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提供具有和化學(xué)蝕刻有關(guān)的高硬度和低慣性的鏡子的系統(tǒng)和方法與流程

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提供具有和化學(xué)蝕刻有關(guān)的高硬度和低慣性的鏡子的系統(tǒng)和方法與流程

技術(shù)特征:
1.一種制造用在受限旋轉(zhuǎn)電機(jī)系統(tǒng)中的鏡子的方法,所述方法包括下述步驟:提供包括至少一個(gè)壁部分的鈹鏡子結(jié)構(gòu);將所述至少一個(gè)壁部分暴露在液體蝕刻劑中,從而對(duì)所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)進(jìn)行化學(xué)銑削,以及以控制的速率將所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)從所述液體蝕刻劑中抽出以使得所述至少一個(gè)壁部分形成錐形壁。2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述液體蝕刻劑包括氫氟酸(HF)。3.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述液體蝕刻劑包括硝酸(HNO3)。4.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述方法包括將掩模應(yīng)用在保護(hù)區(qū)域上以阻止所述保護(hù)區(qū)域被蝕刻的步驟。5.如權(quán)利要求4所述的方法,其中所述保護(hù)區(qū)域?yàn)樗鲧R子的前反射面。6.如權(quán)利要求1所述的方法,其中當(dāng)所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)達(dá)到目標(biāo)減少重量時(shí),將所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)從所述液體蝕刻劑中移出。7.如權(quán)利要求1所述的方法,其中將所述至少一個(gè)壁部分暴露在液體蝕刻劑中的步驟包括在包含所述液體蝕刻劑的槽中提供所述鈹鏡子結(jié)構(gòu),其中將所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)從所述液體蝕刻劑中抽出的步驟包括將所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)從所述槽中抽出,并且其中所述方法進(jìn)一步包括攪動(dòng)包括所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)和所述液體蝕刻劑的所述槽的步驟。8.如權(quán)利要求7所述的方法,其中所述方法進(jìn)一步包括控制包括所述鈹鏡子結(jié)構(gòu)和所述液體蝕刻劑的所述槽的攪動(dòng)的速率的步驟。9.一種由權(quán)利要求1的方法形成的用在受限旋轉(zhuǎn)電機(jī)系統(tǒng)中的鏡子。
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