專利名稱：感光性元件、抗蝕圖案形成方法及印刷電路板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法。
背景技術(shù)：
以往，在印刷電路板的制造領(lǐng)域中，作為用于蝕刻或鍍覆等的抗蝕材料，廣泛使用 感光性元件。感光性元件通常是通過在支持體上形成由感光性樹脂組合物構(gòu)成的感光層后，在該感光層上形成保護(hù)膜來得到。感光性元件可以進(jìn)行如下操作形成抗蝕圖案。首先，剝離感光性元件的保護(hù)膜后，將感光層層壓到基板(銅基板)上。接著，將制作有圖案的光工具(phototool)密合于支持體上，照射(曝光)紫外線等活性光線后，噴霧顯影液除去未曝光部。近年來，隨著印刷電路板的高密度化和高精細(xì)化，對感光性元件要求高析像度和高密合性化。另外，為了提高印刷電路板的生產(chǎn)率，要求感光性元件的高靈敏度化。為了迎合這些要求，進(jìn)行過旨在改善感光性樹脂組合物的特性的試驗(yàn)(參照專利文獻(xiàn)I)。另一方面，作為抗蝕圖案的形成方法，不使用光工具而直接描繪的所謂直接描繪曝光法受到了人們的注目。認(rèn)為通過該直接描繪曝光法，可以實(shí)現(xiàn)高生產(chǎn)率且高析像度的抗蝕圖案的形成。直接描繪曝光法可以舉出激光直接描繪曝光法和DLP (Digital LightProcessing :數(shù)字光處理)曝光法等。激光直接描繪曝光法中，可以實(shí)際利用激發(fā)出波長405nm的激光的，長壽命且高輸出的氮化鎵系藍(lán)色激光器光源。在直接描繪曝光法中通過利用這種短波長的激光，有望實(shí)現(xiàn)對于以往來說制造困難的高密度抗蝕圖案的形成。另外，DLP曝光法是應(yīng)用了由德州儀器公司提倡的DLP系統(tǒng)的方法，已由BalI半導(dǎo)體公司提出，并已開始了應(yīng)用該方法的曝光裝置的實(shí)用化。專利文獻(xiàn)I中記載的感光性元件是針對以波長365nm的光為中心的水銀燈光源的全波長曝光來設(shè)計(jì)的。因此，對于直接描繪曝光法的曝光光(例如以波長405nm的光為中心的藍(lán)紫色半導(dǎo)體激光)的感光性元件的靈敏度低，難以充分提高生產(chǎn)率。因此，提出了含有六芳基二咪唑化合物和二茂鈦(titanocene)化合物作為自由基產(chǎn)生劑，并且含有二烷基氨基苯化合物作為增感色素的感光性元件(參照專利文獻(xiàn)2)。專利文獻(xiàn)I :日本特開平10-110008號公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2002-296764號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題可是，即使是專利文獻(xiàn)2中記載的感光性元件，也不能說對直接描繪曝光法的曝光光具有充分的靈敏度。本發(fā)明的目的是提供對于直接描繪曝光法的曝光光具有充分高的靈敏度的感光性元件。解決問題的方案本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長為37(T420nm的化合物的感光性樹脂組合物形成，保護(hù)膜的主要成分是聚丙烯。另外，本發(fā)明的感光性元件是順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑、以及下述通式(I)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹脂組合物形成，保護(hù)膜的主要成分是聚丙烯。[化學(xué)式I]
權(quán)利要求
1.ー種感光性元件，其特征在于，順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長為37(T420nm的化合物的感光性樹脂組合物形成，所述保護(hù)膜以聚丙烯為主要成分。
2.ー種感光性元件，其特征在于，順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及下述通式(I)、(2)和/或(3)所示的增感劑的感光性樹脂組合物形成，所述保護(hù)膜以聚丙烯為主要成分， [化學(xué)式I]
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的感光性元件，其中，所述R分別獨(dú)立地為從正丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所組成的組中選出的基團(tuán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的感光性元件，其中，所述通式(I)所示的化合物為I-苯基-3- (4-叔丁基苯こ烯基)-5- (4-叔丁基苯基)吡唑啉。
5.根據(jù)權(quán)利要求2 4中的任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物，其中，所述R1和R2各自獨(dú)立地為碳原子數(shù)廣4的烷基，所述R3、R4、R5> R6> R7> R8> R9和Rw為氫原子。
6.根據(jù)權(quán)利要求2飛中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述通式(2)所示的化合物為9，10-ニ丁氧基蒽。
7.根據(jù)權(quán)利要求2飛中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述通式(3)所示的化合物為7- ニこ氨基-4-甲基香豆素。
8.根據(jù)權(quán)利要求Γ7中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述光聚合引發(fā)劑為2,4, 5-三芳基咪唑ニ聚物。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述保護(hù)膜中的直徑在80 μ m以上的魚眼的存在密度為5個(gè)/m2以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求廣9中的任一項(xiàng)所述的感光性元件，其中，所述保護(hù)膜的厚度為b 60 μ m0
11.一種抗蝕圖案的形成方法，其特征在于，具備邊從感光層上剝離權(quán)利要求f 10中的任一項(xiàng)所述的感光性元件的保護(hù)膜，邊將所述感光層層疊在電路形成用基板上的層疊エ序；對于被層疊的所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光エ序；對所述照射活性光線后的所述感光層進(jìn)行顯影來形成抗蝕圖案的顯影エ序。
12.—種印刷電路板的制造方法，其特征在于，具備邊從感光層上剝離權(quán)利要求f 10中的任一項(xiàng)所述的感光性元件的保護(hù)膜，邊將所述感光層層疊在電路形成用基板上的層疊エ序；對于被層疊的所述感光層的規(guī)定部分照射活性光線的曝光エ序；對所述照射活性光線后的所述感光層進(jìn)行顯影來形成抗蝕圖案的顯影エ序；對所述形成有抗蝕圖案的所述電路形成用基板進(jìn)行蝕刻或鍍覆來形成導(dǎo)體圖案的導(dǎo)體圖案形成エ序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種順次層疊支持體、感光層、保護(hù)膜而成的感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法，所述感光層由含有粘合劑聚合物、光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑以及最大吸收波長為370~420nm的化合物的感光性樹脂組合物形成，所述保護(hù)膜是以聚丙烯為主要成分。
文檔編號G03F7/11GK102662306SQ201210142249
公開日2012年9月12日 申請日期2007年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月18日
發(fā)明者大橋武志, 宮坂昌宏, 市川立也, 齋藤學(xué), 熊木尚, 磯純一, 賴華子 申請人:日立化成工業(yè)株式會社