光刻術中輻射束斑的位置測量的制作方法
【專利摘要】一種用于光刻設備的輻射斑測量系統(tǒng)，所述系統(tǒng)具有目標(40)，光刻設備的輻射系統(tǒng)可以將輻射斑投影在目標上用于測量過程，所述目標具有測量目標(42)。所述系統(tǒng)還包括用以檢測來自多個斑之一的輻射的輻射檢測器(41)和用以接收來自輻射檢測器的信號并確定輻射斑相對于輻射斑期望位置的位置的控制器(46)。
【專利說明】光刻術中輻射束斑的位置測量
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]本申請要求于2011年3月29日遞交的美國臨時申請61 / 468，852的權益，該文獻以引用的方式整體并入本文。
【技術領域】
[0003]本發(fā)明涉及一種光刻設備、一種測量輻射束斑位置的方法、一種制造器件的方法以及一種用于光刻設備的輻射檢測器系統(tǒng)。
【背景技術】
[0004]光刻設備是施加期望的圖案到襯底或一部分襯底上的機器。光刻設備可以用于例如集成電路(1C)、平板顯示器以及具有精細特征的其它裝置或結構的制造中。在傳統(tǒng)的光刻設備中，可以將稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于產生對應于1C、平板顯示器或其它裝置的單層的電路圖案?？梢詫⑦@一圖案轉移到襯底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如經由成像將所述圖案轉移到在所述襯底上設置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。
[0005]除了電路圖案，圖案形成裝置還可以用于產生其它圖案，例如彩色濾光片圖案或點矩陣。替代傳統(tǒng)的掩模，圖案形成裝置可以包括圖案形成陣列，該圖案形成陣列包括產生電路或其它可應用圖案的獨立可控元件的陣列。與傳統(tǒng)的基于掩模的系統(tǒng)相比，這樣的“無掩?！毕到y(tǒng)的優(yōu)點是，可以更加快速地設置和/或更換圖案，且成本較小。
[0006]因此，無掩模系統(tǒng)包括可編程圖案形成裝置(例如空間光調制器、對比度裝置等)。使用獨立可控元件的陣列對可編程圖案形成裝置進行(例如電子或光學地)編程，用于形成期望的圖案化的束?？删幊虉D案形成裝置的類型包括微反射鏡陣列、液晶顯示器(LCD)陣列、光柵光閥陣列、自發(fā)射對比度裝置陣列等。

【發(fā)明內容】

[0007]無掩模光刻設備例如可以設置有用以在襯底的目標部分上形成圖案的光學裝置列。光學裝置列可以設置有:配置成發(fā)射束的自發(fā)射對比度裝置和配置成將束的至少一部分投影到目標部分上的投影系統(tǒng)。所述設備可以設置有致動器，該致動器相對于襯底移動光學裝置列或其一部分。由此，所述束可以相對于襯底移動，并且可選地，襯底相對于所述束移動。通過在移動期間切換自發(fā)射式對比度裝置的“開”或“關”，可以在襯底上產生圖案。
[0008]在如上所述的光刻設備中，所述設備可以包括:用于提供多個輻射束的可編程圖案形成裝置，例如自發(fā)射式對比度裝置；和投影系統(tǒng)，其可以將多個輻射束投影到襯底上以形成相應的輻射斑。在使用這種設備的光刻過程中，期望幫助確保精確地形成被投影到襯底上的圖像。
[0009]在通過在自發(fā)射式對比度裝置被“打開”或“關閉”的同時將多個輻射斑投影到襯底上不同部位來形成圖像的光刻過程的情形中，例如，圖像的信息的精確度可以受到輻射束在襯底上的指向或方向的精確度的影響。輻射束在襯底上的指向或方向的精確度可以影響與輻射束對應的每一個輻射斑被投影所在的部位。因此，一個或更多個輻射束的方向或指向的角度的誤差可以導致襯底上形成的圖像的變形。
[0010]因此，期望例如提供一種系統(tǒng)，其可以減小輻射束的方向或指向的角度的誤差的影響。
[0011]根據本發(fā)明的實施例，提供一種光刻設備，包括:
[0012]可編程圖案形成裝置，配置成提供多個輻射束；
[0013]投影系統(tǒng)，配置成將多個輻射束投影到襯底上以形成相應的輻射斑；和
[0014]福射斑測量系統(tǒng)，包括:
[0015]目標，輻射斑可以被投影到所述目標上用于斑測量過程，所述目標包括測量目標；
[0016]輻射檢測器，配置成檢測來自已經被投影到測量目標上的輻射斑中的一個輻射斑的福射；和
[0017]控制器，配置成接收來自輻射檢測器的信息，并且基于所述信息至少確定輻射斑在基本上平行于目標的上表面的平面內相對于在目標上的輻射斑的期望位置的位置。
[0018]根據本發(fā)明的一個實施例，提供一種用于測量在光刻設備中輻射束斑位置的方法，所述光刻設備包括用以提供多個輻射束的可編程圖案形成裝置和用以將所述多個輻射束投影到襯底上以形成相應的輻射斑的投影系統(tǒng)，所述方法包括步驟:
[0019]將所述輻射斑投影到包括測量目標的目標上；
[0020]使用輻射檢測器以檢測來自已經被投影到測量目標上的輻射斑中的一個的輻射；和
[0021]基于來自輻射檢測器的信息至少確定輻射斑在基本上平行于目標的上表面的平面內相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0022]根據本發(fā)明的一個實施例，提供一種器件制造方法，包括:
[0023]使用此處所述的方法在光刻設備中相對于對應的期望位置測量多個輻射束中的至少一個輻射束的輻射束斑位置；和
[0024]在將多個輻射束投影到襯底上的同時使用所確定的斑位置控制光刻設備的參數。
[0025]根據本發(fā)明的一個實施例，提供一種用于光刻設備的輻射檢測器，包括:
[0026]輻射檢測器，配置成檢測輻射；
[0027]襯底臺，配置成支撐襯底，其中所述輻射檢測器在襯底臺中或襯底臺上面；
[0028]輻射檢測器對準標記，相對于襯底臺或相對于輻射檢測器在空間上固定；
[0029]輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，配置成檢查輻射檢測器對準標記并基于輻射檢測器對準標記的檢查來確定輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置；和
[0030]致動器系統(tǒng)，配置成控制輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置，使得輻射檢測器能夠在不同位置檢測輻射。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]將僅通過示例并參照示意的附圖描述本發(fā)明的實施例，在附圖中相同的參考標記可以表示相同的或功能類似的元件，并且在附圖中:[0032]圖1顯示根據本發(fā)明的實施例的光刻設備的一部分；
[0033]圖2顯示根據本發(fā)明的實施例的圖1的光刻設備的一部分的俯視圖；
[0034]圖3顯示根據本發(fā)明的實施例的光刻設備的一部分的高度示意性透視圖；
[0035]圖4顯示根據本發(fā)明的實施例通過圖3的光刻設備在襯底上進行的投影的示意俯視圖；
[0036]圖5和6分別示出根據本發(fā)明的實施例的輻射斑測量系統(tǒng)的布置的平面圖和剖視圖；
[0037]圖7示出根據本發(fā)明的實施例的斑測量系統(tǒng)的布置的一部分；
[0038]圖8示出在使用如圖7所示的布置期間可以在圖像傳感器中形成的圖像；
[0039]圖9示出根據本發(fā)明的實施例的輻射斑測量系統(tǒng)的布置的一部分；和
[0040]圖10、11和12示出可以與圖9中示出的布置一起使用的本發(fā)明的不同實施例的測量目標。
【具體實施方式】
[0041]圖1示意地示出光刻設備的一部分的示意性的側向剖視圖。在該實施例中，光刻設備具有在X-Y平面內基本上靜止的獨立可控元件，如下面進一步討論的，但是這不是必須的。光刻設備I包括用以保持襯底的襯底臺2和用以在達6個自由度上移動襯底臺2的定位裝置3。襯底可以是涂覆有抗蝕劑的襯底。在一個實施例中，襯底是晶片。在一個實施例中，襯底是多邊形(例如矩形)襯底。在一個實施例中，襯底是玻璃板。在一個實施例中，襯底是塑料襯底。在一個實施例中，襯底是箔片(foil)。在一個實施例中，光刻設備適于棍到棍(roll-to-roll)制造。
[0042]光刻設備I還包括多個獨立可控的自發(fā)射式對比度裝置4，配置成發(fā)射多個束。在一個實施例中，自發(fā)射式對比度裝置4是輻射發(fā)射二極管，例如發(fā)光二極管(LED)、有機LED (OLED)、聚合物LED (PLED)，或激光二極管(例如，固態(tài)激光器二極管)。在一實施例中，每一獨立可控元件4是藍紫激光二極管(例如Sanyo型號n0.DL-3146-151)。這樣的二極管可以由諸如Sanyo,Nichia,Osram和Nitride等公司供應。在一實施例中，二極管發(fā)射例如具有約365nm或約405nm的波長的輻射。在一實施例中，二極管可以提供從0.5-200mff的范圍選出的輸出功率。在一實施例中，激光二極管(裸管芯)的尺寸是從100-800微米的范圍選出的。在一實施例中，激光二極管具有從0.5-5微米2的范圍選出的發(fā)光面積。在一實施例中，激光二極管具有從5-44度的范圍選出的發(fā)散角。在一實施例中，二極管具有用以提供大于或等于大約6.4x108W / (m2.sr)的總的亮度的配置(例如，發(fā)光面積、發(fā)散角、輸出功率等)。
[0043]自發(fā)射式對比度裝置4布置在框架5上并且可以沿Y方向和/或X方向延伸。雖然示出了一個框架5，但是光刻設備可以具有多個框架5，如圖2所示。在框架5上還布置有透鏡12?？蚣?在X-Y平面中是大致靜止的，并因此自發(fā)射式對比度裝置4和透鏡12在X-Y平面中是大致靜止的?？梢酝ㄟ^致動器7沿著Z方向移動框架5、自發(fā)射式對比度裝置4以及透鏡12?？商娲鼗蚋郊拥?，可以通過與該特定的透鏡12相關的致動器沿著Z方向移動透鏡12。可選地，每個透鏡12可以設置有致動器。
[0044]自發(fā)射式對比度裝置4可以配置成發(fā)射束，投影系統(tǒng)12、14和18可以配置成將束投影到襯底的目標部分上。自發(fā)射式對比度裝置4和投影系統(tǒng)形成光學裝置列。光刻設備I可以包括用于相對于襯底移動光學裝置列或其一部分的致動器(例如電機11)。在其上布置有場透鏡14和成像透鏡18的框架8可以借助于致動器旋轉。場透鏡14和成像透鏡18的組合形成了可移動的光學裝置9。在使用中，框架8圍繞其自身的軸線10旋轉，例如沿著由圖2中的箭頭顯示的方向旋轉。通過使用致動器(例如電機11)使框架8圍繞軸線10旋轉。另外，可以通過電機7使框架8沿著Z方向移動，使得可移動的光學裝置9可以相對于襯底臺2移位。
[0045]孔結構13其中具有孔，孔結構13可以定位在透鏡12的上方且在透鏡12和自發(fā)射式對比度裝置4之間。孔結構13可以限制透鏡12、相關聯(lián)的自發(fā)射式對比度裝置4的衍射效應、和/或鄰近的透鏡12 /自發(fā)射式對比度裝置4的衍射效應。
[0046]所示出的設備可以通過旋轉框架8和同時在光學裝置列的下面移動襯底臺2上的襯底而被使用。在透鏡12、14和18大致彼此對準時，自發(fā)射式對比度裝置4可以發(fā)射束穿過這些透鏡。通過移動透鏡14和18，束在襯底上的像被在襯底的一部分之上進行掃描。通過同時地在光學裝置列的下面移動襯底臺2上的襯底，接收到自發(fā)射式對比度裝置4的圖像的襯底部分也移動。通過在控制器的控制之下高速地接通和/或關斷自發(fā)射式對比度裝置4(例如，在其被關斷時，沒有輸出或具有低于閾值的輸出；在其被接通時，具有高于閾值的輸出)，可以在襯底上的抗蝕劑層中對期望的圖案進行成像，其中控制器用于控制光學裝置列或其一部分的旋轉、控制自發(fā)射式對比度裝置4的強度以及控制襯底的速度。
[0047]圖2示出具有自發(fā)射式對比度裝置4的圖1的光刻設備的示意性俯視圖。如同圖1中顯示的光刻設備I那樣，光刻設備I包括用于保持襯底17的襯底臺2、用于在達6個自由度上移動襯底臺2的定位裝置3、用于確定自發(fā)射式對比度裝置4和襯底17之間的對準以及用于確定襯底17是否相對于自發(fā)射式對比度裝置4的投影處于水平的對準/水平傳感器19。如圖所示，襯底17具有矩形形狀，然而，另外或可替代地，可以處理圓形的襯底。
[0048]自發(fā)射式對比度裝置4布置在框架15上。自發(fā)射式對比度裝置4可以是發(fā)射輻射二極管，例如激光二極管，例如藍紫激光二極管。如圖2所示，自發(fā)射式對比度裝置4可以布置到在X-Y平面中延伸的陣列21中。
[0049]所述陣列21可以是細長的線。在一實施例中，所述陣列21可以是自發(fā)射式對比度裝置4的一維陣列。在一實施例中，所述陣列21可以是自發(fā)射式對比度裝置4的兩維陣列。
[0050]可以提供可旋轉框架8，其可以沿著由所述箭頭顯示的方向旋轉。旋轉框架可以設置有透鏡14、18(如在圖1中所示)，以提供每個自發(fā)射式獨立對比度裝置4的圖像。所述設備可以設置有致動器，用于相對于襯底旋轉包括框架8和透鏡14、18的光學裝置列。
[0051]圖3示出在其周界上設置有透鏡14、18的旋轉框架8的高度示意的透視圖。多個束(在本示例中是10個束)入射到透鏡之一上并被投影到由襯底臺2保持的襯底17的目標部分上。在一個實施例中，所述多個束沿一直線布置。借助于致動器(未示出)，可以圍繞軸線10旋轉可旋轉框架。由于可旋轉框架8的旋轉，束將入射到相繼的透鏡14、18上(場透鏡14和成像透鏡18)，并且將入射到每一個相繼的透鏡，被偏轉，由此以便沿襯底17的表面的一部分行進，下文將參照圖4更詳細地介紹。在一個實施例中，通過相應的源，即自發(fā)射式對比度裝置，例如激光二極管(圖3中未示出)產生每個束。在如圖3所示的布置中，通過分段反射鏡30偏轉束并使得束聚集到一起以便減小束之間的距離，由此能夠使得大量的束被通過同一透鏡投影并實現下面將要討論的分辨率要求。
[0052]隨著可旋轉框架的旋轉，束入射到相繼的透鏡上，并且每一次一透鏡由束照射，束入射到透鏡表面上的多個位置移動。因為束根據束入射到透鏡上的位置而被不同地投影到襯底上(利用例如不同的偏轉)，因此束(當到達襯底時)將使用下面的透鏡的每個通道執(zhí)行掃描運動。參照圖4進一步解釋這個原理。圖4示出可旋轉框架8的一部分的高度示意性俯視圖。第一組束用BI表示，第二組束用B2表示，第三組束用B3表示。每組束被投影通過可旋轉框架8的相應的透鏡組14、18。隨著可旋轉框架8旋轉，束BI在掃描運動中被投影到襯底17上，由此掃描區(qū)域A14。類似地，束B2掃描區(qū)域A24，束B3掃描區(qū)域A34。在通過相應的致動器旋轉可旋轉框架8的同時，襯底17和襯底臺沿方向D移動，這在圖2中表示為沿X軸線，由此在區(qū)域A14、A24、A34中基本上垂直于束的掃描方向。由于通過第二致動器沿方向D移動(例如，襯底臺通過相應的襯底臺電機的移動)，在束被通過可旋轉框架8的相繼的透鏡投影束時該束的相繼的掃描被投影，從而基本上彼此鄰接，由此得到束BI的每個相繼掃描的基本上鄰接的區(qū)域All、A12、A13、A14(區(qū)域All、A12、A13之前被掃描，A14如圖4所示被當前掃描)，得到束B2的每個相繼掃描的區(qū)域A21、A22、A23、A24(區(qū)域A21、A22、A23之前被掃描，A24如圖4所示被當前掃描)并得到束B3的每個相繼掃描的區(qū)域A31、A32、A33和A34(區(qū)域A31、A32、A33之前被掃描，A34如圖4所示被當前掃描)。由此，在旋轉可旋轉框架8同時，襯底沿方向D的移動可以覆蓋襯底表面的區(qū)域A1、A2以及A3。多個束投影通過同一透鏡允許在較短的幀內處理整個襯底(在可旋轉框架8的同一旋轉速度條件下)，因為對于每一次透鏡的通過，多個束使用每個透鏡掃描襯底，由此允許對于相繼的掃描沿方向D的位移增加。從不同角度看，對于給定的處理時間，當通過同一透鏡將多個束投影到襯底上時，可旋轉框架的旋轉速度可以減小，由此可以減小由于高的旋轉速度帶來的例如可旋轉框架的變形、磨損、振動或紊流等效應。在一個實施例中，多個束與透鏡14、18的旋轉的切向成角度地(或相對于該切向傾斜地)布置，如圖4所示。在一個實施例中，多個束布置成使得每個束與相鄰的束的掃描路徑重疊或鄰接。
[0053]可以在容差的放寬中發(fā)現通過同一透鏡每次投影多個束的方面的進一步的效果。由于透鏡的容差(定位、光學投影等)，相繼的區(qū)域All、A12、A13、A14(和/或區(qū)域A21、A22、A23以及A24和/或區(qū)域A31、A32、A33和A34)的位置可能顯示相對于彼此的一定程度的定位誤差。因此，相繼的區(qū)域A11、A12、A13、A14之間的一定程度的重疊可能是需要的。在例如一個束的重疊10%的情況下，處理速度可以因此比單個束每次通過同一透鏡的情形同樣減小10%。在每次有5個或更多個束被通過同一透鏡投影的情形中，對于每5個或更多個投影線來說將提供相同的10%的重疊(類似地參照上面的一個束的示例)，因此將總的重疊減小大約5倍或更多倍至2%或更少，由此對總的處理速度具有明顯更低的影響。類似地，投影至少10個束可以將重疊減小大約10倍。因而，可以通過將多個束每次通過同一透鏡投影的特征來減小容差對襯底的處理時間的影響。附加地或替換地，可以允許更大的重疊(因而更大的容差帶)，因為在將多個束每次通過同一透鏡投影的情況下，其對處理的影響低。
[0054]替換地或附加地，每次經由同一透鏡投影多個束，可以使用隔行掃描技術，但是這種技術可能需要透鏡之間的相當的更嚴厲的匹配。因此，經由多個透鏡中的同一個透鏡每次投影到襯底上的至少兩個束具有相互的間隔，并且光刻設備可以布置成操作第二致動器以便相對于光學裝置列移動襯底，從而使得該束的隨后的投影以所述間隔被投影。
[0055]為了減小在如圖4所示的方向D上的組中的相繼的束之間的距離(由此，例如實現方向D上更高的分辨率)，這些束可以在方向D上相對于彼此斜對角地布置。通過在光學路徑上設置分段反射鏡30可以進一步減小所述間隔，反射鏡30的每個段用以反射這些束中的相應的一個，這些段布置成相對于入射到反射鏡上的多個束之間的間隔減小被反射鏡反射的多個束之間的間隔。這樣的效果也可以通過多個光纖實現，每個束入射到多個光纖中的對應的一個，光纖布置成沿光學路徑相對于光纖上游的束之間的間隔減小光纖下游的束之間的間隔。
[0056]此外，通過使用具有多個輸入的集成的光學波導回路可以實現這樣的效果，每個輸入用于接收多個束中的相應的一個。集成的光學波導回路被布置成沿光學路徑相對于集成的光學波導回路上游的束之間的間隔減小集成的光學波導回路下游的束之間的間隔。
[0057]可以提供用于控制被投影到襯底上的圖像的聚焦的系統(tǒng)?？梢栽O置該布置以調節(jié)通過如上所述的在一種布置中的光學裝置列的部分或全部來投影的圖像的聚焦。
[0058]為了減小將輻射的斑投影到襯底上以便形成圖像的輻射束的指向或方向誤差的影響，光刻設備可以配置成調節(jié)光刻過程中一個或更多個參數，例如用于在襯底上形成斑的輻射束的脈沖的時序、襯底相對于投影系統(tǒng)的位置和/或投影系統(tǒng)的移動部件的位置。
[0059]在一個實施例中，為了提供這樣的補償系統(tǒng)，確定將要實施的校正。因此，在本發(fā)明的一個實施例中，提供一種系統(tǒng)以確定投影到襯底上的輻射斑的位置。來自這種系統(tǒng)的數據可以不僅使得能夠補償用以在襯底上提供輻射斑的輻射束的指向或方向誤差，而且能夠用以補償如上所述的由襯底和投影系統(tǒng)之間的相對移動的時序引入的誤差和/或由輻射束的脈沖的時序誤差引入的誤差和/或由投影系統(tǒng)內的任何移動部件的移動的誤時引入的誤差。
[0060]因此，在本發(fā)明的一個實施例中，提供一種輻射斑測量系統(tǒng)，用以確定輻射斑相對于期望位置的位置。例如，可以針對于臨時靜止的輻射斑或針對于用以掃描跨過襯底的輻射斑執(zhí)行所述確定。在后一種情形中，所述系統(tǒng)可以相對于輻射斑的期望的掃描來確定輻射斑的實際掃描，例如在掃描過程中在一個或更多個情況下即時地相對于輻射斑的期望的位置確定輻射斑的實際的位置。
[0061]圖5和6示出根據本發(fā)明一個實施例的輻射斑測量系統(tǒng)的布置。如圖所示，輻射斑測量系統(tǒng)包括目標板40和輻射檢測器41。目標板40可以安裝至襯底臺2，其配置成支撐襯底17。目標板40可以例如安裝至襯底臺2的上表面，使得目標板40的上表面基本上平行于支撐在襯底臺2上的襯底17的上表面。
[0062]在附加的或替換的布置中，目標板40可以安裝至獨立的臺。在這樣的布置中，可以在光刻設備內部與其他過程同時執(zhí)行輻射斑測量，例如裝載襯底至襯底臺/從襯底臺卸載襯底。
[0063]如圖5所示，目標板40可以是細長的。在這樣的實施方式中，目標板可以布置成沿襯底臺2的一側延伸。這對于上述的光刻設備的布置可以是有益的，其中相對于一個或更多個光學裝置列，可以提供多個光學裝置列以便使得在單次通過襯底17期間能夠跨過襯底17整個寬度形成圖案。在這種情況下，目標板40也可以延伸跨過所述一個或更多個光學裝置列的整個寬度。因此，由所述一個或更多個光學裝置列生成的全部輻射斑的位置的測量可以相對于所述一個或更多個光學裝置列在目標板40的單次通過中執(zhí)行。
[0064]目標板40包括一個或更多個測量目標42，輻射斑可以被投影到測量目標42上以便執(zhí)行斑測量過程。具體地，在細長的且沿襯底臺2的一邊延伸的目標板40的布置中，多個測量目標42可以沿細長方向沿目標板分布。
[0065]輻射檢測器41可以布置成使得其檢測來自已經被投影到測量目標42之一的輻射斑之一的輻射。例如，如圖6所示，目標板40可以是透射型的，在這種情況下，輻射檢測器41布置在目標板40的與投影系統(tǒng)的相對側上。因此，輻射檢測器41可以檢測來自已經被投影到測量目標42之一上并透射通過目標板40的輻射斑的輻射。
[0066]在一個實施例中，可以提供反射目標板40。在這樣的布置中，一個或更多個測量目標42可以配置成反射來自被投影到測量目標上的輻射斑的輻射。在這種情況下，輻射檢測器41可以布置在目標板40的與投影系統(tǒng)相同的一側。在一個實施例中，福射檢測器41可以被安裝或集成到投影系統(tǒng)。在具有多個光學裝置列的光刻設備的布置中，輻射檢測器可以設置為每個光學裝置列的一部分。
[0067]如圖6所示，致動器系統(tǒng)43可以設置并布置成相對于目標板40移動輻射檢測器41。因此，輻射檢測器41可以被移動到多個不同的位置以便檢測來自已經被投影到相應的多個不同測量目標42上的輻射斑的輻射。因此，單個輻射檢測器41可以與目標板40的每一個測量目標42結合使用，以便檢查由投影系統(tǒng)提供的每個輻射斑。
[0068]替換地，多個輻射檢測器41的每一個可以與相應的致動器系統(tǒng)43相關聯(lián)，由此能夠使得多個輻射斑同時經歷斑測量過程。在具有多個光學裝置列的布置中，輻射檢測器41和相關聯(lián)的致動器系統(tǒng)43可以為每個光學裝置列設置。
[0069]替換地或附加地，輻射斑測量系統(tǒng)中的一個或更多個致動器系統(tǒng)43可以配置成控制多個輻射檢測器41的位置。例如，多個輻射檢測器41可以安裝至公共的平臺，并且致動器系統(tǒng)43可以配置成控制平臺的位置。
[0070]在一種布置中，輻射檢測器41可以布置成使得其可以接收來自多個測量目標的輻射。因此，輻射斑可以被掃描跨過多個測量目標，例如在單次掃描中，和獲得每個測量目標的斑位置信息。這可以提供有關任何斑部位偏差原因的附加的信息。
[0071]在一種布置中，一個或更多個輻射檢測器41可以相對于目標板40設置在相應的固定部位。這種一個或更多個固定輻射檢測器41每一個可以配置成接收來自一個或更多個測量目標42的輻射。
[0072]為了確定輻射檢測器41相對于目標板40的位置，例如在輻射檢測器41的位置可以通過致動器系統(tǒng)43控制的布置中，目標板40可以包括多個輻射檢測器對準標記44。光刻設備還可以包括輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，其配置成使用一個或更多個輻射檢測器對準標記44以便確定輻射檢測器41相對于目標板40的位置。
[0073]在一種布置中，照射系統(tǒng)45可以設置成照射一個或更多個輻射檢測器對準標記44，并且輻射檢測器41可以配置成識別通過一個或更多個輻射檢測器對準標記44反射的輻射，以便識別輻射檢測器41相對于目標板40的位置。如圖所示，照射系統(tǒng)45可以設置有輻射檢測器41，使得照射系統(tǒng)45的位置可以通過用于控制輻射檢測器41的位置的致動器系統(tǒng)43控制。在替換的實施例中，照射系統(tǒng)可以相對于目標板40設置在固定位置。[0074]可以提供控制器46以便確定輻射斑的位置。具體地，輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46可以如下面進一步詳細描述的，使用來自輻射檢測器41的信息確定輻射斑的位置?？刂破?6還可以使用輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)的信息(該信息可以如上所述包括來自輻射檢測器41的附加信息)，從而確定福射斑相對于目標板40的位置。在一種布置中，控制器可以配置成使用來自于檢查輻射檢測對準標記的信息，從而估計并在必要時補償輻射檢測器41的任何光學系統(tǒng)的變形。
[0075]控制器46還可以接收來自配置成檢查設置在目標板40上的一個或更多個目標板對準標記48的對準檢查系統(tǒng)47的信息。對準檢查系統(tǒng)可以例如提供與目標板40相對于光刻設備中的一個元件(例如投影系統(tǒng))的位置相關的信息。替換地或附加地，對準檢查系統(tǒng)47可以配置成檢查設置在襯底17上的一個或更多個對準標記49。因此，對準檢查系統(tǒng)可以配置成提供與目標板40相對于襯底17的位置相關的信息。
[0076]雖然在圖6中輻射檢測器對準標記44設置在目標板40上與目標板對準標記48相似的位置，但是這并不是必須的。通常，可以獨立地選擇兩組標記44、48的位置。
[0077]將與目標板40的位置相關的信息提供給控制器46可以使得控制器46能夠計算作為斑測量過程的目標的輻射斑在基本上平行于目標板40的上表面的平面內相對于輻射斑的期望位置的位置。通過計算在輻射斑被投影到目標板40上的時候輻射斑的實際位置和輻射斑的期望位置之間的這種差別，光刻設備可以以反饋或前饋原則補償當在襯底17上形成圖案期間將輻射斑投影到襯底17上時的偏差。
[0078]用以確定輻射斑相對于輻射斑期望位置的位置的輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46可以與用于控制光刻設備操作的控制器分離或與其一部分分離?？刂破?6可以用于控制致動器系統(tǒng)43以控制輻射檢測器的位置。替換地或附加地，可以為致動器系統(tǒng)43設置獨立的控制器。
[0079]在輻射斑測量系統(tǒng)的實施例中，測量目標42可以包括窗口，所述窗口配置成在斑被投影到窗口上時允許輻射斑的圖像被引導至輻射檢測器。例如，在透射型目標板40的情形中，窗口可以是透明部分。對于反射型目標板40，窗口可以是平面反射器。
[0080]在這樣的布置中，輻射檢測器可以包括圖像傳感器，所述圖像傳感器配置成獲取包括輻射斑的圖像的圖像。在這種情況下，控制器46可以基于圖像傳感器的視場中斑的圖像的位置來確定輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0081]圖7示出上述類型的福射斑測量系統(tǒng)的布置。如圖所示，目標板40包括窗口 51,輻射斑52可以投影到窗口 51上。在圖示的布置中，目標板40是透射型的。因此，當輻射斑52被投影到窗口 51上時，其被透射通過目標板40。輻射檢測器包括圖像傳感器53，其可以是例如CCD檢測器。其他圖像傳感器也可以使用。透鏡或透鏡系統(tǒng)54可以設置以將輻射斑52的圖像投影到圖像傳感器53。
[0082]圖8示出在斑測量過程期間可以通過圖像傳感器53檢測的圖像的示例。如圖所示，輻射斑52的圖像55位于圖像傳感器53的視場內?？刂破骺梢曰谳椛浒?2的圖像55在圖像傳感器53的視場內的位置來確定輻射斑52相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0083]如圖7所示，如上所述，目標板40可以設置有一個或更多個輻射檢測器對準標記44，還設置有用以照射輻射檢測器對準標記44的相關聯(lián)的照射系統(tǒng)45。因此，每一個輻射檢測器對準標記44的圖像56還可以被投影到圖像傳感器53上，由此導致輻射檢測器對準標記44的圖像56在圖像傳感器53的視場中是可見的，如圖8所示。
[0084]控制器46可以配置成基于輻射斑52的圖像55在圖像傳感器53的視場內相對于輻射檢測器對準標記44的圖像56的位置的位置來確定輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0085]在一種布置中，提供投影到目標板40上的輻射斑52的輻射束可以是脈沖的。因此，圖像傳感器53可以配置成通過系統(tǒng)的單脈沖形成輻射斑52的圖像55。
[0086]替換地，圖像傳感器53可以集成多個輻射系統(tǒng)的多個脈沖以形成輻射斑52的圖像55。
[0087]在如上所述的提供輻射斑52的輻射束相對于目標板40移動的布置中和/或在檢測器41相對于目標板40移動的布置中，使用輻射系統(tǒng)的多個脈沖可以不顯著地影響圖像傳感器53的視場內形成的輻射斑52的圖像55的品質。這是因為，輻射系統(tǒng)的脈沖可以非常短，例如IOns量級。因此，在輻射系統(tǒng)的有限數量的脈沖范圍上，輻射斑52的圖像55在圖像傳感器53的視場內的移動可以相對小。
[0088]由于相對高強度的輻射束被用于形成投影到目標板40上的輻射斑52，使用一個或更多個這樣相對短的脈沖是可以的。然而，可以期望不使用這樣的高強度的輻射照射輻射檢測器對準標記44。因而，用于輻射檢測器對準標記44的照射系統(tǒng)45可以照射輻射檢測器對準標記44 一時間段，該時間段相當于用于提供投影到目標板40上的輻射斑52的輻射系統(tǒng)的多個脈沖。
[0089]輻射檢測器對準標記44的照射可以在用于提供輻射斑52的輻射系統(tǒng)的一個或更多個脈沖被投影到目標板40的同時進行。替換地，可以在輻射系統(tǒng)的一個或更多個脈沖之前立即或之后立即進行輻射檢測器對準標記44的照射。在后一種情形中，期望確保在輻射檢測器對準標記44的照射時間段與輻射系統(tǒng)的一個或更多個脈沖之間的時間差被減小或最小化。這可以減小或最小化由輻射檢測器對準標記44的圖像56在圖像傳感器53的視場內相對于輻射斑52的圖像55的移動引起的對確定輻射斑52相對于輻射斑的期望位置的位置的精確度的影響。
[0090]圖像傳感器53還可以用于提供與投影到目標板40上的輻射斑52的形狀相關的數據，因為這將在圖像傳感器53的視場內提供的輻射斑52的圖像55的形狀中反映。
[0091]雖然圖7和8示出輻射斑測量系統(tǒng)的布置，其中單個輻射斑52在同一時刻被投影到圖像傳感器53上，但是這并不是必須的。因此，例如，圖像傳感器53可以配置成使得多個輻射斑可以被投影到形成在目標板40上的相應的窗口 51上并同時被投影到圖像傳感器53上。這樣的布置可以同時在圖像傳感器的視場內提供相關聯(lián)的輻射斑的多個圖像。相應地，控制器46可以配置成確定每個輻射斑相對于它們相應的期望位置的位置。
[0092]圖9示出可以用在本發(fā)明另一實施例中的一種斑測量系統(tǒng)的布置。圖示的該布置使用透射型目標板40，但是該布置也可以適于反射型目標板40。
[0093]如圖9所示，輻射斑52被投影到測量目標42上并掃描跨過測量目標42。如下面進一步描述的，來自斑52的輻射經過測量目標42并可以通過合適的透鏡系統(tǒng)61被引導至輻射強度檢測器62，輻射強度檢測器62可以配置成響應來自斑52的、在輻射斑52所投影到的測量目標42的每個部分處通過測量目標42的輻射的總強度。輻射強度傳感器62可以尤其是集成的光電二極管或其他合適的輻射強度傳感器。[0094]雖然在圖9中沒有示出，但是在一種布置中，輻射強度檢測器62和任何相關聯(lián)的透鏡系統(tǒng)61可以配置成接收來自多個測量目標42的輻射。因此，輻射斑52可以相繼地掃描過多個測量目標42，以提供附加的位置信息，如上所述。
[0095]圖10不出測量目標42的布置,其可以與圖9中不出的斑測量系統(tǒng)一起使用。如圖所示，測量目標42包括第一、第二以及第三部分71、72、73。
[0096]測量目標42的第一和第三部分71、73由光柵形成，第二部分72由窗口形成，在透射型目標板40的情形中，窗口以未調制的形式透射來自輻射斑52的輻射至輻射強度傳感器62，即窗口的透射或反射特性不依賴于窗口內的輻射斑52的入射位置。
[0097]在這種布置中，斑測量系統(tǒng)的控制器46配置成控制用于提供輻射斑52的輻射系統(tǒng)，以使得在輻射斑掃描跨過測量目標42的第一和第三部分71、73的時候，輻射斑的強度基本上是恒定的，但是被設定時序為僅在輻射斑52被投影到測量目標42的第二部分72上的時間段期間在參考位置處具有變化的強度。換句話說，可以設定時序以確保在輻射斑52越過測量目標42的第二部分72的邊緣時不使用變化的強度。
[0098]如上所述，輻射可以是脈沖的。在這種情況下，具有恒定強度的輻射束應該被理解為其意思是脈沖的強度是相同的。類似地，提到輻射束的強度產生變化是指脈沖的強度產生變化。
[0099]因此，當輻射斑52掃描跨越測量目標42時，對應于測量目標42的第一、第二以及第三部分71、72、73,福射強度傳感器62接收第一、第二以及第三信號。由于基本上恒定強度的輻射斑52掃描跨過用于形成測量目標42的第一和第三部分71、73的兩個光柵，第一和第三信號將具有變化的強度。當輻射斑52投影通過形成測量目標42的第二部分72的窗口時，由于投影到目標板40的參考位置處的輻射斑52的變化的強度，第二信號也是強度變化的信號。
[0100]輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46可以在輻射斑掃描跨過測量目標42時確定輻射斑52相對于輻射斑52的期望位置的位置。換句話說，控制器46可以確定輻射斑跨過測量目標42的掃描的期望的軌跡和時序相對于實際的軌跡和時序的差別。由此，例如，可以確定用于產生輻射斑52的輻射束的輻射束指向或方向誤差。
[0101]具體地，可以通過第一和第二信號之間的時間差和相位差以及第二和第三信號之間的時間差和相位差來確定在平行于輻射斑52跨過測量目標42的掃描方向的方向74上輻射斑52的期望位置和實際位置之間的偏差。例如，如果輻射斑52的位置沿朝向測量目標的第一部分71和遠離測量目標的第三部分73的方向偏離，則第二信號將比第三信號在時間上更接近第一信號，并且信號之間的相位差可以改變。因此，通過合適的校準，信號的時序和它們的相位差可以用于確定斑位置。信號間的時間差可以提供第一精確度的位置測量，即粗位置測量，而相位差可以提供提高的精確度的位置測量，即精位置測量。
[0102]如圖10所示，可以以與輻射斑52跨過測量目標42的掃描方向74成各自不同的傾斜角形成用于形成測量目標42的第一和第三部分71、73的光柵。因此，輻射斑52在基本上垂直于輻射斑跨過測量目標42的掃描方向74的方向上的偏差導致由輻射斑52跨越通過測量目標42的第一和第三部分71、73得到的第一和第三信號的時序和相位的差異。
[0103]在如圖10所示的布置中，用于形成測量目標42的第一和第三部分71、73的光柵都與輻射斑52跨過測量目標42的掃描方向74布置成大約45°但是傾斜相反。因此，使用合適的校準，輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46可以通過分析在輻射斑52掃描跨過測量目標42時第一和第三信號之間的時間差和相位差來確定輻射斑52在基本上垂直于輻射斑52的掃描方向74的方向上的位置。例如，在圖10示出的布置中，如果輻射斑52的位置朝向頁面的頂部偏離時，第一和第三信號之間的時間差減小。
[0104]雖然在圖10中示出的布置中測量目標42的第二部分72布置在第一和第三部分71、73之間，但這種布置可以是不同的。
[0105]圖11不出可以與圖9中不出的斑測量系統(tǒng)一起使用的測量目標42的另一布置。
[0106]如圖所示，本實施例的測量目標42包括布置在第一組中的第一至第三部分81、81、83，使得當輻射斑52掃描跨越測量目標42時其掃描跨過第一至第三部分81、81、83。如圖所示，測量目標42的第一至第三部分81、81、83中每一個由相應的光柵形成。每個光柵具有相同的節(jié)距。
[0107]圖11中示出的使用測量目標42的輻射斑測量相同的控制器46配置成控制輻射系統(tǒng)，使得在輻射斑52被投影到圖10中示出的測量目標42的第二部分72上時，用于在目標板40上提供輻射斑52的輻射束的強度以類似上面所述的方式變化。然而，當與圖11中示出的測量目標42結合使用時，在輻射斑52掃描跨過測量目標42的整個時間段，輻射束被控制為具有變化的強度。
[0108]如上面參照圖10中示出的測量目標描述的，如果基本上恒定強度的輻射斑52被掃描跨過用于形成測量目標42的部分81、82、83的光柵中的每一個光柵，則通過輻射強度傳感器62檢測到的所形成的輻射強度將是變化的信號。然而，在本布置中，輻射斑52的強度也是變化的。通過相對于用于形成測量目標42的第一至第三部分81、82、83的光柵的節(jié)距適當地設置輻射斑52相對于測量目標42掃描的速度，通過在光柵之上掃描輻射斑52引起的調制頻率可以被設置為與用于提供輻射斑52的輻射束的強度變化的頻率類似。在這種布置中，來自輻射強度傳感器62的與由變化的信號的調制得到的在輻射強度傳感器62處接收的輻射強度對應的信號包括接近DC的低頻率分量。該信號分量的信號強度依賴于通過輻射斑所投影到的光柵引起的調制和輻射束的強度變化的調制之間的相對相位。來自輻射強度傳感器62的信號也可以包括一個或更多個相對高的頻率分量?？梢蕴峁V波算法來抑制高頻率分量。
[0109]通過將測量目標42的第一至第三部分81、82、83的光柵布置成使得每一個部分以與將光柵節(jié)距不同的量與相鄰部分分開，由用于形成測量目標42的第一至第三部分81、82,83中的每一個的光柵實現的調制相對于彼此相位不同。結果，在輻射斑52掃描跨過測量目標42的第一至第三部分81、82、83時，由輻射強度傳感器62輸出的低頻率分量的信號水平可以不同。
[0110]因此，在測量目標42的第一部分81至第二部分82的過渡位置處和/或在測量目標的第二部分82至第三部分83的過渡位置處，從輻射強度傳感器62輸出的低頻率分量的信號水平將改變。通過輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46確定這種過渡點使得輻射斑測量系統(tǒng)能夠確定在福射斑52沿平行于福射斑52的掃描方向的方向74掃描跨過測量目標42時福射斑52相對于其期望位置的近似位置。尤其地，過渡位置的時序可以用于以小于光柵的節(jié)距的精確度確定輻射斑52相對于其期望位置的位置。通過(例如使用合適的校準)由輻射強度傳感器62輸出的信號的低頻率分量的信號水平可以確定輻射斑52相對于其期望位置的位置的更加精確(即在由小于光柵節(jié)距的基于時序的測量限定的范圍內)的確定結果。
[0111]除了輻射束強度的調制和由光柵作用的調制的相對相位以外，由輻射強度62輸出的低頻率分量的信號水平的絕對值可以依賴于附加的因素。然而，通過分析測量目標42的三個不同部分81、82、83的從輻射強度傳感器62輸出的低頻率分量的信號水平可以消除這些其他的因素。
[0112]依賴于測量目標42的絕對位置，測量目標42的兩個部分81、82、83之間的過渡位置之一的位置可以使得來自輻射強度傳感器62的所形成的信號的低頻率分量的強度對于測量目標42的兩個部分是相同的。這可以在每一部分相對于輻射束的調制的相差在來自輻射強度傳感器62的低頻率分量的峰值信號所觀察到的特定相差的兩側上相等地間隔時發(fā)生。在這種情況下，與測量目標42的兩個部分81、82、83相關聯(lián)的信號之間將觀察不到過渡位置。
[0113]然而，因為設置有測量目標42的三個部分81、82、83，每一個部分由與其他的部分相位不同的光柵形成，因此可以確保在輻射斑52掃描跨過測量目標42的三個部分81、82、83時在至少一個過渡位置期間來自輻射強度傳感器62的信號強度存在階躍變化。在一具體的布置中，測量目標42的第二部分82的光柵與布置在兩側上的測量目標42的第一和第三部分81、83的相差可以為45°。因此，可以確保基于至少一個過渡位置的時序執(zhí)行粗位置測量的能力。這可能是期望的，因為基于從輻射強度傳感器輸出的低頻率分量的信號水平的精位置測量可能不能確定超出與光柵節(jié)距對應的范圍的絕對位置。
[0114]如圖11所示，為了確定輻射斑52在基本上垂直于輻射斑52跨過測量目標42的掃描的方向74的方向上的位置，可以提供測量目標42的第二組部分84、85、86。測量目標42的第二組部分84、85、86可以與測量目標42的第一組部分81、82、83對應，但是布置成使得用于形成第二組的光柵布置成與輻射斑52掃描方向74的傾斜角度與第一組光柵與輻射斑52掃描方向74的傾斜角度不同。例如，用于形成第二組的光柵可以布置成與輻射斑52的掃描方向74成大約45°，但是與第一組光柵相反地傾斜。
[0115]通過這樣的布置，以相對于圖10中示出的測量目標42討論的類似的方式，通過粗位置測量情況下的與第一組相關的過渡位置和與第二組相關的過渡位置之間的時間差和通過精位置測量情況下的從輻射強度傳感器62輸出的低頻率分量的信號水平，輻射斑測量系統(tǒng)的控制器4 6可以確定福射斑5 2在基本上垂直于福射斑的掃描方向的方向上的位置。例如，如果在圖11示出的布置中斑52沿朝向頁面的頂部的方向偏離，則使用測量目標42的第一組部分81、82、83測量的位置和使用測量目標42的第二組部分84、85、86測量的位置在時間上將更加靠近。
[0116]相比于圖10中示出的情形，使用如圖11所示的測量目標52的輻射斑測量系統(tǒng)的優(yōu)點在于，由控制器46執(zhí)行的計算可以更簡單。此外，輻射源可以在變化的強度下連續(xù)地操作而不是在連續(xù)強度條件下的操作模式和在對應于輻射斑的特定位置的特定時間處以變化的強度操作的模式(如上所述)之間切換。
[0117]圖12不出測量目標42的另一布置，其可以與例如如圖9所不的福射斑測量系統(tǒng)一起使用。如圖所示，測量目標42包括至少第一狹縫91，其布置成使得輻射斑52掃描跨過狹縫91。狹縫91可以配置成比投影到目標板40上的輻射斑52的寬度窄得多。因此，當輻射斑52跨越狹縫91經過時，在每一時刻，輻射斑的區(qū)域的一小部分被引導至輻射強度傳感器62。
[0118]輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46可以在輻射斑52跨越經過狹縫91時基于來自輻射強度傳感器62的信號的強度輪廓來確定輻射斑52在平行于輻射斑52跨過測量目標42的掃描方向74的方向上相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0119]此外，從輻射強度傳感器62輸出的信號的形狀可以提供指示投影到測量目標42的輻射斑52的形狀的數據。
[0120]在一種布置中，在輻射斑52跨越經過狹縫91時來自輻射強度傳感器62的信號可以被積分。在測量之間可以重設積分。
[0121]如圖12所示，測量目標42可以至少包括第二狹縫92。第一和第二狹縫91、92可以相對于輻射斑52跨越測量目標42的掃描的方向74以不同的各自的傾斜角度布置。因此，對于上述的布置，所確定的從第一狹縫91穿至第二狹縫92的輻射斑52的相對位置可以使得輻射斑測量系統(tǒng)的控制器46能夠確定輻射斑52在基本上垂直于輻射斑52跨越測量目標42的掃描方向74的方向上的位置。具體地，對于如圖12所示的布置，如果輻射斑52沿朝向頁面頂部的方向偏離，則與穿過第一和第二狹縫91、92的輻射斑52相關聯(lián)的信號將更加靠近。
[0122]通過設置相對于輻射斑52跨越測量目標42的掃描方向74成不同的各自的角度的多個狹縫，如圖12所示，可以獲得與輻射斑52的形狀相關的附加信息。
[0123]如上所述的來自輻射斑測量系統(tǒng)的信息可以用于調節(jié)在將輻射束投影到襯底上的后續(xù)過程期間，即在作為器件制造方法的一部分執(zhí)行的后續(xù)過程期間，光刻設備的一個或更多個參數。
[0124]根據器件制造方法，可以通過圖案已經被投影到的襯底制造器件，例如顯示器、集成電路或任何其他對象。
[0125]通過上面的說明書和具體地參照圖6的描述，應該清楚，使用致動器系統(tǒng)43和圖6示出的輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)的優(yōu)點在于，輻射檢測器41可以精確地定位在不同部位。這有助于確保，單個輻射檢測器41可以檢測不同部位處的輻射。這允許在必須在不同部位檢測輻射的情形中使用較少的輻射檢測器或甚至單個輻射檢測器41，由此提供成本優(yōu)勢。因此，在本發(fā)明的一個實施例中，提供一種用于光刻設備的輻射檢測器系統(tǒng)。輻射檢測器系統(tǒng)包括輻射檢測器41，其配置成檢測輻射。輻射檢測器系統(tǒng)還包括襯底臺2，其配置成支撐襯底，其中輻射檢測器41位于襯底臺2中或上面。輻射檢測器系統(tǒng)還包括輻射檢測器對準標記44，其相對于襯底臺2或相對于輻射檢測器41在空間上固定。輻射檢測器系統(tǒng)還包括輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，其配置成檢查輻射檢測器對準標記44并基于輻射檢測器對準標記44的檢查來確定輻射檢測器41相對于襯底臺2或例如目標板40等固定至襯底臺物體的位置。輻射檢測器系統(tǒng)還包括致動器系統(tǒng)43，其配置成控制輻射檢測器41相對于襯底臺2或固定至襯底臺的物體的位置，使得輻射檢測器41可以檢測在不同位置處的輻射。
[0126]根據本發(fā)明的一個實施例，輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)可以包括照射系統(tǒng)45，其配置成照射輻射檢測器對準標記44。輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)還可以包括照射檢測器，其配置成在被照射時檢測來自輻射檢測器對準標記的輻射。
[0127]在一個實施例中，照射系統(tǒng)45相對于輻射檢測器41在空間上固定,輻射檢測器對準標記44相對于襯底臺2在空間上固定，致動器系統(tǒng)43也配置成控制照射系統(tǒng)45相對于襯底臺2或固定至襯底臺的物體的位置。輻射檢測器41還可以用作照射檢測器，由此提供成本優(yōu)勢。然而，照射檢測器可以與輻射檢測器41不同并且相對于輻射檢測器41在空間上固定。這樣的專用的照射檢測器可以在被照射時提供對來自輻射檢測器對準標記的改進的輻射檢測。在這種情況下，致動器系統(tǒng)43可以配置成控制照射檢測器相對于襯底臺2或固定至襯底臺的物體的位置。根據本發(fā)明的一個實施例，輻射檢測器系統(tǒng)包括相對于襯底臺2在空間上固定的多個輻射檢測器對準標記，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)配置成檢查多個輻射檢測器對準標記以基于一個或更多個輻射檢測器對準標記的檢查來確定輻射檢測器41相對于襯底臺2或固定至襯底臺的物體的位置。使用多個輻射檢測器對準標記的優(yōu)點在于，例如其可以擴展可以確定的輻射檢測器41的位置的范圍。附加地或替換地，其可以改善輻射檢測器41的位置的確定(結果)的精確度。
[0128]在一個實施例中，照射系統(tǒng)45相對于襯底臺2在空間上固定，輻射檢測器對準標記44相對于輻射檢測器41在空間上固定。在這種情況下，致動器系統(tǒng)43可以配置成控制輻射檢測器對準標記44相對于襯底臺2或固定至襯底臺的物體的位置。照射檢測器可以相對于襯底臺2在空間上固定。
[0129]輻射檢測器41可以例如是輻射強度檢測器或圖像傳感器。
[0130]在本發(fā)明的一個實施例中，光刻設備包括根據此處描述的本發(fā)明的一個實施例的福射檢測器系統(tǒng)。
[0131]根據本發(fā)明的另一實施例，提供下面的多個實施例:
[0132]1.一種光刻設備,包括:
[0133]可編程圖案形成裝置，配置成提供多個輻射束；
[0134]投影系統(tǒng)，配置成將多個輻射束投影到襯底上以形成相應的輻射斑:和
[0135]輻射斑測量系統(tǒng)，所述輻射斑測量系統(tǒng)包括:
[0136]目標，輻射斑可以被投影到目標上用于斑測量過程，所述目標包括測量目標；
[0137]輻射檢測器，配置成檢測來自已經被投影到測量目標上的輻射斑中的一個的輻射；和
[0138]控制器，配置成接收來自輻射檢測器的信息，并且基于所述信息至少確定輻射斑在目標上在基本上平行于目標的上表面的平面內相對于輻射斑期望位置的位置。
[0139]2.根據實施例1的光刻設備，還包括襯底臺，配置成支撐襯底，其中所述目標在所述襯底臺中或上面。
[0140]3.根據實施例2的光刻設備，其中襯底臺包括配置成接納襯底的上表面，并且所述目標在襯底臺的上表面中或上面的、與配置成接納襯底的區(qū)域鄰近的位置。
[0141]4.根據實施例2或3的光刻設備，其中所述目標沿襯底臺的一側設置，沿該側延伸，該側的至少一部分與配置成接納襯底的襯底臺上的區(qū)域的寬度對應。
[0142]5.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，其中所述目標是細長的并且包括沿其細長方向沿所述目標分布的多個測量目標。
[0143]6.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，其中所述目標還包括目標對準標記；且
[0144]所述光刻設備包括對準檢查系統(tǒng)，配置成檢查在所述目標上的目標對準標記并基于所述目標對準標記的檢查來確定所述目標相對于光刻設備中的另一元件的位置。
[0145]7.根據實施例6所述的光刻設備，其中對準檢查系統(tǒng)配置成檢查設置在襯底上的襯底對準標記并基于目標對準標記和襯底對準標記的檢查來確定目標相對于襯底的位置。
[0146]8.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，還包括致動器系統(tǒng)，所述致動器系統(tǒng)配置成控制輻射檢測器相對于所述目標的位置，使得在不同的相應位置處，其能夠檢測已經被投影到所述目標上的不同測量目標的輻射。
[0147]9.根據實施例8所述的光刻設備，其中所述目標還包括輻射檢測器對準標記；和
[0148]所述光刻設備包括輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，配置成檢查輻射檢測器對準標記和基于輻射檢測器對準標記的檢查來確定輻射檢測器相對于所述目標的位置。
[0149]10.根據實施例9所述的光刻設備，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)包括輻射檢測器和控制器。
[0150]11.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，其中投影系統(tǒng)包括可移動光學元件并且配置成使得對于襯底或所述目標相對于投影系統(tǒng)的給定位置，其能夠在襯底上形成圖像期間或執(zhí)行斑測量過程期間將每個輻射斑分別投影到襯底或目標上的多個部位。
[0151]12.根據實施例11所述的光刻設備，其中所述目標、輻射檢測器和控制器配置成對于所述多個部位，確定所述目標上的輻射斑相對于輻射斑的相應的期望位置的位置。
[0152]13.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，其中投影系統(tǒng)包括多個單元，每個單元用以將多個輻射束投影到襯底上以形成相應的輻射斑:
[0153]多個單元中的每一個包括可移動光學元件并且配置成使得對于襯底或目標相對于投影系統(tǒng)的給定位置，其能夠在襯底上形成圖像期間或執(zhí)行斑測量過程期間分別將每個輻射斑投影到襯底或目標上的多個部位；和
[0154]光刻設備包括與投影系統(tǒng)的多個單元中的每一個相關聯(lián)的相應的輻射檢測器，每個輻射檢測器配置成檢測來自從相應的單元已經被投影到測量目標的輻射斑的輻射。
[0155]14.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，其中所述目標包括透射型測量目標，并且輻射檢測器布置在所述目標的與投影系統(tǒng)的相反側上。
[0156]15.根據實施例1-13中任一項所述的光刻設備，其中所述目標包括反射型測量目標，并且輻射檢測器安裝至投影系統(tǒng)。
[0157]16.根據前述實施例任一項所述的光刻設備，其中測量目標包括窗口，所述窗口允許在斑被投影到所述窗口上時輻射斑的圖像被引導至輻射檢測器；
[0158]輻射檢測器包括配置成獲取包括輻射斑的圖像的圖像的圖像傳感器；和
[0159]控制器配置成基于輻射斑在圖像傳感器的視場中的圖像的位置確定輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0160]17.根據實施例16所述的光刻設備，當引用實施例9或實施例10時，其中通過圖像傳感器獲取的所述圖像包括輻射檢測器對準標記的圖像。
[0161]18.根據實施例16或實施例17所述的光刻設備，其中所述控制器配置成基于通過圖像傳感器獲取的輻射斑的圖像來確定輻射斑的形狀。
[0162]19.根據實施例1-15中任一項所述的光刻設備,其中:
[0163]測量目標包括第一、第二和第三部分，第一和第三部分每一個包括光柵并且第二部分包括窗口，所述窗口配置成允許輻射斑被弓I導至輻射檢測器；[0164]光刻設備配置成使得輻射斑被投影到測量目標上使得其掃描跨過第一、第二以及第三部分；
[0165]輻射檢測器包括輻射強度傳感器，輻射強度傳感器配置成檢測來自被從測量目標引導至輻射檢測器的斑的輻射強度；和
[0166]控制器配置成控制可編程圖案形成裝置，使得用于提供輻射斑的輻射束在其掃描跨過第一和第三部分時具有基本上恒定的強度，并且在輻射斑掃描跨過第二部分時在參照位置處具有變化的強度，以及配置成基于來自輻射檢測器的與被投影到第一、第二以及第三部分上的輻射斑分別對應的第一、第二以及第三信號的相位和/或時序確定輻射斑的位置。
[0167]20.根據實施例19所述的光刻設備，其中控制器配置成基于第一和第二信號之間與第二和第三信號之間的時間差和/或相差的對比確定在基本上平行于輻射斑跨過目標的掃描方向的方向上輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0168]21.根據實施例19或實施例20所述的光刻設備,其中第一和第三部分的光柵設置成與輻射斑跨過所述目標的掃描方向成各自的不同傾斜角；和
[0169]控制器配置成基于第一和第三信號之間的時間差和/或相差確定在基本上垂直于輻射斑跨過所述目標的掃描方向的方向上輻射斑相對于輻射斑期望位置的位置。
[0170]22.根據實施例1-15中任一項所述的光刻設備,其中:
[0171]測量目標包括多個部分，每個部分包括相應的光柵；
[0172]光刻設備配置成使得輻射斑被投影到測量目標上，使得其掃描跨過測量目標的所述多個部分；
[0173]輻射檢測器包括輻射強度傳感器，所述輻射強度傳感器配置成檢測被從測量目標引導至輻射檢測器的斑的輻射強度；
[0174]控制器配置成控制可編程圖案形成裝置使得用于提供輻射斑的輻射束在其被投影到目標上的點處具有以基本上恒定的頻率變化的強度；和
[0175]控制器配置成基于來自輻射檢測器的與被投影在測量目標的多個部分處的輻射斑對應的相應的信號來確定輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
[0176]23.根據實施例22所述的光刻設備，其中:
[0177]多個光柵中的每一個在基本上平行于輻射斑跨過所述目標的掃描方向的方向上測量時具有基本上相同的節(jié)距；
[0178]第一組光柵包括與相應的部分對應的第一、第二以及第三光柵，布置成彼此鄰近，使得第一和第二光柵與第二和第三光柵被以與光柵在基本上平行于輻射斑跨過目標的掃描方向的方向上的節(jié)距不同的距離分開；和
[0179]控制器配置成基于與輻射斑從第一部分行進至第二部分的時刻和/或輻射斑從第二部分行進至第三部分的時刻對應的、來自輻射檢測器的信號水平改變的時序來確定輻射斑在基本上平行于輻射斑跨過所述目標的掃描方向的方向上相對于輻射斑的期望位置的位置的基于時序的測量。
[0180]24.根據實施例22或23所述的光刻設備，其中所述控制器配置成基于在輻射斑被投影到光柵上時的時間期間由輻射檢測器輸出的信號的低頻率分量的信號水平來確定輻射斑在基本上平行于輻射斑跨過目標的掃描方向的方向上相對于輻射斑期望位置的位置的基于強度的測量。
[0181]25.根據實施例24所述的光刻設備，其中輻射斑相對于輻射斑期望位置的位置的基于強度的測量是基于在輻射斑被投影到三個不同光柵時的相應的時間期間由輻射檢測器輸出的信號的低頻率分量的信號水平。
[0182]26.根據實施例24或25所述的光刻設備，當引用實施例23時，其中位置的基于時序的測量被用于粗位置測量，位置的基于強度的測量用于精位置測量。
[0183]27.根據實施例23-26中任一項所述的光刻設備，其中:
[0184]光柵包括以與第一組光柵對應的方式布置的第二組第一、第二以及第三光柵，在第一和第二組中的光柵布置成與輻射斑跨過所述目標的掃描方向成不同的傾斜角；和
[0185]控制器配置成基于在輻射斑跨過第一組光柵的掃描期間和輻射斑跨過第二組光柵的掃描期間位置的基于時序的測量和/或位置的基于強度的測量之間的差異來確定輻射斑在基本上垂直于輻射斑跨過所述目標的掃描方向的方向上相對于輻射斑期望位置的位置。
[0186]28.根據實施例1-15中任一項所述的光刻設備,其中:
[0187]光刻設備配置成使得輻射斑被投影到測量目標上使得其掃描跨過測量目標；
[0188]所述目標包括狹縫，所述狹縫配置成選擇輻射斑的區(qū)域的部份使得該部份被針對于輻射斑相對于測量目標的每個位置引導至輻射檢測器；和
[0189]輻射檢測器包括輻射強度傳感器，用以檢測從測量目標引導至輻射檢測器的來自輻射斑的輻射的強度。
[0190]29.根據實施例28所述的光刻設備，其中測量目標至少包括第一和第二狹縫，第一和第二狹縫布置成使得隨著輻射斑掃描跨過測量目標，輻射斑相繼地掃描跨過每一個狹縫；和
[0191]第一和第二狹縫布置成與輻射斑跨過所述目標的掃描方向成各自的不同傾斜角。
[0192]30.一種用于測量在光刻設備中輻射束斑位置的方法，所述光刻設備包括用以提供多個輻射束的可編程圖案形成裝置和用以將所述多個輻射束投影到襯底上以形成各自的輻射斑的投影系統(tǒng)，所述方法包括步驟:
[0193]將所述輻射斑投影到包括測量目標的目標上；
[0194]使用輻射檢測器以檢測來自已經被投影到測量目標上的輻射斑之一的輻射；和
[0195]基于來自輻射檢測器的信息至少確定輻射斑在基本上平行于目標的上表面的平面內相對于輻射斑期望位置的位置。
[0196]31.一種器件制造方法，包括:
[0197]使用根據實施例30的方法在光刻設備中相對于對應的期望位置測量多個輻射束中的至少一個輻射束的輻射束斑位置；和
[0198]在將多個輻射束投影到襯底上的同時使用所確定的斑位置來控制光刻設備的參數。
[0199]32.一種用于光刻設備的福射檢測器,包括:
[0200]輻射檢測器，配置成檢測輻射；
[0201]襯底臺，配置成支撐襯底，其中所述輻射檢測器在襯底臺中或上面；
[0202]輻射檢測器對準標記，相對于襯底臺或相對于輻射檢測器在空間上固定；[0203]輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，配置成檢查輻射檢測器對準標記并基于輻射檢測器對準標記的檢查來確定輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置；和
[0204]致動器系統(tǒng)，配置成控制輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置，使得輻射檢測器能夠在不同位置檢測輻射。
[0205]33.根據實施例32所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)包括配置成照射輻射檢測器對準標記的照射系統(tǒng)。
[0206]34.根據實施例32或實施例33所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)包括照射檢測器，所述照射檢測器配置成在被照射時檢測來自輻射檢測器對準標記的福射。
[0207]35.根據實施例33或實施例34所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中照射系統(tǒng)相對于輻射檢測器在空間上固定，所述輻射檢測器對準標記相對于襯底臺在空間上固定，并且所述致動器系統(tǒng)配置成控制照射系統(tǒng)相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置。
[0208]36.根據實施例34或實施例35所述的輻射檢測器系統(tǒng)，當引用實施例34時，其中輻射檢測器被用作照射檢測器。
[0209]37.根據實施例34或實施例35所述的輻射檢測器系統(tǒng)，當引用實施例34時，其中所述照射檢測器與輻射檢測器不同并且相對于輻射檢測器在空間上固定，和其中，致動器系統(tǒng)配置成控制照射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置。
[0210]38.根據實施例33或實施例34所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中照射系統(tǒng)相對于襯底臺在空間上固定，輻射檢測器對準標記相對于輻射檢測器在空間上固定，并且致動器系統(tǒng)配置成控制輻射檢測器對準標記相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置。
[0211]39.根據實施例38所述的輻射檢測器系統(tǒng)，當引用實施例34時，其中照射檢測器相對于襯底臺在空間上固定。
[0212]40.根據實施例35至37中任一項所述的輻射檢測器系統(tǒng)，包括相對于襯底臺在空間上固定的多個輻射檢測器對準標記，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)配置成檢查所述多個輻射檢測器對準標記以基于一個或更多個輻射檢測器對準標記的檢查來確定輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置。
[0213]41.根據實施例32至40中任一項所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中輻射檢測器是輻射強度檢測器或圖像傳感器。
[0214]42.一種光刻設備，包括根據實施例32至41中任一項所述的輻射檢測器系統(tǒng)。
[0215]盡管在本文中可以做出具體的參考，將所述光刻設備用于制造集成電路，但應當理解這里所述的光刻設備可以有其他的應用，例如集成光學系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等的制造。本領域技術人員應該理解的是，在這種替代應用的情況中，可以將其中使用的任意術語“晶片”或“管芯”分別認為是與更上位的術語“襯底”或“目標部分”同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進行處理，例如在軌道(例如，一種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上并且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、量測工具或檢驗工具中。在可應用的情況下，可以將此處的公開內容應用于這種和其它襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如以便產生多層1C，使得這里使用的所述術語“襯底”也可以表示已經包含多個已處理層的襯底。
[0216]術語“透鏡”在情況允許的情形中，可以指的是多種類型的光學部件中任一種，包括折射、衍射、反射、磁性、電磁以及靜電光學部件或其組合。
[0217] 上面的說明書是為了說明而不是限制。因此，本領域技術人員應該清楚，在不脫離權利要求限定的范圍的情況下可以對本發(fā)明做出修改。
【權利要求】
1.一種光刻設備，包括: 可編程圖案形成裝置，配置成提供多個輻射束； 投影系統(tǒng)，配置成將多個輻射束投影到襯底上以形成各自的輻射斑；和 輻射斑測量系統(tǒng)，包括: 目標，輻射斑能夠被投影到目標上用于斑測量過程，所述目標包括測量目標； 輻射檢測器，配置成檢測來自已經被投影到測量目標上的輻射斑中的一個的輻射；和 控制器，配置成接收來自輻射檢測器的信息，并且基于所述信息至少確定輻射斑在目標上在基本上平行于目標的上表面的平面內相對于輻射斑的期望位置的位置。
2.根據權利要求1所述的光刻設備，還包括襯底臺，所述襯底臺配置成支撐襯底，其中所述目標在襯底臺中或襯底臺上。
3.根據前述權利要求仟一項所述的光刻設備，其中目標是細長的且包括在其細長方向上沿著目標分布的多個測量目標。
4.根據前述權利要求任一項所述的光刻設備，包括致動器系統(tǒng)，配置成控制輻射檢測器相對于所述目標的位置，使得在不同的相應的位置處，其能夠檢測已經被投影到所述目標上的不同的測量目標上的輻射。
5.根據權利要求4所述的光刻設備，其中所述目標還包括輻射檢測器對準標記；和 光刻設備包括輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，配置成檢查輻射檢測器對準標記并基于輻射檢測器對準標記的檢查 來確定輻射檢測器相對于所述目標的位置。
6.根據前述權利要求任一項所述的光刻設備，其中投影系統(tǒng)包括可移動光學元件并配置成使得對于襯底或目標相對于投影系統(tǒng)的給定位置，其能夠在襯底上形成圖像期間或執(zhí)行斑測量過程期間分別將每個輻射斑投影到襯底或目標上的多個部位上。
7.根據權利要求6所述的光刻設備，其中所述目標、輻射檢測器以及控制器配置成對于多個部位，確定輻射斑在所述目標上相對于輻射斑的對應的期望位置的位置。
8.根據前述權利要求任一項所述的光刻設備，其中投影系統(tǒng)包括多個單元，每一個單元用以將多個輻射束投影到襯底上以形成各自的輻射斑； 多個單元中的每個單元包括可移動光學元件并且配置成使得對于襯底或目標相對于投影系統(tǒng)的給定位置，其能夠在襯底上形成圖像期間或執(zhí)行斑測量過程期間分別將每個輻射斑投影到襯底或目標上的多個部位上；和 光刻設備包括與投影系統(tǒng)的每個單元相關聯(lián)的相應的輻射檢測器，每一個輻射檢測器配置成檢測來自已經被從對應的單元投影到測量目標上的輻射斑的輻射。
9.根據權利要求1-8中仟一項所述的光刻設備，其中所述目標包括反射型測量目標，并且輻射檢測器安裝至投影系統(tǒng)。
10.根據前述權利要求仟一項所述的光刻設備，其中測量目標包括窗口，所述窗口用于在斑被投影到所述窗口上時允許輻射斑的圖像被引導至輻射檢測器； 輻射檢測器包括圖像傳感器，所述圖像傳感器配置成獲取包括輻射斑的圖像的圖像；和 控制器配置成基于輻射斑的圖像在圖像傳感器的視場中的位置來確定輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
11.根據當引用權利要求5時的權利要求10所述的光刻設備，其中通過圖像傳感器獲取的圖像包括輻射檢測器對準標記的圖像。
12.根據權利要求10或11所述的光刻設備，其中所述控制器配置成基于通過圖像傳感器獲取的輻射斑的圖像來確定輻射斑的形狀。
13.根據權利要求1-9中任一項所述的光刻設備,其中: 測量目標包括第一、第二以及第三部分，第一和第三部分每一個包括光柵并且第二部分包括窗口，所述窗口配置成允許輻射斑被引導至輻射檢測器； 光刻設備配置成使得輻射斑被投影到測量目標上，使得其掃描跨過第一、第二以及第三部分； 輻射檢測器包括輻射強度傳感器，所述輻射強度傳感器配置成檢測來自被從測量目標引導至輻射檢測器的斑的輻射的強度；和 控制器配置成控制可編程圖案形成裝置，使得用于提供輻射斑的輻射束在其掃描跨過第一和第三部分時具有基本上恒定的強度，并且在輻射斑掃描跨過第二部分時在參照位置處具有變化的強度，以及配置成基于來自輻射檢測器的與被投影到第一、第二以及第三部分上的輻射斑分別對應的第一、第二以及第三信號的相位和/或時序來確定輻射斑的位置。
14.根據權利要求1-9中任一項所述的光刻設備,其中: 測量目標包括多個部分，每個部分 包括相應的光柵； 光刻設備配置成使得輻射斑被投影到測量目標上，使得其掃描跨過測量目標的所述多個部分； 輻射檢測器包括輻射強度傳感器，所述輻射強度傳感器配置成檢測來自被從測量目標引導至輻射檢測器的斑的輻射的強度； 控制器配置成控制可編程圖案形成裝置使得用于提供輻射斑的輻射束在其被投影到所述目標上的點處具有以基本上恒定的頻率變化的強度；和 所述控制器配置成基于來自輻射檢測器的與被投影到測量目標的多個部分處的輻射斑對應的各個信號確定輻射斑相對于輻射斑的期望位置的位置。
15.根據權利要求1-9中任一項所述的光刻設備,其中: 光刻設備配置成使得輻射斑被投影到測量目標上，使得其掃描跨過測量目標； 所述目標包括狹縫，所述狹縫配置成選擇輻射斑的區(qū)域的一部份使得該部份被對于輻射斑相對于測量目標的每個位置引導至輻射檢測器；和 輻射檢測器包括輻射強度傳感器，用以檢測來自被從測量目標引導至輻射檢測器的斑的福射強度。
16.根據權利要求15所述的光刻設備，其中測量目標包括至少第一和第二狹縫，所述第一和第二狹縫布置成使得當輻射斑掃描跨過測量目標時，其相繼地掃描跨過每個狹縫；和 第一和第二狹縫布置成與輻射斑跨過所述目標的掃描方向成各自的不同傾斜角度。
17.一種用于測量在光刻設備中輻射束斑位置的方法，所述光刻設備包括用以提供多個輻射束的可編程圖案形成裝置和用以將所述多個輻射束投影到襯底上以形成各自的輻射斑的投影系統(tǒng)，所述方法包括步驟: 將所述輻射斑投影到包括測量目標的目標上；使用輻射檢測器以檢測來自已經被投影到測量目標上的輻射斑中的一個的輻射；和基于來自輻射檢測器的信息至少確定輻射斑在基本上平行于目標的上表面的平面內相對于輻射斑的期望位置的位置。
18.—種用于光刻設備的福射檢測器系統(tǒng),包括: 輻射檢測器，配置成檢測輻射； 襯底臺，配置成支撐襯底，其中所述輻射檢測器在襯底臺中或襯底臺上； 輻射檢測器對準標記，相對于襯底臺或相對于輻射檢測器在空間上固定； 輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)，配置成檢查輻射檢測器對準標記并基于輻射檢測器對準標記的檢查來確定輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置；和 致動器系統(tǒng)，配置成控制輻射檢測器相對于襯底臺或固定至襯底臺的物體的位置，使得輻射檢測器能夠在不同位置檢測輻射。
19.根據權利要求18所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)包括配置成照射輻射檢測器對準標記的照射系統(tǒng)。
20.根據權利要求18或19所述的輻射檢測器系統(tǒng)，其中輻射檢測器對準標記檢查系統(tǒng)包括照射檢測器，所述照射檢測器配置成在被照射時檢測來自輻射檢測器對準標記的輻射。
21.一種光刻設備， 包括根據權利要求18-20中任一項所述的輻射檢測器系統(tǒng)。
【文檔編號】G03F7/20GK103430101SQ201280013046
【公開日】2013年12月4日 申請日期:2012年2月22日 優(yōu)先權日:2011年3月29日
【發(fā)明者】F·皮特斯, J·本斯喬普, M·瑞肯斯, G·范巴斯, J·德克爾斯 申請人:Asml荷蘭有限公司