方向的方向及與該第一方向交叉的方向上移動(dòng)的被雙層化了的兩個(gè)基板保持部作為所述第一基板保持部或所述第二基板保持部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其中， 所述曝光裝置還具備: 設(shè)有所述引導(dǎo)件的基底構(gòu)件；及 安裝在所述基底構(gòu)件的基準(zhǔn)板，該基準(zhǔn)板具有能夠?qū)⑺龌宀迦氲阶鳛樗龅谝黄毓馕恢眉八龅诙毓馕恢玫?、所述基?zhǔn)板的內(nèi)部的位置的框架形狀， 所述第一基板保持部及所述第二基板保持部以所述基板能夠位移的狀態(tài)對(duì)所述基板進(jìn)行保持， 以所述基準(zhǔn)板的規(guī)定部位與所述第一基板保持部及所述第二基板保持部的規(guī)定部位在保持在該第一基板保持部及該第二基板保持部的各個(gè)所述基板的外周處接觸的狀態(tài)，將該基板配置在所述第一曝光位置及所述第二曝光位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中， 所述曝光裝置還具備: 設(shè)有所述引導(dǎo)件的基底構(gòu)件；及 安裝在所述基底構(gòu)件的基準(zhǔn)板，該基準(zhǔn)板具有能夠?qū)⑺龌宀迦氲阶鳛樗龅谝黄毓馕恢眉八龅诙毓馕恢玫?、所述基?zhǔn)板的內(nèi)部的位置的框架形狀， 所述第一移動(dòng)部及所述第二移動(dòng)部各自構(gòu)成為能夠使所述第一基板保持部及所述第二基板保持部沿著所述第一方向移動(dòng)， 所述第一基板保持部及所述第二基板保持部以所述基板能夠位移的狀態(tài)對(duì)所述基板進(jìn)行保持， 以所述基準(zhǔn)板的規(guī)定部位與所述第一基板保持部及所述第二基板保持部的規(guī)定部位在保持在該第一基板保持部及該第二基板保持部的各個(gè)所述基板的外周處接觸的狀態(tài)，將該基板配置在所述第一曝光位置及所述第二曝光位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的曝光裝置，其中， 在所述基準(zhǔn)板上形成彼此嵌合的一對(duì)定位結(jié)構(gòu)中的一方， 在所述第一基板保持部及所述第二基板保持部中的比分別保持在該第一基板保持部及該第二基板保持部的所述基板靠外側(cè)的位置形成所述定位結(jié)構(gòu)中的另一方， 保持在所述第一基板保持部及所述第二基板保持部的所述基板以所述一對(duì)定位結(jié)構(gòu)嵌合的狀態(tài)配置在所述第一曝光位置及所述第二曝光位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置還具備檢測(cè)部，該檢測(cè)部構(gòu)成為能夠沿著所述第二方向移動(dòng)，對(duì)配置在所述第一曝光位置及所述第二曝光位置的所述基板的位置及形狀中的至少一方進(jìn)行檢測(cè)，所述曝光部基于與所述檢測(cè)部的檢測(cè)結(jié)果對(duì)應(yīng)地修正后的曝光數(shù)據(jù)而進(jìn)行所述曝光。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其中， 所述引導(dǎo)件作為兼用于所述曝光頭的沿著所述第二方向的移動(dòng)和所述檢測(cè)部的沿著所述第二方向的移動(dòng)這兩者的引導(dǎo)件而設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中， 所述曝光裝置還具備: 第一輸送部，其用于輸送所述基板； 第二輸送部，其用于在所述第一輸送部與所述第一待機(jī)位置之間輸送所述基板；及 第三輸送部，其用于在所述第一輸送部與所述第二待機(jī)位置之間輸送所述基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中， 所述曝光裝置還具備: 測(cè)定部，其對(duì)所述曝光頭與配置在所述第一曝光位置及所述第二曝光位置的所述基板的所述曝光面之間的距離進(jìn)行測(cè)定；及 第三移動(dòng)部，其使所述曝光頭沿著所述第一方向移動(dòng)； 所述第三移動(dòng)部與所述測(cè)定部的測(cè)定結(jié)果對(duì)應(yīng)地調(diào)節(jié)所述曝光頭與所述曝光面之間的距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中， 所述曝光頭具有多個(gè)曝光單元。
11.一種曝光方法，該曝光方法利用曝光裝置對(duì)基板進(jìn)行曝光，其中， 所述曝光方法包括: 第一工序，在該第一工序中，準(zhǔn)備曝光裝置，該曝光裝置設(shè)定有第一曝光位置和第二曝光位置，該第一曝光位置供所述基板以該基板的曝光面朝向第一方向的狀態(tài)配置，該第二曝光位置供所述基板以如下狀態(tài)配置，該狀態(tài)是所述基板的曝光面朝向所述第一方向的狀態(tài)，且是所述基板的曝光面與配置在所述第一曝光位置的所述基板的所述曝光面在同所述第一方向正交的第二方向上并列的狀態(tài)，該曝光裝置具備能夠沿著所述第二方向在所述第一曝光位置與所述第二曝光位置之間移動(dòng)的曝光頭，并通過所述曝光頭的沿著所述第二方向的移動(dòng)對(duì)配置在所述第一曝光位置的所述基板和配置在所述第二曝光位置的所述基板進(jìn)行選擇性曝光；第二工序，在該第二工序中，在對(duì)配置在所述第一曝光位置的第一基板的曝光處理結(jié)束之前，將與第一基板不同的第二基板配置在所述第二曝光位置；及 第三工序， 在該第三工序中，在對(duì)配置在所述第二曝光位置的所述第二基板的曝光處理結(jié)束之前，將與所述第二基板不同的第三基板配置在所述第一曝光位置。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103488055SQ201310228361
【公開日】2014年1月1日 申請(qǐng)日期:2013年6月8日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月12日
【發(fā)明者】三宅健, 高木俊博 申請(qǐng)人:三榮技研股份有限公司