專利名稱：曝光裝置及曝光、檢查方法及顯示用面板基板的制造方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置、曝光方法及使用這些曝光裝置、曝光方法的顯示用面板基板的制造方法，所述曝光裝置是在液晶顯示器(display)裝置等的顯示用面板(panel)基板的制造中,對涂布有光致抗蝕劑(photo resist)的基板照射光束,通過光束來掃描基板，以在基板上繪制圖案(pattern)。而且，本發(fā)明涉及一種曝光裝置的檢查方法，所述曝光裝置是對涂布有光致抗蝕劑的基板照射光束，通過光束來掃描基板，以在基板上繪制圖案。
背景技術(shù)：
先前技術(shù)文獻 專利文獻專利文獻I :日本專利特開2010-44318號公報專利文獻2 :日本專利特開2010-60990號公報專利文獻3 :日本專利特開2010-102084號公報被用作顯示用面板的液晶顯示器裝置的薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)基板或彩色濾光器(color filter)基板、等離子體(plasma)顯示器面板用基板、有機電致發(fā)光(Electroluminescence, EL)顯示面板用基板等的制造是使用曝光裝置,通過光刻(photolithography)技術(shù)在基板上形成圖案而進行。作為曝光裝置，先前有投影(projection)方式及接近(proximity)方式,所述投影方式是使用透鏡(lens)或鏡子將光掩膜(mask)的圖案投影至基板上，所述接近方式是在光掩膜與基板之間設置微小的間隙(接近間隙(proximity gap))而將光掩膜的圖案轉(zhuǎn)印至基板上。近年來，開發(fā)出一種曝光裝置，其對涂布有光致抗蝕劑的基板照射光束，通過光束來掃描基板，以在基板上繪制圖案。由于是通過光束來掃描基板以在基板上直接繪制圖案，因此不需要昂貴的光掩膜。而且，通過變更繪制數(shù)據(jù)(data)及掃描程序(program)，能夠應對多種顯示用面板基板。作為此種曝光裝置，例如有專利文獻I、專利文獻2及專利文獻3中公開的曝光裝置。當通過光束在基板上繪制圖案時，在光束的調(diào)制時使用數(shù)字微鏡器件(DigitalMicromirror Device, DMD)等的空間光調(diào)制器。DMD是將反射光束的多個微小的反射鏡(mirror)沿兩方向排列而構(gòu)成，驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來變更各反射鏡的角度，從而對從光源供給的光束進行調(diào)制。經(jīng)DMD調(diào)制后的光束從光束照射裝置的頭(head)部照射至基板，所述頭部包含投影透鏡等的照射光學系統(tǒng)。在光束照射裝置內(nèi)，如果在從光源向空間光調(diào)制器供給光束的光學系統(tǒng)、或在將經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束照射至基板的照射光學系統(tǒng)中產(chǎn)生光路的偏移等，則從光束照射裝置照射的光束會產(chǎn)生變形。尤其在照射光學系統(tǒng)中，如果投影透鏡存在變形，則投影至基板的圖形的形狀會產(chǎn)生桶形或梭形等的變形。一旦從光束照射裝置照射的光束存在變形，則通過光束而繪制的圖案會產(chǎn)生變形。先前，此種圖案變形的檢查是以對實際上進行了曝光的基板進行分析的方式進行。因此，光束變形的檢測及修正要耗費較多時間及工夫。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題在于容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，本發(fā)明的課題在于抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，以提高繪制精度。進而，本發(fā)明的課題在于制造聞品質(zhì)的顯不用面板基板。本發(fā)明的曝光裝置包括夾盤(chuck)，支撐涂布有光致抗蝕劑的基板；光束照射裝置，具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束；以及移動機構(gòu)，使夾盤與光束照射裝置相對移動，通過移動機構(gòu)使夾盤與光束照射裝置相對移動，通過來自光束照射裝置的光束來掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光裝置包括繪制控制機構(gòu)，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)及曝光用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路；第I圖像獲取裝置，設在夾盤上；標線片(reticle)，配置在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，且設有檢查用圖案；以及圖像處理裝置，從第I圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束照射裝置照射的光束的像 中，檢測光束的位置偏移，繪制控制機構(gòu)將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，并基于由圖像處理裝置檢測出的光束的位置偏移來檢測光束的變形，以對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正。而且，本發(fā)明的曝光方法是利用夾盤來支撐涂布有光致抗蝕劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對移動，所述光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束，通過來自光束照射裝置的光束掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光方法中，在夾盤上設置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，通過第I圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形，基于光束變形的檢測結(jié)果，對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路。由于在夾盤上設置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，通過第I圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移，因此無須實際上進行基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，當僅從光束的像來檢測光束的位置偏移時，必須使用激光(laser)測長系統(tǒng)等來另行測定第I圖像獲取裝置的位置，但在本發(fā)明中，從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測光束的位置偏移，因此可使用高精度的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而精度良好地檢測光束的變形。并且，基于光束變形的檢測結(jié)果來對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，因此可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，繪制精度提高。進而，本發(fā)明的曝光裝置中，標線片具有多個位置確認用圖案，且所述曝光裝置具備多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置確認用圖案的圖像，圖像處理裝置從多個第2圖像獲取裝置所獲取的標線片的多個位置確認用圖案的圖像中，檢測標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。而且，本發(fā)明的曝光方法中，在標線片上設置多個位置確認用圖案，且設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置確認用圖案的圖像，從由多個第2圖像獲取裝置所獲取的標線片的多個位置確認用圖案的圖像中，檢測標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。由于對標線片的位置偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，因此光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度提高，可進一步精度良好地檢測光束的變形。本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法是使用上述任一種曝光裝置或曝光方法來進行基板的曝光。通過使用上述曝光裝置或曝光方法，可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，提聞繪制精度，因此可制造聞品質(zhì)的顯不用面板基板。 本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法是利用夾盤來支撐涂布有光致抗蝕劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對移動，光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束，通過來自光束照射裝置的光束掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光裝置的檢查方法中，在夾盤上設置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，通過第I圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形。無須實際上進行基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，由于從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測光束的位置偏移，因此可使用高精度的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而精度良好地檢測光束的變形。進而，本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法中，在標線片上設置多個位置確認用圖案，且設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置確認用圖案的圖像，從由多個第2圖像獲取裝置所獲取的標線片的多個位置確認用圖案的圖像中，檢測標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。由于對標線片的位置偏移進行檢測，并以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，因此光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度提聞，可進一步精度良好地檢測光束的變形。(發(fā)明的效果)根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，在夾盤上設置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，通過第I圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形，由此，無須實際上進行基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，由于從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測光束的位置偏移，由此可使用高精度的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而可精度良好地檢測光束的變形。并且，基于光束變形的檢測結(jié)果來對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，由此可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，以提高繪制精度。進而，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法，對標線片的位置偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，從而可提高光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度，以進一步精度良好地檢測光束的變形。根據(jù)本發(fā)明的顯示用面板基板的制造方法，可抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，以提聞繪制精度，因此可制造聞品質(zhì)的顯不用面板基板。根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法，無須實際上進行基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，由于從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測光束的位置偏移，由此可使用高精度的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而可精度良好地檢測光束的變形。 進而，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置方法，對標線片的位置偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，從而可提高光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度，以進一步精度良好地檢測光束的變形。


圖I是表示本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖2是本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的側(cè)視圖。圖3是本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的正視圖。圖4是表示光束照射裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖5是表示DMD的反射鏡部的一例的圖。圖6是說明激光測長系統(tǒng)的動作的圖。圖7是表示繪制控制部的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖8是說明本發(fā)明的一實施方式的曝光方法的圖。圖9是說明本發(fā)明的一實施方式的曝光方法的圖。圖10是說明本發(fā)明的一實施方式的曝光方法的圖。圖11(a)是標線片的底視圖，圖11(b)是檢查用圖案群的一例的放大圖，圖11(c)是表示檢查用圖案的圖像與光束的像的一例的圖。圖12是說明通過光束來掃描基板的圖。圖13是說明通過光束來掃描基板的圖。圖14是說明通過光束來掃描基板的圖。圖15是說明通過光束來掃描基板的圖。圖16是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。圖17是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光器基板的制造工序的一例的流程圖。[符號的說明]I :基板2 :標線片
2aG:檢查用圖案群2a:檢查用圖案2b:位置確認用圖案2c:光束的像3 :底座4 X導軌5:X平臺6:Y導軌7:Y平臺8:0平臺10:夾盤IOa:切口部
11 :門閘 20 :光束照射裝置20a :頭部21 :激光光源單元22 :光纖23 :透鏡·24、25a:反射鏡25 :DMD26:投影透鏡26a:大四角27:DMD驅(qū)動電路31、33 :線性標尺32、34:編碼器40 :激光測長系統(tǒng)控制裝置41 :激光光源42、44 :激光干涉儀43、45 :條狀反射鏡50 :圖像處理裝置51、52:CCD 相機51a :小四角53:標線片架60:平臺驅(qū)動電路70 :主控制裝置71 :繪制控制部72,76 :存儲器73 :帶寬設定部74:中心點坐標決定部 75:坐標決定部77 :繪制數(shù)據(jù)制作部78 :坐標運算部dX、dY:位置偏移量W:帶寬X、Y、Z、9 :方向
具體實施例方式圖I是表示本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。而且，圖2是本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的側(cè)視圖，圖3是本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的正視圖。曝光裝置是包含底座(base) 3、X導軌(guide) 4、X平臺(stage) 5、Y導軌6、Y平臺7、0平臺8、夾盤10、門閘(gate) 11、光束照射裝置20、線性標尺(linear scale) 31、33、編碼器(encoder) 32、34、激光測長系統(tǒng)、激光測長系統(tǒng)控制裝置40、圖像處理裝置50、電荷耦合器件(Charge Coupled Device, CO))相機(camera) 51、52、平臺驅(qū)動電路60及主控制裝置70而構(gòu)成。另外，在圖2及圖3中，省略了激光測長系統(tǒng)的激光光源41、激光測長系統(tǒng)控制裝置40、圖像處理裝置50、平臺驅(qū)動電路60及主控制裝置70。除了這些以外，曝光裝置還具備基板搬送機器人(robot)、溫度控制單元(unit)等，所述基板搬送機器人將基板I搬入至夾盤10且從夾盤10搬出基板1，所述溫度控制單元進行裝置內(nèi)的溫度管理。另外，以下說明的實施方式中的XY方向為例示，也可將X方向與Y方向調(diào)換。在圖I及圖2中，夾盤10位于進行基板I的交接的交接位置。在交接位置，由未圖示的基板搬送機器人將基板I搬入至夾盤10，而且，由未圖示的基板搬送機器人從夾盤10搬出基板I。夾盤10通過真空吸附而支撐基板I的背面。在基板I的表面，涂布有光致抗蝕劑。在進行基板I的曝光的曝光位置的上空，設有跨越底座3的門閘11。在門閘11上搭載有多個光束照射裝置20。另外，本實施方式雖示出了使用8個光束照射裝置20的曝光裝置的例子，但光束照射裝置的數(shù)量并不限于此，本發(fā)明適用于使用I個或2個以上的光束照射裝置的曝光裝置。圖4是表示光束照射裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。光束照射裝置20是包含光纖(fiber) 22、透鏡 23、反射鏡 24、DMD (Digital Micromirror Device) 25、投影透鏡 26 及 DMD驅(qū)動電路27而構(gòu)成。光纖22將從激光光源單元21產(chǎn)生的紫外光的光束導入光束照射裝置20內(nèi)。從光纖22射出的光束經(jīng)由透鏡23及反射鏡24而照射至DMD25。DMD25是將反射光束的多個微小的反射鏡沿正交的兩方向排列而構(gòu)成的空間光調(diào)制器，變更各反射鏡的角度來調(diào)制光束。經(jīng)DMD25調(diào)制后的光束從照射光學系統(tǒng)的頭部20a進行照射，所述頭部20a包含投影透鏡26。DMD驅(qū)動電路27基于從主控制裝置70供給的繪制數(shù)據(jù)來變更DMD25的各反射鏡的角度。 在圖2及圖3中，夾盤10搭載于0平臺8上，在0平臺8之下設有Y平臺7及X平臺5。X平臺5被搭載于底座3上所設的X導軌4上，沿著X導軌4朝X方向移動。Y平臺7被搭載于X平臺5上所設的Y導軌6上，沿著Y導軌6朝Y方向移動。0平臺8被搭載于Y平臺7上，朝0方向旋轉(zhuǎn)。在X平臺5、Y平臺7及0平臺8上，設有滾珠螺桿及馬達(motor)或線性馬達(linear motor)等未圖示的驅(qū)動機構(gòu),各驅(qū)動機構(gòu)由圖I的平臺驅(qū)動電路60來驅(qū)動。通過0平臺8朝向0方向的旋轉(zhuǎn)，搭載于夾盤10上的基板I以正交的兩邊朝向X方向及Y方向的方式而旋轉(zhuǎn)。通過X平臺5朝向X方向的移動，夾盤10在交接位置與曝光位置之間移動。在曝光位置處，通過X平臺5朝向X方向的移動，從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光束朝X方向來掃描基板I。而且，通過Y平臺7朝向Y方向的移動，從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光束對基板I的掃描區(qū)域朝Y方向移動。在圖I中，主控制裝置70控制平臺驅(qū)動電路60來進行0平臺8朝向0方向的旋轉(zhuǎn)、X平臺5朝向X方向的移動及Y平臺7朝向Y方向的移動。圖5是表示DMD的反射鏡部的一例的圖。光束照射裝置20的DMD25相對于來自光束照射裝置20的光束對基板I的掃描方向(X方向)僅傾斜規(guī)定的角度0而配置。當使DMD25相對于掃描方向而傾斜地配置時，沿正交的兩方向排列的多個反射鏡25a中的任一者將覆蓋(cover)對應鄰接的反射鏡25a間的間隙的部位，因此能夠無間隙地進行圖案的繪制。另外，本實施方式中，通過X平臺5使夾盤10朝X方向移動，從而進行來自光束照射裝置20的光束對基板I的掃描，但也可通過移動光束照射裝置20來進行來自光束照射裝置20的光束對基板I的掃描。而且，本實施方式中，通過Y平臺7使夾盤10朝Y方向移動，由此來變更來自光束照射裝置20的光束對基板I的掃描區(qū)域，但也可通過移動光束照射裝置20來變更來自光束照射裝置20的光束對基板I的掃描區(qū)域。在圖I及圖2中，在底座3上，設置有朝X方向延伸的線性標尺31。在線性標尺31上標注有刻度，所述刻度用于檢測X平臺5朝向X方向的移動量。而且，在X平臺5上，設置有朝Y方向延伸的線性標尺33。在線性標尺33上標注有刻度，所述刻度用于檢測Y平臺7朝向Y方向的移動量。在圖I及圖3中，在X平臺5的一側(cè)面，與線性標尺31相向地安裝著編碼器32。編碼器32檢測線性標尺31的刻度并將脈沖(pulse)信號輸出至主控制裝置70。而且，在圖I及圖2中，在Y平臺7的一側(cè)面，與線性標尺33相向地安裝著編碼器34。編碼器34檢測線性標尺33的刻度并將脈沖信號輸出至主控制裝置70。主控制裝置70對編碼器32的脈沖信號進行計數(shù)(count)，以檢測X平臺5朝向X方向的移動量，并對編碼器34的脈沖信號進行計數(shù)，以檢測Y平臺7朝向Y方向的移動量。圖6是說明激光測長系統(tǒng)的動作的圖。另外，在圖6中，省略了圖I所示的門閘11、光束照射裝置20及圖像處理裝置50。激光測長系統(tǒng)是公知的激光干涉式的測長系統(tǒng)，是包含激光光源41、激光干涉儀42、44及條狀反射鏡(bar mirror) 43、45而構(gòu)成。條狀反射鏡43安裝于夾盤10的朝Y方向延伸的一側(cè)面。而且，條狀反射鏡45安裝于夾盤10的
朝X方向延伸的一側(cè)面。激光干涉儀42將來自激光光源41的激光照射至條狀反射鏡43，并接收被條狀反射鏡43反射后的激光，以對來自激光光源41的激光與被條狀反射鏡43反射后的激光的干涉進行測定。該測定是在Y方向的兩處部位進行。激光測長系統(tǒng)控制裝置40通過主控制裝置70的控制，由激光干涉儀42的測定結(jié)果來檢測夾盤10在X方向上的位置及旋轉(zhuǎn)。
另一方面，激光干涉儀44將來自激光光源41的激光照射至條狀反射鏡45，并接收被條狀反射鏡45反射后的激光，以對來自激光光源41的激光與被條狀反射鏡45反射后的激光的干涉進行測定。激光測長系統(tǒng)控制裝置40通過主控制裝置70的控制，由激光干涉儀44的測定結(jié)果來檢測夾盤10在Y方向上的位置。在圖4中，主控制裝置70具有繪制控制部，所述繪制控制部向光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27供給繪制數(shù)據(jù)。圖7是表示繪制控制部的概略結(jié)構(gòu)的圖。繪制控制部71是包含存儲器(memory) 72、76、帶寬設定部73、中心點坐標決定部74、坐標決定部75、繪制數(shù)據(jù)制作部77及坐標運算部78而構(gòu)成。在存儲器76中保存有設計值映射圖(map)。在設計值映射圖中，以XY坐標示出繪制數(shù)據(jù)。繪制數(shù)據(jù)制作部77由保存在存儲器76中的設計值映射圖，來制作曝光用的繪制數(shù)據(jù)，所述曝光用的繪制數(shù)據(jù)被供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27。存儲器72對于繪制數(shù)據(jù)制作部77所制作的曝光用的繪制數(shù)據(jù)，將其XY坐標作為地址(address)來加以存儲。而且，存儲器72保存有檢查用的繪制數(shù)據(jù)，所述檢查用的繪制數(shù)據(jù)用于檢測后述的光束的變形。帶寬設定部73通過決定從存儲器72讀出的繪制數(shù)據(jù)的Y坐標的范圍，從而對從光束照射裝置20的頭部20a照射的光束的Y方向的帶寬進行設定。激光測長系統(tǒng)控制裝置40對在曝光位置處的基板I開始曝光之前的夾盤10在XY方向上的位置進行檢測。中心點坐標決定部74由激光測長系統(tǒng)控制裝置40所檢測出的夾盤10在XY方向上的位置，決定開始基板I的曝光之前的夾盤10的中心點的XY坐標。在圖I中，當通過來自光束照射裝置20的光束來進行基板I的掃描時，主控制裝置70控制平臺驅(qū)動電路60，通過X平臺5使夾盤10朝X方向移動。當使基板I的掃描區(qū)域移動時，主控制裝置70控制平臺驅(qū)動電路60，通過Y平臺7使夾盤10朝Y方向移動。在圖7中，中心點坐標決定部74對來自編碼器32、34的脈沖信號進行計數(shù)，以對X平臺5朝向X方向的移動量及Y平臺7朝向Y方向的移動量進行檢測，從而決定夾盤10的中心點的XY坐標。坐標決定部75基于中心點坐標決定部74所決定的夾盤10的中心點的XY坐標，來決定曝光用的繪制數(shù)據(jù)的XY坐標，所述曝光用的繪制數(shù)據(jù)被供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27。存儲器72輸入坐標決定部75所決定的XY坐標作為地址，將所輸入的XY坐標的地址上存儲的曝光用的繪制數(shù)據(jù)輸出至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27。以下，對本發(fā)明的一實施方式的曝光方法進行說明。圖8 圖10是說明本發(fā)明的一實施方式的曝光方法的圖。另外，圖9是圖8所示的夾盤的放大圖，在圖8及圖9中，省略了圖I所示的門閘11、光束照射裝置20及C⑶相機52，并以虛線示出光束照射裝置20的頭部20a。而且，圖10是門閘的局部剖面?zhèn)纫晥D。在圖9及圖10中，在夾盤10上設有切口部10a，在切口部IOa處設置有2個CXD相機51。各光束照射裝置20的頭部20a是沿Y方向等間隔地配置，2個CXD相機51以各光束照射裝置20的頭部20a的間隔的整數(shù)倍的間隔而設在夾盤10上。各CXD相機51的 焦點與夾盤10上搭載的基板的表面的高度一致。另外，本實施方式中，在夾盤10中設有2個CXD相機51，但也可在夾盤10上設置3個以上的CXD相機51。本實施方式中，在開始基板的曝光之前，使用夾盤10上所設的CCD相機51，獲取后述的標線片2的檢查用圖案的圖像及從各光束照射裝置20照射的光束的像，并從所獲取的標線片2的檢查用圖案的圖像及光束的像中，預先檢測從各光束照射裝置20照射的光束的變形。在圖10中，在門閘11的內(nèi)部設置有2個CXD相機52。當對從各光束照射裝置20照射的光束的變形進行檢測時，在門閘11的下側(cè)安裝標線片架(holder) 53，在標線片架53上安裝標線片2。標線片2以下表面的聞度與搭載于夾盤10上的基板的表面的聞度相同的方式而設置。圖11(a)是標線片的底視圖。在標線片2的下表面，設有與光束照射裝置20的數(shù)量對應的數(shù)量的檢查用圖案群2aG和2個位置確認用圖案2b。各檢查用圖案群2aG以與各光束照射裝置20的頭部20a的間隔相同的間隔而設。2個位置確認用圖案2b以與門閘11的內(nèi)部所設的2個CCD相機52的間隔相同的間隔而設。在圖10中，各CXD相機52的焦點與標線片2的下表面的高度一致。各CXD相機52獲取標線片2的下表面的各位置確認用圖案2b的圖像。標線片2是基于2個CCD相機52所獲取的2個位置確認用圖案2b的圖像，以各檢查用圖案群2aG的中心與各光束照射裝置20的頭部20a的中心一致的方式而定位。圖11(b)是檢查用圖案群的一例的放大圖。圖11(b)示出了在I個檢查用圖案群2aG中設有9個檢查用圖案2a的例子。本例的各檢查用圖案2a呈正方形的框形。在圖11(b)中，以虛線表示的大四角26a表示經(jīng)DMD25調(diào)制后從投影透鏡26照射的光束的照射區(qū)域。而且，以虛線表示的小四角51a表示CCD相機51的視野的大小。在圖8中，主控制裝置70在夾盤10上未搭載基板的狀態(tài)下，基于激光測長系統(tǒng)控制裝置40的檢測結(jié)果來控制平臺驅(qū)動電路60，通過X平臺5及Y平臺7使夾盤10移動，使安裝在夾盤10上的CCD相機51位于對光束的變形進行檢測的光束照射裝置20的頭部20a的正下方。圖8 圖10表示CXD相機51位于對光束的變形進行檢測的光束照射裝置20的頭部20a的正下方的狀態(tài)。
在此狀態(tài)下，主控制裝置70從繪制控制部71將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至對光束的變形進行檢測的光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27。被供給檢查用的繪制數(shù)據(jù)的光束照射裝置20從其頭部20a照射檢查用的光束。基于檢查用的繪制數(shù)據(jù)而經(jīng)DMD25調(diào)制后的檢查用的光束在無變形時，分別照射至圖11(b)所示的各檢查用圖案2a的中心。接下來，主控制裝置70基于激光測長系統(tǒng)控制裝置40的檢測結(jié)果來控制平臺驅(qū)動電路60，通過X平臺5及Y平臺7使夾盤10移動，使C⑶相機51移動到檢查用圖案群2aG中的I個檢查用圖案2a的正下方。C⑶相機51使焦點與標線片2的下表面的高度一致，獲取標線片2的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置20照射的光束的像。圖11(c)是表示檢查用圖案的圖像與光束的像的一例的圖。當從光束照射裝置20照射的光束無變形時，光束的像2c出現(xiàn)在檢查用圖案2a的中心。當光束存在變形時，光束的像2c如圖11(c)所示，偏離檢查用圖案2a的中心。在圖11(c)所示的例子中，檢查用圖案2a與光束的像2c的位置偏移量為dX、dY。在圖I中，圖像處理裝置50對CXD相機51的圖像信號進行處理，以檢測檢查用圖案2a與光束的像2c的位置偏移量。
當僅從光束的像2c中檢測光束的位置偏移時，必須使用激光測長系統(tǒng)等來另行測定CCD相機51的位置，但在本實施方式中，從標線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中檢測光束的位置偏移，因此可使用高精度的標線片2的檢查用圖案2a來精度良好地檢測光束的位置偏移。然后，圖像處理裝置50對2個CXD相機52所獲取的標線片2的2個位置確認用圖案的圖像的圖像信號進行處理，以檢測標線片2的位置偏移量，并對光束的位置偏移量進行修正。由于對標線片2的位置偏移進行檢測，并對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，因此光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度提高。同樣地，主控制裝置70基于激光測長系統(tǒng)控制裝置40的檢測結(jié)果來控制平臺驅(qū)動電路60，通過X平臺5及Y平臺7使夾盤10移動，使CXD相機51依序移動到檢查用圖案群2aG中的其他檢查用圖案2a的正下方。CCD相機51使焦點與標線片2的下表面的高度一致，分別獲取各檢查用圖案2a的圖像及各光束的像2c。圖像處理裝置50對CXD相機51的圖像信號進行處理，分別檢測各檢查用圖案2a與各光束的像2c的位置偏移量。然后，圖像處理裝置50對2個CXD相機52所獲取的標線片2的2個位置確認用圖案的圖像的圖像信號進行處理，以檢測標線片2的位置偏移量，并分別對各檢測部位的光束的位置偏移量進行修正。在圖7中，繪制控制部71的坐標運算部78通過圖像處理裝置50檢測出的9個檢測部位的各檢查用圖案2a與各光束的像2c的位置偏移量，來檢測從光束照射裝置20照射的光束的變形。由于在夾盤10上設置CXD相機51，在光束照射裝置20的頭部20a與CXD相機51之間配置設有檢查用圖案2a的標線片2，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27，通過CXD相機51來獲取標線片2的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像2c，從由CXD相機51所獲取的標線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形，因此無須實際上進行基板的曝光，可容易地檢測從光束照射裝置20照射的光束的變形。同樣地，主控制裝置70使CXD相機51依序位于各光束照射裝置20的頭部20a的正下方，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)依序供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27，以檢測從各光束照射裝置20照射的光束的變形。當對所有光束照射裝置20檢測完光束的變形后，從門閘11的下表面拆除標線片2及標線片架53。在圖7中，繪制控制部71的繪制數(shù)據(jù)制作部77基于坐標運算部78對光束變形的檢測結(jié)果，對存儲在存儲器72中的曝光用的繪制數(shù)據(jù)的XY坐標進行修正。在進行基板I的曝光時，繪制控制部71將修正了坐標的曝光用的繪制數(shù)據(jù)供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27?；趶母鞴馐丈溲b置20照射的光束的變形的檢測結(jié)果，對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至各光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27，因此可抑制從各光束照射裝置20照射的光束的變形，提高繪制精度。另外，在以上說明的實施方式中，在光束的照射區(qū)域26a內(nèi)的9處部位檢測光束的位置偏移，但本發(fā)明并不限于此，也可在光束的照射區(qū)域26a的其他多個部位檢測光束的位置偏移量，以檢測從光束照射裝置20照射的光束的變形。圖12 圖15是說明通過光束來掃描基板的圖。圖12 圖15表示了通過來自8 個光束照射裝置20的8個光束來進行4次基板I的X方向的掃描，以掃描整個基板I的例子。在圖12 圖15中，以虛線示出了各光束照射裝置20的頭部20a。從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光束在Y方向上具有帶寬W，通過X平臺5朝向X方向的移動，朝箭頭所示的方向來掃描基板I。圖12表示第I次掃描，通過朝向X方向的第I次掃描，在圖12中以灰色表示的掃描區(qū)域中進行圖案的繪制。當?shù)贗次掃描結(jié)束時，通過Y平臺7朝向Y方向的移動，基板I朝Y方向僅移動與帶寬W相同的距離。圖13表示第2次掃描，通過朝向X方向的第2次掃描，在圖13中以灰色表示的掃描區(qū)域中進行圖案的繪制。當?shù)?次掃描結(jié)束時，通過Y平臺7朝向Y方向的移動，基板I朝Y方向僅移動與帶寬W相同的距離。圖14表示第3次掃描，通過朝向X方向的第3次掃描，在圖14中以灰色表示的掃描區(qū)域中進行圖案的繪制。當?shù)?次掃描結(jié)束時，通過Y平臺7朝向Y方向的移動，基板I朝Y方向僅移動與帶寬W相同的距離。圖15表不第4次掃描,通過朝向X方向的4次掃描,在圖15中以灰色表不的掃描區(qū)域中進行圖案的繪制，整體基板I的掃描結(jié)束。通過利用來自多個光束照射裝置20的多個光束來同時進行基板I的掃描，能夠縮短整個基板I的掃描所耗的時間，從而能夠縮短作業(yè)時間(tact time)。另外，圖12 圖15中，表示了進行4次基板I的X方向的掃描以掃描整個基板I的例子，但掃描的次數(shù)并不限于此，也可以進行3次以下或5次以上基板I的X方向的掃描以掃描整個基板I。根據(jù)以上說明的實施方式，由于在夾盤10上設置C⑶相機51，在光束照射裝置20的頭部20a與CCD相機51之間配置設有檢查用圖案2a的標線片2，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27，通過CCD相機51來獲取標線片2的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像2c，從由CXD相機51所獲取的標線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形，由此，無須實際上進行基板的曝光，可容易地檢測從光束照射裝置20照射的光束的變形。而且，通過從標線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2c中檢測光束的位置偏移，能夠使用高精度的標線片2的檢查用圖案2a來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而能夠精度良好地檢測光束的變形。并且，基于光束變形的檢測結(jié)果，對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至光束照射裝置20的DMD驅(qū)動電路27，由此，能夠抑制從光束照射裝置20照射的光束的變形，從而能夠提高繪制精度。進而，對標線片2的位置偏移進行檢測，并對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，由此能夠提高光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度，從而能夠進一步精度良好地檢測光束的變形。通過使用本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法來進行基板的曝光，能夠抑制從光束照射裝置照射的光束的變形，從而能夠提高繪制精度，因此能夠制造高品質(zhì)的顯示用面板基板。例如，圖16是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的制造工序的一例的流程圖。在薄膜形成工序(步驟101)中，借由派鍍(sputter)法或等離子體化學氣相沉積(ChemicalVapor Deposition, CVD)法等,在基板上形成作為液晶驅(qū)動用的透明電極的導電體膜或絕緣體膜等的薄膜。在抗蝕劑涂布工序(步驟102)中，借由滾涂法等來涂布光致抗蝕劑，在薄 膜形成工序(步驟101)中所形成的薄膜上形成光致抗蝕劑膜。在曝光工序(步驟103)中，使用曝光裝置，在光致抗蝕劑膜上形成圖案。在顯影工序(步驟104)中，借由噴淋(shower)顯影法等來將顯影液供給到光致抗蝕劑膜上，以去除光致抗蝕劑膜的多余部分。在蝕刻工序(步驟105)中，借由濕式蝕刻(wet etching)來將在薄膜形成工序(步驟101)中形成的薄膜中的未被光致抗蝕劑膜遮擋的部分予以去除。在剝離工序(步驟106)中，借由剝離液來將在蝕刻工序(步驟105)中完成了光掩膜作用的光致抗蝕劑膜予以剝離。在所述各工序之前或之后，根據(jù)需要來實施基板的清洗/干燥工序。將這些工序重復多次，在基板上形成TFT陣列(array)。而且，圖17是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光器基板的制造工序的一例的流程圖。在黑矩陣(black matrix)形成工序(步驟201)中，借由抗蝕劑涂布、曝光、顯影、蝕刻、剝離等的處理來在基板上形成黑矩陣。在著色圖案形成工序(步驟202)中，借由染色法或顏料分散法等來在基板上形成著色圖案。針對R、G、B的著色圖案而重復該工序。在保護膜形成工序(步驟203)中，在著色圖案上形成保護膜，在透明電極膜形成工序(步驟204)中，在保護膜上形成透明電極膜。在所述各工序之前、中途或之后，根據(jù)需要來實施基板的清洗/干燥工序。在圖16所示的TFT基板的制造工序中，可將本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法適用于曝光工序(步驟103);在圖17所示的彩色濾光器基板的制造工序中，可將本發(fā)明的曝光裝置或曝光方法適用于黑矩陣形成工序(步驟201)及著色圖案形成工序(步驟202)的曝光處理。本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法是利用夾盤來支撐涂布有光致抗蝕劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對移動，光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束，通過來自光束照射裝置的光束掃描基板，以在基板上繪制圖案，此曝光裝置的檢查方法中，在夾盤上設置第I圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，通過第I圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第I圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移。無須實際上進行基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。而且，通過從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢測光束的位置偏移，可使用高精度的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而可精度良好地檢測光束的變形。進而，本發(fā)明的曝光裝置的檢查方法中，在標線片上設置多個位置確認用圖案，且設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置確認用圖案的圖像，從由多個第2圖像獲取裝置所獲取的標線片的多個位置確認用圖案的圖像中， 檢測標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。通過對標線片的位置偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正，從而能夠提高光束的位置偏移的檢測結(jié)果的精度，從而能夠進一步精度良好地檢測光束的變形。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，包括 夾盤，支撐涂布有光致抗蝕劑的基板； 光束照射裝置，具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動所述空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束；以及移動機構(gòu)，使所述夾盤與所述光束照射裝置相對移動， 通過所述移動機構(gòu)使所述夾盤與所述光束照射裝置相對移動，通過來自所述光束照射裝置的光束來掃描所述基板，以在所述基板上繪制圖案，所述曝光裝置的特征在于包括繪制控制機構(gòu)，將檢查用的繪制數(shù)據(jù)及曝光用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動電路； 第I圖像獲取裝置，設在所述夾盤上； 標線片，配置在所述光束照射裝置的頭部與所述第I圖像獲取裝置之間，且設有檢查用圖案；以及 圖像處理裝置，從所述第I圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所述檢查用圖案的圖像及所述光束照射裝置照射的光束的像中，檢測光束的位置偏移， 所述繪制控制機構(gòu)將所述檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動電路，并基于由所述圖像處理裝置檢測出的光束的位置偏移來檢測光束的變形，以對所述曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光裝置，其特征在于， 所述標線片具有多個位置確認用圖案， 所述曝光裝置具備多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像， 所述圖像處理裝置從所述多個第2圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像中，檢測所述標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。
3.—種曝光方法，利用夾盤來支撐涂布有光致抗蝕劑的基板， 使所述夾盤與光束照射裝置相對移動，所述光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動所述空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束， 通過來自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板，以在所述基板上繪制圖案，所述曝光方法的特征在于， 在所述夾盤上設置第I圖像獲取裝置， 在所述光束照射裝置的頭部與所述第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片， 將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動電路， 通過所述第I圖像獲取裝置，獲取所述標線片的所述檢查用圖案的圖像及從所述光束照射裝置照射的光束的像， 從由所述第I圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所述檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形， 基于光束變形的檢測結(jié)果，對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動電路。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光方法，其特征在于， 在所述標線片上設置多個位置確認用圖案， 設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像， 從由所述多個第2圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像中，檢測所述標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。
5.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于， 使用權(quán)利要求I或2所述的曝光裝置來進行所述基板的曝光。
6.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于， 使用權(quán)利要求3或4所述的曝光方法來進行所述基板的曝光。
7.—種曝光裝置的檢查方法，利用夾盤來支撐涂布有光致抗蝕劑的基板， 使所述夾盤與光束照射裝置相對移動，所述光束照射裝置具有空間光調(diào)制器、驅(qū)動電路以及包含照射光學系統(tǒng)的頭部，所述空間光調(diào)制器對光束進行調(diào)制，所述驅(qū)動電路基于繪制數(shù)據(jù)來驅(qū)動所述空間光調(diào)制器，所述照射光學系統(tǒng)照射經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束， 通過來自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板，以在所述基板上繪制圖案，所述曝光裝置的檢查方法的特征在于， 在所述夾盤上設置第I圖像獲取裝置， 在所述光束照射裝置的頭部與所述第I圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片， 將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至所述光束照射裝置的所述驅(qū)動電路， 通過所述第I圖像獲取裝置，獲取所述標線片的所述檢查用圖案的圖像及從所述光束照射裝置照射的光束的像， 從由所述第I圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所述檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光裝置的檢查方法，其特征在于， 在所述標線片上設置多個位置確認用圖案， 設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像， 從由所述多個第2圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像中，檢測所述標線片的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結(jié)果進行修正。
全文摘要
一種曝光裝置及其曝光、檢查方法及顯示用面板基板的制造方法，本發(fā)明抑制從光束照射裝置照射的光束的變形以提高繪制精度。在夾盤上設置第1圖像獲取裝置(CCD相機(51))，在光束照射裝置的頭部與第1圖像獲取裝置之間配置設有檢查用圖案的標線片。將檢查用的繪制數(shù)據(jù)供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路，通過第1圖像獲取裝置來獲取標線片的檢查用圖案(2a)的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像(2c)。從由第1圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案(2a)的圖像及光束的像(2c)中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形?；诠馐冃蔚臋z測結(jié)果，對曝光用的繪制數(shù)據(jù)的坐標進行修正，并供給至光束照射裝置的驅(qū)動電路。
文檔編號G03F7/20GK102799073SQ201210159670
公開日2012年11月28日 申請日期2012年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月20日
發(fā)明者林知明, 吉田稔, 本田英之 申請人:株式會社日立高科技