反光鏡及其制作工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種反光鏡的制作工藝，包括以下步驟：S1、制作低熔點(diǎn)金屬墨水；S2、將所述低熔點(diǎn)金屬墨水均勻涂覆于一透光基底的背面，所述低熔點(diǎn)金屬墨水在透光基底背面形成反光薄膜；S3、在所述反光薄膜上涂覆保護(hù)膜，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝；本發(fā)明制作工序簡(jiǎn)單快速，在常規(guī)條件下即可完成，提高了生產(chǎn)和應(yīng)用效率，降低了對(duì)環(huán)境的要求；且該制作工藝?yán)玫腿埸c(diǎn)金屬墨水均勻涂覆在透光基底表面上形成的薄膜具有良好的反光特性，可以用于太陽能聚光，大大降低了太陽能光和熱利用的成本，本發(fā)明還提供一種反光鏡。
【專利說明】杉響整個(gè)太陽能利用系統(tǒng)的效率和經(jīng)濟(jì)性。:像聚光器。傳統(tǒng)成像聚光器一般用光學(xué)玻的相差很大，大大降低聚光比。非成像聚光文聚光鏡主要有圓錐反射鏡、槽型拋物面聚丨勺反射式聚光鏡材料有金屬板、箔和金屬鍍昆蒸鍍等技術(shù)手段，相應(yīng)加工過程存在的問匕如銀等；這大大提高了太陽能利用系統(tǒng)的
；大多也采用化學(xué)鍍銀和真空蒸鍍等方法，件太過苛刻，對(duì)降低生產(chǎn)成本極為不利；另2物也容易造成環(huán)境污染。
來取代傳統(tǒng)的反光鏡，其制作工藝簡(jiǎn)單，制[0014]所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。
[0015]一種反光鏡的制作工藝，包括以下步驟:
[0016]S1、制作低熔點(diǎn)金屬墨水；
[0017]S2、將所述低熔點(diǎn)金屬墨水均勻涂覆于一透光基底的背面，所述低熔點(diǎn)金屬墨水在透光基底背面形成反光薄膜；
[0018]S3、在所述反光薄膜上涂覆保護(hù)膜，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝。
[0019]所述步驟SI進(jìn)一步包括:
[0020]S11、以低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料配制成金屬流體,所述金屬流體能用于涂覆；
[0021]S12、在空氣中將所述金屬流體進(jìn)行攪拌，形成低熔點(diǎn)金屬墨水。
[0022]所述低熔點(diǎn)金屬墨水通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在所述透光基底的背面，并形成反光薄膜。
[0023]所述步驟Sll前進(jìn)一步包括:
[0024]S10、在所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料中添加用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料。
[0025]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有部分氧化物的低熔點(diǎn)合金制成。
[0026]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料由含有0.lwt9Tl0wt%氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有
0.lwt%?10wt%氧化物的低熔點(diǎn)合金制成；
[0027]所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。
[0028]本發(fā)明提供的一種反光鏡及其制作工藝，其制作工序簡(jiǎn)單快速，在常規(guī)條件下即可完成，提高了生產(chǎn)和應(yīng)用效率，降低了對(duì)環(huán)境的要求；且該制作工藝?yán)玫腿埸c(diǎn)金屬墨水均勻涂覆在透光基底表面上形成的薄膜具有良好的反光特性，可以用于太陽能聚光，能夠得到能量密度更強(qiáng)的太陽光能或者熱能，大大降低了太陽能光和熱利用的成本，為實(shí)現(xiàn)太陽能的高效和廣泛利用提供了新的技術(shù)選擇；本發(fā)明還可以擴(kuò)展至更加廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域，如可作為家用衣妝鏡、汽車后視鏡、舞蹈室鏡子，甚至是娛樂領(lǐng)域的哈哈鏡等，以替代傳統(tǒng)的反光鏡。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的制作工藝流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面對(duì)于本發(fā)明所提出的一種反光鏡及其制作工藝，結(jié)合附圖和實(shí)施例詳細(xì)說明。
[0031]實(shí)施例1:
[0032]本實(shí)施例提供一種反光鏡，包括有:
[0033]可透光的基底；均勻涂覆于所述基底背面的反光薄膜，該反光薄膜由低熔點(diǎn)金屬墨水制成；
[0034]一保護(hù)膜，其涂覆于所述反光薄膜上，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝。
[0035]所述反光薄膜通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在該基底背面。
[0036]所述低熔點(diǎn)金屬墨水由低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料制成；所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有部分氧化物的低熔點(diǎn)合金制成。
[0037]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料進(jìn)一步添加有用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料。
[0038]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料由含有0.1被%?10被％氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有
0.1被%?10被％氧化物的低熔點(diǎn)合金制成；
[0039]所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。
[0040]本實(shí)施例還提供一種反光鏡的制作工藝，如圖1所示，包括以下步驟:
[0041]31、制作低熔點(diǎn)金屬墨水；
[0042]32、將所述低熔點(diǎn)金屬墨水均勻涂覆于一透光基底的背面，所述低熔點(diǎn)金屬墨水在透光基底背面形成反光薄膜；
[0043]33、在所述反光薄膜上涂覆保護(hù)膜，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝。
[0044]所述步驟31進(jìn)一步包括:
[0045]311、以低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料配制成金屬流體，所述金屬流體能用于涂覆；
[0046]312、在空氣中將所述金屬流體進(jìn)行攪拌，形成低熔點(diǎn)金屬墨水。
[0047]所述低熔點(diǎn)金屬墨水通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在所述透光基底的背面，并形成反光薄膜。
[0048]所述步驟311前進(jìn)一步包括:
[0049]310、在所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料中添加用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料。
[0050]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有部分氧化物的低熔點(diǎn)合金制成。
[0051]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料由含有0.1被%?10被％氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有
0.1被%?10被％氧化物的低熔點(diǎn)合金制成；
[0052]所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。
[0053]實(shí)施例2:
[0054]本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的解釋說明。
[0055]—種反光鏡，包括有:
[0056]可透光的基底；所述基底為透光材料，所述透光材料可為硬質(zhì)材料如玻璃、樹脂或石英，也可為軟質(zhì)材料如透明塑料、透明橡膠?；椎男螤羁筛鶕?jù)需要設(shè)置為平板式、圓錐式、槽形拋物面、旋轉(zhuǎn)拋物面或者條形以及這些形狀的組合，所述基底的形狀也可為其他各種利用場(chǎng)合中的形狀。
[0057]均勻涂覆于所述基底背面的反光薄膜，該反光薄膜由低熔點(diǎn)金屬墨水制成，反光薄膜的厚度為1-1OOym;
[0058]所述反光薄膜通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在該基底背面；涂覆低熔點(diǎn)金屬墨水可借助現(xiàn)有的印刷設(shè)備、涂覆設(shè)備、蘸有該低熔點(diǎn)金屬墨水的刷子或充填有低熔點(diǎn)金屬墨水的筆型裝置涂覆。用刷子所帶來的便利是可以在各種形狀的透光基底背面完成反光薄膜的制作，刷子可用毛筆、油畫筆或油漆刷。充填有低熔點(diǎn)金屬墨水的筆型裝置包括:鋼筆式筆型裝置、圓珠筆式筆型裝置、中性筆式筆形裝置、打印機(jī)式印刷設(shè)備、點(diǎn)膠機(jī)式印刷設(shè)備或噴頭式筆型裝置。
[0059]所述低熔點(diǎn)金屬墨水由低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料制成；所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有部分氧化物的低熔點(diǎn)合金制成。
[0060]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料進(jìn)一步添加有用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料；所述納米材料如尺寸在Inm到900nm的納米二氧化娃、納米陶瓷顆粒等。
[0061]所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料由含有0.1wt°/Tl0wt%氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有
0.1wt°/Tl0wt%氧化物的低熔點(diǎn)合金制成；將這些低熔點(diǎn)金屬按照一定比例配成合金后，熔點(diǎn)進(jìn)一步降低；所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種；這些低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料非常易于制成可直接涂覆在基底上的金屬墨水。
[0062]一保護(hù)膜，其涂覆于所述反光薄膜上，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝；該保護(hù)膜可為環(huán)氧樹脂、硅橡膠或者硅環(huán)氧樹脂、氧化硅、二氧化硅等無機(jī)物鍍膜，利用印刷、粘貼或者用其他方式涂覆在所述反光薄膜上形成封裝；所述保護(hù)膜厚度范圍為l-100mm。
[0063]本實(shí)施例提供一種反光鏡的制作工藝，包括以下步驟:
[0064]S1、制作低熔點(diǎn)金屬墨水；具體包括以下步驟:
[0065]S11、以低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料配制成金屬流體,所述金屬流體能用于涂覆；
[0066]S12、在空氣中將所述金屬流體進(jìn)行攪拌，形成低熔點(diǎn)金屬墨水；在空氣中將所述金屬流體進(jìn)行攪拌是為了金屬流體被部分氧化，增加金屬流體的粘度以及其與各種材料的基底的粘附性。
[0067]S2、將所述低熔點(diǎn)金屬墨水均勻涂覆于一透光基底的背面，所述低熔點(diǎn)金屬墨水在透光基底背面形成反光薄膜；可以先選擇基底的材料和形狀，低熔點(diǎn)金屬墨水和基底的接觸面用作反光鏡面。
[0068]S3、在所述反光薄膜上涂覆保護(hù)膜，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝。
[0069]所述步驟SI進(jìn)一步包括:
[0070]所述低熔點(diǎn)金屬墨水通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在所述透光基底的背面，并形成反光薄膜。
[0071]所述步驟Sll前進(jìn)一步包括:
[0072]S10、在所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料中添加用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料。
[0073]本實(shí)施例中對(duì)基底、反光薄膜、保護(hù)膜以及低熔點(diǎn)金屬墨水的進(jìn)一步限定與上述反光鏡中的相關(guān)限定一致。
[0074]實(shí)施例3:
[0075]本實(shí)施例以0.5cm厚的玻璃拋物狀基底為例，說明本發(fā)明中的反光鏡的制作工藝:
[0076]先將鎵和銦分別熔化后制成一定配比的合金，在空氣中進(jìn)行一定時(shí)間的攪拌，使得合金部分被氧化，制成有一定流動(dòng)性的低熔點(diǎn)金屬墨水；再用油畫筆將所述低熔點(diǎn)金屬墨水均勻地涂覆在玻璃拋物狀基底的背面，形成反光薄膜，其涂覆厚度為209 0 ；最后在低熔點(diǎn)金屬墨水上涂覆硅橡膠進(jìn)行封裝，待硅橡膠干后就可以成為反光薄膜的保護(hù)膜，硅橡膠厚度為2111111。
[0077]本發(fā)明提供的一種反光鏡及其制作工藝，其制作工序簡(jiǎn)單快速，在常規(guī)條件下即可完成，提高了生產(chǎn)和應(yīng)用效率，降低了對(duì)環(huán)境的要求；且該制作工藝?yán)玫腿埸c(diǎn)金屬墨水均勻涂覆在透光基底表面上形成的薄膜具有良好的反光特性，可以用于太陽能聚光，能夠得到能量密度更強(qiáng)的太陽光能或者熱能，大大降低了太陽能光和熱利用的成本，為實(shí)現(xiàn)太陽能的高效和廣泛利用提供了新的技術(shù)選擇；本發(fā)明還可以擴(kuò)展至更加廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域，如可作為家用衣妝鏡、汽車后視鏡、舞蹈室鏡子，甚至是娛樂領(lǐng)域的哈哈鏡等，以替代傳統(tǒng)的反光鏡。
[0078]以上實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種反光鏡，其特征在于，包括有: 可透光的基底；均勻涂覆于所述基底背面的反光薄膜，該反光薄膜由低熔點(diǎn)金屬墨水制成； 一保護(hù)膜，其涂覆于所述反光薄膜上，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝。
2.如權(quán)利要求1所述的反光鏡，其特征在于，所述反光薄膜通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在該基底背面。
3.如權(quán)利要求1所述的反光鏡，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬墨水由低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料制成；所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有部分氧化物的低熔點(diǎn)合金制成。
4.如權(quán)利要求3所述的反光鏡，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料進(jìn)一步添加有用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料。
5.如權(quán)利要求3或4所述的反光鏡,其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料由含有0.lwt9TlOwt%氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有0.lwt9TlOwt%氧化物的低熔點(diǎn)合金制成； 所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。
6.一種反光鏡的制作工藝，其特征在于，包括以下步驟: s1、制作低熔點(diǎn)金屬墨水； s2、將所述低熔點(diǎn)金屬墨水均勻涂覆于一透光基底的背面，所述低熔點(diǎn)金屬墨水在透光基底背面形成反光薄膜； s3、在所述反光薄膜上涂覆保護(hù)膜，用于對(duì)所述反光薄膜進(jìn)行封裝。
7.如權(quán)利要求6所述的制作工藝，其特征在于，所述步驟SI進(jìn)一步包括: s11、以低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料配制成金屬流體,所述金屬流體能用于涂覆； S12、在空氣中將所述金屬流體進(jìn)行攪拌，形成低熔點(diǎn)金屬墨水。
8.如權(quán)利要求6所述的制作工藝，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬墨水通過噴涂、印刷、粉刷或筆型裝置中的至少一種均勻涂覆在所述透光基底的背面，并形成反光薄膜。
9.如權(quán)利要求7所述的制作工藝，其特征在于，所述步驟Sll前進(jìn)一步包括: S10、在所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料中添加用于增強(qiáng)反射特性的納米顆粒材料。
10.如權(quán)利要求7或9所述的制作工藝，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料為含有部分氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有部分氧化物的低熔點(diǎn)合金制成。
11.如權(quán)利要求10所述的制作工藝，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬復(fù)合材料由含有0.1wt°/ri0wt%氧化物的低熔點(diǎn)金屬或含有0.1wt°/ri0wt%氧化物的低熔點(diǎn)合金制成； 所述低熔點(diǎn)金屬包括鎵、鋅、錫、鈉、鉀和汞中的至少一種；所述低熔點(diǎn)合金包括鎵鋅合金、鎵銦合金、鎵錫合金、銦錫合金、鎵銦錫合金、鎵銦錫鋅合金、鎵銦錫鋅鉍合金、銅鎵銦合金、鋁鎵銦合金或鈉鉀合金中的至少一種。
【文檔編號(hào)】G02B5/08GK103837913SQ201210487405
【公開日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2012年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月26日
【發(fā)明者】劉靜, 熊銘烽, 李海燕 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所