專利名稱：一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)，尤其涉及一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置。
背景技術(shù)：
隨著顯不技術(shù)的發(fā)展，AMOLED(Active Matrix/Organic Light EmittingDiode,是有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體面板)以其良好的顯示性能，具體有良好的發(fā)展前景。實現(xiàn)透明AMOLED顯示的方法包括使用透明陰極(cathode)的方法和形成未沉積陰極材料的特定區(qū)域(透過窗)的方法。使用透明陰極的方法可以提高面板(panel)的透過率，實現(xiàn)透明顯示。如圖Ia和圖Ib所示，在圖Ia所示的圖案的基板上形成透明陰極，形成圖Ib所示 的圖案，即在基板的全部區(qū)域上沉積透明陰極。雖然在基板的全部區(qū)域沉積透明陰極具有工藝便利性，但是透明陰極相比現(xiàn)有的滿足EL (Electroluminescence,場致發(fā)光)特性的傳統(tǒng)陰極材料(conventional cathodematerial)，會導(dǎo)致EL特性及壽命降低的問題，且具有透明特性的陰極材料種類較少，也具有局限性。所以，使用透明cathode的方法需要開發(fā)具有良好的透過率和良好的電極特性的材料和工藝，并且相比使用現(xiàn)有的不透明陰極電極材料具有EL特性差的缺點。為解決上述問題，產(chǎn)生了一種形成未沉積陰極的特定區(qū)域的方法實現(xiàn)透明AMOLED。在面板上的部分區(qū)域不沉積陰極材料，也可以實現(xiàn)透明顯示，即在各像素區(qū)域上形成透明的區(qū)域，整體上可以確保透過率。若透過窗的尺寸設(shè)計較佳，還可以改善透過率且提高可見性(visibility)。通常,不沉積不透明陰極材料的區(qū)域記載為TW (TransparentWindow,透過窗或透明窗),如圖2a所示,在進(jìn)行陰極沉積時,通過調(diào)節(jié)F1DL (Pixel DesginLayer，像素界定層)的大小，形成透過窗，沉積陰極材料后的基板如圖2b所示。為了在使用現(xiàn)有的陰極材料鋁(Al)或鎂銀(Mg:Ag)的同時實現(xiàn)透明AM0LED，需要在像素的某一區(qū)域內(nèi)形成透過窗。但是，使用FMM(Fine MetalMask，高精度金屬掩膜板)形式進(jìn)行透過窗形成時，需要經(jīng)過多次掩膜的對齊，沉積較困難，使得透過窗的制造工藝比較復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置，以簡化透過窗的制造工藝?！N掩膜板,包括網(wǎng)格圖案掩膜板以及固定在所述網(wǎng)格圖案掩膜板上的透過窗圖案掩膜板，所述網(wǎng)格圖案掩膜板的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與所述透過窗圖案掩膜板的厚度，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案掩膜板以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積。
一種掩膜板的制造方法，包括蝕刻加工形成網(wǎng)格圖案掩膜板；形成透過窗圖案掩膜板，并將所述透過窗圖案掩膜板固定在所述網(wǎng)格圖案掩膜板上。一種使用本發(fā)明實施例提供的掩膜板制造陣列基板的方法，包括在玻璃基板上放置所述掩膜板，所述掩膜板的透過窗圖案掩膜板緊貼所述玻璃基板；噴灑陰極材料蒸汽，在所述玻璃基板上貼緊透過窗圖案掩膜板以外的區(qū)域沉積陰極材料。一種陣列基板，使用本發(fā)明實施例提供的陣列基板制造方法制造。 一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的陣列基板。本發(fā)明實施例提供一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置，該掩膜板包括網(wǎng)格圖案以及設(shè)置在所述網(wǎng)格圖案上的透過窗圖案，網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與透過窗圖案的厚度，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，這樣，在進(jìn)行陰極沉積時，陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，即可實現(xiàn)陰極圖案的制造，簡化了陣列基板中陰極圖案的制造工藝，同時，可以使用鋁、鎂、銀等傳統(tǒng)的陰極材料制作陰極


圖Ia為現(xiàn)有技術(shù)中像素區(qū)結(jié)構(gòu)示意圖；圖Ib為現(xiàn)有技術(shù)中透明陰極結(jié)構(gòu)示意圖；圖2a為現(xiàn)有技術(shù)中透過窗結(jié)構(gòu)示意圖；圖2b為現(xiàn)有技術(shù)中具有透過窗的傳統(tǒng)陰極結(jié)構(gòu)示意圖；圖3a為本發(fā)明實施例提供的掩膜板結(jié)構(gòu)示意圖；圖3b為圖3a的B-B’面截面圖；圖3c為本發(fā)明實施例提供的掩膜板中網(wǎng)格圖案掩膜板結(jié)構(gòu)示意圖；圖4a為本發(fā)明實施例提供的具有基礎(chǔ)透過窗圖案的網(wǎng)格圖案掩膜板結(jié)構(gòu)示意圖；圖4b為圖4a的A_A’面截面圖；圖5為本發(fā)明實施例提供的具有掩膜框架的掩膜板結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本發(fā)明實施例提供的掩膜板制造方法流程圖；圖7為本發(fā)明實施例提供的透過窗制造方法流程圖；圖8為本發(fā)明實施例提供的透過窗制造過程狀態(tài)示意圖。
具體實施例方式本發(fā)明實施例提供一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置，該掩膜板包括網(wǎng)格圖案以及設(shè)置在所述網(wǎng)格圖案上的透過窗圖案，網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與透過窗圖案的厚度，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，這樣，在進(jìn)行陰極沉積時，陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，即可實現(xiàn)陣列基板中陰極圖案的制造，簡化了陣列基板中陰極圖案的制造工藝，同時，可以使用鋁、鎂、銀等傳統(tǒng)的陰極材料制作陰極。如圖3a和圖3b所示，其中圖3b是圖3c的B_B’截面圖，本發(fā)明實施例提供的掩膜板，包括網(wǎng)格圖案以及設(shè)置在網(wǎng)格圖案掩膜板上的透過窗圖案，網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度b與透過窗圖案的厚度h，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積。其中，網(wǎng)格圖案可以設(shè)置在網(wǎng)格圖案掩膜板301上；透過窗圖案可以設(shè)置在透過窗圖案掩膜板302上；其中，透過窗圖案掩膜板固定在網(wǎng)格圖案掩膜板上?；蛘?，在制作網(wǎng)格圖案掩膜板時，可以直接將透過窗圖案制作在網(wǎng)格圖案掩膜板上，即刻蝕網(wǎng)格圖案掩膜板時直接刻蝕出透過窗圖案，只要網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與所述透過窗圖案的厚度滿足要求即可。 其中，網(wǎng)格圖案掩膜板301的示意圖如圖3c所示。為使得陰極材料沉積時，能夠較好的實現(xiàn)連接，網(wǎng)格圖案掩膜板的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度b小于O. Imm較佳，網(wǎng)格圖案掩膜板的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度為O. 05mm左右更佳。透過窗圖案掩膜板的厚度h為O. Imm或大于O. Imm較佳。具體的網(wǎng)格圖案掩膜板的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度b與透過窗圖案掩膜板的厚度h，可以根據(jù)實際情況由本領(lǐng)域技術(shù)人員設(shè)定。網(wǎng)格圖案掩膜板可以使用鎳鐵合金材質(zhì)，可以通過蝕刻方式形成網(wǎng)格圖案掩膜板，較佳的，該鎳鐵合金可以具體為因瓦合金(Invar36 )。為便于透過窗圖案掩膜板的固定，可以在網(wǎng)格圖案掩膜板上固定透過窗圖案掩膜板的位置設(shè)置有基礎(chǔ)透過窗圖案，該基礎(chǔ)透過窗圖案的形狀大小與透過窗掩膜板相同，以便于透過窗掩膜板固定在網(wǎng)格圖案掩膜板上的基礎(chǔ)透過窗圖案上，如圖4a和圖4b所示，其中圖4b是圖4a的A-A’截面圖，該基礎(chǔ)透過窗圖案可以在蝕刻網(wǎng)格圖案時一并完成。透過窗圖案掩膜板可以使用鎳材質(zhì)，在具體實現(xiàn)時，可以通過電鑄的方式形成透過窗圖案掩膜板，即，直接在基礎(chǔ)透過窗圖案上電鑄形成具有一定厚度h的透過窗圖案掩膜板。為便于掩膜板的使用，如圖5所示，該掩膜板可以進(jìn)一步包括掩膜框架303，可以將網(wǎng)格圖案掩膜板通過拉伸焊接的方式固定在掩膜框架303上。本發(fā)明實施例相應(yīng)提供一種掩膜板的制造方法，如圖6所示，包括步驟S601、加工形成網(wǎng)格圖案掩膜板，該網(wǎng)格圖案掩膜板如圖3c所示；步驟S602、形成透過窗圖案掩膜板，將透過窗圖案掩膜板固定在網(wǎng)格圖案掩膜板上。其中，步驟S601中，可以使用刻蝕的方式加工形成網(wǎng)格圖案掩膜板，在步驟S602中，可以使用電鑄的方式形成透過窗圖案掩膜板，當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員也可以采用其他可行的方式形成網(wǎng)格圖案掩膜板和透過窗圖案掩膜板。通過該方法，即可制造本發(fā)明實施例提供的掩膜板，所制造的掩膜板如圖3a所
/Jn ο進(jìn)一步，可以在蝕刻加工形成網(wǎng)格圖案掩膜板時，在網(wǎng)格圖案掩膜板上固定透過窗圖案掩膜板的位置設(shè)置基礎(chǔ)透過窗圖案，以便于透過窗圖案掩膜板的固定。
透過窗圖案掩膜板可以預(yù)先制造出來，再固定在網(wǎng)格圖案掩膜板上，也可以直接在網(wǎng)格圖案掩膜板的基礎(chǔ)透過窗圖案上電鑄形成透過窗圖案掩膜板。為便于掩膜板的使用，還可以將網(wǎng)格圖案掩膜板固定在掩膜框架上，在具體固定時，可以通過拉伸焊接的方式將網(wǎng)格圖案掩膜板固定在掩膜框架上。本發(fā)明實施例還提供一種陣列基板制造方法，該陣列基板制造方法中，使用本發(fā)明實施例提供的掩膜板制造透過窗，如圖7所示，該方法包括步驟S701、在玻璃基板上放置掩膜板，掩膜板的透過窗圖案掩膜板緊貼玻璃基板；步驟S702、噴灑陰極材料蒸汽，在玻璃基板上貼緊透過窗圖案掩膜板以外的區(qū)域沉積陰極材料，陰極材料沉積時的截面圖如圖8所示。 本發(fā)明實施例還提供一種陣列基板，該陣列基板使用本發(fā)明實施例提供的陣列基板制造方法制造。本發(fā)明實施例還相應(yīng)提供一種顯示裝置，該顯示設(shè)備包括本發(fā)明實施例提供的陣列基板。所述顯示裝置包括手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。本發(fā)明實施例提供一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置，該掩膜板包括網(wǎng)格圖案以及設(shè)置在所述網(wǎng)格圖案上的透過窗圖案，網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與透過窗圖案的厚度，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，這樣，在進(jìn)行陰極沉積時，陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，即可實現(xiàn)陰極圖案的制造，簡化了陣列基板中陰極圖案的制造工藝，同時，可以使用鋁、鎂、銀等傳統(tǒng)的陰極材料制作陰極。本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員應(yīng)明白，本發(fā)明的實施例可提供為方法、系統(tǒng)、或計算機(jī)程序產(chǎn)品。因此，本發(fā)明可采用完全硬件實施例、完全軟件實施例、或結(jié)合軟件和硬件方面的實施例的形式。而且，本發(fā)明可采用在一個或多個其中包含有計算機(jī)可用程序代碼的計算機(jī)可用存儲介質(zhì)(包括但不限于磁盤存儲器、CD-ROM、光學(xué)存儲器等)上實施的計算機(jī)程序產(chǎn)品的形式。本發(fā)明是參照根據(jù)本發(fā)明實施例的方法、設(shè)備(系統(tǒng))、和計算機(jī)程序產(chǎn)品的流程圖和/或方框圖來描述的。應(yīng)理解可由計算機(jī)程序指令實現(xiàn)流程圖和/或方框圖中的每一流程和/或方框、以及流程圖和/或方框圖中的流程和/或方框的結(jié)合。可提供這些計算機(jī)程序指令到通用計算機(jī)、專用計算機(jī)、嵌入式處理機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器以產(chǎn)生一個機(jī)器，使得通過計算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器執(zhí)行的指令產(chǎn)生用于實現(xiàn)在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能的裝置。這些計算機(jī)程序指令也可存儲在能引導(dǎo)計算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備以特定方式工作的計算機(jī)可讀存儲器中，使得存儲在該計算機(jī)可讀存儲器中的指令產(chǎn)生包括指令裝置的制造品，該指令裝置實現(xiàn)在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能。這些計算機(jī)程序指令也可裝載到計算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備上，使得在計算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行一系列操作步驟以產(chǎn)生計算機(jī)實現(xiàn)的處理，從而在計算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行的指令提供用于實現(xiàn)在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能的步驟。盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種掩膜板,其特征在于,包括 網(wǎng)格圖案以及設(shè)置在所述網(wǎng)格圖案上的透過窗圖案，所述網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與所述透過窗圖案的厚度，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積。
2.如權(quán)利要求I所述的掩膜板，其特征在于，所述網(wǎng)格圖案位于網(wǎng)格圖案掩膜板上； 所述透過窗圖案位于透過窗圖案掩膜板上； 所述透過窗圖案掩膜板固定在所述網(wǎng)格圖案掩膜板上。
3.如權(quán)利要求I所述的掩膜板，其特征在于，所述網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度小于 O. Imnin
4.如權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度 為 O. 05mm。
5.如權(quán)利要求I所述的掩膜板，其特征在于，所述透過窗圖案的厚度為O.Imm或大于O.Imnin
6.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述網(wǎng)格圖案掩膜板為鎳鐵合金材質(zhì)。
7.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透過窗圖案掩膜板為鎳材質(zhì)。
8.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述網(wǎng)格圖案掩膜板上固定所述透過窗圖案掩膜板的位置設(shè)置有基礎(chǔ)透過窗圖案。
9.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述固定在所述網(wǎng)格圖案掩膜板上的透過窗圖案掩膜板，具體為 在所述網(wǎng)格圖案掩膜板的基礎(chǔ)透過窗圖案上電鑄形成的透過窗圖案掩膜板。
10.如權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，還包括 掩膜框架，所述網(wǎng)格圖案掩膜板通過拉伸焊接的方式固定在所述掩膜框架上。
11.一種掩膜板的制造方法，其特征在于，包括 加工形成網(wǎng)格圖案掩膜板； 形成透過窗圖案掩膜板，并將所述透過窗圖案掩膜板固定在所述網(wǎng)格圖案掩膜板上。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述網(wǎng)格圖案掩膜板上固定所述透過窗圖案掩膜板的位置設(shè)置有基礎(chǔ)透過窗圖案。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述形成透過窗圖案掩膜板，并將所述透過窗圖案掩膜板固定在所述網(wǎng)格圖案掩膜板上，具體為 在所述網(wǎng)格圖案掩膜板的基礎(chǔ)透過窗圖案上電鑄形成透過窗圖案掩膜板。
14.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，還包括 將所述網(wǎng)格圖案掩膜板固定在掩膜框架上。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，所述將網(wǎng)格圖案掩膜板固定在掩膜框架上，具體為 將所述網(wǎng)格圖案掩膜板通過拉伸焊接的方式固定在掩膜框架上。
16.一種使用如權(quán)利要求I所述的掩膜板制造陣列基板的方法，其特征在于，包括 在玻璃基板上放置所述掩膜板，所述掩膜板的透過窗圖案掩膜板緊貼所述玻璃基板； 噴灑陰極材料蒸汽，在所述玻璃基板上貼緊透過窗圖案掩膜板以外的區(qū)域沉積陰極材料。
17.一種陣列基板，其特征在于，使用如權(quán)利要求16所述的方法制造。
18.—種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求17所述的陣列基板。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種陣列基板、掩膜板及其制造方法和顯示裝置，涉及顯示技術(shù)，該掩膜板包括網(wǎng)格圖案以及設(shè)置在所述網(wǎng)格圖案上的透過窗圖案，網(wǎng)格圖案的網(wǎng)格間掩膜框架的寬度與透過窗圖案的厚度，允許陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，這樣，在進(jìn)行陰極沉積時，陰極材料蒸汽在透過窗圖案以外的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)沉積，即可實現(xiàn)陰極圖案的制造，簡化了陣列基板中陰極圖案的制造工藝，同時，可以使用鋁、鎂、銀等傳統(tǒng)的陰極材料制作陰極。
文檔編號G03F1/76GK102967992SQ201210460690
公開日2013年3月13日 申請日期2012年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月15日
發(fā)明者李周炫, 梁逸南, 洪瑞 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司