專利名稱：光刻設(shè)備和器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光刻設(shè)備、可編程圖案形成裝置和器件制造方法。
背景技術(shù)：
光刻設(shè)備是施加期望的圖案到襯底或一部分襯底上的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用于例 如集成電路(1C)、平板顯示器以及具有精細(xì)特征的其它裝置或結(jié)構(gòu)的制造中。在傳統(tǒng)的光刻設(shè)備中，可以將稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于1C、平板顯示器或其它裝置的單層的電路圖案?？梢詫⑦@一圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如經(jīng)由成像將所述圖案轉(zhuǎn)移到在所述襯底上設(shè)置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。除了電路圖案，圖案形成裝置還可以用于產(chǎn)生其它圖案，例如彩色濾光片圖案或點(diǎn)的矩陣。替代傳統(tǒng)的掩模，圖案形成裝置可以包括圖案形成陣列，該圖案形成陣列包括產(chǎn)生電路或其它可應(yīng)用圖案的獨(dú)立可控元件的陣列。與傳統(tǒng)的基于掩模的系統(tǒng)相比，這樣的“無(wú)掩?！毕到y(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是，可以更加快速地設(shè)置和/或更換圖案，且成本較小。因此，無(wú)掩模系統(tǒng)包括可編程圖案形成裝置(例如空間光調(diào)制器、對(duì)比度裝置等)。使用獨(dú)立可控元件的陣列對(duì)可編程圖案形成裝置進(jìn)行(例如電子或光學(xué)地)編程，用于形成期望的圖案化的束?？删幊虉D案形成裝置的類型包括微反射鏡陣列、液晶顯示器(LCD)陣列、光柵光閥陣列等。

發(fā)明內(nèi)容
例如期望提供一種靈活的、低成本的光刻設(shè)備，該光刻設(shè)備包括可編程圖案形成
>J-U ρ α裝直。在一實(shí)施例中，公開了一種光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備包括調(diào)制器和投影系統(tǒng)，所述調(diào)制器配置成將襯底的曝光區(qū)域暴露于根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束，所述投影系統(tǒng)配置成將調(diào)制的束投影到襯底上。調(diào)制器可以相對(duì)于曝光區(qū)域移動(dòng)，和/或投影系統(tǒng)可以具有用于接收多個(gè)束的透鏡陣列，所述透鏡陣列可相對(duì)于曝光區(qū)域移動(dòng)。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備可以例如設(shè)置有光學(xué)裝置列(或稱為光具組)(opticalcolumn)，所述光學(xué)裝置列能夠在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案。光學(xué)裝置列可以設(shè)置有自發(fā)射式對(duì)比度裝置，配置成發(fā)射束；和投影系統(tǒng)，配置成將所述束的至少一部分投影到目標(biāo)部分上。所述設(shè)備可以設(shè)置有致動(dòng)器，所述致動(dòng)器用于相對(duì)于襯底移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分。由此，可以相對(duì)于所述束移動(dòng)襯底。通過在移動(dòng)期間接通或關(guān)斷自發(fā)射式對(duì)比度裝置，可以在襯底上生成圖案。
光學(xué)裝置列的公差可能導(dǎo)致被投影到襯底上的圖案的不準(zhǔn)確性。例如期望提供一種光刻設(shè)備，其對(duì)光學(xué)裝置列或其一部分的公差較不敏感。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，提供了一種光刻設(shè)備，包括光學(xué)裝置列，配置成在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案，所述光學(xué)裝置列包括可編程圖案形成裝置，配置成提供多個(gè)輻射束，和投影系統(tǒng)，配置成將所述多個(gè)輻射束投影到襯底上，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)透鏡;致動(dòng)器，配置成移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分，以在襯底的目標(biāo)部分上掃描所述多個(gè)輻射束，其中，所述光學(xué)裝置列配置成經(jīng)由所述投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡一次 將所述多個(gè)輻射束中的至少兩個(gè)輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，提供了一種器件制造方法，包括使用光學(xué)裝置列在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案，所述光學(xué)裝置列具有將多個(gè)輻射束投影到襯底上的投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)透鏡；和相對(duì)于襯底移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分，其中通過投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡一次將多個(gè)輻射束中的至少兩個(gè)輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。


并入本文中且形成說明書的一部分的附圖顯示了本發(fā)明的實(shí)施例，且另外與所述描述一起用于說明本發(fā)明的原理并使得相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠進(jìn)行和使用本發(fā)明。在附圖中，相同的參考標(biāo)記可以表示相同的或功能類似的元件。圖I顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。圖2顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。圖3顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。圖4顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。圖5顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。圖6(A)_(D)顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分的示意俯視圖和側(cè)視圖。圖7(A)_(0)顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分的示意俯視圖和側(cè)視圖。圖7(P)顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的獨(dú)立可尋址元件的功率/前向電流圖。圖8顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。圖9顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。圖10顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。圖11顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于光刻設(shè)備的獨(dú)立可控元件的陣列的示意俯視圖。圖12顯示使用本發(fā)明的實(shí)施例將圖案轉(zhuǎn)移到襯底的模式。圖13顯示光學(xué)引擎的示意性布置。
圖14㈧和⑶顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分的示意側(cè)視圖。圖15顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。圖16(A)顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分的示意側(cè)視圖。圖16(B)顯示相對(duì)于襯底的傳感器的檢測(cè)區(qū)域的示意位置。圖17顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。圖18顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意橫截面?zhèn)纫晥D。圖19顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意俯視圖的布局。
圖20顯示圖19中的光刻設(shè)備的一部分的示意三維視圖。圖21顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖的布局，且顯不出相對(duì)于獨(dú)立可控元件設(shè)定的光學(xué)元件242的三個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。圖22顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖的布局，且顯不出相對(duì)于獨(dú)立可控元件設(shè)定的光學(xué)元件242的三個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。圖23顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖的布局，且顯不出相對(duì)于獨(dú)立可控元件設(shè)定的光學(xué)元件242的五個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。圖24顯示在使用直徑為5. 6mm的標(biāo)準(zhǔn)激光二極管用于獲得橫過襯底的寬度的全部覆蓋情況下的獨(dú)立可控元件102的一部分的示意性布局。圖25顯示圖24的細(xì)節(jié)的示意布局。圖26顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖的布局。圖27顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖的布局。圖28顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖的布局，且顯不出相對(duì)于獨(dú)立可控元件設(shè)定的光學(xué)元件242的五個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。圖29顯示圖28的光刻設(shè)備的一部分的示意三維視圖。圖30示意性顯示通過圖28和29中設(shè)定的單個(gè)可移動(dòng)光學(xué)元件242同時(shí)寫出的8條線的布置。圖31顯示用于控制聚焦的示意性布置，其中具有圖28和29的布置中的移動(dòng)屋頂狀部件(rooftop)。圖32顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的、根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的不意橫截面?zhèn)纫晥D。圖33顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分。圖34示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖33的光刻設(shè)備的一部分的俯視圖。圖35示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分的高度示意性的透視圖。圖36示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的通過圖35的光刻設(shè)備在襯底上的投影的示意俯視圖。
具體實(shí)施例方式在此處描述了無(wú)掩模光刻設(shè)備、無(wú)掩模光刻方法、可編程圖案形成裝置和其它設(shè)備、制造的物件以及方法的一個(gè)或更多的實(shí)施例。在一實(shí)施例中，提供了低成本和/或靈活的無(wú)掩模光刻設(shè)備。由于它是無(wú)掩模的，因此不需要傳統(tǒng)的掩模用于曝光例如IC或平板顯示器。類似地，不需要用于封裝應(yīng)用的一個(gè)或更多個(gè)環(huán)；可編程圖案形成裝置可以為封裝應(yīng)用提供數(shù)字邊緣處理“環(huán)”，用于避免邊緣投影。無(wú)掩模(數(shù)字圖案化)可以能夠使用柔性的襯底。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備能夠用于超非臨界(super-non-critical)的應(yīng)用。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備能夠具有> O. Iym的分辨率，例如> O. 5 μ m的分辨率或> I μ m的分辨率。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備能夠具有< 20 μ m的分辨率、例如< IOym的分辨率或^ 5ym的分辨率。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備能夠具有 O. 1-10 μ m的分辨率。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備能夠具有彡50nm的重疊，例如彡IOOnm的重疊、彡200nm的重疊或彡300nm的 重疊。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備能夠具有彡500nm的重疊，例如彡400nm的重疊、彡300nm的重疊或< 200nm的重疊。這些重疊和分辨率值可以與襯底尺寸和材料無(wú)關(guān)。在一實(shí)施例中,光刻設(shè)備具有很高的靈活性。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備可擴(kuò)展至不同尺寸、類型和特性的襯底。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備具有實(shí)際上無(wú)限的場(chǎng)尺寸。因此，光刻設(shè)備可以用單個(gè)光刻設(shè)備或用使用大的公共的光刻設(shè)備平臺(tái)的多個(gè)光刻設(shè)備進(jìn)行多種應(yīng)用(例如，1C、平板顯示器、封裝等)。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備允許產(chǎn)生自動(dòng)化作業(yè)，用于提供柔性的制造。在一個(gè)實(shí)施例中，光刻設(shè)備提供3D集成。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備是低成本的。在一實(shí)施例中，僅使用公共的現(xiàn)有(off-the-shelf)的部件(例如，發(fā)射輻射二極管、簡(jiǎn)單的可移動(dòng)的襯底保持器以及透鏡陣列)。在一個(gè)實(shí)施例中，像素-柵格成像用于使得簡(jiǎn)單的投影光學(xué)裝置進(jìn)行操作。在一實(shí)施例中，使用具有單個(gè)掃描方向的襯底保持器來降低成本和/或減小復(fù)雜性。圖I示意性地顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻投影設(shè)備100。設(shè)備100包括圖案形成裝置104、物體保持器106(例如物體臺(tái)，例如襯底臺(tái))以及投影系統(tǒng)108。在一實(shí)施例中，圖案形成裝置104包括用于調(diào)制輻射的多個(gè)獨(dú)立可控元件102，用于施加圖案至束110。在一實(shí)施例中，可以相對(duì)于投影系統(tǒng)108固定多個(gè)獨(dú)立可控元件102的位置。然而，在可替代的布置中，多個(gè)獨(dú)立可控元件102可以連接至定位裝置(未顯示)，用于根據(jù)特定的參數(shù)(例如相對(duì)于投影系統(tǒng)108)精確地定位它們中的一個(gè)或更多個(gè)。在一實(shí)施例中，圖案形成裝置104是自發(fā)射式對(duì)比度裝置。這樣的圖案形成裝置104消除了對(duì)輻射系統(tǒng)的要求，其可以例如減小光刻設(shè)備的成本和尺寸。例如，每一獨(dú)立可控元件102是發(fā)射輻射二極管，例如發(fā)光二極管(LED)、有機(jī)LED(OLED)、聚合物L(fēng)ED(PLED)或激光二極管(例如固態(tài)激光二極管)。在一實(shí)施例中，每一獨(dú)立可控元件102是激光二極管。在一實(shí)施例中，每一獨(dú)立可控元件102是藍(lán)紫激光二極管(例如Sanyo型號(hào)no. DL-3146-151)。這樣的二極管由諸如Sanyo, Nichia, Osram和Nitride等公司供應(yīng)。在一實(shí)施例中，二極管發(fā)射具有約365nm或約405nm的波長(zhǎng)的輻射。在一實(shí)施例中，二極管可以提供從0. 5-100mW的范圍選出的輸出功率。在一實(shí)施例中，激光二極管(裸管芯)的尺寸是從250-600微米的范圍選出的。在一實(shí)施例中，激光二極管具有從1-5微米的范圍選出的發(fā)射區(qū)域。在一實(shí)施例中，激光二極管具有從7-44度的范圍選出的發(fā)散角。在一實(shí)施例中，圖案形成裝置104具有約I X IO5個(gè)二極管，具有用于提供多于或等于約6. 4X IO8W/(m2. sr)的總亮度的配置(例如發(fā)射區(qū)域、發(fā)散角、輸出功率等)。在一實(shí)施例中，自發(fā)射式對(duì)比度裝置包括比在另一獨(dú)立可控元件102不能操作或不能適當(dāng)操作的情況下允許使用的“冗余”的獨(dú)立可控元件102所需要的獨(dú)立可尋址元件更多的獨(dú)立可尋址元件102。在一實(shí)施例中，冗余的獨(dú)立可控元件可能有利地用在使用例如在下文關(guān)于圖5所討論的可移動(dòng)的獨(dú)立可控元件102的實(shí)施例中。在一實(shí)施例中，自發(fā)射式對(duì)比度裝置中的獨(dú)立可控元件102在獨(dú)立可控元件102 (例如激光二極管)的功率/前向電流曲線的陡斜部分中被操作。這可能是更加有效率的且導(dǎo)致較少的功率損耗/熱量。在一實(shí)施例中，在使用時(shí)，每個(gè)獨(dú)立可控元件的光輸出是至少ImW,例如至少10mW、至少25mW、至少50mW、至少IOOmW或至少200mW。在一實(shí)施例中，在使用時(shí)，每個(gè)獨(dú)立可控元件的光輸出是小于300mW，小于250mW，小于200mW，小于150mW，小于IOOmW,小于50mW,小于25mW,或小于10mW。在一實(shí)施例中，在使用時(shí)每個(gè)可編程圖案 形成裝置的用于操作獨(dú)立可控元件的功率損耗小于10kW，例如小于5kW，小于lkW，或小于O. 5kW。在一實(shí)施例中，在使用時(shí)用于操作獨(dú)立可控元件的每一可編程圖案形成裝置的功率損耗是至少100W，例如至少300W，至少500W，或至少lkW。光刻設(shè)備100包括物體保持器106。在本實(shí)施例中，物體保持器包括用于保持襯底114(例如涂覆有抗蝕劑的硅晶片或玻璃襯底)的物體臺(tái)106。物體臺(tái)106可以是可移動(dòng)的且連接至定位裝置116，用于根據(jù)特定的參數(shù)精確地定位襯底114。例如定位裝置116可以相對(duì)于投影系統(tǒng)108和/或圖案形成裝置104精確地定位襯底114。在一實(shí)施例中，可以用定位裝置116來實(shí)現(xiàn)物體臺(tái)106的移動(dòng)，該定位裝置116包括未在圖I中具體示出的長(zhǎng)行程模塊(粗定位)和可選的短行程模塊(精定位)。在一實(shí)施例中，所述設(shè)備至少?zèng)]有用于移動(dòng)物體臺(tái)106的短行程模塊?？梢允褂妙愃频南到y(tǒng)定位獨(dú)立可控元件102。應(yīng)當(dāng)理解，束110可以替代地/另外地是可移動(dòng)的，而物體臺(tái)106和/或獨(dú)立可控元件102可以具有固定的位置，用于提供所需要的相對(duì)移動(dòng)。這樣的布置可以幫助限制設(shè)備的尺寸。在可以例如用在平板顯示器的制造中的實(shí)施例中，物體臺(tái)106可以是靜止的，定位裝置116配置成相對(duì)于物體臺(tái)106(例如在其上)移動(dòng)襯底114。例如，物體臺(tái)106可以設(shè)置有用于以基本上恒定的速度掃描跨經(jīng)物體臺(tái)106的襯底114的系統(tǒng)。在這被完成的情況下，物體臺(tái)106可以在平坦的最上面的表面上設(shè)置有大量的開口，氣體被供給通過所述開口、以用于提供能夠支撐襯底114的氣墊(gas cushion)。這通常稱為氣體軸承布置。使用一個(gè)或更多的致動(dòng)器(未顯示)在物體臺(tái)106上移動(dòng)襯底114，所述致動(dòng)器能夠相對(duì)于束110的路徑精確地定位襯底114。可替代地，可以通過選擇性地開啟和截止氣體穿過開口的通路，相對(duì)于物體臺(tái)106移動(dòng)襯底114。在一實(shí)施例中，物體保持器106可以是滾轉(zhuǎn)系統(tǒng)，襯底在所述滾轉(zhuǎn)系統(tǒng)上滾動(dòng)，定位裝置116可以是電機(jī)，用于轉(zhuǎn)動(dòng)滾轉(zhuǎn)系統(tǒng)以提供襯底到物體臺(tái)106上。投影系統(tǒng)108 (例如石英和/或CaF2透鏡系統(tǒng)或包括由這樣的材料制成的透鏡元件的折射反射系統(tǒng)、或反射鏡系統(tǒng))可以用于將由獨(dú)立可控元件102調(diào)制的圖案化的束投影到襯底114的目標(biāo)部分120(例如一個(gè)或更多的管芯)上。投影系統(tǒng)108可以將由多個(gè)獨(dú)立可控元件102所提供的圖案投影成像，使得圖案一致地形成在襯底114上?？商娲兀队跋到y(tǒng)108可以投影二次源的圖像，多個(gè)獨(dú)立可控元件102中的元件用作二次源的遮光件。在這方面，投影系統(tǒng)可以包括一個(gè)聚焦元件、或多個(gè)聚焦元件(下文統(tǒng)稱為透鏡陣列)，例如微透鏡陣列(已知為MLA)或菲涅耳透鏡陣列，例如用于形成二次源且使得光斑成像到襯底114上。在一實(shí)施例中，透鏡陣列(例如MLA)包括至少10個(gè)聚焦元件，例如至少100個(gè)聚焦元件,至少1000個(gè)聚焦元件,至少10000個(gè)聚焦元件,至少100000個(gè)聚焦元件或至少1000000個(gè)聚焦元件。在一實(shí)施例中，圖案形成裝置中的獨(dú)立可控元件的數(shù)量等于或大于透鏡陣列中的聚焦元件的數(shù)量。在一實(shí)施例中，透鏡陣列包括聚焦元件，該聚焦元件與獨(dú)立可控元件陣列中的一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)，例如僅與獨(dú)立可控元件陣列中的一個(gè)獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)，或與獨(dú)立可控元件陣列中的兩個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)，例如3個(gè)或更多的、5個(gè)或更多的、10個(gè)或更多的、20個(gè)或更多的、25個(gè)或更多的、35個(gè)或更多的、或50個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)；在一實(shí)施例中，聚焦元件與小于5000個(gè)獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)，例如與小于2500個(gè)，小于1000個(gè)，小于500個(gè)，或小于100個(gè)的獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)。在一實(shí)施例中，透鏡陣列包括多于一個(gè)的聚焦元件(例如多于1000、大多數(shù)或約全部)，其與獨(dú)立可控元件陣列中的一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件光學(xué)相關(guān)。 在一實(shí)施例中，例如通過使用一個(gè)或更多的致動(dòng)器，透鏡陣列至少在到達(dá)襯底和遠(yuǎn)離襯底的方向上是可移動(dòng)的。能夠移動(dòng)透鏡陣列至襯底和遠(yuǎn)離襯底使得允許例如在不必移動(dòng)襯底的情況下進(jìn)行聚焦調(diào)整。在一實(shí)施例中，透鏡陣列中的獨(dú)立透鏡元件(例如透鏡陣列中的每個(gè)獨(dú)立透鏡元件)至少沿至襯底和遠(yuǎn)離襯底的方向是可移動(dòng)的(例如在非平坦的襯底上進(jìn)行局部聚焦調(diào)整或使得每一光學(xué)裝置列達(dá)到相同的焦距)。在一實(shí)施例中，在例如輻射的波長(zhǎng)大于或等于約400nm (例如405nm)時(shí)，透鏡陣列包括塑料聚焦元件(其可以易于制造(例如通過注射模制)和/或是成本低的)。在一實(shí)施例中，輻射的波長(zhǎng)從約400nm-500nm的范圍選出。在一實(shí)施例中，透鏡陣列包括石英聚焦元件。在一實(shí)施例中，每個(gè)聚焦元件或多個(gè)聚焦元件可以是不對(duì)稱的透鏡。不對(duì)稱性可以對(duì)于多個(gè)聚焦元件中的每一個(gè)是相同的、或不對(duì)稱性可以對(duì)于多個(gè)聚焦元件中的一個(gè)或更多的聚焦元件是不同于多個(gè)聚焦元件中的一個(gè)或更多的不同的聚焦元件的。不對(duì)稱的透鏡可能便于將橢圓形輻射輸出轉(zhuǎn)換成圓形投影斑，反之亦然。在一實(shí)施例中，聚焦元件具有高數(shù)值孔徑(NA)，其被布置用于將輻射在聚焦位置外投影到襯底上，以獲得對(duì)于所述系統(tǒng)的低的NA。NA較高的透鏡可以是更加經(jīng)濟(jì)的、流行的和/或具有比可利用的低NA透鏡更好的品質(zhì)。在一實(shí)施例中，低NA小于或等于O. 3，在一實(shí)施例中，低NA是O. 18,0. 15或更小。相應(yīng)地，NA更高的透鏡具有比所述系統(tǒng)的設(shè)計(jì)NA更大的NA，例如大于O. 3、大于O. 18或大于O. 15。雖然在一實(shí)施例中投影系統(tǒng)108與圖案形成裝置104是分離的，但是這不是必須的。投影系統(tǒng)108可以與圖案形成裝置108是一體的。例如，透鏡陣列塊或板可以連接(一體連接)至圖案形成裝置104。在一實(shí)施例中，透鏡陣列可以成獨(dú)立空間分離的小透鏡的形式，每一小透鏡連接(一體連接)至圖案形成裝置104中的獨(dú)立可尋址元件，如下文更加詳細(xì)描述的?？蛇x地，光刻設(shè)備可以包括將輻射(例如紫外(UV)輻射)供給至多個(gè)獨(dú)立可控元件102的輻射系統(tǒng)。如果圖案形成裝置自身是輻射源(例如激光二極管陣列或LED陣列)，那么可以設(shè)計(jì)光刻設(shè)備而沒有輻射系統(tǒng)，即沒有除了圖案形成裝置自身之外的輻射源，或至少是簡(jiǎn)化的輻射系統(tǒng)。輻射系統(tǒng)包括照射系統(tǒng)(照射器)，所述照射系統(tǒng)配置用于接收來自輻射源的輻射。照射系統(tǒng)包括下述元件中的一個(gè)或更多個(gè)元件輻射傳遞系統(tǒng)(例如適合的定向反射鏡)、輻射調(diào)節(jié)裝置(例如擴(kuò)束器)、用于設(shè)定所述輻射的角強(qiáng)度分布(通常，可以調(diào)整照射器的光瞳面中的強(qiáng)度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍(一般分別稱為σ-外部和σ_內(nèi)部))的調(diào)整裝置、積分器和/或聚光器。照射系統(tǒng)可以用于調(diào)整輻射，該輻射可以提供至獨(dú)立可控元件102，用于在其橫截面中具有期望的均勻性和強(qiáng)度分布。照射系統(tǒng)可以布置成將輻射分成多個(gè)子束，所述子束可以例如每個(gè)與多個(gè)獨(dú)立可控元件中的一個(gè)或更多個(gè)相關(guān)。二維衍射光柵可以例如用于將輻射分成子束。在所述描述中，術(shù)語(yǔ)“輻射的束”和“輻射束”包括但不限于束由多個(gè)這樣的輻射子束構(gòu)成的情形。輻射系統(tǒng)還可以包括輻射源(例如準(zhǔn)分子激光器)，用于產(chǎn)生供給至多個(gè)獨(dú)立可控元件102或由多個(gè)獨(dú)立可控元 件102的輻射。輻射源和光刻設(shè)備100可以是分立的實(shí)體，例如在輻射源是準(zhǔn)分子激光器時(shí)。在這樣的情形下，不會(huì)將輻射源考慮成形成光刻設(shè)備100的一部分，且輻射從源傳遞至照射器。在其它情形下，輻射源可以是光刻設(shè)備100的組成部分，例如在源是汞燈時(shí)。應(yīng)當(dāng)理解，這兩種情形都被設(shè)計(jì)在本發(fā)明的范圍內(nèi)。在一實(shí)施例中，輻射源可以是多個(gè)獨(dú)立可控元件102，在一實(shí)施例中輻射源可以提供波長(zhǎng)為至少5nm,例如至少IOnm,至少50nm,至少IOOnm,至少150nm,至少175nm,至少200nm,至少250nm,至少275nm,至少300nm,至少325nm,至少350nm或至少360nm的福射。在一實(shí)施例中，福射的波長(zhǎng)為至多450nm,例如至多425nm,至多375nm,至多360nm,至多325nm,至多275nm,至多250nm,至多225nm,至多200nm,或至多175nm。在一實(shí)施例中，福射的波長(zhǎng)包括 436nm, 405nm, 365nm, 355nm, 248nm, 193nm, 157nm, 126nm,和 / 或 13. 5nm。在一實(shí)施例中，輻射包括約365nm或約355nm的波長(zhǎng)。在一實(shí)施例中，輻射包括寬帶波長(zhǎng)，例如包括365nm，405nm和436nm。可以使用355nm激光源。在一實(shí)施例中，輻射具有的波長(zhǎng)為約405nmo在一實(shí)施例中，以在O和90°之間的角度、例如5和85°之間、15和75°之間、25和65°之間或在35和55°之間的角度從照射系統(tǒng)將輻射引導(dǎo)到圖案形成裝置104。來自照射系統(tǒng)的輻射可以被直接提供至圖案形成裝置104。在可替代的實(shí)施例中，可以通過分束器(未顯示)將輻射從照射系統(tǒng)引導(dǎo)至圖案形成裝置104，該分束器配置成使得輻射最初被分束器反射且被引導(dǎo)至圖案形成裝置104。圖案形成裝置104調(diào)制所述束且將它反射返回至分束器，該分束器朝向襯底114傳輸被調(diào)制的束。然而，應(yīng)當(dāng)理解，可替代的布置可以用于將輻射引導(dǎo)至圖案形成裝置104且之后引導(dǎo)至襯底114。尤其是，如果使用透射式圖案形成裝置104 (例如IXD陣列)或圖案形成裝置104是自發(fā)射式的(例如多個(gè)二極管)，那么可能不需要照射系統(tǒng)布置。在光刻設(shè)備100的操作中，在圖案形成裝置104不是發(fā)射輻射型的(例如包括LED)時(shí)，輻射從輻射系統(tǒng)(照射系統(tǒng)和/或輻射源)入射到圖案形成裝置104(例如多個(gè)獨(dú)立可控元件)上，且通過圖案形成裝置104進(jìn)行調(diào)制。在已經(jīng)通過多個(gè)獨(dú)立可控元件102產(chǎn)生之后，圖案化的束110穿過投影系統(tǒng)108，該投影系統(tǒng)108將束110聚焦到襯底114的目標(biāo)部分120上。在定位裝置116 (和可選地在基架136上的位置傳感器134 (例如接收干涉束138的干涉測(cè)量裝置、線性編碼器或電容傳感器))的幫助下，可以精確地移動(dòng)襯底114，例如以便在束110的路徑中定位不同的目標(biāo)部分120。在使用時(shí)，用于多個(gè)獨(dú)立可控元件102的定位裝置可以用于相對(duì)于束110的路徑精確地校正多個(gè)獨(dú)立可控元件102的位置，例如在掃描期間。雖然根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備100在此處描述成用于曝光襯底上的抗蝕齊U，但是應(yīng)當(dāng)理解，設(shè)備100可以用于投影圖案化的束110，用于用在無(wú)抗蝕劑的光刻術(shù)中。如此處所顯示的，光刻設(shè)備100是反射類型的(例如采用反射式獨(dú)立可控元件)。可替代地，設(shè)備可以是透射類型的(例如采用透射式獨(dú)立可控元件)?？梢詫⑺鰧Ｓ迷O(shè)備100用于以下的一種或更多種模式中，例如 I.在步進(jìn)模式中，在將獨(dú)立可控元件102和襯底114保持為基本靜止的同時(shí)，將整個(gè)圖案化的輻射束110—次投影到目標(biāo)部分120上(即，單一的靜態(tài)曝光)。然后將襯底114沿X和/或Y方向移動(dòng)，使得可以使得不同目標(biāo)部分120被圖案化的輻射束110曝光。在步進(jìn)模式中，曝光場(chǎng)的最大尺寸限制了在單一的靜態(tài)曝光中成像的所述目標(biāo)部分120的尺寸。2.在掃描模式中，在對(duì)獨(dú)立可控元件102和襯底114同步地進(jìn)行掃描的同時(shí)，將圖案化的輻射束110投影到目標(biāo)部分120上(S卩，單一的動(dòng)態(tài)曝光)。襯底相對(duì)于獨(dú)立可控元件的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PS的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。在掃描模式中，曝光場(chǎng)的最大尺寸限制了單一動(dòng)態(tài)曝光中所述目標(biāo)部分的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描運(yùn)動(dòng)的長(zhǎng)度確定了所述目標(biāo)部分的高度(沿所述掃描方向)。3.在脈沖模式中，獨(dú)立可控元件102保持為基本靜止，且使用(例如由脈沖輻射源或通過脈沖調(diào)制獨(dú)立可控元件所提供的)脈沖將整個(gè)圖案投影到襯底114的目標(biāo)部分120上。以基本上恒定的速度移動(dòng)襯底114，使得圖案化的束110進(jìn)行經(jīng)過襯底114的線掃描。由獨(dú)立可控元件提供的圖案根據(jù)需要在脈沖之間進(jìn)行更新，脈沖被時(shí)間控制成使得在襯底114上的所需位置處曝光連續(xù)的目標(biāo)部分120。因此，圖案化的束110可以橫過襯底114進(jìn)行掃描，以為襯底114的條帶曝光完整的圖案。重復(fù)所述過程，直到整個(gè)襯底114已經(jīng)被逐行曝光為止。4.在連續(xù)掃描模式中，除了襯底114被相對(duì)于調(diào)制的輻射束B以基本上恒定的速度進(jìn)行掃描且獨(dú)立可控元件陣列上的圖案在圖案化的束110橫過襯底114進(jìn)行掃描且使得它曝光時(shí)進(jìn)行更新之外，實(shí)質(zhì)上與脈沖模式相同。可以使用基本上恒定的輻射源或脈沖輻射源，其被使得與獨(dú)立可控元件陣列上的圖案的更新同步。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。圖2顯示用于與晶片(例如300mm的晶片)一起使用的根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。如圖2所示，光刻設(shè)備100包括用于保持晶片114的襯底臺(tái)106。定位裝置116與襯底臺(tái)106相關(guān)聯(lián)，用于在至少X方向上移動(dòng)襯底臺(tái)106?？蛇x地，定位裝置116可以在Y方向和/或Z方向上移動(dòng)襯底臺(tái)106。定位裝置116還可以圍繞X、Y和/或Z方向旋轉(zhuǎn)襯底臺(tái)106。因此，定位裝置116可以提供高達(dá)到6個(gè)自由度的運(yùn)動(dòng)。在一實(shí)施例中，襯底臺(tái)106提供僅在X方向上的運(yùn)動(dòng)，其優(yōu)點(diǎn)是成本較低和復(fù)雜性較低。在一實(shí)施例中，襯底臺(tái)106包括中繼光學(xué)裝置。光刻設(shè)備100還包括布置在框架160上的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102。框架160可以與襯底臺(tái)106和其定位裝置116機(jī)械隔離。可以例如通過將框架160連接至地面或與用于襯底臺(tái)106和/或其定位裝置116的框架分立的牢固的基架，來提供機(jī)械隔離。另外或可替代地，可以將阻尼器設(shè)置在框架160和與該框架連接的所述結(jié)構(gòu)之間，而不論所述結(jié)構(gòu)是否是地面、牢固的基架或用于支撐襯底臺(tái)106和/或其定位裝置116的框架。在本實(shí)施例中，每一個(gè)獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射二極管，例如藍(lán)紫激光二極管。如圖2所示，可以將獨(dú)立可尋址元件102布置成沿著Y方向延伸的獨(dú)立可尋址元件102的至少3個(gè)分立的陣列。在一實(shí)施例中，獨(dú)立可尋址元件102的陣列與相鄰的獨(dú)立可尋址元件102的陣列在X方向上交錯(cuò)。光刻設(shè)備100，尤其是獨(dú)立可尋址元件102可以布置成提供如此處更加詳細(xì)描述的像素-柵格成像。獨(dú)立可尋址元件102的陣列中的每一個(gè)可以是獨(dú)立光學(xué)引擎部件的一部分，為了 便于復(fù)制，其可以被制造成一個(gè)單元。另外，框架160可以配置成是可擴(kuò)大的且可配置成易于采用任意數(shù)量的這樣的光學(xué)引擎部件。光學(xué)引擎部件可以包括獨(dú)立可尋址元件102的陣列和透鏡陣列170 (參見例如圖8)的組合。例如，在圖2中顯示出3個(gè)光學(xué)引擎部件(在獨(dú)立可尋址元件102的每個(gè)各自的陣列下面具有相關(guān)的透鏡陣列170)。因此，在一實(shí)施例中，可以提供多柱光學(xué)布置，且每個(gè)光學(xué)引擎形成一柱。另外，光刻設(shè)備100包括對(duì)準(zhǔn)傳感器150。對(duì)準(zhǔn)傳感器用于在襯底114的曝光之前和/或期間確定獨(dú)立可尋址元件102和襯底114之間的對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)傳感器150的結(jié)果可以被光刻設(shè)備100中的控制器使用，用于例如控制定位裝置116來定位襯底臺(tái)106，來改善對(duì)準(zhǔn)。此外或可替代地，控制器可以例如控制與獨(dú)立可尋址元件102相關(guān)的用于定位一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102的定位裝置，來改善對(duì)準(zhǔn)。在一實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)傳感器150可以包括用于執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)的圖案識(shí)別功能/軟件。此外或可替代地，光刻設(shè)備100包括水平傳感器150。水平傳感器150用于確定襯底106是否相對(duì)于來自獨(dú)立可尋址元件102的圖案的投影是水平的。水平傳感器150可以在曝光襯底114之前和/或期間確定水平程度。水平傳感器150的結(jié)果可以被光刻設(shè)備100中的控制器使用，例如控制定位裝置116來定位襯底臺(tái)106，以改善調(diào)平。此外或可替代地，控制器可以控制例如用于定位投影系統(tǒng)108(例如透鏡陣列)中的元件的、與投影系統(tǒng)108(例如透鏡陣列)相關(guān)聯(lián)的定位裝置，來改善調(diào)平。在一實(shí)施例中，可以通過將超聲束投射到襯底106上對(duì)水平傳感器進(jìn)行操作和/或通過將電磁輻射束投影到襯底106上對(duì)其進(jìn)行操作。在一實(shí)施例中，來自對(duì)準(zhǔn)傳感器和/或水平傳感器的結(jié)果可以用于改變由獨(dú)立可尋址元件102所提供的圖案。圖案可以被改變用于校正例如變形，該變形可能由例如獨(dú)立可尋址元件102和襯底114之間的光學(xué)裝置(如果有的話)、在襯底114的定位中的不規(guī)則性、襯底114的不平整度等引起。因此，來自對(duì)準(zhǔn)傳感器和/或水平傳感器的結(jié)果可以用于改變所投影的圖案，來實(shí)現(xiàn)非線性變形校正。非線性變形校正可能對(duì)于例如柔性顯示器是有利的，柔性顯示器可能不具有一致的線性或非線性變形。在光刻設(shè)備100的操作中，使用例如機(jī)器人輸送器(未顯示)將襯底114裝載到襯底臺(tái)106上。之后，襯底114沿X方向在框架160和獨(dú)立可尋址元件102下面移位。襯底114被水平傳感器和/或?qū)?zhǔn)傳感器150測(cè)量，且之后使用獨(dú)立可尋址元件102使襯底被圖案曝光。例如，襯底114被掃描通過投影系統(tǒng)108的焦平面(像平面)，同時(shí)子束并且因此圖像斑S (參見例如圖12)由圖案形成裝置104被切換成至少部分地接通(ON)或全部接通(ON)或關(guān)斷(OFF)。對(duì)應(yīng)于圖案形成裝置104中的圖案的特征形成在襯底114上。獨(dú)立可尋址元件102可以被操作，例如用于提供如此處所述的像素-柵格成像。在一實(shí)施例中，襯底114可以在正X方向上被完全掃描，且之后在負(fù)X方向上被完全掃描。在這樣的實(shí)施例中，在獨(dú)立可尋址元件102的相反側(cè)上的額外的水平傳感器和/或?qū)?zhǔn)傳感器150對(duì)于負(fù)X方向掃描可能是需要的。圖3顯示用于在制造例如平板顯示器(例如IXD、OLED顯示器等)中曝光襯底的根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。如同如圖2中顯示的光刻設(shè)備100，光刻設(shè)備100包括用于保持平板顯示器襯底114的襯底臺(tái)106、在高達(dá)6個(gè)自由度上移動(dòng)襯底臺(tái)106的定位裝置116、用于確定獨(dú)立可尋址元件102和襯底114之間的對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)傳感器150和水平傳感器150，所述水平傳感器50用于確定襯底114相對(duì)于來自獨(dú)立可尋址元件 102的圖案的投影是否是水平的。光刻設(shè)備100還包括布置在框架160上的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102。在這一實(shí)施例中，每個(gè)獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射二極管，例如藍(lán)紫激光二極管。如圖3所示，獨(dú)立可尋址元件102被布置成在Y方向上延伸的大量的(例如至少8個(gè))靜止的分離的獨(dú)立可尋址元件102的陣列。在一實(shí)施例中，陣列是基本上靜止的，即它們不會(huì)在投影期間顯著地移動(dòng)。另外,在一實(shí)施例中，大量的獨(dú)立可尋址元件102的陣列與相鄰的獨(dú)立可尋址元件102的陣列以交替地方式在X方向上交錯(cuò)。光刻設(shè)備100，尤其是獨(dú)立可尋址元件102，可以被布置以提供像素-柵格成像。在光刻設(shè)備100的操作中，使用例如機(jī)器人輸送器(未顯示)將平板顯示器襯底114裝載到襯底臺(tái)106上。之后，襯底114沿X方向在框架160和獨(dú)立可尋址元件102下面移位。襯底114被水平傳感器和/或?qū)?zhǔn)傳感器150測(cè)量，且之后通過使用獨(dú)立可尋址元件102而被圖案曝光。獨(dú)立可尋址元件102可以被操作，例如用于提供如此處所述的像素-柵格成像。圖4顯示用于輥對(duì)輥的柔性顯示器/電子裝置的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。如同圖3中顯示的光刻設(shè)備100，光刻設(shè)備100包括布置在框架160上的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102。在這一實(shí)施例中，每一獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射二極管，例如藍(lán)紫激光二極管。另外，光刻設(shè)備包括用于確定獨(dú)立可尋址元件102和襯底114之間的對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)傳感器150和用于確定襯底114相對(duì)于來自獨(dú)立可尋址元件102的圖案的投影是否水平的水平傳感器150。光刻設(shè)備還可以包括具有物體臺(tái)106的物體保持器，襯底114在物體臺(tái)106上移動(dòng)。襯底114是柔性的且被滾動(dòng)到連接至定位裝置116的輥上，該定位裝置116可以是轉(zhuǎn)動(dòng)輥的電機(jī)。在一實(shí)施例中，襯底114可以另外或可替代地從連接至定位裝置116的輥滾動(dòng)，該定位裝置可以是轉(zhuǎn)動(dòng)輥的電機(jī)。在一實(shí)施例中，具有至少兩個(gè)輥，一個(gè)輥是襯底滾動(dòng)離開的輥，另一個(gè)輥是襯底所滾動(dòng)到達(dá)的輥。在一實(shí)施例中，如果例如襯底114在輥之間是足夠剛性的，那么不需要設(shè)置物體臺(tái)106。在這樣的情形中，將仍然具有物體保持器，例如一個(gè)或更多的棍。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備可以提供無(wú)載體(carrier-less)襯底(例如無(wú)載體箔片(CLF))和/或輥對(duì)輥制造。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備可以提供片材對(duì)片材的制造。在光刻設(shè)備100的操作中，柔性襯底114在框架160和獨(dú)立可尋址元件102的下面沿X方向滾動(dòng)到輥上和/或滾動(dòng)離開輥。襯底114被水平傳感器和/或?qū)?zhǔn)傳感器150測(cè)量，且之后使用獨(dú)立可尋址元件102使襯底114被圖案曝光。獨(dú)立可尋址元件102可以被操作，例如提供如在此處所討論的像素-柵格成像。圖5顯示具有可移動(dòng)獨(dú)立可尋址元件102的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖。如同圖2中顯示的光刻設(shè)備100，光刻設(shè)備100包括用于保持襯底114的襯底臺(tái)106、在高達(dá)6個(gè)自由度上移動(dòng)襯底臺(tái)106的定位裝置116、用于確定獨(dú)立可尋址元件102和襯底114之間的對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)傳感器150、和確定襯底114是否相對(duì)于來自獨(dú)立可尋址元件102的圖案的投影處于水平的水平傳感器150。光刻設(shè)備100還包括布置在框架160上的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102。在這一實(shí)施例中，每一獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射二極管，例如激光二極管(諸如藍(lán)紫激光二極管)。如圖5所示，獨(dú)立可尋址元件102布置成沿著Y方向延伸的大量的分離的獨(dú)立可尋址 元件102的陣列200。另外，在一實(shí)施例中，大量的獨(dú)立可尋址元件102的陣列200以交替的方式沿著X方向與獨(dú)立可尋址元件102的相鄰的陣列200交錯(cuò)。光刻設(shè)備100，尤其是獨(dú)立可尋址元件102，可以布置成提供像素-柵格成像。然而，在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備100不需要提供像素-柵格成像。更確切地，光刻設(shè)備100可以以不形成用于投影到襯底上的單個(gè)像素、而是形成用于投影到襯底上的大致連續(xù)的圖像的方式將二極管的輻射投影到襯底上。在一實(shí)施例中，多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102中的一個(gè)或更多個(gè)在曝光區(qū)域和曝光區(qū)域外的位置之間是可移動(dòng)的，在曝光區(qū)域中一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件用于將束110的全部或一部分投影，在該曝光區(qū)域外的位置中一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件不會(huì)投影任何束110。在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射器件，其在曝光區(qū)域204中被接通(ON)或至少部分接通(ON)，即它們(圖5中的淡陰影區(qū)域中)發(fā)射輻射，以及在位于曝光區(qū)域204的外部時(shí)被關(guān)斷(OFF)，即它們不發(fā)射輻射。在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射器件，其可以在曝光區(qū)域204和曝光區(qū)域204的外部被接通(ON)。在這樣的情形下，如果例如輻射沒有通過一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102適當(dāng)?shù)赝队暗狡毓鈪^(qū)域204中，那么一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102可以在曝光區(qū)域204的外部被接通用于提供補(bǔ)償曝光。例如，參考圖5，與曝光區(qū)域204相對(duì)的陣列中的一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102可以被接通(ON)，用于校正在曝光區(qū)域204中的失效的或不適當(dāng)?shù)妮椛渫队?。在一?shí)施例中，曝光區(qū)域204是細(xì)長(zhǎng)的線。在一實(shí)施例中，曝光區(qū)域204是一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102的一維陣列。在一實(shí)施例中，曝光區(qū)域204是一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102的二維陣列。在一實(shí)施例中，曝光區(qū)域204是細(xì)長(zhǎng)的。在一實(shí)施例中，每個(gè)可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件102可以獨(dú)立地移動(dòng)，不必一起作為一個(gè)單元。在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件是可移動(dòng)的，且在使用時(shí)至少在束110的投影期間沿著橫向于束110的傳播方向的方向移動(dòng)。例如，在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射器件，其在束110的投影期間沿著基本上垂直于束110的傳播方向的方向移動(dòng)。在一實(shí)施例中，每個(gè)陣列200是可橫向移位的板，該板具有沿著如圖6所示的板布置的多個(gè)空間上分離的獨(dú)立可尋址元件102。在使用中，每個(gè)板沿著方向208平移。在使用中，獨(dú)立可尋址元件102的運(yùn)動(dòng)被適當(dāng)?shù)囟〞r(shí)控制以位于曝光區(qū)域204中(顯示為圖6中的深陰影區(qū)域)，以便將全部或一部分束110投影。例如，在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射器件，獨(dú)立可尋址元件102的接通或關(guān)斷被定時(shí)控制，使得一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102在它們?cè)谄毓鈪^(qū)域204中時(shí)被接通(ON)，在它們?cè)趨^(qū)域204外時(shí)被關(guān)斷(OFF)。例如在圖6 (A)中，多個(gè)發(fā)射輻射二極管200的二維陣列被沿著方向208平移，兩個(gè)陣列沿著正方向208，在兩個(gè)陣列之間的中間一個(gè)陣列沿著負(fù)方向208。發(fā)射輻射二極管102的接通(ON)或關(guān)斷(OFF)被定時(shí)控制，使得每一陣列200中的特定的發(fā)射輻射二極管102在它們位于曝光區(qū)域204中時(shí)被接通(ON)，而在它們?cè)趨^(qū)域204外時(shí)被關(guān)斷(OFF)。當(dāng)然，在例如陣列200到達(dá)它們行程的末端時(shí)，陣列200可以在相反的方向上行進(jìn)，即兩個(gè)陣列沿負(fù)方向208，兩個(gè)陣列之間的中間一個(gè)陣列沿正方向208。在另外的例子中，在圖6(B)中，發(fā)射輻射二極管200的多個(gè)相互交織的一維陣列沿方向208平移，在正方向208上和負(fù)方向208上交替。發(fā)射輻射二極管102的接通(ON)或關(guān)斷(OFF)被定 時(shí)控制，使得每一陣列200中的特定發(fā)射輻射二極管102在它們位于曝光區(qū)域204中時(shí)被接通(ON)，且在它們位于區(qū)域204外時(shí)被關(guān)斷(OFF)。當(dāng)然，陣列200可以沿相反的方向行進(jìn)。在另一例子中，在圖6(C)中，發(fā)射輻射二極管200的單個(gè)陣列(顯示為一維陣列，但這不是必須的)被沿方向208平移。發(fā)射輻射二極管102的接通(ON)或關(guān)斷(OFF)被定時(shí)控制，使得每一陣列200的特定發(fā)射輻射二極管102在它們位于曝光區(qū)域204中時(shí)被接通(ON)而在它們位于區(qū)域204外時(shí)被關(guān)斷(OFF)。在一實(shí)施例中，每一陣列200是可旋轉(zhuǎn)的板，該板具有圍繞板布置的多個(gè)空間上分離的獨(dú)立可尋址元件102。在使用中，每一板圍繞其自身的軸線206旋轉(zhuǎn)，例如在圖5中的箭頭所顯示的方向上。也就是，陣列200可以可替代地沿如圖5顯示的順時(shí)針和逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。可替代地，每一陣列200可以沿順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)或沿逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中，陣列200旋轉(zhuǎn)整整一圈。在一實(shí)施例中，陣列200旋轉(zhuǎn)的弧度小于完整的一圈。在一實(shí)施例中，如果例如襯底沿著Z方向進(jìn)行掃描，那么陣列200可以圍繞沿著X或Y方向延伸的軸線旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中，參考圖6(D)，陣列200中的獨(dú)立可尋址元件102可以布置在邊緣處，且沿著向外朝向襯底114的徑向方向投影。襯底114可以圍繞陣列200的側(cè)邊的至少一部分延伸。在這種情形中，陣列200圍繞沿著X方向延伸的軸線旋轉(zhuǎn)，且襯底114沿X方向移動(dòng)。在使用中，獨(dú)立可尋址元件102的運(yùn)動(dòng)被適當(dāng)?shù)囟〞r(shí)控制用于定位在曝光區(qū)域204中，以便將束110的全部或一部分投影。例如，在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射器件，獨(dú)立可尋址元件102的接通(ON)或關(guān)斷(OFF)被定時(shí)控制，使得一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102在它們位于曝光區(qū)域204中時(shí)被接通(ON)且在它們位于區(qū)域204外時(shí)被關(guān)斷(OFF)。因此，在一實(shí)施例中，發(fā)射輻射器件102可以在運(yùn)動(dòng)期間全都保持接通，之后某些發(fā)射輻射器件102在曝光區(qū)域204中被調(diào)制成關(guān)斷(OFF)。在發(fā)射輻射器件102和襯底之間的且在曝光區(qū)域204外的適合的遮蔽可能是需要的，用于遮蔽曝光區(qū)域204防止發(fā)射輻射器件102在曝光區(qū)域204外被接通(ON)。使得發(fā)射輻射器件102一致地接通(ON)可以在使用期間便于使得發(fā)射輻射器件102處于基本上一致的溫度。在一實(shí)施例中，發(fā)射輻射器件102可以在大部分時(shí)間保持關(guān)斷(OFF)，而在處于曝光區(qū)域204中時(shí)一個(gè)或更多的發(fā)射輻射器件102被接通(ON)。在一實(shí)施例中，可旋轉(zhuǎn)板可以具有如圖7所示的配置。例如，在圖7(A)中，顯示了可旋轉(zhuǎn)板的示意俯視圖。可旋轉(zhuǎn)板可以具有陣列200，該陣列200具有圍繞板布置的獨(dú)立可尋址元件102的多個(gè)子陣列210(與圖5中的可旋轉(zhuǎn)板相比，其示意性地顯示圍繞板布置的獨(dú)立可尋址元件102的單個(gè)陣列200)。在圖7(A)中，子陣列210顯示為彼此交錯(cuò)，使得一個(gè)子陣列210的獨(dú)立可尋址元件102在另一子陣列210的兩個(gè)獨(dú)立可尋址元件102之間。然而，子陣列210的獨(dú)立可尋址元件102可以彼此對(duì)準(zhǔn)。獨(dú)立可尋址元件102可以獨(dú)立地或一起通過電機(jī)216圍繞軸線旋轉(zhuǎn)，在這一例子中，軸線沿著圖7(A)中的Z方向延伸通過電機(jī)216。電機(jī)216可以連接至可旋轉(zhuǎn)板且連接至框架(例如框架160)、或連接至框架(例如框架160)且連接至可旋轉(zhuǎn)板。在一實(shí)施例中，電機(jī)216(或例如，位于另外位置的某個(gè)電機(jī))可能引起獨(dú)立可尋址元件102的另外的移動(dòng)，不論是單獨(dú)地或一起地移動(dòng)。例如，電機(jī)216可以引起一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102在X、Y和/或Z方向上的平移。另外或可 替代地，電機(jī)216可能引起一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件102圍繞X和/或Y方向的旋轉(zhuǎn)(即，艮和/或&運(yùn)動(dòng))。在作為俯視圖的圖7(B)中示意性地顯示的可旋轉(zhuǎn)板的實(shí)施例中，可旋轉(zhuǎn)板可能在其中心區(qū)域具有開口 212，且獨(dú)立可尋址元件102的陣列200布置在開口 212外面的板上。因此，例如可旋轉(zhuǎn)板可以形成如圖7(B)所顯示的環(huán)形盤，且獨(dú)立可尋址元件102的陣列200圍繞盤布置。開口可以減小可旋轉(zhuǎn)板的重量，和/或便于冷卻獨(dú)立可尋址元件102。在一實(shí)施例中，可以使用支撐件204在外周邊處支撐可旋轉(zhuǎn)板。支撐件214可以是軸承，例如輥?zhàn)虞S承或氣體軸承。旋轉(zhuǎn)(和/或其它運(yùn)動(dòng)，例如沿著Χ、γ和/或Z方向的平移和/或Rx運(yùn)動(dòng)和/或Ry運(yùn)動(dòng))可以通過如圖7 (A)所顯示的電機(jī)216來提供。另外地或可替代地，支撐件214可以包括使得獨(dú)立可尋址元件102圍繞軸線A旋轉(zhuǎn)(和/或提供其它移動(dòng)，例如沿著X、Y和/或Z方向的平移和/或Rx運(yùn)動(dòng)和/或Ry運(yùn)動(dòng))的電機(jī)。在一實(shí)施例中，參考圖7(D)和7(E)，具有獨(dú)立可尋址元件102的陣列200的可旋轉(zhuǎn)板可以連接至可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)218?？尚D(zhuǎn)結(jié)構(gòu)218可以通過電機(jī)220圍繞軸線B旋轉(zhuǎn)。另夕卜，可旋轉(zhuǎn)板可以通過電機(jī)216相對(duì)于可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)218旋轉(zhuǎn)，電機(jī)216使得可旋轉(zhuǎn)板圍繞軸線A旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)軸線A和B不會(huì)重合，因此軸線如圖7(D)和7(E)中顯示的在空間上是分離的。在一實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)軸線A和B基本上彼此平行。在曝光期間的使用中，可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)218和可旋轉(zhuǎn)板旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)可以被協(xié)調(diào)，使得獨(dú)立可尋址元件102在曝光區(qū)域204中可以沿著大致直線對(duì)準(zhǔn)。這可以與例如圖5的實(shí)施例相比較，其中曝光區(qū)域204中的獨(dú)立可尋址元件102可以不被沿著大致直線對(duì)準(zhǔn)。在具有如上文所述的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件的情況下，在需要時(shí)可以通過將獨(dú)立可尋址元件移動(dòng)到曝光區(qū)域204中來減少獨(dú)立可尋址元件的數(shù)量。因此，可以減小熱負(fù)載。在一實(shí)施例中，可以提供比理論上所需要的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件(例如在可旋轉(zhuǎn)板上)更多的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件。這一布置的可能的優(yōu)點(diǎn)是如果一個(gè)或更多的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件破裂或不能操作，替代地可以使用一個(gè)或更多的其它可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件。另外或可替代地，額外的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件可以具有控制獨(dú)立可尋址元件上的熱負(fù)載的優(yōu)點(diǎn)，這是因?yàn)榭梢苿?dòng)的獨(dú)立可尋址元件越多，曝光區(qū)域204外的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件的冷卻機(jī)會(huì)就越大。在一實(shí)施例中，可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件102被內(nèi)嵌到具有低熱導(dǎo)率的材料中。例如，材料可以是陶瓷的，例如堇青石或基于堇青石的陶瓷和/或微晶玻璃(ZeiOdur)陶瓷。在一實(shí)施例中，可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件102內(nèi)嵌在具有高熱導(dǎo)率的材料中，諸如金屬，例如相對(duì)輕質(zhì)的金屬，例如鋁或鈦。在一實(shí)施例中，陣列200可以包括溫度控制布置。例如，參考圖7 (F)，陣列200可以具有流體(例如液體)引導(dǎo)通道222，用于傳輸冷卻流體到陣列200上、傳輸冷卻流體到陣列200附近或傳輸冷卻流體通過陣列200來冷卻陣列。通道222可以連接至適合的熱交換器和泵228，以使得流體通過通道循環(huán)。在通道222與熱交換器和泵228之間連接的供給裝置224和回送裝置226可以促進(jìn)流體的循環(huán)和溫度控制。傳感器234可以設(shè)置在陣列中、陣列上或陣列附近，以測(cè)量陣列200的參數(shù)，所得測(cè)量結(jié)果可以用于控制由熱交換器和泵提供的流體流的溫度。在一實(shí)施例中，傳感器234可以測(cè)量陣列200的主體的膨脹和/ 或收縮，所得測(cè)量結(jié)果可以用于控制由熱交換器和泵所提供的流體流的溫度。這樣的膨脹和/或收縮可以是溫度的代表。在一實(shí)施例中，傳感器234可以與陣列200集成(如由成點(diǎn)的形式的傳感器234所顯示的)和/或可以與陣列200是分立的(如由成盒形式的傳感器234所顯示的)。與陣列200分立的傳感器234可以是光學(xué)傳感器。在一實(shí)施例中，參考圖7(G)，陣列200可以具有一個(gè)或更多的散熱片230，用于增加散熱的表面積。散熱片230可以例如位于陣列200的頂表面上和/或在陣列200的側(cè)表面上?？蛇x地，一個(gè)或更多的另外的散熱片232可以被提供用于與散熱片230配合，以便于散熱。例如，散熱片232能夠從散熱片230吸收熱量，且可以包括流體(例如液體)引導(dǎo)通道和類似于如在圖7(F)中顯示的和關(guān)于其所描述的相關(guān)的熱交換器/泵。在一實(shí)施例中，參考圖7(H)，陣列200可以位于流體限制結(jié)構(gòu)236處或附近，該流體限制結(jié)構(gòu)236配置成保持流體238與陣列200的主體接觸以便于通過流體進(jìn)行散熱。在一實(shí)施例中，流體238可以是液體，例如水。在一實(shí)施例中，流體限制結(jié)構(gòu)236提供在它和陣列200的主體之間的密封。在一實(shí)施例中，該密封可以是例如通過氣流或毛細(xì)作用力所提供的無(wú)接觸密封。在一實(shí)施例中，類似于如關(guān)于流體引導(dǎo)通道222所討論的，流體238被循環(huán)以促進(jìn)散熱。可以通過流體供給裝置240提供流體238。在一實(shí)施例中，參考圖7 (H)，陣列200可以位于流體供給裝置240處或附近，該流體供給裝置240配置成朝向陣列200的主體投射流體238，以便于通過流體進(jìn)行散熱。在一實(shí)施例中，流體238是氣體，例如清潔的干燥氣體，N2、惰性氣體等。雖然流體限制結(jié)構(gòu)236和流體供給裝置240在圖7(H)中顯示在一起，但是它們不必設(shè)置在一起。在一實(shí)施例中，陣列200的主體是大致實(shí)心的結(jié)構(gòu)，且具有例如用于流體引導(dǎo)通道222的腔。在一實(shí)施例中，陣列200的主體是大部分敞開的大致框架狀結(jié)構(gòu)，且各種部件(例如獨(dú)立可尋址元件102、流體引導(dǎo)通道222等)連接至該大致框架狀結(jié)構(gòu)。這一敞開狀的結(jié)構(gòu)便于氣體流動(dòng)和/或增加表面積。在一實(shí)施例中，陣列200的主體是具有多個(gè)進(jìn)入或通過所述主體的腔的大致實(shí)心結(jié)構(gòu)，以便于氣體流動(dòng)和/或增加表面積。雖然在上文描述了提供冷卻的實(shí)施例，但是實(shí)施例可替代或另外可以提供加熱。
在一實(shí)施例中，在曝光使用期間陣列200期望保持在大致恒定的穩(wěn)態(tài)溫度。因此，例如陣列200中的所有或許多獨(dú)立可尋址元件102可以在曝光之前被通電以達(dá)到期望的穩(wěn)態(tài)溫度或在其附近，且在曝光期間任意一個(gè)或更多的溫度控制布置可以用于冷卻和/或加熱陣列200，以保持穩(wěn)態(tài)溫度。在一實(shí)施例中，任意一個(gè)或更多的溫度控制布置可以用于在曝光之前加熱陣列200，以達(dá)到期望的穩(wěn)態(tài)溫度或在其附近。之后，在曝光期間，任意一個(gè)或更多的溫度控制布置可以用于冷卻和/或加熱陣列200，以保持穩(wěn)態(tài)溫度。來自傳感器234的測(cè)量結(jié)果可以以前饋和/或反饋的方式使用，以保持穩(wěn)態(tài)溫度。在一實(shí)施例中，多個(gè)陣列200中的每一個(gè)可以具有相同的穩(wěn)態(tài)溫度，或多個(gè)陣列200中的一個(gè)或更多的陣列200可以具有不同于多個(gè)陣列200中的一個(gè)或更多的其它的陣列200的穩(wěn)態(tài)溫度。在一實(shí)施例中，陣列200被加熱至比期望的穩(wěn)態(tài)溫度高的溫度，且之后由于任意一個(gè)或更多的溫度控制布置所施加的冷卻和/或因?yàn)楠?dú)立可尋址元件102的使用不足以保持比期望的穩(wěn)態(tài)溫度高的溫度而在曝光期間溫度降低。在一實(shí)施例中，為了改善熱控制和整體冷卻，陣列200的主體的數(shù)量被沿著和/或跨經(jīng)曝光區(qū)域增加。因此，例如替代圖5中顯示的四個(gè)陣列200，可以設(shè)置5個(gè)、6個(gè)、7個(gè)、8個(gè)、9個(gè)、10個(gè)或更多的陣列200?？梢栽O(shè)置更少的陣列，例如一個(gè)陣列200，諸如覆蓋襯底 的全部寬度的單個(gè)大陣列。在一實(shí)施例中，如在此處描述的透鏡陣列與可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件是相關(guān)聯(lián)的或是一體的。例如，透鏡陣列板可以連接至每個(gè)可移動(dòng)陣列200，且因此與獨(dú)立可尋址元件102是可一起移動(dòng)的(例如可旋轉(zhuǎn)的)。如上文所述，透鏡陣列板可以是相對(duì)于獨(dú)立可尋址元件102 (例如沿著Z方向)是可移位的。在一實(shí)施例中，可以為陣列200設(shè)置多個(gè)透鏡陣列板，每一透鏡陣列板與多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102的不同的子組相關(guān)聯(lián)。在一實(shí)施例中，參考圖7 (I)，單個(gè)分立的透鏡242可以連接在每個(gè)獨(dú)立可尋址元件102的前面，且102是可與獨(dú)立可尋址元件移動(dòng)的(例如圍繞軸線A是可旋轉(zhuǎn)的)。另外，通過使用致動(dòng)器244，透鏡242可以是相對(duì)于獨(dú)立可尋址元件102 (例如沿著Z方向)是可移位的。在一實(shí)施例中，參考圖7 (J)，獨(dú)立可尋址元件102和透鏡242可以通過致動(dòng)器244相對(duì)于陣列200的主體246 —起被移位。在一實(shí)施例中，致動(dòng)器244配置成(即相對(duì)于獨(dú)立可尋址元件102或與獨(dú)立可尋址元件102 —起)沿著Z方向僅使透鏡242移位。在一實(shí)施例中，致動(dòng)器244配置成在高達(dá)3個(gè)自由度上(Z方向、圍繞X方向的旋轉(zhuǎn)和/或圍繞Y方向的旋轉(zhuǎn))將透鏡242移位。在一實(shí)施例中，致動(dòng)器244配置成在高達(dá)6個(gè)自由度上將透鏡242移位。在透鏡242相對(duì)于其獨(dú)立可尋址元件102可移動(dòng)時(shí)，可以通過致動(dòng)器244移動(dòng)透鏡242以改變透鏡242相對(duì)于襯底的聚焦位置。在透鏡242與其獨(dú)立可尋址元件102 —起移動(dòng)時(shí)，透鏡242的聚焦位置是大致恒定的，但是相對(duì)于襯底被移位。在一實(shí)施例中，透鏡242的移動(dòng)對(duì)于與陣列200中的每個(gè)獨(dú)立可尋址元件102相關(guān)的每一透鏡242被獨(dú)立控制。在一實(shí)施例中，多個(gè)透鏡242的子組相對(duì)于它們的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102的相關(guān)子組一起移動(dòng)，或與它們一起移動(dòng)。在后一情形下，為了較低的數(shù)據(jù)管理費(fèi)用和/或較快的響應(yīng)，可能是以犧牲精細(xì)的聚焦控制為代價(jià)的。在一實(shí)施例中，由獨(dú)立可尋址元件102所提供的輻射斑的尺寸可以通過離焦進(jìn)行調(diào)整，即離焦越大，輻射斑的尺寸越大。在一實(shí)施例中，參考圖7 (K)，在其中具有孔闌的孔闌結(jié)構(gòu)248可以位于透鏡242的下面。在一實(shí)施例中，孔闌結(jié)構(gòu)248可以位于在透鏡242上方，且在透鏡242和相關(guān)的獨(dú)立可尋址元件102之間?？钻@結(jié)構(gòu)248可能限制了透鏡242、相關(guān)的獨(dú)立可尋址元件102和/或相鄰的透鏡242/獨(dú)立可尋址元件102的衍射效應(yīng)。在一實(shí)施例中，獨(dú)立可尋址元件102可以是發(fā)射輻射器件，例如激光二極管。這樣的發(fā)射輻射器件可以具有高的空間相干性且因此可能顯示出散斑問題。為了避免這樣的散斑問題，應(yīng)當(dāng)通過移動(dòng)一束部分相對(duì)于另一束部分的相位來擾亂由發(fā)射輻射器件發(fā)射的輻射。在一實(shí)施例中，參考圖7 (L)和7(M)，板250可以位于例如框架160上，且獨(dú)立可尋址元件102相對(duì)于板250移動(dòng)。在獨(dú)立可尋址元件102相對(duì)于板250且在板250上移動(dòng)時(shí)，板250引起了由獨(dú)立可尋址元件102朝向襯底發(fā)射的輻射的空間相干性的破壞。在一實(shí)施例中，在獨(dú)立可尋址元件102相對(duì)于板250和在板250上移動(dòng)時(shí)，板250位于透鏡242和其相關(guān)的獨(dú)立可尋址元件102之間。在一實(shí)施例中，板250可以位于透鏡242和襯底之間。在一實(shí)施例中，參考圖7 (N)，空間相干性破壞裝置252可以位于襯底和至少獨(dú)立可尋址元件102之間，該獨(dú)立可尋址元件102將輻射投影到曝光區(qū)域上。在一實(shí)施例中，空間相干性破壞裝置252位于獨(dú)立可尋址元件102和透鏡242之間，且可以連接至主體246。在一實(shí)施例中，空間相干性破壞裝置252是相位調(diào)制器、振動(dòng)板或旋轉(zhuǎn)板。在獨(dú)立可尋址元 件102將輻射朝向襯底投影時(shí)，空間相干性破壞裝置252使得破壞由獨(dú)立可尋址元件102發(fā)射的輻射的空間相干性。在一實(shí)施例中，透鏡陣列(不論是否是一起作為一個(gè)單元或作為獨(dú)立的透鏡)(期望地經(jīng)由高熱導(dǎo)率材料)連接至陣列200，以便于在可以提供更加有利的冷卻情況下，將熱量從透鏡陣列傳導(dǎo)至陣列200。在一實(shí)施例中，陣列200可以包括一個(gè)或更多的聚焦或水平傳感器254，如同水平傳感器150。例如，傳感器254可以配置成測(cè)量陣列200中的每一個(gè)獨(dú)立可尋址元件102或陣列200的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102的聚焦。因此，如果檢測(cè)到離焦?fàn)顟B(tài)，那么可以對(duì)于陣列200中的每個(gè)獨(dú)立可尋址元件102或?qū)τ陉嚵?00中的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102來校正聚焦。聚焦可以通過例如沿著Z方向(和/或圍繞X軸線和/或圍繞Y軸線)移動(dòng)透鏡242來進(jìn)行校正。在一實(shí)施例中，傳感器254與獨(dú)立可尋址元件102是一體的(或可以與陣列200中的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102是一體的)。參考圖7(0)，示意性地顯示示例性的傳感器254。聚焦檢測(cè)束256被改向(例如反射)遠(yuǎn)離襯底表面，穿過透鏡242，且被半鍍銀反射鏡258引導(dǎo)朝向檢測(cè)器262。在一實(shí)施例中,聚焦檢測(cè)束256可以是用于曝光的福射,該福射剛好是從襯底被改向的。在一實(shí)施例中，聚焦檢測(cè)束256可以是在襯底處被弓I導(dǎo)的專門的束，其在被襯底改向時(shí)變成束256。在束256撞擊到檢測(cè)器262上之前，刀邊緣260 (其可以是孔闌)位于束256的路徑中。在這一例子中，檢測(cè)器262包括通過分開檢測(cè)器262在圖7(0)中顯示的至少兩個(gè)輻射敏感部分(例如區(qū)域或檢測(cè)器)。在襯底處于正焦位置時(shí)，在邊緣260處形成清晰圖像，因此檢測(cè)器262的輻射敏感部分接收相等量的輻射。在襯底處于離焦?fàn)顟B(tài)時(shí)，束256移位，圖像將形成在邊緣260的前面或后面。因此，邊緣260將截取束256的特定部分，檢測(cè)器262的一個(gè)輻射敏感部分將接收比檢測(cè)器262的另一輻射敏感部分更小量的輻射。來自檢測(cè)器262的輻射敏感部分的輸出信號(hào)的比較使得能夠得到被改向的束256與所期望的位置不同的量、被改向的束256與所期望的位置不同時(shí)所處的方向、以及被改向的束256與所期望的位置不同時(shí)所離開的襯底的平面。信號(hào)可以被電子處理以提供控制信號(hào)，例如通過該控制信號(hào)可以對(duì)透鏡242進(jìn)行調(diào)整。反射鏡258、邊緣260和檢測(cè)器262可以安裝至陣列200。在一實(shí)施例中，檢測(cè)器262可以是四象限光電單元。在一實(shí)施例中，可以提供400個(gè)獨(dú)立可尋址元件102，且(在任一時(shí)刻)133個(gè)進(jìn)行工作。在一實(shí)施例中，可以設(shè)置有600-1200個(gè)工作的獨(dú)立可尋址元件102，且可選地具有額外的獨(dú)立可尋址元件102，例如用作預(yù)留和/或用于校正曝光(如例如上文所述的)。工作的獨(dú)立可尋址元件102的數(shù)量可能例如依賴于抗蝕劑，其需要用于形成圖案的輻射的特定劑量。在獨(dú)立可尋址元件102是可旋轉(zhuǎn)的(如獨(dú)立可尋址元件102)情況下，獨(dú)立可尋址元件102可以在6Hz的頻率進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，且具有1200個(gè)工作的獨(dú)立可尋址元件102。如果具有較少的獨(dú)立可尋址元件102，則可以在較高的頻率下旋轉(zhuǎn)獨(dú)立可尋址元件102 ;如果具有更多的獨(dú)立可尋址元件102，可以以較低的頻率旋轉(zhuǎn)獨(dú)立可尋址元件102。在一實(shí)施例中，與獨(dú)立可尋址元件102的陣列相比，可以使用可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件102減小獨(dú)立可尋址元件102的數(shù)量。例如，可以(在任一時(shí)刻)提供600-1200個(gè)工作的獨(dú)立可尋址元件102。另外，減小的數(shù)量可以產(chǎn)生基本上與獨(dú)立可尋址元件102的陣列相類似的結(jié)果，但是具有一個(gè)或更多的優(yōu)點(diǎn)。例如，對(duì)于使用紫藍(lán)二極管陣列的充分 的曝光能力，可能需要100000個(gè)紫藍(lán)二極管的陣列，例如布置成200個(gè)二極管X500個(gè)二極管。在以IOkHz的頻率操作時(shí)，每個(gè)激光二極管的光功率將是O. 33mW。每一激光二極管的電功率將是150mW = 35mAX4. IV。因此，對(duì)于所述陣列，電功率將是15kW。在使用可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件的實(shí)施例中，可以提供400個(gè)紫藍(lán)二極管，其中133個(gè)進(jìn)行工作。在9Mhz的頻率下操作時(shí)，每一激光二極管的光功率將是250mW。每一激光二極管的電功率將是IOOOmW = 240mAX4. 2V。因此，對(duì)于所述陣列，電功率將是133W。因此，可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件布置中的二極管可以在如例如在圖7(P)中顯示的光輸出功率與前向電流關(guān)系曲線(240mA V. 35mA)中的陡峭部分中進(jìn)行操作，從而產(chǎn)生了每一二極管的高輸出功率(250mWv. O. 33mW)，但是具有對(duì)于多個(gè)獨(dú)立可尋址元件(133W v. 15kW)的低電功率。因此，二極管可以更加有效地使用且導(dǎo)致減小的功率損耗和/或熱量。因此，在一實(shí)施例中，二極管在功率/前向電流曲線的陡峭部分中進(jìn)行操作。在功率/前向電流曲線的非陡峭部分中進(jìn)行操作可能導(dǎo)致輻射的不相干性。在一實(shí)施例中，二極管在大于5mW的光功率下但是小于或等于20mW，或小于或等于30mW，或小于或等于40mW的情況下進(jìn)行操作。在一實(shí)施例中，二極管沒有在大于300mW的光功率下進(jìn)行操作。在一實(shí)施例中，二極管被以單一的模式進(jìn)行操作，而不是以多模式進(jìn)行操作。陣列200上的獨(dú)立可尋址元件102的數(shù)量可能依賴于，特別是依賴于(且如另外在上文所指出的程度)陣列200將要覆蓋的曝光區(qū)域的長(zhǎng)度、在曝光期間陣列移動(dòng)的速度、斑的尺寸(即從獨(dú)立可尋址元件102投影到襯底上的斑的橫截面尺寸，例如寬度/直徑)、每一獨(dú)立可尋址元件應(yīng)當(dāng)提供的期望的強(qiáng)度(例如是否期望對(duì)于多于一個(gè)的獨(dú)立可尋址元件上方的襯底上的斑展開期望的劑量，以避免對(duì)襯底或襯底上的抗蝕劑的損害)、襯底的期望的掃描速度、成本考慮、獨(dú)立可尋址元件可以被接通(ON)或關(guān)斷(OFF)的頻率、以及對(duì)于冗余的獨(dú)立可尋址元件102的期望(如之前討論的；例如用于校正曝光或作為預(yù)留，例如如果一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件故障)。在一實(shí)施例中，陣列200包括至少100個(gè)獨(dú)立可尋址元件102，例如至少200個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少400個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少600個(gè)獨(dú)立可尋址元件,至少1000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少1500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少2500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，或至少5000個(gè)獨(dú)立可尋址元件。在一實(shí)施例中，陣列200包括小于50000個(gè)獨(dú)立可尋址元件102，例如小于25000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于15000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于10000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于7500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于5000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于2500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于1200個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于600個(gè)獨(dú)立可尋址元件，或小于300個(gè)獨(dú)立可尋址元件。在一實(shí)施例中，陣列200對(duì)于每IOcm曝光區(qū)域長(zhǎng)度(即，使得陣列中的獨(dú)立可尋址元件的數(shù)量對(duì)于IOcm的曝光區(qū)域長(zhǎng)度進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化)包括至少100個(gè)獨(dú)立可尋址元件102，例如至少200個(gè)獨(dú)立可尋址元件,至少400個(gè)獨(dú)立可尋址元件,至少600個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少1000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少1500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，至少2500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，或至少5000個(gè)獨(dú)立可尋址元件。在一實(shí)施例中，陣列200對(duì)于每IOcm曝光區(qū)域長(zhǎng)度(即使得陣列中的獨(dú)立可尋址元件的數(shù)量對(duì)于IOcm的曝光區(qū)域長(zhǎng)度進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化)包括小于50000個(gè)獨(dú)立可尋址元件102，例如小于25000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于15000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于10000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于7500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于5000個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于2500個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于1200個(gè)獨(dú)立可尋址元件，小于600個(gè)獨(dú)立可尋址元件，或小于300個(gè)獨(dú)立可尋址元件。 在一實(shí)施例中，陣列200包括小于75 %的冗余的獨(dú)立可尋址元件102，例如67 %或更少，50 %或更少，約33 %或更少，25 %或更少，20 %或更少，10 %或更少，或5 %或更少。在一實(shí)施例中，陣列200包括至少5%的冗余的獨(dú)立可尋址元件102，例如至少10%，至少25 %，至少33 %，至少50 %，或至少65 %。在一實(shí)施例中，陣列包括約67 %的冗余的獨(dú)立可尋址元件。在一實(shí)施例中，襯底上的獨(dú)立可尋址元件的斑的尺寸是10微米或更少，5微米或更少，例如3微米或更少，2微米或更少，I微米或更少，O. 5微米或更少，O. 3微米或更少，或約O. I微米。在一實(shí)施例中，襯底上的獨(dú)立可尋址元件的斑的尺寸是O. I微米或更大，O. 2微米或更大，O. 3微米或更大，O. 5微米或更大，O. 7微米或更大，I微米或更大，I. 5微米或更大，2微米或更大，或5微米或更大。在一實(shí)施例中，斑的尺寸是約O. I微米。在一實(shí)施例中，斑的尺寸是約O. 5微米。在一實(shí)施例中，斑的尺寸是約I微米。在光刻設(shè)備100的操作中，襯底114被使用例如機(jī)器人輸送器(未顯不)裝載到襯底臺(tái)106上。之后襯底114在框架160和獨(dú)立可尋址元件102的下面沿著X方向移位。襯底114通過水平傳感器和/或?qū)?zhǔn)傳感器150進(jìn)行測(cè)量，且之后使用獨(dú)立可尋址元件102將襯底以圖案曝光，如上文所述。獨(dú)立可尋址元件102可以被操作，例如提供如此處所討論的像素-柵格成像。圖8顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。如圖8所示，光刻設(shè)備100包括圖案形成裝置104和投影系統(tǒng)108。投影系統(tǒng)108包括兩個(gè)透鏡176、172。第一透鏡176被布置成接收來自圖案形成裝置104的經(jīng)過調(diào)制的輻射束110，且聚焦它通過孔徑光闌174中的對(duì)比度孔闌。另外的透鏡(未顯示)可以位于孔闌中。之后輻射束110發(fā)散，且被第二透鏡172 (例如場(chǎng)透鏡)聚焦。投影系統(tǒng)108還包括布置成接收經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的透鏡陣列170。與圖案形成裝置104中的一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件相對(duì)應(yīng)的經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的不同部分穿過透鏡陣列170中的各自不同的透鏡。每一透鏡將經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的各自部分聚焦至位于襯底114上的點(diǎn)上。這樣，輻射斑S (參見圖12)的陣列被曝光至襯底114上。應(yīng)當(dāng)理解，雖然僅顯示出所示出的透鏡陣列170中的5個(gè)透鏡，但是透鏡陣列可以包括數(shù)百個(gè)或數(shù)千個(gè)透鏡(這同樣適用于用作圖案形成裝置104的獨(dú)立可控元件)。如圖8所示，在襯底114和透鏡陣列170之間設(shè)置自由工作距離FWD。這一距離允許襯底114和/或透鏡陣列170移動(dòng)，從而允許例如聚焦校正。在一實(shí)施例中，自由工作距離在l_3mm的范圍內(nèi)，例如約I. 4mm。圖案形成裝置104的獨(dú)立可尋址元件布置在節(jié)距P處，其導(dǎo)致在襯底114處的成像斑的相關(guān)節(jié)距P。在一實(shí)施例中，透鏡陣列170可以提供O. 15或O. 18的NA。在一實(shí)施例中，成像斑的尺寸是約1.6μπι。在這一實(shí)施例中，投影系統(tǒng)108可以是I : I投影系統(tǒng)，其中襯底114上的圖像斑的陣列間距與圖案形成裝置104的像素的陣列間距是相同的。為了提供改善的分辨率，圖像斑可以遠(yuǎn)小于圖案形成裝置104的像素。圖9顯示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。在這一實(shí)施例中，除了透鏡陣列170之外，在圖案形成裝置104和襯底114之間沒有光學(xué)裝置。 圖9中的光刻設(shè)備100包括圖案形成裝置104和投影系統(tǒng)108。在這種情形下，投影系統(tǒng)108僅包括布置成接收經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的透鏡陣列170。與圖案形成裝置104中的一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件相對(duì)應(yīng)的調(diào)制輻射束110的不同部分穿過透鏡陣列170中的各自的不同的透鏡。每一透鏡將經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的各自的部分聚焦到位于襯底114上的點(diǎn)上。這樣，輻射斑S(參見圖12)的陣列被曝光至襯底114上。應(yīng)當(dāng)理解，雖然僅顯示出所顯示的透鏡陣列170中的5個(gè)透鏡，但是透鏡陣列可以包括數(shù)百或數(shù)千個(gè)透鏡(這同樣適用于用作圖案形成裝置104的獨(dú)立可控元件)。如同在圖8中示出的那樣，在襯底114和透鏡陣列170之間設(shè)置了自由工作距離FWD。這一距離允許襯底114和/或透鏡陣列170移動(dòng)，以允許例如進(jìn)行聚焦校正。圖案形成裝置104的獨(dú)立可尋址元件布置在節(jié)距P處，其導(dǎo)致了在襯底114處的成像斑的相關(guān)節(jié)距P。在一實(shí)施例中，透鏡陣列170可以提供O. 15的NA。在一實(shí)施例中，成像斑的尺寸是約 I. 6 μ m。圖10顯示使用關(guān)于圖5在上文描述的可移動(dòng)的獨(dú)立可尋址元件102的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意側(cè)視圖。在這一實(shí)施例中，除了透鏡陣列170之外，在圖案形成裝置104和襯底114之間沒有其它光學(xué)裝置。圖10中的光刻設(shè)備100包括圖案形成裝置104和投影系統(tǒng)108。在這種情形下，投影系統(tǒng)108僅包括布置成接收經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的透鏡陣列170。與在圖案形成裝置104中的一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件相對(duì)應(yīng)的調(diào)制輻射束110的不同部分穿過透鏡陣列170中的各自的不同的透鏡。每一透鏡將經(jīng)過調(diào)制的輻射束110的各自的部分聚焦到位于襯底114上的點(diǎn)上。這樣，輻射斑S(參見圖12)的陣列被曝光至襯底114上。應(yīng)當(dāng)理解，雖然僅顯示出所示的透鏡陣列170中的5個(gè)透鏡，但是透鏡陣列可以包括數(shù)百或數(shù)千個(gè)透鏡(這同樣適用于用作圖案形成裝置104的獨(dú)立可控元件)。如同在圖8中示出的那樣，在襯底114和透鏡陣列170之間設(shè)置了自由工作距離FWD。這一距離允許襯底114和/或透鏡陣列170移動(dòng)，以允許例如進(jìn)行聚焦校正。圖案形成裝置104的獨(dú)立可尋址元件布置在節(jié)距P處，其導(dǎo)致了在襯底114處的成像斑的相關(guān)節(jié)距P。在一實(shí)施例中，透鏡陣列170可以提供O. 15的NA。在一實(shí)施例中，成像斑的尺寸是約 I. 6 μ m。圖11顯示多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102，具體地是6個(gè)獨(dú)立可尋址元件102。在這一實(shí)施例中，每個(gè)獨(dú)立可尋址元件102是發(fā)射輻射二極管，例如藍(lán)紫激光二極管。每一發(fā)射輻射二極管橋接兩條電線，以將電流供給至發(fā)射輻射二極管以控制二極管。因此，二極管形成可尋址柵格。兩條電線之間的寬度是約250 μ m,發(fā)射輻射二極管具有約500 μ m的節(jié)距。圖12示意性地顯示襯底114上的圖案可以如何產(chǎn)生。實(shí)心圓圈表示通過投影系統(tǒng)108中的透鏡陣列MLA投影到襯底114上的斑S的陣列。當(dāng)在襯底上進(jìn)行一系列曝光時(shí)，襯底114被相對(duì)于投影系統(tǒng)108在X方向上移動(dòng)?？招膱A圈表不之前已經(jīng)在襯底上被曝光的斑曝光SE。如圖所示，通過投影系統(tǒng)108中的透鏡陣列170投影到襯底114上的每一斑在襯底114上曝光一排R的斑。通過被每一斑S曝光的所有排R的斑曝光SE的總和產(chǎn)生襯底114的完整的圖案。這樣的布置通常稱為“像素-柵格成像”。應(yīng)當(dāng)理解，圖12是示意性的附圖且斑S在實(shí)際中可能重疊。可見，輻射斑S的陣列被以相對(duì)于襯底114的角度α布置(襯底114的邊緣位于 平行于X和Y方向)。這被完成使得在襯底114被沿著掃描方向(X方向)移動(dòng)時(shí)，每一福射斑將通過襯底的不同的區(qū)域，從而允許整個(gè)襯底被輻射斑S的陣列覆蓋。在一實(shí)施例中，角度α是至多20°，10°，例如至多5°，至多3°，至多1°，至多O. 5°，至多O. 25°，至多O. 10°，至多0.05°，或至多O. 01°。在一實(shí)施例中，角度α是至少O. 0001°，例如至少O. 001°。根據(jù)在垂直于掃描方向的方向上的陣列間距和圖像斑尺寸確定在掃描方向上的陣列的寬度和傾斜角α，用于確保襯底114的整個(gè)表面積被尋址。圖13示意性地顯示如何可以通過使用多個(gè)光學(xué)引擎在單個(gè)掃描中曝光整個(gè)襯底114，每個(gè)光學(xué)引擎包括一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件。通過8個(gè)光學(xué)引擎來產(chǎn)生輻射斑S (未顯示)的8個(gè)陣列SA，該8個(gè)光學(xué)引擎布置成在“棋盤板”上的兩個(gè)排Rl、R2，或交錯(cuò)配置，使得輻射斑S的一個(gè)陣列的邊緣與輻射斑S的相鄰陣列的邊緣略微重疊。在一實(shí)施例中，光學(xué)引擎布置成至少3個(gè)排，例如4個(gè)排或5個(gè)排。這樣，輻射帶延伸跨過襯底W的寬度，從而允許在單一掃描中執(zhí)行對(duì)整個(gè)襯底的曝光。這樣的“全寬度”單次通過曝光幫助避免連接兩次或更多次通過過程的可能的縫合問題，且還可以減小機(jī)器印跡，因?yàn)橐r底可能不需要在橫向于襯底通過方向的方向上被移動(dòng)。應(yīng)當(dāng)理解，可以使用任何適合數(shù)量的光學(xué)引擎。在一實(shí)施例中，光學(xué)引擎的數(shù)量是至少1，例如至少2，至少4，至少8，至少10，至少12，至少14，或至少17。在一實(shí)施例中，光學(xué)引擎的數(shù)量是小于40，例如小于30或小于20。每一光學(xué)引擎可以包括分立的圖案形成裝置104和可選的如上文所述的分立的投影系統(tǒng)108和/或輻射系統(tǒng)。然而應(yīng)當(dāng)理解，兩個(gè)或更多的光學(xué)引擎可能共有一個(gè)或更多的輻射系統(tǒng)、圖案形成裝置104、和/或投影系統(tǒng)108中的至少一部分。在此處描述的實(shí)施例中，提供用于控制獨(dú)立可尋址元件的控制器。例如，在獨(dú)立可尋址元件是發(fā)射輻射器件的例子中，控制器可以控制何時(shí)獨(dú)立可尋址元件被接通(ON)或關(guān)斷(OFF)，和獲得對(duì)獨(dú)立可尋址元件的高頻調(diào)制?？刂破骺梢钥刂朴梢粋€(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件發(fā)射的輻射的功率?？刂破骺梢哉{(diào)制通過一個(gè)或更多的獨(dú)立可尋址元件發(fā)射的輻射的強(qiáng)度?？刂破骺梢钥刂?調(diào)整在獨(dú)立可尋址元件的陣列的所有或一部分上的強(qiáng)度均勻性。控制器可以調(diào)整獨(dú)立可尋址元件的輻射輸出，以對(duì)成像誤差(例如集光率和光學(xué)像差(例如彗差、象散等))進(jìn)行校正。
在光刻術(shù)中，可以通過選擇性地將襯底上的抗蝕劑層以輻射曝光(例如通過以圖案化的輻射曝光抗蝕劑層)，而在襯底上產(chǎn)生期望的特征。接收特定的最小輻射劑量(“劑量閾值”)的抗蝕劑區(qū)域經(jīng)歷化學(xué)反應(yīng)，而其它區(qū)域保持不變。由此產(chǎn)生的抗蝕劑層中的化學(xué)差別允許對(duì)抗蝕劑顯影，即選擇性移除已經(jīng)接收至少最小劑量的區(qū)域或移除沒有接收最小劑量的區(qū)域。結(jié)果，一部分襯底仍然被抗蝕劑保護(hù)，而移除了抗蝕劑的襯底的區(qū)域被曝光，從而允許例如額外的處理步驟，例如選擇性蝕刻襯底、選擇性金屬沉積等，由此產(chǎn)生期望的特征。可以通過在圖案形成裝置中設(shè)定獨(dú)立可控元件來實(shí)現(xiàn)輻射的圖案化，使得被傳輸至位于期望的特征內(nèi)的襯底上的抗蝕劑層區(qū)域的輻射處于足夠高的強(qiáng)度，使得所述區(qū)域在曝光期間接收大于劑量閾值的輻射劑量，而襯底上的其它區(qū)域通過設(shè)定對(duì)應(yīng)的獨(dú)立可控元件來接收低于劑量閾值的輻射劑量，以提供零或顯著地較低的輻射強(qiáng)度。在實(shí)際中，即使獨(dú)立可控元件被設(shè)置成在特征邊界的一側(cè)上提供最大輻射強(qiáng)度和在另一側(cè)上提供最小輻射強(qiáng)度，在期望的特征的邊緣處的輻射劑量可能不會(huì)從給定的最大劑量急劇地變化至零劑量。替代地，由于衍射效應(yīng)，輻射劑量的水平可能橫跨經(jīng)過過渡區(qū)降低。然后，在顯影抗蝕劑之后最終形成的期望特征的邊界的位置通過所接收的劑量降低至低于輻射劑量閾值的位置來確定。輻射劑量橫跨經(jīng)過過渡區(qū)而下降的分布以及由此特征邊 界的精確位置可以通過設(shè)定獨(dú)立可控元件來更加精確地進(jìn)行控制，該獨(dú)立可控元件提供不僅是最大或最小強(qiáng)度水平而且也可以是在最大和最小強(qiáng)度水平之間的強(qiáng)度水平的輻射至襯底上位于特征邊界上或附近的點(diǎn)上。這通常稱為“灰度級(jí)”或“灰度水平”。灰度級(jí)可以提供，與在光刻系統(tǒng)中可行的相比，對(duì)特征邊界的位置的更大的控制，其中通過給定的獨(dú)立可控元件提供至襯底的輻射強(qiáng)度可以僅被設(shè)定成兩個(gè)值(即僅是最大值和最小值)。在一實(shí)施例中，至少三個(gè)不同的輻射強(qiáng)度值可以被投影到襯底上，例如至少4個(gè)輻射強(qiáng)度值，至少8個(gè)輻射強(qiáng)度值，至少16個(gè)輻射強(qiáng)度值，至少32個(gè)輻射強(qiáng)度值，至少64個(gè)輻射強(qiáng)度值，至少100個(gè)輻射強(qiáng)度值，至少128個(gè)輻射強(qiáng)度值，或至少256個(gè)輻射強(qiáng)度值。如果圖案形成裝置自身是輻射源(例如發(fā)光二極管或激光二極管的陣列)，那么可以實(shí)現(xiàn)灰度級(jí)，例如通過控制被傳輸?shù)妮椛涞膹?qiáng)度水平。如果對(duì)比度裝置是微反射鏡器件，可以實(shí)現(xiàn)灰度級(jí)，例如通過控制微反射鏡的傾斜角度。另外，可以通過對(duì)對(duì)比度裝置中的多個(gè)可編程元件進(jìn)行分組且控制在給定時(shí)間被接通或關(guān)斷的所述組內(nèi)的元件的數(shù)量，來實(shí)現(xiàn)灰度級(jí)。在一個(gè)例子中，圖案形成裝置可以具有一系列的狀態(tài)，包括(a)黑狀態(tài)，其中所提供的輻射對(duì)其對(duì)應(yīng)像素的強(qiáng)度分布的貢獻(xiàn)是最小的或甚至為零；(b)最白狀態(tài)，其中所提供的輻射做出了最大的貢獻(xiàn)；和(C)在前述兩個(gè)狀態(tài)之間的多個(gè)狀態(tài)，其中所提供的輻射做出了中間的貢獻(xiàn)。所述狀態(tài)被分成正常組和補(bǔ)償組，該正常組用于正常束圖案化/印刷，該補(bǔ)償組用于補(bǔ)償缺陷元件的效應(yīng)。正常組包括黑狀態(tài)和第一組中間狀態(tài)。該第一組將被描述成灰度狀態(tài)，它們是可選的，以給對(duì)應(yīng)像素強(qiáng)度提供從最小黑值直到特定的正常最大值的不斷增加的貢獻(xiàn)。補(bǔ)償組包括剩下的第二組中間狀態(tài)以及最白狀態(tài)。該第二組中間狀態(tài)將被描述成白狀態(tài)，它們是可選的、以提供比正常最大值大的貢獻(xiàn)，不斷增加至對(duì)應(yīng)于最白狀態(tài)的真實(shí)最大值。雖然第二組中間狀態(tài)被描述成白狀態(tài)，但是應(yīng)當(dāng)理解這僅是便于在正常和補(bǔ)償曝光步驟之間進(jìn)行區(qū)分。全部多個(gè)狀態(tài)將可替代地描述成在黑和白之間的一灰度狀態(tài)的序列，可選擇地可以使得能夠進(jìn)行灰度級(jí)印刷。
應(yīng)當(dāng)理解，灰度級(jí)可以用于對(duì)于上文所述的來說額外的或可替代的目的。例如，在曝光之后的襯底的處理可以被調(diào)整，使得依賴于所接收的輻射劑量水平，具有襯底的區(qū)域的多于兩個(gè)的潛在響應(yīng)。例如，接收低于第一閾值的輻射劑量的襯底的一部分以第一方式響應(yīng)；接收高于第一閾值但是低于第二閾值的輻射劑量的襯底的一部分以第二方式響應(yīng)；和接收高于第二閾值的輻射劑量的襯底的一部分以第三方式響應(yīng)。因此，灰度級(jí)可以用于提供經(jīng)過襯底上的輻射劑量分布，其具有多于兩個(gè)的期望的劑量水平。在一實(shí)施例中，輻射劑量分布具有至少2個(gè)期望的劑量水平，例如至少3個(gè)期望的輻射劑量水平，至少4個(gè)期望的輻射劑量水平、至少6個(gè)期望的輻射劑量水平或至少8個(gè)期望的輻射劑量水平。還應(yīng)當(dāng)理解，可以通過除了僅控制在襯底上的每一點(diǎn)處接收的輻射的強(qiáng)度之外的方法來控制輻射劑量分布，如上文所述。例如，可替代地或另外地，可以通過控制所述點(diǎn)的曝光的持續(xù)時(shí)間來控制由襯底上的每一點(diǎn)所接收的輻射劑量。作為另一例子，襯底上的每一點(diǎn)可以潛在地接收多個(gè)連續(xù)的曝光中的輻射。因此，由每一點(diǎn)所接收的輻射劑量可以可替代地或另外地通過使用所述多個(gè)連續(xù)曝光中的已選擇的子組曝光所述點(diǎn)來進(jìn)行控制。為了在襯底上形成圖案，需要在曝光過程期間在每一階段將圖案形成裝置中的每一獨(dú)立可控元件設(shè)定成所需要的狀態(tài)。因此，表示所需要的狀態(tài)的控制信號(hào)必須被傳輸至 每一獨(dú)立可控元件。期望地，光刻設(shè)備包括產(chǎn)生控制信號(hào)的控制器400。將在襯底上形成的圖案可以以矢量定義的格式(例如GDSII)提供至光刻設(shè)備。為了將設(shè)計(jì)信息轉(zhuǎn)換成每一獨(dú)立可控元件的控制信號(hào)，控制器包括一個(gè)或更多的數(shù)據(jù)操作裝置，每一個(gè)配置成在表示圖案的數(shù)據(jù)流上執(zhí)行處理步驟。數(shù)據(jù)操作裝置可以統(tǒng)稱為“數(shù)據(jù)通路(datapath)”。數(shù)據(jù)通路中的數(shù)據(jù)操作裝置可以配置成執(zhí)行下述功能中的一個(gè)或更多個(gè)將基于矢量的設(shè)計(jì)信息轉(zhuǎn)換成位案數(shù)據(jù)；將位案數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成需要的輻射劑量圖(即在整個(gè)襯底上的所需要的輻射劑量分布)；將需要的輻射劑量圖轉(zhuǎn)換成每一獨(dú)立可控元件的所需輻射強(qiáng)度值；以及將每一獨(dú)立可控元件的需要的輻射強(qiáng)度值轉(zhuǎn)換成對(duì)應(yīng)的控制信號(hào)。在一實(shí)施例中，控制信號(hào)可以通過有線通信或無(wú)線通信供給至獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)。另外，來自獨(dú)立可控元件102和/或來自一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)的信號(hào)可以通信至控制器400。參考圖14 (A)，在無(wú)線的實(shí)施例中，收發(fā)器(或僅是發(fā)射器)406發(fā)射包含由收發(fā)器(或僅是接收器)402接收的控制信號(hào)的信號(hào)。通過一個(gè)或更多的線404將控制信號(hào)發(fā)送至各自的獨(dú)立可控元件102。在一實(shí)施例中，來自收發(fā)器406的信號(hào)可以包括多個(gè)控制信號(hào)，收發(fā)器402可以將所述信號(hào)多路分解成為各自的獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)的多個(gè)控制信號(hào)。在一實(shí)施例中，無(wú)線傳輸可以是通過射頻(RF)來進(jìn)行。參考圖14(B)，在有線的實(shí)施例中，一個(gè)或更多的線404可以將控制器400連接至獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)。在一實(shí)施例中，可以提供單條線404，以將每個(gè)控制信號(hào)傳送至陣列200的主體和/或從陣列200的主體傳送每一控制信號(hào)。在陣列200的主體處，控制信號(hào)之后可以單獨(dú)地提供至獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)。例如，類似于無(wú)線的例子，為了在單條線上傳輸可以對(duì)控制信號(hào)進(jìn)行多路傳輸，且之后為了提供至獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)可以對(duì)其進(jìn)行多路分解。在一實(shí)施例中，可以提供多條線404，以傳送獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)的各自的控制信號(hào)。在陣列200可旋轉(zhuǎn)的實(shí)施例中，可以沿著旋轉(zhuǎn)軸線A提供線404。在一實(shí)施例中，通過在電機(jī)216處或在電機(jī)216周圍的滑動(dòng)接觸可以將信號(hào)提供至陣列200的主體，或從陣列200的主體提供信號(hào)。這對(duì)于可旋轉(zhuǎn)的實(shí)施例可能是有利的?；瑒?dòng)接觸可以是例如通過與板接觸的刷。在一實(shí)施例中，線404可以是光學(xué)線。在這種情形中，信號(hào)可以是光學(xué)信號(hào)，其中例如可以以不同的波長(zhǎng)傳送不同的控制信號(hào)。以類似于控制信號(hào)的方式，可以通過有線的或無(wú)線的方式將功率供給至獨(dú)立可控元件102或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)。例如，在有線的實(shí)施例中，可以通過一個(gè)或更多的線404供給功率，而不管是否與傳送信號(hào)的線是相同的、還是不同的。如上所述，可以設(shè)置滑動(dòng)接觸布置以傳輸功率。在無(wú)線的實(shí)施例中，可以通過RF耦合傳遞功率。雖然之前的討論集中在被供給至獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)的控制信號(hào)，但是應(yīng)當(dāng)理解它們還包括，另外地或可替代地通過適合的配置 將信號(hào)從獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)傳輸至控制器400。因此，通信可以是單向的(例如僅到達(dá)或來自獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器))或兩向的(即，到達(dá)和來自獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器))。例如，收發(fā)器402可以為了傳輸至收發(fā)器406而將來自獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)的多個(gè)信號(hào)進(jìn)行多路傳輸，此時(shí)它可以被多路分解成獨(dú)立的信號(hào)。在一實(shí)施例中，考慮到可能影響襯底上的圖案的正確供給和/或?qū)崿F(xiàn)的因素，可以改變提供圖案的控制信號(hào)。例如，考慮了對(duì)一個(gè)或更多的陣列200的加熱，可以將校正施加至控制信號(hào)。這樣的加熱可能引起獨(dú)立可控元件102的改變的指向方向、來自獨(dú)立可控元件102的輻射的均勻性的變化等。在一實(shí)施例中，來自例如傳感器234的與(例如一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102的)陣列200相關(guān)的測(cè)量的溫度和/或膨脹/收縮可以用于改變控制信號(hào)，否則將已經(jīng)提供該控制信號(hào)以形成圖案。因此，例如在曝光期間，獨(dú)立可控元件102的溫度可能變化，該變化引起了將在單個(gè)恒定的溫度提供的所投影的圖案的變化。因此，考慮到這樣的變化，可以改變控制信號(hào)。類似地，在一實(shí)施例中，來自對(duì)準(zhǔn)傳感器和/或水平傳感器150的結(jié)果可以用于改變通過獨(dú)立可控元件102提供的圖案。可以改變?cè)搱D案以校正例如變形，該變形可能由例如獨(dú)立可控元件102和襯底114之間的光學(xué)裝置(如果有的話)、襯底114的定位的不規(guī)則性、襯底114的不平整度等引起。在一實(shí)施例中，基于由所測(cè)量的參數(shù)(例如測(cè)量的溫度、通過水平傳感器測(cè)量的距離等)引起的期望圖案上的物理/光學(xué)結(jié)果的理論，可以確定控制信號(hào)的變化。在一實(shí)施例中，可以基于由所測(cè)量的參數(shù)引起的在期望圖案上的物理/光學(xué)結(jié)果的試驗(yàn)或經(jīng)驗(yàn)?zāi)Ｐ?，確定控制信號(hào)的變化。在一實(shí)施例中，可以以前饋和/或反饋的方式施加控制信號(hào)的變化。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備可以包括測(cè)量輻射的特性的傳感器500，該輻射被或?qū)⒈煌ㄟ^一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102朝向襯底進(jìn)行傳輸。這樣的傳感器可以是斑傳感器或透射圖像傳感器。傳感器可以用于例如確定來自獨(dú)立可控元件102的輻射的強(qiáng)度、來自獨(dú)立可控元件102的輻射的均勻性、來自獨(dú)立可控元件102的輻射斑的橫截面尺寸或面積、和/或來自獨(dú)立可控元件102的輻射斑(在X-Y平面內(nèi))的位置。圖15顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意俯視圖，顯示出傳感器500的一些示例性的位置。在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的傳感器500設(shè)置在保持襯底114的襯底臺(tái)106中或襯底臺(tái)106上。例如，傳感器500可以設(shè)置在襯底臺(tái)106的前邊緣和/或襯底臺(tái)106的尾邊緣。在這一例子中，顯示出四個(gè)傳感器500，對(duì)于每一陣列200對(duì)應(yīng)一個(gè)傳感器。期望它們位于將不會(huì)被襯底116覆蓋的位置。在可替代的或另外的例子中，可以將傳感器設(shè)置在襯底臺(tái)106的側(cè)邊緣，期望地設(shè)置在將不會(huì)被襯底116覆蓋的位置處。在襯底臺(tái)106的前邊緣處的傳感器500可以用于獨(dú)立可控元件102的預(yù)曝光的檢測(cè)。在襯底臺(tái)106的尾邊緣處的傳感器500可以用于獨(dú)立可控元件102的后曝光的檢測(cè)。在襯底臺(tái)106的側(cè)邊緣處的傳感器500可以用于獨(dú)立可控元件102的在曝光期間的檢測(cè)(“運(yùn)行中的(on-the-fly) ”檢測(cè))。參考圖16(A)，顯示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光刻設(shè)備的一部分的示意側(cè)視圖。在這一例子中，僅顯示出單個(gè)陣列200，且為了清楚起見省略了光刻設(shè)備的其它部分；此處描 述的傳感器可以施加至每一陣列200或一些陣列200。在圖16(A)中顯示出傳感器500的位置的一些另外的或可替代的例子(除了襯底臺(tái)106的傳感器500之外)。第一例子是框架160上的傳感器500，該傳感器接收通過束改向結(jié)構(gòu)502 (例如反射式反射鏡布置)的來自獨(dú)立可控元件102的輻射。在該第一例子中，獨(dú)立可控元件102在X-Y平面中移動(dòng)，且因此獨(dú)立可控元件102中的不同的獨(dú)立可控元件可以被設(shè)置以提供輻射至束改向結(jié)構(gòu)502。另外的或可替代的第二例子是在框架160上的傳感器500，該傳感器500接收來自獨(dú)立可控元件102的背側(cè)(即與提供曝光輻射相對(duì)的一側(cè))的來自獨(dú)立可控元件102的輻射。在該第二例子中，獨(dú)立可控元件102在X-Y平面中移動(dòng)，且因此獨(dú)立可控元件102中的不同的獨(dú)立可控元件可以被設(shè)置以提供輻射至傳感器500。雖然第二例子中的傳感器500顯示在曝光區(qū)域204處的獨(dú)立可控元件102的路徑中，傳感器500可以位于顯示傳感器510的位置。在一實(shí)施例中，框架160上的傳感器500位于固定的位置處或者另外可以通過例如相關(guān)的致動(dòng)器是可移動(dòng)的。除了或替代預(yù)曝光感測(cè)和/或后曝光感測(cè)，上文的第一和第二例子可以用于提供“運(yùn)行中的”感測(cè)。第三例子是結(jié)構(gòu)504、506上的傳感器500。結(jié)構(gòu)504、506可以是通過致動(dòng)器508可移動(dòng)的。在一實(shí)施例中，結(jié)構(gòu)504位于襯底臺(tái)將移動(dòng)(如圖16(A)所示)的路徑的下面或在所述路徑的側(cè)面。在一實(shí)施例中，結(jié)構(gòu)504可以是通過致動(dòng)器508移動(dòng)至在圖16(A)中顯示的襯底臺(tái)106的傳感器500所在的位置(如果襯底臺(tái)106未在那里的話)，如果結(jié)構(gòu)504在路徑的側(cè)面，則這樣的移動(dòng)可以是沿著Z方向(如圖16(A)所示)或沿著X和/或Y方向。在一實(shí)施例中，結(jié)構(gòu)506位于襯底臺(tái)將移動(dòng)(如圖16(A)所示)所在的路徑的上方或在路徑的側(cè)面。在一實(shí)施例中，結(jié)構(gòu)506可以通過致動(dòng)器508移動(dòng)至在圖16(A)所顯示的襯底臺(tái)106的傳感器500所在的位置(如果襯底臺(tái)106不在那里的話)。結(jié)構(gòu)506可以連接至框架160且相對(duì)于框架160是可移位的。在測(cè)量通過一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102朝向襯底傳輸或?qū)⒁獋鬏數(shù)妮椛涞奶匦缘牟僮髦?，通過移動(dòng)傳感器500和/或移動(dòng)獨(dú)立可控元件102的輻射束，使得傳感器500位于來自獨(dú)立可控元件102的輻射的路徑中。因此，作為例子，可以移動(dòng)襯底臺(tái)106，以將傳感器500定位在來自圖16 (A)中顯不的獨(dú)立可控兀件102的福射的路徑中。在這種情形中，傳感器500被定位在曝光區(qū)域204處的獨(dú)立可控元件102的路徑中。在一實(shí)施例中，傳感器500可以定位在曝光區(qū)域204外的獨(dú)立可控元件102的路徑中(例如在左手側(cè)顯示的獨(dú)立可控元件102，如果束改向結(jié)構(gòu)502不在那里的話)。如果位于輻射路徑中，傳感器500可以檢測(cè)輻射且測(cè)量輻射的特性。為了便于感測(cè)，傳感器500可以相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)，和/或獨(dú)立可控元件102可以相對(duì)于傳感器500移動(dòng)。作為另一例子，可以將獨(dú)立可控元件102移動(dòng)至一位置，使得來自獨(dú)立可控元件102的輻射撞擊到束改向結(jié)構(gòu)502上。束改向結(jié)構(gòu)502將束引導(dǎo)至框架160上的傳感器500。為了便于感測(cè)，傳感器500可以相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)，和/或獨(dú)立可控元件102可以相對(duì)于傳感器500移動(dòng)。在這一例子中，在曝光區(qū)域204外測(cè)量獨(dú)立可控元件102。在一實(shí)施例中，傳感器500可以是固定的或移動(dòng)的。如果是固定的話，獨(dú)立可控元件102期望地相對(duì)于固定的傳感器500是可移動(dòng)的，以便于感測(cè)。例如，陣列200可以相對(duì)于傳感器500 (例如框架160上的傳感器500)移動(dòng)(例如旋轉(zhuǎn)或平移)，以便于通過傳感器500進(jìn)行感測(cè)。如果傳感器500是可移動(dòng)的(例如襯底臺(tái)106上的傳感器500)，則獨(dú)立可控元件102可以保持成靜止的、用于感測(cè)，或另外被移動(dòng)以例如加速感測(cè)。
傳感器500可以用于校準(zhǔn)一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102。例如，在曝光之前可以通過傳感器500檢測(cè)獨(dú)立可控元件102的斑的位置，且相應(yīng)地系統(tǒng)被校準(zhǔn)。之后可以基于斑的這一預(yù)期位置調(diào)整曝光(例如控制襯底114的位置，控制獨(dú)立可控元件102的位置，控制獨(dú)立可控元件102的關(guān)斷(OFF)或接通(ON)等)。另外，可以隨后進(jìn)行校準(zhǔn)。例如，可以在曝光之后、在另一曝光之前，立即使用例如襯底臺(tái)106的尾邊緣上的傳感器500進(jìn)行校準(zhǔn)。校準(zhǔn)可以在每一曝光之前、在特定數(shù)量的曝光之后等情況下進(jìn)行。另外，通過使用傳感器500可以“在運(yùn)行中”檢測(cè)獨(dú)立可控元件102的斑的位置，并相應(yīng)地調(diào)整曝光。獨(dú)立可控元件102也許能夠基于“在運(yùn)行中的”感測(cè)進(jìn)行再次校準(zhǔn)。在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102可以被編碼以便能夠檢測(cè)哪一獨(dú)立可控元件102位于特定的位置或被使用。在一實(shí)施例中，獨(dú)立可控元件102可以具有標(biāo)識(shí)，傳感器510可以用于檢測(cè)標(biāo)識(shí)，該標(biāo)識(shí)可以是RFID、條碼等。例如，多個(gè)獨(dú)立可控元件102中的每一個(gè)可以被移動(dòng)至靠近傳感器510，以讀取標(biāo)識(shí)。在知道哪一獨(dú)立可控元件102靠近傳感器510的情況下，可以知道哪一獨(dú)立可控元件102靠近傳感器500，哪一獨(dú)立可控元件102在曝光區(qū)域204中等。在一實(shí)施例中，每一獨(dú)立可控元件102可以用于提供具有不同頻率的輻射，傳感器500、510可以用于檢測(cè)哪一獨(dú)立可控元件102靠近傳感器500、510。例如，多個(gè)獨(dú)立可控元件102中的每一個(gè)可以被移動(dòng)成靠近傳感器500、510，以接收來自獨(dú)立可控元件102的輻射，且之后傳感器500、510可以多路分解所接收到的輻射，以確定哪一獨(dú)立可控元件102在特定時(shí)間靠近傳感器500、510。在知曉上述情況的情況下，可以知道哪一獨(dú)立可控元件102靠近傳感器500，哪一獨(dú)立可控元件102位于曝光區(qū)域204中等。在一實(shí)施例中，如上文所述，位置傳感器可以被提供以確定一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102在高達(dá)6個(gè)自由度上的位置。例如，傳感器510可以用于位置檢測(cè)。在一實(shí)施例中，傳感器510可以包括干涉儀。在一實(shí)施例中，傳感器510可以包括編碼器，該編碼器可以用于檢測(cè)一個(gè)或更多的一維編碼器光柵和/或一個(gè)或更多的二維的編碼器光柵。在一實(shí)施例中，可以提供傳感器520用于確定已經(jīng)傳輸至襯底的輻射的特性。在這一實(shí)施例中，傳感器520捕獲被襯底改向的輻射。在示例的使用中，被傳感器520捕獲的被改向的輻射可以用于便于確定來自獨(dú)立可控元件102的輻射的斑的位置(例如來自獨(dú)立可控元件102的輻射的斑的錯(cuò)位)。具體地，傳感器520可以捕獲從襯底的剛被曝光的部分被改向的輻射，即潛像。對(duì)這一尾部改向的輻射的強(qiáng)度的測(cè)量，可以給出斑是否被適當(dāng)?shù)貙?duì)準(zhǔn)的指示。例如，對(duì)這一尾部的重復(fù)測(cè)量可以給出重復(fù)的信號(hào)，從該重復(fù)的信號(hào)的偏離將顯示斑的錯(cuò)位(例如，異相的信號(hào)可能表示未對(duì)準(zhǔn))。圖16(B)顯示傳感器520的檢測(cè)區(qū)域相對(duì)于襯底114的曝光區(qū)域522的示意位置。在這一實(shí)施例中，顯示出3個(gè)檢測(cè)區(qū)域，其結(jié)果可以被比較和/或組合以便于識(shí)別錯(cuò)位。僅需要使用一個(gè)檢測(cè)區(qū)域，例如在左手側(cè)上的一個(gè)。在一實(shí)施例中，可以以與傳感器520相類似的方式使用獨(dú)立可控元件102的檢測(cè)器262。例如，在右手側(cè)上的陣列200的曝光區(qū)域204外的一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102可以用于檢測(cè)從襯底上的潛像被改向的輻射。圖17顯不光刻設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例。在這一實(shí)施例中，多個(gè)獨(dú)立可控兀件102朝向可旋轉(zhuǎn)的多邊形件600引導(dǎo)輻射。輻射撞擊到其上的多邊形件600的表面604將輻射朝向透鏡陣列170改向。透鏡陣列170朝向襯底114引導(dǎo)輻射。在曝光期間，多邊形件600圍繞軸線602旋轉(zhuǎn)，從而使得來自多個(gè)獨(dú)立可控元件102中的每一個(gè)的各自的束沿著Y方向跨經(jīng)透鏡陣列170移動(dòng)。具體地，在多邊形件600的每一新的琢面與輻射撞擊時(shí)，束將沿著正Y方向跨經(jīng)透鏡陣列170重復(fù)進(jìn)行掃描。在曝光期間獨(dú)立可控元件102被調(diào)制，以提供 如此處討論的期望的圖案。多邊形件可以具有任意數(shù)量的適合的邊。另外，獨(dú)立可控元件102在時(shí)序上被與旋轉(zhuǎn)的多邊形600調(diào)制，使得各自的束撞擊到透鏡陣列170中的透鏡上。在一實(shí)施例中，另外的多個(gè)獨(dú)立可控元件102可以設(shè)置在多邊形件的相反側(cè)上，即在右手側(cè)上，以便使得輻射撞擊到多邊形件600的表面606上。在一實(shí)施例中，可以使用振動(dòng)的光學(xué)元件替代多邊形件600。振動(dòng)的光學(xué)元件具有相對(duì)于透鏡陣列170的特定的固定角度，且可以沿著Y方向來回平移，以使得束沿著Y方向跨經(jīng)透鏡陣列170來回進(jìn)行掃描。在一實(shí)施例中，可以使用圍繞軸線602來回旋轉(zhuǎn)通過一弧度的光學(xué)元件替代多邊形件600。通過來回旋轉(zhuǎn)光學(xué)元件通過一弧度，使得束沿著Y方向跨經(jīng)透鏡陣列170來回進(jìn)行掃描。在一實(shí)施例中，多邊形件600、振動(dòng)的光學(xué)元件、和/或旋轉(zhuǎn)的光學(xué)元件具有一個(gè)或更多的反射鏡表面。在一實(shí)施例中，多邊形件600、振動(dòng)的光學(xué)元件、和/或旋轉(zhuǎn)的光學(xué)元件包括棱鏡。在一實(shí)施例中，可以使用聲-光調(diào)制器替代多邊形件600。聲-光調(diào)制器可以用于跨經(jīng)透鏡陣列170掃描束。在一實(shí)施例中，可以將透鏡陣列170放置在多個(gè)獨(dú)立可控元件102與多邊形件600、振動(dòng)的光學(xué)元件、旋轉(zhuǎn)的光學(xué)元件、和/或聲-光調(diào)制器之間的輻射路徑中。因此，通常，與被分成曝光區(qū)域的寬度的這些輻射輸出的寬度相比，可以用更小的輻射輸出來覆蓋曝光區(qū)域(例如襯底)的寬度。在一實(shí)施例中，這可以包括相對(duì)于曝光區(qū)域來移動(dòng)輻射束源或相對(duì)于曝光區(qū)域移動(dòng)輻射束。圖18顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備的示意橫截面?zhèn)纫晥D，具有可移動(dòng)的獨(dú)立可控兀件102。如圖5中顯不的光刻設(shè)備100—樣,光刻設(shè)備100包括用于保持襯底的襯底臺(tái)106，和在高達(dá)6個(gè)自由度上移動(dòng)襯底臺(tái)106的定位裝置116。光刻設(shè)備100還包括布置在框架160上的多個(gè)獨(dú)立可控元件102。在這一實(shí)施例中，每一獨(dú)立可控元件102是發(fā)射輻射二極管，例如激光二極管，諸如藍(lán)紫激光二極管。獨(dú)立可控元件102布置成沿著Y方向延伸的獨(dú)立可控元件102的陣列200。雖然顯示出一個(gè)陣列200，但是光刻設(shè)備可以具有例如在圖5中顯示的多個(gè)陣列200。
在這一實(shí)施例中，陣列200是可旋轉(zhuǎn)的板，具有圍繞板布置的多個(gè)空間上分立的獨(dú)立可控元件102。在使用時(shí)，板圍繞其自身的軸線206旋轉(zhuǎn)，例如沿著由圖5中的箭頭顯示的方向。使用電機(jī)216使陣列200的板圍繞軸線206旋轉(zhuǎn)。另外，陣列200的板可以通過電機(jī)216沿著Z方向移動(dòng)，使得獨(dú)立可控元件102可以相對(duì)于襯底臺(tái)106移位。在這一實(shí)施例中，陣列200可以具有一個(gè)或更多的散熱片230，以增加散熱表面積。散熱片230可以例如在陣列200的頂表面上?？蛇x地，可以提供一個(gè)或更多的另外的散熱片232，以與散熱片230配合、以便于散熱。例如，散熱片232能夠從散熱片230吸收熱量，且可以包括流體(例如液體)引導(dǎo)通道以及類似于在圖7(F)中顯示的且相對(duì)于其描述的相關(guān)的熱交換器/泵。在這一實(shí)施例中，透鏡242可以位于每一獨(dú)立可控元件102的前面，且可以與獨(dú)立可控元件102 —起移動(dòng)(例如圍繞軸線A是可旋轉(zhuǎn)的)。在圖18中，顯示出兩個(gè)透鏡242且連接至陣列200。另外，透鏡242可以相對(duì)于獨(dú)立可控元件102(例如沿著Z方向)是可移位的。
在這一實(shí)施例中，其中具有孔闌的孔闌結(jié)構(gòu)248可以位于透鏡242的上方、在透鏡242和相關(guān)的獨(dú)立可控元件102之間?？钻@結(jié)構(gòu)248可以限制透鏡242、相關(guān)的獨(dú)立可控元件102的衍射效應(yīng)和/或相鄰的透鏡242/獨(dú)立可控元件102的衍射效應(yīng)。在這一實(shí)施例中，傳感器254可以設(shè)置有獨(dú)立可尋址元件102 (或陣列200中的多個(gè)獨(dú)立可尋址元件102)。在這一實(shí)施例中，傳感器254布置用于檢測(cè)聚焦。聚焦檢測(cè)束256被改向(例如反射)遠(yuǎn)離襯底表面，穿過透鏡242，且被通過例如半鍍銀反射鏡258朝向檢測(cè)器262引導(dǎo)。在一實(shí)施例中，聚焦檢測(cè)束256可以是用于曝光的輻射，該輻射剛好是從襯底被改向的。在一實(shí)施例中，聚焦檢測(cè)束256可以是在襯底處被弓I導(dǎo)的專門的束，其在被襯底改向時(shí)變成束256。關(guān)于圖7(0)，在上文描述了示例性的聚焦傳感器。反射鏡258和檢測(cè)器262可以安裝至陣列200。在這一實(shí)施例中，控制信號(hào)可以通過有線通信或無(wú)線通信供給至獨(dú)立可控元件102和/或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)。另外，來自獨(dú)立可控元件102和/或來自一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)的信號(hào)可以通信至控制器。在圖18中，可以沿著旋轉(zhuǎn)軸線206設(shè)置線404。在一實(shí)施例中，線404可以是光學(xué)線。在所述情形中，所述信號(hào)可以是光學(xué)信號(hào)，其中例如以不同的波長(zhǎng)傳送不同的控制信號(hào)。以類似于控制信號(hào)的方式，可以通過有線或無(wú)線的方式將功率供給至獨(dú)立可控元件102或一個(gè)或更多的其它裝置(例如傳感器)。例如在有線的實(shí)施例中，可以通過一個(gè)或更多的線404供給功率，而不管其與傳送信號(hào)的線是相同的或不同的。在無(wú)線的實(shí)施例中，可以通過如在標(biāo)記700處顯示的RF耦合傳遞功率。在這一實(shí)施例中，光刻設(shè)備可以包括測(cè)量輻射的特性的傳感器500，該輻射被或?qū)⒈煌ㄟ^一個(gè)或更多的獨(dú)立可控元件102朝向襯底進(jìn)行傳輸。這樣的傳感器可以是斑傳感器或透射圖像傳感器。傳感器可以用于例如確定來自獨(dú)立可控元件102的輻射的強(qiáng)度、來自獨(dú)立可控元件102的輻射的均勻性、來自獨(dú)立可控元件102的輻射斑的橫截面尺寸或面積、和/或來自獨(dú)立可控元件102的輻射斑的位置(在X-Y平面內(nèi))。在這一實(shí)施例中，傳感器500在框架160上，且可以鄰近襯底臺(tái)106或是通過襯底臺(tái)106可訪問的。在一實(shí)施例中，并非具有在X-Y平面內(nèi)可移動(dòng)的獨(dú)立可控元件102，獨(dú)立可控元件102在襯底的曝光期間在X-Y平面內(nèi)是大致靜止的。不必說，可控元件102在X-Y平面內(nèi)可能是不可移動(dòng)的。例如，它們可以在X-Y平面內(nèi)是可移動(dòng)的，以校正它們的位置。具有基本上靜止的可控元件102的可能的優(yōu)點(diǎn)是較容易地將功率和/或數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)移至可控元件102。另外的或可替代的可能的優(yōu)點(diǎn)是局部調(diào)整聚焦以補(bǔ)償襯底上的高度差的能力得到提高，其中所述高度差大于系統(tǒng)的焦深且處在比移動(dòng)可控元件的節(jié)距更高的空間頻率上。在這一實(shí)施例中，雖然可控元件102是基本上靜止的，但是具有相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)的至少一個(gè)光學(xué)元件。在下文描述了在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件102的各種布置以及相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)元件。在下文的描述中，在情況允許時(shí)，術(shù)語(yǔ)“透鏡”應(yīng)當(dāng)通常理解成包括各種類型的光學(xué)部件中的任一個(gè)，包括折射式、衍射式、反射式、磁性式、電磁式和靜電式光學(xué)部件或其組合，諸如任意的折射式、反射式和/或衍射式光學(xué)元件，其提供與所提及的透鏡相同的功能。例如，成像透鏡可以具體為具有光焦度的傳統(tǒng)的折射式透鏡的形式、成具有光焦度的Schwarzschild反射式系統(tǒng)的形式、和/或成具有光焦度的區(qū)域板的形式。此外，如果產(chǎn)生的效應(yīng)是在襯底上產(chǎn)生會(huì)聚的束，則成像透鏡可以包括非成像的光學(xué)裝置。 另外，在下文的描述中，對(duì)多個(gè)獨(dú)立可控元件102做出參考，諸如反射鏡陣列調(diào)制器中的反射鏡或多個(gè)輻射源。然而，應(yīng)當(dāng)理解，描述更加通常是指布置成輸出多個(gè)束的調(diào)制器。例如，調(diào)制器可以是聲光調(diào)制器，以從由輻射源提供的束輸出多個(gè)束。圖19顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的具有在X-Y平面內(nèi)是基本靜止的多個(gè)獨(dú)立可控元件102 (例如激光二極管)和相對(duì)于其是可移動(dòng)的光學(xué)元件242的光刻設(shè)備的一部分的示意俯視圖布局。在這一實(shí)施例中，多個(gè)獨(dú)立可控元件102可以連接至框架，且在X-Y平面內(nèi)是基本上靜止的，多個(gè)成像透鏡242相對(duì)于這些獨(dú)立可控元件102基本上在X-Y平面中移動(dòng)(如在圖19中由輪801的旋轉(zhuǎn)指示所顯示的)，襯底沿著方向803移動(dòng)。在一實(shí)施例中，成像透鏡242通過圍繞軸線旋轉(zhuǎn)而相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)。在一實(shí)施例中，成像透鏡242被安裝在圍繞軸線(例如沿著圖19中顯示的方向)旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)上且被以圓形的方式布置(如圖19中部分地顯示的)。每個(gè)獨(dú)立可控元件102提供準(zhǔn)直束至移動(dòng)的成像透鏡242。在一實(shí)施例中，獨(dú)立可控元件102與一個(gè)或更多的準(zhǔn)直透鏡相關(guān)，以提供準(zhǔn)直束。在一實(shí)施例中，準(zhǔn)直透鏡在X-Y平面中是基本上靜止的且連接至獨(dú)立可控元件102連接所在的框架上。在這一實(shí)施例中，準(zhǔn)直束的橫截面寬度小于成像透鏡242的橫截面寬度。因此，在準(zhǔn)直束剛完全落入到成像透鏡242的光學(xué)透射部分中，獨(dú)立可控元件102 (例如激光二極管)就可以被接通。之后在束落入到成像透鏡242的光學(xué)透射部分之外時(shí)，則關(guān)斷獨(dú)立可控元件102 (例如激光二極管)。因此，在一實(shí)施例中，來自獨(dú)立可控元件102的束在任一時(shí)刻穿過單個(gè)成像透鏡242。成像透鏡242相對(duì)于來自獨(dú)立可控元件102的束的所形成的橫越(traversal)由被接通的每一獨(dú)立可控元件102在襯底上產(chǎn)生了相關(guān)的成像線800。在圖19中，關(guān)于圖19中的三個(gè)示例性的獨(dú)立可控元件102中的每一個(gè)顯示出三個(gè)成像線800，盡管顯然圖19中的其它獨(dú)立可控元件102可以在襯底上產(chǎn)生相關(guān)的成像線800。在圖19的布局中，成像透鏡242的節(jié)距可以是I. 5mm，來自每一獨(dú)立可控元件102的束的橫截面寬度(例如直徑)略小于0.5_。對(duì)于這一配置，可以用每一獨(dú)立可控元件102寫長(zhǎng)度約Imm的線。因此，在束直徑為O. 5mm且成像透鏡242的直徑為I. 5mm的這一配置中，占空比可以高達(dá)67%。對(duì)于相對(duì)于成像透鏡242適當(dāng)?shù)囟ㄎ华?dú)立可控元件102，跨經(jīng)襯底的寬度的全覆蓋是可行的。因此，例如如果僅使用標(biāo)準(zhǔn)5. 6mm直徑的激光二極管，那么如圖19所示的激光二極管的幾個(gè)同心環(huán)可以用于獲得跨經(jīng)襯底的寬度的全部覆蓋。因此，在這一實(shí)施例中，可以使用比僅使用獨(dú)立可控元件102的固定陣列或可能使用此處描述的移動(dòng)的獨(dú)立可控元件102的情況更少的獨(dú)立可控元件102 (例如激光二極管)。在這一實(shí)施例中，每個(gè)成像透鏡242應(yīng)當(dāng)是相同的，這是因?yàn)槊總€(gè)獨(dú)立可控元件102將通過所有的移動(dòng)的成像透鏡242進(jìn)行成像。在這一實(shí)施例中，所有的成像透鏡242不需要使得場(chǎng)成像，盡管需要具有更高NA的透鏡，例如大于O. 3、大于O. 18或大于O. 15。對(duì)于這樣的單一元件的光學(xué)裝置，衍射限制成像是可能的。襯底上的束的聚焦點(diǎn)不管準(zhǔn)直束在哪里進(jìn)入透鏡，均被固定至成像透鏡242的光軸(參見，例如圖20，其顯示是圖19的光刻設(shè)備的一部分的示意三維視圖)。這一布置的缺點(diǎn)是來自成像透鏡242朝向襯底的束不是遠(yuǎn)心的，并因此會(huì)發(fā)生聚焦誤差，從而可能導(dǎo)
致重疊誤差。 在這一實(shí)施例中，通過使用在X-Y平面中不移動(dòng)的(例如在獨(dú)立可控元件102處)的元件調(diào)整聚焦將可能引起暈影。因此，期望的聚焦調(diào)整應(yīng)當(dāng)在移動(dòng)的成像透鏡242中發(fā)生。這因此可能需要比移動(dòng)的成像透鏡242更高頻率的致動(dòng)器。圖21顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖布局，且顯不相對(duì)于獨(dú)立可控元件的成像透鏡242組的三個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。在這一實(shí)施例中，圖19和20中的光刻設(shè)備通過具有成像透鏡242進(jìn)行擴(kuò)展，該成像透鏡242包括用于接收來自獨(dú)立可控元件102的準(zhǔn)直束的兩個(gè)透鏡802、804。如在圖19中示出的那樣，成像透鏡242相對(duì)于獨(dú)立可控元件102在X-Y平面中移動(dòng)(例如圍繞至少部分地以圓形方式布置成像透鏡242所對(duì)應(yīng)的軸線旋轉(zhuǎn))。在這一實(shí)施例中，在到達(dá)成像透鏡242之前，通過透鏡806使得來自獨(dú)立可控元件102的束準(zhǔn)直，但在一實(shí)施例中不需要提供這樣的透鏡。透鏡806基本上在X-Y平面中是靜止的。襯底沿著X方向移動(dòng)。兩個(gè)透鏡802、804布置在準(zhǔn)直束的從獨(dú)立可控元件102至襯底的光路中，以使得束朝向襯底是遠(yuǎn)心的。在獨(dú)立可控元件102和透鏡804之間的透鏡802包括具有大致相等的焦距的兩個(gè)透鏡802A、802B。來自獨(dú)立可控元件102的準(zhǔn)直束在兩個(gè)透鏡802A，802B之間聚焦，使得透鏡802B將朝向成像透鏡804準(zhǔn)直所述束。成像透鏡804使得束成像到襯底上。在這一實(shí)施例中，透鏡802相對(duì)于獨(dú)立可控元件102在X-Y平面內(nèi)以特定的速度(例如每分鐘特定的轉(zhuǎn)數(shù)(RPM))移動(dòng)。因此，在這一實(shí)施例中，如果移動(dòng)的成像透鏡804以與透鏡802相同的速度移動(dòng)的話，來自透鏡802的出射的準(zhǔn)直束將在X-Y平面內(nèi)具有兩倍于移動(dòng)的成像透鏡804的速度。因此，在這一實(shí)施例中，成像透鏡804相對(duì)于獨(dú)立可控元件102以不同于透鏡802的速度的速度移動(dòng)。尤其是，成像透鏡804以透鏡802的速度的兩倍的速度(例如透鏡802的RPM的兩倍)在X-Y平面中移動(dòng)，使得束將被遠(yuǎn)心地聚焦到襯底上。在圖21的三個(gè)示例性的位置中示意性地顯示了來自透鏡802的出射的準(zhǔn)直束與成像透鏡804的對(duì)準(zhǔn)。另外，因?yàn)樵谝r底上的實(shí)際刻寫與圖19中的例子相比將以所述速度的兩倍的速度完成，所以獨(dú)立可控元件102的功率應(yīng)當(dāng)是兩倍的。
在這一實(shí)施例中，通過使用在X-Y平面中不移動(dòng)的(例如在獨(dú)立可控元件102處的)元件調(diào)整聚焦，將可能導(dǎo)致遠(yuǎn)心損失且引起暈影。因此，應(yīng)當(dāng)在移動(dòng)的成像透鏡242中出現(xiàn)期望的聚焦調(diào)整。另外，在這一實(shí)施例中，所有的成像透鏡242不需要使得場(chǎng)成像。對(duì)于這樣的單個(gè)元件的光學(xué)裝置，衍射限制的成像是可能的。約65%的占空比是可能的。在一實(shí)施例中，透鏡806，802A，802B和804可以包括2個(gè)非球面透鏡和2個(gè)球面透鏡。在一實(shí)施例中，可以使用約380個(gè)獨(dú)立可控元件102(例如標(biāo)準(zhǔn)激光二極管)。在一實(shí)施例中，可以使用約1400個(gè)成像透鏡242的組。在使用標(biāo)準(zhǔn)激光二極管的實(shí)施例中，可以使用約4200個(gè)成像透鏡242的組，其可以布置成輪上的6個(gè)同心環(huán)。在一實(shí)施例中，成像透鏡的旋轉(zhuǎn)的輪將以約12000RPM旋轉(zhuǎn)。圖22顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖布局，且顯不相對(duì)于獨(dú)立可控元件的成像透鏡242的組的三個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。在這一實(shí)施例中，為了避免以與如關(guān)于圖21描述的不同的速度移動(dòng)透鏡，可以如圖22所顯示使用用于移動(dòng)成像透鏡242的 所謂的4f遠(yuǎn)心進(jìn)/遠(yuǎn)心出(telecentric in/telecentric out)的成像系統(tǒng)。移動(dòng)的成像透鏡242包括兩個(gè)成像透鏡808、810，該兩個(gè)成像透鏡808、810在X-Y平面中以大致相同的速度移動(dòng)(例如圍繞在至少部分地以圓形方式布置成像透鏡242所沿的軸線旋轉(zhuǎn))，且接收遠(yuǎn)心束作為輸入和將遠(yuǎn)心成像束輸出至襯底。在I倍放大率的布置中，襯底上的圖像以與移動(dòng)的成像透鏡242兩倍的速度一樣快地移動(dòng)。襯底沿著X方向移動(dòng)。在這一布置中，光學(xué)裝置將可能需要以相對(duì)大的NA(例如大于O. 3、大于O. 18或大于O. 15)使場(chǎng)成像。這一布置可能不具有兩個(gè)單元件光學(xué)裝置?？赡苄枰哂蟹浅?zhǔn)確的對(duì)準(zhǔn)公差的六個(gè)或更多的元件，以獲得衍射限制圖像。約65%的占空比是可能的。在這一實(shí)施例中，還用不與可移動(dòng)的成像透鏡242 —起移動(dòng)或配合可移動(dòng)的成像透鏡242移動(dòng)的元件相對(duì)容易地進(jìn)行局部聚焦。圖23顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖布局，且顯不相對(duì)于獨(dú)立可控元件的成像透鏡242的組的五個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。在這一實(shí)施例中，為了避免以與關(guān)于圖21所描述的不相同的速度移動(dòng)透鏡，且具有不使得如關(guān)于圖22所指出的對(duì)場(chǎng)成像的光學(xué)裝置，在X-Y平面中基本上靜止的透鏡的組合與移動(dòng)的成像透鏡242結(jié)合。參考圖23，設(shè)置了在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件102。提供了在X-Y平面中基本上靜止的可選的準(zhǔn)直透鏡806，用于準(zhǔn)直來自獨(dú)立可控元件102的束，且提供準(zhǔn)直束(具有例如O. 5mm的橫截面寬度(例如直徑))至透鏡812。另外，透鏡812在X-Y平面中是基本上靜止的且將準(zhǔn)直束聚焦至移動(dòng)的成像透鏡242的場(chǎng)透鏡814(具有例如I. 5mm的橫截面寬度(例如直徑))。透鏡814具有相對(duì)大的焦距(例如f = 20mm) ο可移動(dòng)的成像透鏡242的場(chǎng)透鏡814相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)(例如圍繞在至少部分地以圓形方式布置成像透鏡242所沿的軸線旋轉(zhuǎn))。場(chǎng)透鏡814朝向可移動(dòng)的成像透鏡242的成像透鏡818引導(dǎo)束。如同場(chǎng)透鏡814，成像透鏡818相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)(例如圍繞在至少部分地以圓形方式布置成像透鏡242所沿的軸線旋轉(zhuǎn))。在這一實(shí)施例中，場(chǎng)透鏡814以與成像透鏡818大致相同的速度移動(dòng)。一對(duì)場(chǎng)透鏡814和成像透鏡818彼此對(duì)準(zhǔn)。襯底沿著X方向移動(dòng)。在場(chǎng)透鏡814和成像透鏡818之間的是透鏡816。透鏡816在X-Y平面中是基本上靜止的，且將來自場(chǎng)透鏡814的束準(zhǔn)直到成像透鏡818。透鏡816具有相對(duì)大的焦距(例如，f = 20mm)。在這一實(shí)施例中，場(chǎng)透鏡814的光軸應(yīng)當(dāng)與對(duì)應(yīng)的成像透鏡816的光軸重合。場(chǎng)透鏡814設(shè)計(jì)成使得將所述束折疊，從而被透鏡816準(zhǔn)直的束的主射線與成像透鏡818的光軸重合。這樣，朝向襯底的束是遠(yuǎn)心的。由于大的f數(shù)，透鏡812和816可以是簡(jiǎn)單的球面透鏡。場(chǎng)透鏡814不會(huì)影響圖像品質(zhì)，且還可以是球面元件。在這個(gè)實(shí)施例中，準(zhǔn)直透鏡806和成像透鏡818是不需要對(duì)場(chǎng)成像的透鏡。對(duì)于這一單個(gè)元件的光學(xué)裝置，衍射限制成像是可能的。約65%的占空比是可以的。
在一實(shí)施例中，在可移動(dòng)的成像透鏡242是可旋轉(zhuǎn)的情況下，提供獨(dú)立可控元件102和透鏡的至少兩個(gè)同心環(huán)，以獲得跨經(jīng)襯底寬度的全部覆蓋。在一實(shí)施例中，在這些環(huán)上的獨(dú)立可控元件102被布置成處于I. 5mm的節(jié)距處。如果使用具有直徑為5. 6mm的標(biāo)準(zhǔn)激光二極管，那么對(duì)于全部覆蓋可能需要至少6個(gè)同心環(huán)。圖24和25顯示根據(jù)這些布置的獨(dú)立可控元件102的同心環(huán)的布置。在一實(shí)施例中，這將導(dǎo)致約380個(gè)獨(dú)立可控元件102和在X-Y平面中基本上靜止的對(duì)應(yīng)的透鏡。移動(dòng)的成像透鏡242將具有700X6個(gè)環(huán)=4200組透鏡814、818。借助于這一配置，可以用每一獨(dú)立可控元件102刻寫長(zhǎng)度約Imm的線。在一實(shí)施例中，可以使用約1400個(gè)成像透鏡242的組。在一實(shí)施例中，透鏡812，814，816和818可以包括4個(gè)非球面透鏡。在這一實(shí)施例中，通過使用在X-Y平面中不移動(dòng)(例如在獨(dú)立可控元件102處)的元件調(diào)整聚焦將可能導(dǎo)致遠(yuǎn)心損失和引起暈影。因此，期望的聚焦調(diào)整應(yīng)當(dāng)在移動(dòng)的成像透鏡242中發(fā)生。這因此可能需要比移動(dòng)的成像透鏡242更高頻率的致動(dòng)器。圖26顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖布局。在這一實(shí)施例中，光學(xué)消轉(zhuǎn)儀(deiOtator)用于將在X_Y平面中大致靜止的獨(dú)立可控元件102耦合至移動(dòng)的成像透鏡242。在這一實(shí)施例中，獨(dú)立可控元件102與可選的準(zhǔn)直透鏡一起布置成環(huán)。兩個(gè)拋物面反射鏡820、822使得來自獨(dú)立可控元件102的準(zhǔn)直束的環(huán)減小至對(duì)于消轉(zhuǎn)儀824可接受的直徑。在圖26中，佩肯(pechan)棱鏡用作消轉(zhuǎn)儀824。如果消轉(zhuǎn)儀以與成像透鏡242的速度相比的一半的速度旋轉(zhuǎn)，每個(gè)獨(dú)立可控元件102看上去相對(duì)于其各自的成像透鏡242是大致靜止的。兩個(gè)另外的拋物面反射鏡826、828使得來自消轉(zhuǎn)儀824的消轉(zhuǎn)束的環(huán)擴(kuò)張至對(duì)于移動(dòng)的成像透鏡242可接受的直徑。襯底沿著X方向移動(dòng)。在這一實(shí)施例中，每個(gè)獨(dú)立可控元件102與成像透鏡242成為一對(duì)。因此，不可以將獨(dú)立可控元件102安裝在同心環(huán)上，因此不可能獲得跨經(jīng)襯底的寬度的全部覆蓋。約33%的占空比是可能的。在這一實(shí)施例中，成像透鏡242是不需要對(duì)場(chǎng)成像的透鏡。圖27顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖布局。在這種布置中，成像透鏡242布置成圍繞在X-Y平面中延伸的方向旋轉(zhuǎn)(例如旋轉(zhuǎn)鼓，而不是如例如關(guān)于圖19-26所描述的旋轉(zhuǎn)輪)。參考圖27，可移動(dòng)的成像透鏡242布置在被布置成圍繞例如Y方向旋轉(zhuǎn)的鼓上?？梢苿?dòng)的成像透鏡242接收在鼓的旋轉(zhuǎn)軸線和可移動(dòng)的成像透鏡242之間的Y方向上的線上延伸的來自獨(dú)立可控元件102的輻射。原則上，通過這樣的鼓的可移動(dòng)的成像透鏡242刻寫的線將平行于襯底的掃描方向831。因此，以45°安裝的消轉(zhuǎn)儀830布置成將通過鼓的可移動(dòng)的成像透鏡242制造的線旋轉(zhuǎn)90°，使得成像的線垂直于襯底的掃描方向。襯底沿著X方向移動(dòng)。對(duì)于襯底上的每條條紋，在鼓上將需要可移動(dòng)的成像透鏡242的圓圈。如果一個(gè)這樣的圓圈可以在襯底上刻寫3mm寬的條紋且襯底為300mm寬，那么可能在鼓上需要700 (鼓的圓周上的光學(xué)裝置)XlOO = 70000個(gè)光學(xué)組件。如果在鼓上使用圓柱形光學(xué)裝置，則其可能是較少的。另外，在這一實(shí)施例中成像光學(xué)裝置可能需要對(duì)特定場(chǎng)成像，其可能使得光學(xué)裝置更加復(fù)雜。約95%的占空比是可能的。這一實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)是所成像的條紋可以具有大致相等的長(zhǎng)度、且是大致平行的且是直的。在這一實(shí)施例中，用不與可移動(dòng)的成像透鏡242 —起移動(dòng)或結(jié)合其一起移動(dòng)的元件進(jìn)行局部聚焦是相對(duì)容易的。 圖28顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)兀件的光刻設(shè)備的一部分的不意側(cè)視圖布局，且顯不相對(duì)于獨(dú)立可控元件的成像透鏡242的組的五個(gè)不同的旋轉(zhuǎn)位置。參考圖28，設(shè)置了在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件102?？梢苿?dòng)的成像透鏡242包括多個(gè)透鏡組，每個(gè)透鏡組包括場(chǎng)透鏡814和成像透鏡818。襯底沿著X方向移動(dòng)。可移動(dòng)的成像透鏡242的場(chǎng)透鏡814 (例如球面透鏡)相對(duì)于獨(dú)立可控元件102沿著方向815移動(dòng)(例如圍繞在成像透鏡242被至少部分地以圓形方式布置所沿的的軸線旋轉(zhuǎn))。場(chǎng)透鏡814朝向可移動(dòng)的成像透鏡242的成像透鏡818 (例如，諸如雙非球面透鏡等非球面透鏡)引導(dǎo)束。如同場(chǎng)透鏡814，成像透鏡818相對(duì)于獨(dú)立可控元件102移動(dòng)(例如圍繞在成像透鏡242被至少部分地以圓形方式布置所沿的軸線旋轉(zhuǎn))。在這一實(shí)施例中，場(chǎng)透鏡814以基本上與成像透鏡818相同的速度移動(dòng)。場(chǎng)透鏡814的焦平面在位置815處與成像透鏡818的后焦面重合，其提供遠(yuǎn)心進(jìn)/遠(yuǎn)心出的系統(tǒng)。與圖23的布置相反，成像透鏡818對(duì)特定場(chǎng)成像。場(chǎng)透鏡814的焦距使得用于成像透鏡818的場(chǎng)尺寸小于2至3°的半角。在這種情形中，還可以用一個(gè)單元件光學(xué)裝置(例如雙非球面表面單元件)獲得衍射限制成像。布置場(chǎng)透鏡814安裝成在各個(gè)場(chǎng)透鏡814之間沒有間距。在這種情形下，獨(dú)立可控元件102的占空比可以是約95%。成像透鏡818的焦距使得對(duì)于在襯底處的為O. 2的NA，這些透鏡將不會(huì)大于場(chǎng)透鏡814的直徑。等于場(chǎng)透鏡814的直徑的成像透鏡818的焦距將提供成像透鏡818的直徑，其留下了用于安裝成像透鏡818的足夠空間。由于場(chǎng)角度，可以刻寫比場(chǎng)透鏡814的節(jié)距略微大的線。另外依賴于成像透鏡818的焦距，這提供了襯底上的相鄰的獨(dú)立可控元件102的所成像的線之間的重疊。因此，獨(dú)立可控元件102可以安裝在與一個(gè)環(huán)上的成像透鏡242節(jié)距相同的節(jié)距上。圖29顯示出圖28的光刻設(shè)備的一部分的示意三維視圖。在這一描述中，5個(gè)獨(dú)立可控元件102顯示具有5個(gè)相關(guān)的可移動(dòng)的成像透鏡組242?？梢悦靼?，可以提供另外的獨(dú)立可控元件102和相關(guān)的可移動(dòng)的成像透鏡組242。襯底沿著由箭頭829顯示的X方向移動(dòng)。在一實(shí)施例中，場(chǎng)透鏡814布置成它們之間沒有間距。光瞳面位于標(biāo)記817處。為了避免相對(duì)小的雙非球面成像透鏡818，減小移動(dòng)的成像透鏡242的光學(xué)裝置的量以及使用標(biāo)準(zhǔn)激光二極管作為獨(dú)立可控元件102，在這一實(shí)施例中可能使用可移動(dòng)的成像透鏡242的單個(gè)透鏡組對(duì)多個(gè)獨(dú)立可控元件102成像。只要獨(dú)立可控元件102被遠(yuǎn)心地成像到每一可移動(dòng)的成像透鏡242的場(chǎng)透鏡814上，對(duì)應(yīng)的成像透鏡818將使得來自獨(dú)立可控元件102的束再次遠(yuǎn)心地成像到襯底上。如果例如8條線被同時(shí)刻寫，那么場(chǎng)透鏡814的直徑和成像透鏡818的焦距在相同的生產(chǎn)率下可以被增加8倍，同時(shí)可移動(dòng)的成像透鏡242的數(shù)量可以被減小8倍。另外，因?yàn)橛糜谑沟锚?dú)立可控元件102成像到場(chǎng)透鏡814上所需要的光學(xué)裝置的一部分可以是公共的，所以在X-Y平面中基本上靜止的光學(xué)裝置可以被減少。在圖30中示意性地顯示通過單個(gè)可移動(dòng)的成像透鏡242的組同時(shí)刻寫8條線的這樣的布置，具有成像透鏡242的組的旋轉(zhuǎn)軸線821和成像透鏡242的組距離旋轉(zhuǎn)軸線821的半徑823。從I. 5mm的節(jié)距至12mm的節(jié)距(在通過單個(gè)可移動(dòng)的成像透鏡242的組同時(shí)刻寫8條線時(shí))為安裝作為獨(dú)立可控元件102的標(biāo)準(zhǔn)激光二極管留下了足夠的空間。 在一實(shí)施例中，224個(gè)獨(dú)立可控元件102 (例如標(biāo)準(zhǔn)激光二極管)可以被使用。在一實(shí)施例中，可以使用120個(gè)成像透鏡242的組。在一實(shí)施例中，可以使用28個(gè)基本上靜止的光學(xué)裝置組和224個(gè)獨(dú)立可控元件102。在這一實(shí)施例中，還相對(duì)容易地用不與可移動(dòng)的成像透鏡242 —起移動(dòng)或配合其一起移動(dòng)的元件進(jìn)行局部聚焦。只要場(chǎng)透鏡814上的獨(dú)立可控元件102的遠(yuǎn)心圖像被沿著光軸移動(dòng)且保持成遠(yuǎn)心的，將僅襯底上的圖像的聚焦變化，且圖像將保持是遠(yuǎn)心的。圖31顯示用圖28和29的布置中的移動(dòng)屋頂狀部件控制聚焦的示意性布置。兩個(gè)折疊的反射鏡832和屋頂狀部件(例如棱鏡或反射鏡組)834放置在來自獨(dú)立可控元件102的遠(yuǎn)心束中，且在場(chǎng)透鏡814的前面。通過沿著方向833移動(dòng)屋頂狀部件834遠(yuǎn)離或朝向折疊的反射鏡832，圖像被沿著光軸移位，并且因此也相對(duì)于襯底移位。因?yàn)橛捎谳S向聚焦變化等于F/數(shù)的二次方比例，沿著光軸具有大的放大倍數(shù)，所以具有F/2. 5的束的襯底處的25 μ m的離焦將提供在f/37. 5的束的場(chǎng)透鏡814處的5. 625mm(37. 5/2. 5) 2的聚焦位移。這意味著屋頂狀部件834必須移動(dòng)其的一半。圖32顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的具有根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的在X-Y平面中基本上靜止的獨(dú)立可控元件和相對(duì)于其可移動(dòng)的光學(xué)元件的光刻設(shè)備的示意橫截面?zhèn)纫晥D。雖然圖32顯示類似于圖23的布置，但是它可以修改為適合圖19-22和/或圖24-31中的任
一實(shí)施例。參考圖32，光刻設(shè)備100包括保持襯底的襯底臺(tái)106，和在高達(dá)6個(gè)自由度上移動(dòng)襯底臺(tái)106的定位裝置116。光刻設(shè)備100還包括在框架160上布置的多個(gè)獨(dú)立可控元件102。在這一實(shí)施例中，每個(gè)獨(dú)立可控元件102是發(fā)射輻射二極管，例如激光二極管，諸如藍(lán)紫激光二極管。獨(dú)立可控元件102布置在框架838上且沿著Y方向延伸。雖然顯示一個(gè)框架838，但是光刻設(shè)備可以具有與例如在圖5中的陣列200類似地顯示的多個(gè)框架838。進(jìn)一步地布置在框架838上的是透鏡812和816?？蚣?38和因此獨(dú)立可控元件102與透鏡812和816在X-Y平面中是基本上靜止的?？蚣?38、獨(dú)立可控元件102以及透鏡812和816可以通過致動(dòng)器836沿著Z方向移動(dòng)。在這一實(shí)施例中，設(shè)置可旋轉(zhuǎn)的框架840。場(chǎng)透鏡814和成像透鏡818布置在框架840上，其中場(chǎng)透鏡814和成像透鏡818的組合形成了可移動(dòng)的成像透鏡242。在使用中，板圍繞其自身的軸線206旋轉(zhuǎn)，例如沿著相對(duì)于陣列200的由圖5中箭頭顯示的方向。使用電機(jī)216使框架840圍繞軸線206旋轉(zhuǎn)。另外，可以通過電機(jī)216沿著Z方向移動(dòng)框架840，使得可移動(dòng)的成像透鏡242可以相對(duì)于襯底臺(tái)106移位。在這一實(shí)施例中，在其中具有孔闌的孔闌結(jié)構(gòu)248可以位于透鏡812的上方、在透鏡812和相關(guān)的獨(dú)立可控元件102之間?？钻@結(jié)構(gòu)248可以限制透鏡812、相關(guān)的獨(dú)立可控元件102的衍射效應(yīng)、和/或相鄰的透鏡812/獨(dú)立可控元件102的衍射效應(yīng)。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備100包括一個(gè)或更多的可移動(dòng)板890 (例如可旋轉(zhuǎn)板，例如可旋轉(zhuǎn)盤)，其包括光學(xué)元件，例如透鏡。在圖32的實(shí)施例中，顯示具有場(chǎng)透鏡814的板890和具有成像透鏡818的板890。在一實(shí)施例中，在使用時(shí)光刻設(shè)備沒有旋轉(zhuǎn)的任何反射式光學(xué)元件。在一實(shí)施例中，光刻設(shè)備沒有任何反射式光學(xué)元件，其接收來自任意或所有獨(dú) 立可控元件102的輻射，其在使用時(shí)旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中，一個(gè)或更多的(例如全部)板890是大致平坦的，例如沒有伸出到板的一個(gè)或更多的表面上方或下面的光學(xué)元件(或光學(xué)元件的一部分)。例如這可以通過確保板890是足夠厚的(即至少比光學(xué)元件的高度厚且定位光學(xué)元件使得它們不會(huì)伸出)或通過提供在板890 (未顯示)上方的平坦的蓋板來實(shí)現(xiàn)。確保板的一個(gè)或更多的表面是基本上平坦可以幫助例如在設(shè)備處于使用中時(shí)減小噪音。圖33示意性地示出光刻設(shè)備的一部分的橫截面?zhèn)纫暿疽鈭D。在該實(shí)施例中，光刻設(shè)備具有大致在X-Y平面內(nèi)靜止的獨(dú)立可控元件，如下文所進(jìn)一步討論的，盡管不必是這樣。光刻設(shè)備900包括用于保持襯底的襯底臺(tái)902和用于在高達(dá)6個(gè)自由度上移動(dòng)襯底臺(tái)902的定位裝置904。襯底可以是涂覆有抗蝕劑的襯底。在一實(shí)施例中，襯底是晶片。在一實(shí)施例中，襯底是多邊形(例如矩形)襯底。在一實(shí)施例中，襯底是玻璃板。在一實(shí)施例中，襯底是塑料襯底。在一實(shí)施例中，襯底是薄片(foil)。在一實(shí)施例中,光刻設(shè)備適合于卷對(duì)卷(roll-to-roll)制造。光刻設(shè)備900還包括配置成發(fā)射多個(gè)束的多個(gè)獨(dú)立可控的自發(fā)射式對(duì)比度裝置906。在一實(shí)施例中，自發(fā)射式對(duì)比度裝置906是發(fā)射輻射二極管，諸如發(fā)光二極管(LED)、有機(jī)LED(OLED)、聚合物L(fēng)ED (PLED)或激光二極管(例如固態(tài)激光二極管)。在一實(shí)施例中，每個(gè)獨(dú)立可控元件906是藍(lán)紫色激光二極管(例如三洋(Sanyo)型號(hào)no. DL-3146-151)。這樣的二極管可以由諸如Sanyo,Nichia,Osram和Nitride等公司供應(yīng)。在一實(shí)施例中，二極管發(fā)射具有大約365nm或大約405nm的波長(zhǎng)的UV輻射。在一實(shí)施例中，二極管可以提供從0. 5-200mW的范圍內(nèi)選擇的輸出功率。在一實(shí)施例中，激光二極管(裸露的管芯)的尺寸是從100-800微米的范圍內(nèi)選擇。在一實(shí)施例中，激光二極管具有從0. 5-5平方微米的范圍內(nèi)選擇的發(fā)射面積。在一實(shí)施例中，激光二極管具有從5-44度的范圍選擇的發(fā)散角。在一實(shí)施例中，二極管具有用于提供大于或等于大約6. 4x IO8W/(m2. sr)的總亮度的配置(例如，發(fā)射面積、發(fā)散角、輸出功率等)。自發(fā)射式對(duì)比度裝置906布置在框架908上且可以沿著Y方向和/或X方向延伸。雖然示出了一個(gè)框架908，但是光刻設(shè)備可以具有多個(gè)框架908，如圖34所示。在框架908上還布置有透鏡920。框架908大致在X-Y平面中是靜止的，并因此自發(fā)射式對(duì)比度置906和透鏡920大致在X-Y平面中是靜止的?？梢酝ㄟ^致動(dòng)器910沿著Z方向移動(dòng)框架908、自發(fā)射式對(duì)比度裝置906以及透鏡920?？商娲鼗蛄硗獾?，可以通過與該特定的透鏡相關(guān)聯(lián)的致動(dòng)器沿著Z方向移動(dòng)透鏡920?？蛇x地，每個(gè)透鏡920可以設(shè)置有致動(dòng)器。自發(fā)射式對(duì)比度裝置906可以配置成發(fā)射束，投影系統(tǒng)920、924和930可以配置成將束投影到襯底的目標(biāo)部分上。自發(fā)射式對(duì)比度裝置906和投影系統(tǒng)形成光學(xué)裝置列。光刻設(shè)備900可以包括用于相對(duì)于襯底移動(dòng)光學(xué)裝置列或其的一部分的致動(dòng)器(例如電機(jī)918)。在其上布置有場(chǎng)透鏡924和成像透鏡930的框架912可以隨著致動(dòng)器旋轉(zhuǎn)。場(chǎng)透鏡924和成像透鏡930的組合形成了可移動(dòng)的光學(xué)裝置914。在使用中，框架912圍繞其自身的軸線916旋轉(zhuǎn)，例如沿著由圖34中的箭頭顯示的方向旋轉(zhuǎn)。通過使用致動(dòng)器(例如電機(jī)918)使框架912圍繞軸線916旋轉(zhuǎn)。另外，可以通過電機(jī)910使框架912沿著Z方向移動(dòng)，使得可移動(dòng)的光學(xué)裝置914可以相對(duì)于襯底臺(tái)902移位?？捉Y(jié)構(gòu)922其中具有孔，可以定位在透鏡920的上方且在透鏡920和自發(fā)射式對(duì)比度裝置906之間?？捉Y(jié)構(gòu)922可以限制透鏡920、相關(guān)聯(lián)的自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的衍射效應(yīng)和/或相鄰的透鏡920/自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的衍射效應(yīng)。 所示出的設(shè)備可以通過旋轉(zhuǎn)框架912和同時(shí)在光學(xué)裝置列的下面移動(dòng)襯底臺(tái)902上的襯底而被使用。自發(fā)射式對(duì)比度裝置906可以在透鏡920、924和930大致彼此對(duì)準(zhǔn)時(shí)發(fā)射束穿過這些透鏡。通過移動(dòng)透鏡924和930，束在襯底上的像被在襯底的一部分之上進(jìn)行掃描。通過同時(shí)在光學(xué)裝置列的下面移動(dòng)襯底臺(tái)902上的襯底，接受自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的像的襯底的一部分也移動(dòng)。通過在控制器的控制之下高速地接通和/或關(guān)斷(例如在其被關(guān)斷時(shí)沒有輸出或輸出低于閾值；在其被接通時(shí)，具有高于閾值的輸出)自發(fā)射式對(duì)比度裝置906，可以在襯底上的抗蝕劑層中對(duì)期望的圖案進(jìn)行成像，其中控制器用于控制光學(xué)裝置列或其一部分的旋轉(zhuǎn)、控制自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的強(qiáng)度以及控制襯底的速度。圖34示出具有自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的圖33的光刻設(shè)備的示意性俯視圖。如圖33中顯示的光刻設(shè)備900那樣，該光刻設(shè)備900包括用于保持襯底928的襯底臺(tái)902、用于在高達(dá)6個(gè)自由度上移動(dòng)襯底臺(tái)902的定位裝置904、用于確定自發(fā)射式對(duì)比度裝置906和襯底928之間的對(duì)準(zhǔn)以及用于確定襯底928是否相對(duì)于自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的投影處于水平的對(duì)準(zhǔn)/調(diào)平傳感器932。如圖所示，襯底928具有矩形形狀，然而，另外或可替代地可以處理圓形襯底。自發(fā)射式對(duì)比度裝置906布置在框架926上。自發(fā)射式對(duì)比度裝置906可以是發(fā)射輻射二極管，例如激光二極管，例如藍(lán)紫色激光二極管。如圖34所示，自發(fā)射式對(duì)比度裝置906可以布置到在X-Y平面中延伸的陣列934中。所述陣列934可以是細(xì)長(zhǎng)的線。在一實(shí)施例中，所述陣列934可以是自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的一維陣列。在一實(shí)施例中，所述陣列934可以是自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的兩維陣列。旋轉(zhuǎn)框架912可以被設(shè)置，其可以沿著由箭頭顯示的方向旋轉(zhuǎn)?？梢蕴峁┬D(zhuǎn)框架912，其可以沿著由所述箭頭顯示的方向旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)框架可以設(shè)置有透鏡924、930(在圖33中示出)，以提供每個(gè)自發(fā)射式對(duì)比度裝置906的圖像。所述設(shè)備可以設(shè)置有致動(dòng)器，用于相對(duì)于襯底旋轉(zhuǎn)包括框架912和透鏡924、930的光學(xué)裝置列。圖35示出在周邊處設(shè)置有透鏡924、930的旋轉(zhuǎn)框架912的高度示意性的透視圖。多個(gè)束(在本示例中10個(gè)束)入射到透鏡中的一個(gè)透鏡上且被投影到由襯底臺(tái)902保持的襯底928的目標(biāo)部分上。在一實(shí)施例中，多個(gè)束布置成一直線?？尚D(zhuǎn)的框架能夠借助于致動(dòng)器(未顯示)圍繞軸線916旋轉(zhuǎn)。由于可旋轉(zhuǎn)的框架912的旋轉(zhuǎn)，束將入射到接連的透鏡924、930 (場(chǎng)透鏡924和成像透鏡930)上，且將入射到每個(gè)接連的透鏡上，由此被偏轉(zhuǎn)，以便沿著襯底928的表面的一部分行進(jìn),如將參考圖36詳細(xì)描述的。在一實(shí)施例中，每個(gè)束由各自的源(即自發(fā)射式對(duì)比度裝置(例如激光二極管(未在圖35中示出)))產(chǎn)生。通過分段的反射鏡936偏轉(zhuǎn)所述束和使得它們?cè)谝黄穑糜跍p小束之間的距離，由此使得更大量的束投影通過同一透鏡且實(shí)現(xiàn)下文討論的分辨率要求。隨著可旋轉(zhuǎn)的框架旋轉(zhuǎn)，束入射到接連的透鏡上，每次束輻射一個(gè)透鏡，束入射到透鏡的表面上所在的位置移動(dòng)。因?yàn)槭蕾囉谑肷涞酵哥R上的位置而被相異地(例如不同的偏轉(zhuǎn))投影到襯底上，所以束(在到達(dá)襯底時(shí))將隨著下一透鏡的每次通過進(jìn)行掃描移動(dòng)。參考圖36進(jìn)一步說明所述原理。圖36顯示可旋轉(zhuǎn)框架912的一部分的高度示意性的俯視圖。第一組束由BI標(biāo)示，第二組束由B2標(biāo)示，第三組束由B3標(biāo)示。每組束通過可旋轉(zhuǎn)框架912的相應(yīng)的透鏡組924、930進(jìn)行投影。隨著可旋轉(zhuǎn)框架912旋轉(zhuǎn)，束BI在掃描移動(dòng)中被投影到襯底928上，由此掃描區(qū)域A14。類似地，束B2掃描區(qū)域A24，束B3掃描區(qū) 域A34。在通過相應(yīng)的致動(dòng)器旋轉(zhuǎn)可旋轉(zhuǎn)框架912的同時(shí)，襯底928和襯底臺(tái)被沿著方向D移動(dòng)，其可以是沿著X軸線(如在圖34中顯示的)，由此大致垂直于在區(qū)域A14，A24，A34中的束的掃描方向。作為通過第二致動(dòng)器沿著方向D的移動(dòng)(例如通過對(duì)應(yīng)的襯底臺(tái)電機(jī)使襯底臺(tái)移動(dòng))的結(jié)果，在束被通過可旋轉(zhuǎn)框架912的接連的透鏡投影時(shí)，束的接連的掃描被投影，以便基本上彼此相鄰接，從而導(dǎo)致了針對(duì)于束BI的每個(gè)接連的掃描來說基本上鄰接的區(qū)域A11,A12, A13, A14(區(qū)域All，A12，A13是之前掃描的，A14是如圖36顯示的當(dāng)前被掃描的)，針對(duì)于束B2的區(qū)域A21，A22，A23和A24(區(qū)域A21，A22，A23是之前掃描的，區(qū)域A24是當(dāng)前掃描的，如圖36所示)，以及針對(duì)于束B3的區(qū)域A31，A32，A33和A34(區(qū)域A31，A32，A33是之前掃描的，區(qū)域A34是當(dāng)前掃描的，如圖36所示)。由此，襯底表面的區(qū)域Al，A2和A3可以通過在旋轉(zhuǎn)可旋轉(zhuǎn)框架912的同時(shí)襯底沿方向D的移動(dòng)而被覆蓋。多個(gè)束通過同一透鏡的投影允許在較短的時(shí)幀內(nèi)處理整個(gè)襯底(以與可旋轉(zhuǎn)框架912相同的旋轉(zhuǎn)速度)，這是因?yàn)閷?duì)于透鏡的每次通過，多個(gè)束用每個(gè)透鏡掃描襯底，由此對(duì)于接連的掃描允許在方向D上的增加的位移。以不同的觀點(diǎn)看，對(duì)于給定的處理時(shí)間，在經(jīng)由同一透鏡將多個(gè)束投影到襯底上時(shí)，可旋轉(zhuǎn)框架的旋轉(zhuǎn)速度可以被減小，由此可以減小由于高的旋轉(zhuǎn)速度造成的效應(yīng)(諸如可旋轉(zhuǎn)框架的變形、磨損、振動(dòng)、湍流等)。在一實(shí)施例中，多個(gè)束被以與透鏡924、930的旋轉(zhuǎn)的切線成一角度地布置，如圖36所示。在一實(shí)施例中，多個(gè)束被布置成使得每個(gè)束與相鄰的束的掃描路徑重疊或鄰接?？梢园l(fā)現(xiàn)多個(gè)束被通過同一透鏡一次投影的所述方面的另外的效應(yīng)在于公差的放寬。由于透鏡的公差(定位、光學(xué)投影等)，接連的區(qū)域All，A12，A13，A14(和/或區(qū)域A21，A22，A23和A24，和/或區(qū)域A31，A32，A33和A34)的位置可以顯示出相對(duì)于彼此的一定程度的定位誤差。因此，可能需要接連的區(qū)域A11，A12，A13，A14之間的一定程度的重疊。在例如一束的10%用于重疊的情形中，處理速度將因此在單個(gè)束一次通過同一的透鏡的情況下也被減小同一倍數(shù)10%。在一次通過同一透鏡投影5個(gè)或更多的束的情形中，將針對(duì)于每5個(gè)或更多的投影線提供相同的10%的重疊(類似于上文的一個(gè)束的示例)，由此將總的重疊減小大約5倍或更多倍，減小至2%或更小，由此對(duì)總的處理速度的影響明顯更低。類似地，投影至少10個(gè)束可以將總的重疊減小大約10倍。由此，襯底的處理時(shí)間的公差的效應(yīng)可以通過由同一透鏡一次投影多個(gè)束的特征來減小。另外或可替代地，可以允許更大的重疊(因此允許更大的公差帶)，因?yàn)樵谕ㄟ^同一透鏡一次投影多個(gè)束的情況下其對(duì)處理的影響低?？商娲?，或除經(jīng)由同一透鏡一次投影多個(gè)束之外，可以使用隔行掃描技術(shù)或交錯(cuò)技術(shù)(interlacing technique),然而其可能需要透鏡之間的相對(duì)更加嚴(yán)格的匹配。因此，經(jīng)由透鏡中的同一透鏡一次將至少兩個(gè)束投影到襯底上具有相互的間隔，光刻設(shè)備可以布置成操作第二致動(dòng)器，以便相對(duì)于光學(xué)裝置列移動(dòng)襯底，以使得束的隨后的投影被投影到所述間隔中。為了減小在方向D上的一組中的接連的束之間的距離(由此例如在方向D上實(shí)現(xiàn)更高的分辨率)，可以相對(duì)彼此相對(duì)于方向D對(duì)角線地布置所述束。可以通過在光學(xué)路徑上設(shè)置分段的反射鏡936進(jìn)一步減小所述間隔，每個(gè)段反射所述束中相應(yīng)的一個(gè)束，所述段 布置成以便相對(duì)于在入射到反射鏡上的束之間的間隔來減小被反射鏡反射的束之間的間隔。還可以通過多個(gè)光纖實(shí)現(xiàn)這種效果，每個(gè)束入射到相應(yīng)的一個(gè)光纖上，光纖布置成以便沿著光路相對(duì)于在光纖的上游的束之間的間隔減小光纖下游的束之間的間隔。另外，這種效果可以通過使用具有多個(gè)輸入的集成的光波導(dǎo)電路來實(shí)現(xiàn)，每個(gè)輸入用于接收相應(yīng)的一個(gè)束。集成的光波導(dǎo)電路布置成以便沿著光路相對(duì)于集成的光波導(dǎo)電路上游的束之間的間隔減小集成的光波導(dǎo)電路下游的束之間的間隔。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，自發(fā)射式對(duì)比度裝置(例如激光二極管)中的每個(gè)的強(qiáng)度可以在光學(xué)裝置列的一部分的移動(dòng)(在這一示例中是可旋轉(zhuǎn)框架912以及透鏡924、930的旋轉(zhuǎn))期間被調(diào)制，以便在襯底上輻射期望的圖案。注意到，光學(xué)裝置列的一部分(即框架912和透鏡924、930)是可旋轉(zhuǎn)的這樣的構(gòu)思允許以高精度和高移動(dòng)重復(fù)性高速地移動(dòng)透鏡 924、930。在所示的實(shí)施例中，一對(duì)透鏡924、930 —起形成投影實(shí)體以將至少兩個(gè)束投影到襯底上。應(yīng)當(dāng)理解，這樣的投影實(shí)體可以包括一個(gè)或更多的透鏡。因此，本發(fā)明的實(shí)施例可以被理解成，使得通過來自可旋轉(zhuǎn)框架的多個(gè)投影實(shí)體的同一投影實(shí)體將至少兩個(gè)束投影到襯底上，每個(gè)投影實(shí)體包括至少一個(gè)透鏡，且布置成將至少兩個(gè)束投影到襯底上。根據(jù)一種器件制造方法，諸如顯示器、集成電路或任何其它物件等器件可以由其上已經(jīng)被投影有圖案的襯底制造。在下文標(biāo)以序號(hào)的方面中還提供了實(shí)施例I. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，配置成使所述襯底的曝光區(qū)域由根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束進(jìn)行曝光；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上且包括接收所述多個(gè)束的透鏡陣列，所述投影系統(tǒng)配置成在所述曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述調(diào)制器移動(dòng)所述透鏡陣列。2.根據(jù)實(shí)施例I所述的光刻設(shè)備，其中每一透鏡包括沿著從所述調(diào)制器至所述襯底的所述多個(gè)束中的至少一個(gè)束的束路徑布置的至少兩個(gè)透鏡。3.根據(jù)實(shí)施例2所述的光刻設(shè)備，其中所述至少兩個(gè)透鏡中的第一透鏡包括場(chǎng)透鏡，所述至少兩個(gè)透鏡中的第二透鏡包括成像透鏡。4.根據(jù)實(shí)施例3所述的光刻設(shè)備，其中所述場(chǎng)透鏡的焦平面與所述成像透鏡的后
焦面重合。5.根據(jù)實(shí)施例3或4所述的光刻設(shè)備，其中所述成像透鏡包括雙非球面透鏡。6.根據(jù)實(shí)施例3-5中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述場(chǎng)透鏡的焦距使得所述成像透鏡的場(chǎng)尺寸小于2至3°半角。7.根據(jù)實(shí)施例3-6中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述成像透鏡的焦距使得對(duì)在所述襯底處的為O. 2的NA，所述成像透鏡不大于所述場(chǎng)透鏡的直徑。 8.根據(jù)實(shí)施例7所述的光刻設(shè)備，其中所述成像透鏡的焦距等于所述場(chǎng)透鏡的直徑。9.根據(jù)實(shí)施例3-8中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中用所述場(chǎng)透鏡和所述成像透鏡的單一組合使得多個(gè)所述束成像。10.根據(jù)實(shí)施例3-9中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括聚焦控制裝置，該聚焦控制裝置沿著從所述調(diào)制器至所述場(chǎng)透鏡的所述多個(gè)束中的至少一個(gè)束的束路徑布置。11.根據(jù)實(shí)施例10所述的光刻設(shè)備，其中所述聚焦控制裝置包括折疊反射鏡和可移動(dòng)屋頂狀部件。12.根據(jù)實(shí)施例3所述的光刻設(shè)備，還包括在所述路徑中的透鏡，以將從所述第一透鏡至所述第二透鏡的所述束準(zhǔn)直。13.根據(jù)實(shí)施例12所述的光刻設(shè)備，其中用于準(zhǔn)直所述束的在所述路徑中的透鏡相對(duì)于所述調(diào)制器基本上是靜止的。14.根據(jù)實(shí)施例3，12和13中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括在所述調(diào)制器和所述第一透鏡之間的路徑中的透鏡，以朝向所述第一透鏡聚焦所述多個(gè)束中的至少一個(gè)。15.根據(jù)實(shí)施例14所述的光刻設(shè)備，其中用于聚焦所述束的在所述路徑中的透鏡相對(duì)于所述調(diào)制器是基本上靜止的。16.根據(jù)實(shí)施例3和12-15中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述場(chǎng)透鏡的光軸與所述成像透鏡的光軸重合。17.根據(jù)實(shí)施例2所述的光刻設(shè)備，其中所述至少兩個(gè)透鏡中的第一透鏡包括至少兩個(gè)子透鏡，其中所述多個(gè)束中的至少一個(gè)束在所述兩個(gè)子透鏡中間進(jìn)行聚焦。18.根據(jù)實(shí)施例17所述的光刻設(shè)備，其中所述至少兩個(gè)子透鏡中的每一個(gè)具有大致相等的焦距。19.根據(jù)實(shí)施例2,17和18中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備,其中所述第一透鏡被布置成朝向所述至少兩個(gè)透鏡中的第二透鏡輸出被準(zhǔn)直的束。20.根據(jù)實(shí)施例2和17-19中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備,配置成以不同于所述至少兩個(gè)透鏡中的第二透鏡的速度移動(dòng)所述至少兩個(gè)透鏡中的第一透鏡。21.根據(jù)實(shí)施例20所述的光刻設(shè)備，其中所述第二透鏡的速度是所述第一透鏡的速度的兩倍。22.根據(jù)實(shí)施例I所述的光刻設(shè)備，其中每一透鏡包括4f遠(yuǎn)心進(jìn)/遠(yuǎn)心出的成像系統(tǒng)。23.根據(jù)實(shí)施例22所述的光刻設(shè)備，其中所述4f遠(yuǎn)心進(jìn)/遠(yuǎn)心出的成像系統(tǒng)包括至少6個(gè)透鏡。24.根據(jù)實(shí)施例I所述的光刻設(shè)備，還包括在所述調(diào)制器和所述透鏡陣列之間的消轉(zhuǎn)儀。25.根據(jù)實(shí)施例24所述的光刻設(shè)備，其中所述消轉(zhuǎn)儀包括佩肯棱鏡。26.根據(jù)實(shí)施例24或25所述的光刻設(shè)備，其中所述消轉(zhuǎn)儀布置成以所述透鏡陣列的速度的一半移動(dòng)。27.根據(jù)實(shí)施例24-26中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括拋物面反射鏡，以減小在所述調(diào)制器和所述消轉(zhuǎn)儀之間的束的尺寸。28.根據(jù)實(shí)施例24-27中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括拋物面反射鏡，以增加在 所述消轉(zhuǎn)儀和所述透鏡陣列之間的束的尺寸。29.根據(jù)實(shí)施例1-28中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述透鏡陣列相對(duì)于所述調(diào)制器旋轉(zhuǎn)。30.根據(jù)實(shí)施例1-29中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述調(diào)制器包括用于發(fā)射電磁輻射的多個(gè)獨(dú)立可控輻射源。31.根據(jù)實(shí)施例1-29中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述調(diào)制器包括微反射鏡陣列。32.根據(jù)實(shí)施例1-29中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述調(diào)制器包括輻射源和聲光調(diào)制器。33. 一種器件制造方法，包括步驟提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束；和使用接收所述多個(gè)束的透鏡陣列將所述多個(gè)束投影到襯底上；和在所述投影期間，相對(duì)于所述束移動(dòng)所述透鏡陣列。34.根據(jù)實(shí)施例33所述的方法，其中每一透鏡包括沿著從所述至少一個(gè)束的源至所述襯底的所述多個(gè)束中的至少一個(gè)束的束路徑布置的至少兩個(gè)透鏡。35.根據(jù)實(shí)施例34所述的方法，其中所述至少兩個(gè)透鏡中的第一透鏡包括場(chǎng)透鏡，所述至少兩個(gè)透鏡中的第二透鏡包括成像透鏡。36.根據(jù)實(shí)施例35所述的方法，其中所述場(chǎng)透鏡的焦平面與所述成像透鏡的后焦
面重合。37.根據(jù)實(shí)施例35或36所述的方法，其中所述成像透鏡包括雙非球面透鏡。38.根據(jù)實(shí)施例35-37中任一個(gè)所述的方法，其中所述場(chǎng)透鏡的焦距使得所述成像透鏡的場(chǎng)尺寸小于2至3°半角。39.根據(jù)實(shí)施例35-38中任一個(gè)所述的方法，其中所述成像透鏡的焦距使得對(duì)在所述襯底處的為O. 2的NA，所述成像透鏡不大于所述場(chǎng)透鏡的直徑。40.根據(jù)實(shí)施例39所述的方法，其中所述成像透鏡的焦距等于所述場(chǎng)透鏡的直徑。41.根據(jù)實(shí)施例35-40中任一個(gè)所述的方法，其中用所述場(chǎng)透鏡和所述成像透鏡的單一組合對(duì)多個(gè)所述束成像。
42.根據(jù)實(shí)施例35-41中任一個(gè)所述的方法，還包括使用在所述多個(gè)束中的至少一個(gè)束的源和所述場(chǎng)透鏡之間的聚焦控制裝置。43.根據(jù)實(shí)施例42所述的方法，其中所述聚焦控制裝置包括折疊反射鏡和可移動(dòng)的屋頂狀部件。44.根據(jù)實(shí)施例35所述的方法，還包括使用透鏡將在所述第一透鏡和所述第二透鏡之間的至少一個(gè)束準(zhǔn)直。45.根據(jù)實(shí)施例44所述的方法，其中用于準(zhǔn)直所述至少一個(gè)束的透鏡相對(duì)于所述至少一個(gè)束基本上是靜止的。46.根據(jù)實(shí)施例35，44和45中任一個(gè)所述的方法，還包括使用在所述至少一個(gè)束的源和所述第一透鏡之間的路徑中的透鏡，朝向所述第一透鏡聚焦所述多個(gè)束中的至少一個(gè)。
47.根據(jù)實(shí)施例46所述的方法，其中用于聚焦所述至少一個(gè)束的透鏡相對(duì)于所述至少一個(gè)束是基本上靜止的。48.根據(jù)實(shí)施例35和44_47中任一個(gè)所述的方法，其中所述場(chǎng)透鏡的光軸與所述對(duì)應(yīng)的成像透鏡的光軸重合。49.根據(jù)實(shí)施例34所述的方法，其中所述至少兩個(gè)透鏡中的第一透鏡包括至少兩個(gè)子透鏡，其中所述多個(gè)束中的至少一個(gè)束在所述兩個(gè)子透鏡中間進(jìn)行聚焦。50.根據(jù)實(shí)施例49所述的方法，其中所述至少兩個(gè)子透鏡中的每一個(gè)具有大致相等的焦距。51.根據(jù)實(shí)施例34，49和50中任一個(gè)所述的方法，其中所述第一透鏡被布置成朝向所述至少兩個(gè)透鏡中的第二透鏡輸出被準(zhǔn)直的束。52.根據(jù)實(shí)施例34和49_51中任一個(gè)所述的方法，包括以不同于所述至少兩個(gè)透鏡中的第二透鏡的速度移動(dòng)所述至少兩個(gè)透鏡中的第一透鏡。53.根據(jù)實(shí)施例52所述的方法，其中所述第二透鏡的速度是所述第一透鏡的速度的兩倍。54.根據(jù)實(shí)施例33所述的方法，其中每一透鏡包括4f遠(yuǎn)心進(jìn)/遠(yuǎn)心出的成像系統(tǒng)。55.根據(jù)實(shí)施例54所述的方法，其中所述4f遠(yuǎn)心進(jìn)/遠(yuǎn)心出的成像系統(tǒng)包括至少6個(gè)透鏡。56.根據(jù)實(shí)施例33所述的方法，還包括使用在所述束的源和所述透鏡陣列之間的消轉(zhuǎn)儀對(duì)所述束進(jìn)行消轉(zhuǎn)。57.根據(jù)實(shí)施例56所述的方法，其中所述消轉(zhuǎn)儀包括佩肯棱鏡。58.根據(jù)實(shí)施例56或57所述的方法，包括以所述透鏡陣列的速度的一半移動(dòng)所述消轉(zhuǎn)儀。59.根據(jù)實(shí)施例56-58中任一個(gè)所述的方法，還包括使用拋物面反射鏡減小在所述束的源和所述消轉(zhuǎn)儀之間的束的尺寸。60.根據(jù)實(shí)施例56-59中任一個(gè)所述的方法，還包括使用拋物面反射鏡增加在所述消轉(zhuǎn)儀和所述透鏡陣列之間的束的尺寸。61.根據(jù)實(shí)施例33-60中任一個(gè)所述的方法，包括相對(duì)于所述束旋轉(zhuǎn)所述透鏡陣列。62.根據(jù)實(shí)施例33-61中任一個(gè)所述的方法，其中多個(gè)獨(dú)立可控輻射源中的每ー個(gè)發(fā)射所述多個(gè)束中的每ー個(gè)。63.根據(jù)實(shí)施例33-61中任一個(gè)所述的方法，其中微反射鏡陣列發(fā)射多個(gè)束。64.根據(jù)實(shí)施例33-61中任一個(gè)所述的方法，其中輻射源和聲光調(diào)制器產(chǎn)生所述多個(gè)束。65. 一種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括發(fā)射電磁輻射的多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成使所述襯底的曝光區(qū)域由根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束進(jìn)行曝光；和 投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上且包括接收所述多個(gè)束的透鏡陣列，所述投影系統(tǒng)配置成在所述曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述獨(dú)立可控輻射源移動(dòng)所述透鏡陣列。66. 一種器件制造方法，包括步驟使用多個(gè)獨(dú)立可控輻射源提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束；和使用接收所述多個(gè)束的透鏡陣列將所述多個(gè)束投影到襯底上；和在所述投影期間相對(duì)于所述獨(dú)立可控輻射源移動(dòng)所述透鏡陣列。67. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，配置成使所述襯底的曝光區(qū)域由根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束進(jìn)行曝光；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到襯底上且包括用于接收所述多個(gè)束的多個(gè)透鏡陣列，所述陣列中的每ー個(gè)獨(dú)立地沿著所述多個(gè)束的束路徑布置。68.根據(jù)實(shí)施例67所述的光刻設(shè)備，其中所述投影系統(tǒng)配置成在所述曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述調(diào)制器移動(dòng)所述透鏡陣列。69.根據(jù)實(shí)施例67或68所述的光刻設(shè)備，其中每ー陣列中的所述透鏡布置在單個(gè)主體中。70. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括發(fā)射電磁輻射的多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將所述襯底的曝光區(qū)域由根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束進(jìn)行曝光，和配置成在所述曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源，使得僅少于全部所述多個(gè)輻射源的多個(gè)輻射源可以在任一時(shí)刻曝光所述曝光區(qū)域；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。71. —種光刻設(shè)備，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束，所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源在它發(fā)射輻射的位置和在它不發(fā)射輻射的位置之間是可移動(dòng)的；襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。
72. —種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括用于發(fā)射電磁輻射的多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將所述襯底的曝光區(qū)域由根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束進(jìn)行曝光，和配置成在所述曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源，使得來自所述至少ー個(gè)輻射源的輻射在同一時(shí)刻與來自所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)其它的輻射源的輻射鄰接或重置；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。73. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；
多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源在它可以發(fā)射輻射至所述曝光區(qū)域的位置和它不發(fā)射輻射至所述曝光區(qū)域的位置之間是可移動(dòng)的，和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。74. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成在所述曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源，所述調(diào)制器具有至所述曝光區(qū)域的多個(gè)束的輸出，所述輸出具有小于所述多個(gè)輻射源的輸出的面積的面積；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。75. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源的陣列，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的各自的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于其各自的曝光區(qū)域移動(dòng)每ー陣列，或相對(duì)于其各自的曝光區(qū)域移動(dòng)來自每ー陣列的所述多個(gè)束，或相對(duì)于所述各自的曝光區(qū)域移動(dòng)所述陣列和所述多個(gè)束，其中在使用時(shí)多個(gè)陣列中的陣列的各自的曝光區(qū)域與所述多個(gè)陣列中的另ー陣列的各自的曝光區(qū)域鄰接或重疊；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。76. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，或相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)束，或相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)和所述多個(gè)束，其中在使用過程中所述輻射源中的每ー個(gè)在其各自的功率/前向電流曲線的陡峭部分中進(jìn)行操作；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。77. —種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；
調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，或相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)束，或相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)和所述多個(gè)束，其中所述獨(dú)立可控輻射源中的每ー個(gè)包括藍(lán)紫激光二極管；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。78. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在至少兩個(gè)同心的圓形陣列中；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。
79.根據(jù)實(shí)施例78所述的光刻設(shè)備，其中所述圓形陣列中的至少ー個(gè)圓形陣列被以交錯(cuò)的方式布置至所述圓形陣列中的至少ー個(gè)其它的圓形陣列。80. 一種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源圍繞結(jié)構(gòu)的中心布置，且所述結(jié)構(gòu)具有在所述多個(gè)輻射源內(nèi)的延伸通過所述結(jié)構(gòu)的開ロ ；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。81.根據(jù)實(shí)施例80所述的光刻設(shè)備，還包括在所述輻射源處或所述輻射源的外部保持支撐結(jié)構(gòu)的支撐件。82.根據(jù)實(shí)施例81所述的光刻設(shè)備，其中所述支撐件包括允許所述結(jié)構(gòu)移動(dòng)的軸承。83.根據(jù)實(shí)施例81或82所述的光刻設(shè)備，其中所述支撐件包括移動(dòng)所述結(jié)構(gòu)的電機(jī)。84. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源圍繞結(jié)構(gòu)的中心布置；支撐件，用于在所述輻射源處或所述輻射源的外部支撐所述結(jié)構(gòu)，所述結(jié)構(gòu)配置成旋轉(zhuǎn)所述結(jié)構(gòu)或允許旋轉(zhuǎn)所述結(jié)構(gòu)；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。85.根據(jù)實(shí)施例84所述的光刻設(shè)備，其中所述支撐件包括允許旋轉(zhuǎn)所述結(jié)構(gòu)的軸承。86.根據(jù)實(shí)施例84或85所述的光刻設(shè)備，其中所述支撐件包括旋轉(zhuǎn)所述結(jié)構(gòu)的電機(jī)。87. 一種光刻設(shè)備,包括
襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上，所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)又布置在可移動(dòng)板上；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。88.根據(jù)實(shí)施例87所述的光刻設(shè)備，其中所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)是可旋轉(zhuǎn)的。89.根據(jù)實(shí)施例87或88所述的光刻設(shè)備，其中所述可移動(dòng)板是可旋轉(zhuǎn)的。90.根據(jù)實(shí)施例89所述的光刻設(shè)備，其中所述可移動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心不與所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)中心重合。91. 一種光刻設(shè)備,包括 襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上；流體通道，布置在所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中，以提供溫度控制流體至至少鄰近所述多個(gè)輻射源的位置；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。92.根據(jù)實(shí)施例91所述的光刻設(shè)備，還包括位于所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上的傳感器。93.根據(jù)實(shí)施例91或92所述的光刻設(shè)備，還包括傳感器，所述傳感器位于鄰近所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源的位置但不在所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上。94.根據(jù)實(shí)施例92或93所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器包括溫度傳感器。95.根據(jù)實(shí)施例92-94中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器包括配置成測(cè)量所述結(jié)構(gòu)的膨脹和/或收縮的傳感器。96. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上；散熱片，所述散熱片布置在所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上，以提供對(duì)所述結(jié)構(gòu)的溫度控制；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。97.根據(jù)實(shí)施例96所述的光刻設(shè)備，還包括靜止的散熱片，以與所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上的散熱片配合。98.根據(jù)實(shí)施例97所述的光刻設(shè)備，包括在所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上的至少兩個(gè)散熱片，所述靜止的散熱片位于所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上的所述散熱片中的至少ー個(gè)散熱片與所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上的所述散熱片中的至少一個(gè)其它散熱片之間。99. 一種光刻設(shè)備,包括
襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上；流體供給裝置，配置成供給流體至所述結(jié)構(gòu)的外表面，以控制所述結(jié)構(gòu)的溫度；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。100.根據(jù)實(shí)施例99所述的光刻設(shè)備，其中所述流體供給裝置配置成供給氣體。101.根據(jù)實(shí)施例99所述的光刻設(shè)備，其中所述流體供給裝置配置成供給液體。102.根據(jù)實(shí)施例101所述的光刻設(shè)備，還包括流體限制結(jié)構(gòu)，配置成保持所述液體與所述結(jié)構(gòu)接觸。 103.根據(jù)實(shí)施例102所述的光刻設(shè)備，其中所述流體限制結(jié)構(gòu)配置成保持所述結(jié)構(gòu)與所述流體限制結(jié)構(gòu)之間的密封。104. —種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每一個(gè)；結(jié)構(gòu)上獨(dú)立的透鏡，所述透鏡連接在所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)輻射源附近或連接至所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)輻射源，且能夠隨各自的輻射源移動(dòng)。105.根據(jù)實(shí)施例104所述的光刻設(shè)備，還包括致動(dòng)器，所述致動(dòng)器配置成相對(duì)于其各自的輻射源來使透鏡移位。106.根據(jù)實(shí)施例104或105所述的光刻設(shè)備，還包括致動(dòng)器，所述致動(dòng)器配置成相對(duì)于支撐所述透鏡的結(jié)構(gòu)和其各自的輻射源來使透鏡和其各自的輻射源移位。107.根據(jù)實(shí)施例105或106所述的光刻設(shè)備，其中所述致動(dòng)器配置成在高達(dá)3個(gè)自由度上移動(dòng)所述透鏡。108.根據(jù)實(shí)施例104-107中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源的下游的孔闌結(jié)構(gòu)。109.根據(jù)實(shí)施例104-107中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中用高熱導(dǎo)率材料將所述透鏡連接至支撐所述透鏡的結(jié)構(gòu)和其各自的輻射源。110. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每一個(gè)；空間相干性破壞裝置，配置成擾亂來自所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源的輻射；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。111.根據(jù)實(shí)施例110所述的光刻設(shè)備，其中所述空間相干性破壞裝置包括靜止的板，所述至少一個(gè)輻射源相對(duì)于所述板是可移動(dòng)的。112.根據(jù)實(shí)施例110所述的光刻設(shè)備，其中所述空間相干性破壞裝置包括從下述裝置中選出的至少ー個(gè)相位調(diào)制器、旋轉(zhuǎn)板或振動(dòng)板。
113. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每一個(gè)；傳感器，配置成測(cè)量與所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源相關(guān)的聚焦，所述傳感器的至少一部分在所述至少一個(gè)輻射源中或所述至少一個(gè)輻射源上；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。114.根據(jù)實(shí)施例113所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器配置成單獨(dú)測(cè)量與所述輻射源的每ー個(gè)相關(guān)的聚焦。115.根據(jù)實(shí)施例113或114所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器是刀ロ聚焦檢測(cè)器。 116. 一種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每一個(gè)；發(fā)送器，配置成無(wú)線地發(fā)送信號(hào)和/或功率至所述多個(gè)輻射源，以分別控制所述多個(gè)輻射源和/或?qū)λ龆鄠€(gè)輻射源供電；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。117.根據(jù)實(shí)施例116所述的光刻設(shè)備,其中所述信號(hào)包括多個(gè)信號(hào),且還包括多路分解器，以朝向各自的輻射源發(fā)送所述多個(gè)信號(hào)中的每ー個(gè)信號(hào)。118. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上；單條線，用于將控制器連接至所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)，以將多個(gè)信號(hào)和/或功率發(fā)送至所述多個(gè)輻射源，以分別控制所述多個(gè)輻射源和/或?qū)ζ溥M(jìn)行供電；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。119.根據(jù)實(shí)施例118所述的光刻設(shè)備，其中所述信號(hào)包括多個(gè)信號(hào)，且還包括多路分解器，以朝向各自的輻射源發(fā)送所述多個(gè)信號(hào)中的每ー個(gè)信號(hào)。120.根據(jù)實(shí)施例118或119所述的光刻設(shè)備，其中所述線包括光學(xué)線。121. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每一個(gè)；傳感器，測(cè)量由所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源朝向所述襯底發(fā)射或?qū)⒁l(fā)射的輻射的特性；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。122.根據(jù)實(shí)施例121所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的至少一部分位于所述襯底保持器中或所述襯底保持器上。
123.根據(jù)實(shí)施例122所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的所述至少一部分位于所述襯底保持器中或所述襯底保持器上并且在所述襯底被支撐在所述襯底保持器上所處的區(qū)域的外部的一位置處。124.根據(jù)實(shí)施例121-123中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的至少一部分位于所述襯底的ー側(cè)，其在使用時(shí)基本上沿著所述襯底的掃描方向延伸。125.根據(jù)實(shí)施例121-124中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的至少一部分安裝在支撐所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的框架中或框架上。126.根據(jù)實(shí)施例121-125中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器配置成測(cè)量來自所述曝光區(qū)域外的所述至少一個(gè)輻射源的輻射。127.根據(jù)實(shí)施例121-126中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的至少一部分是可移動(dòng)的。
128.根據(jù)實(shí)施例121-127中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括控制器，所述控制器配置成基于所述傳感器的結(jié)果來校準(zhǔn)所述至少一個(gè)輻射源。129. 一種光刻設(shè)備，包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源布置在可移動(dòng)結(jié)構(gòu)中或可移動(dòng)結(jié)構(gòu)上；傳感器，用于測(cè)量所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的位置；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。130.根據(jù)實(shí)施例129所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的至少一部分安裝在支撐所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的框架中或框架上。131. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)，所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)具有識(shí)別標(biāo)志或提供識(shí)別標(biāo)志；傳感器，配置成檢測(cè)所述識(shí)別標(biāo)志；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。132.根據(jù)實(shí)施例131所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器的至少一部分安裝在支撐所述多個(gè)輻射源的框架中或框架上。133.根據(jù)實(shí)施例131或132所述的光刻設(shè)備，其中所述識(shí)別標(biāo)志包括來自各自的
輻射源的輻射頻率。134.根據(jù)實(shí)施例131-133中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述識(shí)別標(biāo)志包括從下述中選擇的至少ー個(gè)條碼、標(biāo)記或射頻識(shí)別標(biāo)志。135. 一種光刻設(shè)備,包括襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底；調(diào)制器，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成將根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束提供至所述襯底的曝光區(qū)域，且配置成相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的每一個(gè)；
傳感器，配置成檢測(cè)被所述襯底改向的、來自所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源的輻射；和投影系統(tǒng)，配置成將所調(diào)制的束投影到所述襯底上。136.根據(jù)實(shí)施例135所述的光刻設(shè)備，其中所述傳感器配置成根據(jù)所述改向的輻射來確定入射到所述襯底上的來自所述至少ー個(gè)輻射源的所述輻射的斑的位置。137.根據(jù)實(shí)施例70-136中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述調(diào)制器配置成圍繞基本上平行于所述多個(gè)束的傳播方向的軸線旋轉(zhuǎn)至少一個(gè)輻射源。138.根據(jù)實(shí)施例70-137中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述調(diào)制器配置成沿著橫向于所述多個(gè)束的傳播方向的方向平移至少ー個(gè)輻射源。139.根據(jù)實(shí)施例70-138中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述調(diào)制器包括配置成移動(dòng)所述多個(gè)束的束偏轉(zhuǎn)器。 140.根據(jù)實(shí)施例139所述的光刻設(shè)備，其中所述束偏轉(zhuǎn)器是從由下述部件構(gòu)成的組中選出的反射鏡、棱鏡和聲光調(diào)制器。141.根據(jù)實(shí)施例139所述的光刻設(shè)備，其中所述束偏轉(zhuǎn)器包括多邊形件。142.根據(jù)實(shí)施例139所述的光刻設(shè)備，其中所述束偏轉(zhuǎn)器配置成振動(dòng)。143.根據(jù)實(shí)施例139所述的光刻設(shè)備，其中所述束偏轉(zhuǎn)器配置成旋轉(zhuǎn)。144.根據(jù)實(shí)施例70-143中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述襯底保持器配置成沿著設(shè)置所述多個(gè)束的方向移動(dòng)所述襯底。145.根據(jù)實(shí)施例144所述的光刻設(shè)備，其中所述襯底的移動(dòng)是旋轉(zhuǎn)。146.根據(jù)實(shí)施例70-145中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述多個(gè)輻射源是能夠一起移動(dòng)的。147.根據(jù)實(shí)施例70-146中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述多個(gè)輻射源以圓形
方式布置。148.根據(jù)實(shí)施例70-147中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述多個(gè)輻射源布置在板中且彼此間隔開。149.根據(jù)實(shí)施例70-148中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述投影系統(tǒng)包括透鏡陣列。150.根據(jù)實(shí)施例70-149中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述投影系統(tǒng)實(shí)質(zhì)上由透鏡陣列構(gòu)成。151.根據(jù)實(shí)施例149或150所述的光刻設(shè)備，其中所述透鏡陣列的透鏡具有高的數(shù)值孔徑，所述光刻設(shè)備配置成使得所述襯底處在與所述透鏡相關(guān)的輻射的聚焦位置的外面，以有效地降低所述透鏡的數(shù)值孔徑。152.根據(jù)實(shí)施例70-151中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述輻射源中的每ー個(gè)包括激光二極管。153.根據(jù)實(shí)施例152所述的光刻設(shè)備，其中每ー激光二極管配置成發(fā)射具有約405nm的波長(zhǎng)的輻射。154.根據(jù)實(shí)施例70-153中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括溫度控制器，所述溫度控制器配置成在曝光期間將所述多個(gè)輻射源保持在大致恒定的溫度。155.根據(jù)實(shí)施例154所述的光刻設(shè)備，其中所述控制器配置成在曝光之前將所述多個(gè)輻射源加熱至處于所述大致恒定的溫度的溫度或接近所述大致恒定的溫度的溫度。156.根據(jù)實(shí)施例70-155中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，包括沿著一方向布置的至少3個(gè)獨(dú)立的陣列，所述陣列中每ー個(gè)包括多個(gè)輻射源。157.根據(jù)實(shí)施例70-156中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述多個(gè)輻射源包括至少約1200個(gè)輻射源。158.根據(jù)實(shí)施例70-157中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括對(duì)準(zhǔn)傳感器，用于確定所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源與所述襯底之間的對(duì)準(zhǔn)。159.根據(jù)實(shí)施例70-158中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括水平傳感器，用于確定所述襯底相對(duì)于所述多個(gè)束中的至少ー個(gè)束的聚焦位置的位置。160.根據(jù)實(shí)施例158或159所述的光刻設(shè)備，還包括控制器，所述控制器配置成基于對(duì)準(zhǔn)傳感器的結(jié)果和/或水平傳感器的結(jié)果改變所述圖案。 161.根據(jù)實(shí)施例70-160中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，還包括控制器，所述控制器配置成基于所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源的溫度的測(cè)量或與所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源相關(guān)的溫度的測(cè)量來改變所述圖案。162.根據(jù)實(shí)施例70-161中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備,還包括傳感器,用于測(cè)量由所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源被朝向所述襯底發(fā)射或?qū)⒈话l(fā)射的輻射的特性。163. 一種光刻設(shè)備，包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，配置成提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束；透鏡陣列，包括多個(gè)小透鏡；和襯底保持器，構(gòu)造成保持襯底，其中在使用期間，除了所述透鏡陣列之外，在所述多個(gè)輻射源和所述襯底之間沒有其它光學(xué)裝置。164. —種可編程圖案形成裝置，包括襯底，在所述襯底上具有沿至少ー個(gè)方向間隔開的發(fā)射輻射ニ極管的陣列；和透鏡陣列，在所述發(fā)射輻射ニ極管的輻射下游側(cè)處。165.根據(jù)實(shí)施例164所述的可編程圖案形成裝置，其中所述透鏡陣列包括具有多個(gè)微透鏡的微透鏡陣列，所述微透鏡的數(shù)量對(duì)應(yīng)于發(fā)射輻射ニ極管的數(shù)量，且被定位以將選擇性地穿過所述發(fā)射輻射ニ極管中的各自的發(fā)射輻射ニ極管的輻射聚焦成為微斑陣列。166.根據(jù)實(shí)施例164或165所述的可編程圖案形成裝置，其中所述發(fā)射輻射ニ極管沿著至少兩個(gè)正交的方向間隔開。167.根據(jù)實(shí)施例164-166中任一個(gè)所述的可編程圖案形成裝置，其中所述發(fā)射輻射ニ極管嵌入在具有低熱導(dǎo)率的材料中。168. 一種器件制造方法，包括步驟使用多個(gè)獨(dú)立可控輻射源朝向村底的曝光區(qū)域提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束；在提供所述多個(gè)束的同時(shí)移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)，使得僅少于全部所述多個(gè)輻射源的多個(gè)輻射源可以在任一時(shí)刻曝光所述曝光區(qū)域；和將所述多個(gè)束投影到所述襯底上。169. 一種器件制造方法，包括步驟
使用多個(gè)獨(dú)立可控輻射源來提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束；在它發(fā)射輻射的位置和它不發(fā)射輻射的位置之間移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)；和將所述多個(gè)束投影到所述襯底上。170. 一種器件制造方法，包括使用多個(gè)獨(dú)立可控輻射源提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的束，且僅使用透鏡陣列將來自所述多個(gè)獨(dú)立可控輻射源的調(diào)制的束投影至襯底。171. 一種器件制造方法，包括步驟使用多個(gè)獨(dú)立可控輻射源提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)電磁輻射束；在曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于所述曝光區(qū)域移動(dòng)所述多個(gè)輻射源中的至少ー個(gè)輻射源，使得來自所述至少ー個(gè)輻射源的輻射在同一時(shí)刻與來自所述多個(gè)輻射源中的至少
將所述多個(gè)束投影到襯底上。172.根據(jù)實(shí)施例168-171中任一個(gè)所述的方法，其中移動(dòng)步驟包括圍繞基本上平行于所述多個(gè)束的傳播方向的軸線旋轉(zhuǎn)至少一個(gè)輻射源。173.根據(jù)實(shí)施例168-172中任一個(gè)所述的方法，其中移動(dòng)步驟包括沿著橫向于所述多個(gè)束的傳播方向的方向平移至少ー個(gè)輻射源。174.根據(jù)實(shí)施例168-173中任一個(gè)所述的方法，包括通過使用束偏轉(zhuǎn)器移動(dòng)所述多個(gè)束。175.根據(jù)實(shí)施例174所述的方法，其中所述束偏轉(zhuǎn)器是由下述部件構(gòu)成的組中選出的反射鏡、棱鏡和聲光調(diào)制器。176.根據(jù)實(shí)施例174所述的方法，其中所述束偏轉(zhuǎn)器包括多邊形件。177.根據(jù)實(shí)施例174所述的方法，其中所述束偏轉(zhuǎn)器配置成振動(dòng)。178.根據(jù)實(shí)施例174所述的方法，其中所述束偏轉(zhuǎn)器配置成旋轉(zhuǎn)。179.根據(jù)實(shí)施例168-178中任一個(gè)所述的方法，包括使所述襯底沿著所述多個(gè)束被設(shè)置所在的方向運(yùn)動(dòng)。180.根據(jù)實(shí)施例179所述的方法，其中所述襯底的運(yùn)動(dòng)是旋轉(zhuǎn)。181.根據(jù)實(shí)施例168-180中任一個(gè)所述的方法，包括一起移動(dòng)所述多個(gè)輻射源。182.根據(jù)實(shí)施例168-181中任一個(gè)所述的方法，其中所述多個(gè)輻射源以圓形方式布置。183.根據(jù)實(shí)施例168-182中任一個(gè)所述的方法，其中所述多個(gè)輻射源布置在板中且彼此間隔開。184.根據(jù)實(shí)施例168-183中任一個(gè)所述的方法，其中所述投影步驟包括通過使用透鏡陣列將所述束中的每個(gè)束的圖像形成在所述襯底上。185.根據(jù)實(shí)施例168-184中任一個(gè)所述的方法，其中所述投影步驟包括實(shí)質(zhì)上僅使用透鏡陣列將所述束中的每個(gè)束的圖像形成在所述襯底上。186.根據(jù)實(shí)施例168-185中任一個(gè)所述的方法，其中所述輻射源中的每個(gè)包括激
光二極管。187.根據(jù)實(shí)施例186所述的方法,其中姆個(gè)激光二極管配置成發(fā)射具有約405nm的波長(zhǎng)的輻射。
188. 一種根據(jù)實(shí)施例168-187中任一個(gè)所述的方法制造的平板顯示器。189. 一種根據(jù)實(shí)施例168-187中任一個(gè)所述的方法制造的集成電路器件。190. —種輻射系統(tǒng)，包括多個(gè)可移動(dòng)的輻射陣列，每個(gè)輻射陣列包括多個(gè)獨(dú)立可控輻射源，所述多個(gè)獨(dú)立可控輻射源配置成提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個(gè)束；和電機(jī)，配置成移動(dòng)所述輻射陣列中的每ー個(gè)。191.根據(jù)實(shí)施例190所述的輻射系統(tǒng)，其中所述電機(jī)配置成圍繞基本上平行于所述多個(gè)束的傳播方向的軸線旋轉(zhuǎn)所述輻射陣列中的每ー個(gè)。192.根據(jù)實(shí)施例190或191所述的輻射系統(tǒng)，其中所述電機(jī)配置成沿著橫向于所述多個(gè)束的傳播方向的方向平移所述輻射陣列中的每ー個(gè)。
193.根據(jù)實(shí)施例190-192中任一個(gè)所述的輻射系統(tǒng)，還包括束偏轉(zhuǎn)器，所述束偏轉(zhuǎn)器配置成移動(dòng)所述多個(gè)束。194.根據(jù)實(shí)施例193所述的輻射系統(tǒng)，其中所述束偏轉(zhuǎn)器是由下述部件構(gòu)成的組中選出的反射鏡、棱鏡和聲光調(diào)制器。195.根據(jù)實(shí)施例193所述的輻射系統(tǒng)，其中所述束偏轉(zhuǎn)器包括多邊形件。196.根據(jù)實(shí)施例193所述的輻射系統(tǒng)，其中所述束偏轉(zhuǎn)器配置成振動(dòng)。197.根據(jù)實(shí)施例193所述的輻射系統(tǒng)，其中所述束偏轉(zhuǎn)器配置成旋轉(zhuǎn)。198.根據(jù)實(shí)施例190-197中任ー個(gè)所述的輻射系統(tǒng)，其中所述輻射陣列中的每ー輻射陣列的多個(gè)輻射源能夠一起移動(dòng)。199.根據(jù)實(shí)施例190-198中任ー個(gè)所述的輻射系統(tǒng)，其中所述輻射陣列中的每ー輻射陣列的多個(gè)輻射源被以圓形方式布置。200.根據(jù)實(shí)施例190-199中任ー個(gè)所述的輻射系統(tǒng)，其中所述輻射陣列中的每ー輻射陣列的所述多個(gè)輻射源布置在板中且彼此間隔開。201.根據(jù)實(shí)施例190-200中任ー個(gè)所述的輻射系統(tǒng)，還包括與所述輻射陣列中的每ー輻射陣列相關(guān)聯(lián)的透鏡陣列。202.根據(jù)實(shí)施例201所述的輻射系統(tǒng)，其中所述輻射陣列中的每ー輻射陣列的所述多個(gè)輻射源中的每ー個(gè)與同所述輻射陣列相關(guān)聯(lián)的透鏡陣列中的透鏡相關(guān)聯(lián)。203.根據(jù)實(shí)施例190-202中任ー個(gè)所述的輻射系統(tǒng)，其中所述輻射陣列中的每ー輻射陣列的多個(gè)源中的每ー個(gè)源包括激光二極管。204.根據(jù)實(shí)施例203所述的輻射系統(tǒng)，其中每ー激光二極管配置成發(fā)射具有約405nm的波長(zhǎng)的輻射。205. 一種用于將襯底以福射曝光的光刻設(shè)備,所述光刻設(shè)備包括具有100-25000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件的可編程圖案形成裝置。206.根據(jù)實(shí)施例205所述的光刻設(shè)備，包括至少400個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。207.根據(jù)實(shí)施例205所述的光刻設(shè)備，包括至少1000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。208.根據(jù)實(shí)施例205-207中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，包括小于10000個(gè)自發(fā)射式
獨(dú)立可尋址元件。209.根據(jù)實(shí)施例205-207中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，包括小于5000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。210.根據(jù)實(shí)施例205-209中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋
址元件是激光二極管。211.根據(jù)實(shí)施例205-209中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件布置成具有從O. 1-3微米的范圍選出的在所述襯底上的斑尺寸。212.根據(jù)實(shí)施例205-209中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件布置成具有約I微米的在所述襯底上的斑尺寸。213. 一種用于將襯底以福射曝光的光刻設(shè)備,所述光刻設(shè)備包括可編程圖案形成裝置，所述可編程圖案形成裝置使得，以IOcm的曝光場(chǎng)長(zhǎng)度為基準(zhǔn)，具有100-25000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。
214.根據(jù)實(shí)施例213所述的光刻設(shè)備，包括至少400個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。215.根據(jù)實(shí)施例213所述的光刻設(shè)備，包括至少1000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。216.根據(jù)實(shí)施例213-215中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備,包括小于10000個(gè)自發(fā)射式
獨(dú)立可尋址元件。217.根據(jù)實(shí)施例213-215中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備,包括小于5000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)
立可尋址元件。218.根據(jù)實(shí)施例213-217中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋
址元件是激光二極管。219.根據(jù)實(shí)施例213-217中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件布置成具有從O. 1-3微米的范圍選出的在所述襯底上的斑尺寸。220.根據(jù)實(shí)施例213-217中任一個(gè)所述的光刻設(shè)備，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件布置成具有約I微米的在所述襯底上的斑尺寸。221. 一種可編程圖案形成裝置，包括可旋轉(zhuǎn)盤，所述盤具有100-25000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。222.根據(jù)實(shí)施例221所述的可編程圖案形成裝置，其中所述盤包括至少400個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。223.根據(jù)實(shí)施例221所述的可編程圖案形成裝置，其中所述盤包括至少1000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。224.根據(jù)實(shí)施例221-223中任一個(gè)所述的可編程圖案形成裝置，其中所述盤包括小于10000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。225.根據(jù)實(shí)施例221-223中任一個(gè)所述的可編程圖案形成裝置，其中所述盤包括小于5000個(gè)自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件。226.根據(jù)實(shí)施例221-225中任一個(gè)所述的可編程圖案形成裝置，其中所述自發(fā)射式獨(dú)立可尋址元件是激光二極管。227.在制造平板顯示器中使用一個(gè)或更多的本發(fā)明。228.在集成電路封裝中使用一個(gè)或更多的本發(fā)明。229. 一種光刻方法，包括使用具有自發(fā)射式元件的可編程圖案形成裝置將襯底以輻射曝光，其中在所述曝光期間操作所述自發(fā)射式元件的所述可編程圖案形成裝置的功耗小于IOkff0230.根據(jù)實(shí)施例229所述的方法，其中所述功耗小于5kW。231.根據(jù)實(shí)施例229或230所述的方法，其中所述功耗是至少lOOmW。232.根據(jù)實(shí)施例229-231中任一個(gè)所述的方法，其中所述自發(fā)射式元件是激光二極管。233.根據(jù)實(shí)施例232所述的方法，其中所述激光二極管是藍(lán)紫激光二極管。234. 一種光刻方法，包括使用具有自發(fā)射式元件的可編程圖案形成裝置將襯底以福射曝光，其中在使用時(shí)姆ー發(fā)射式兀件的光輸出是至少lmW。235.根據(jù)實(shí)施例234所述的方法，其中所述光輸出是至少10mW。 236.根據(jù)實(shí)施例234所述的方法，其中所述光輸出是至少50mW。237.根據(jù)實(shí)施例234-236中任一個(gè)所述的方法，其中所述光輸出小于200mW。238.根據(jù)實(shí)施例234-237中任一個(gè)所述的方法，其中所述自發(fā)射式元件是激光二極管。239.根據(jù)實(shí)施例238所述的方法，其中所述激光二極管是藍(lán)紫激光二極管。240.根據(jù)實(shí)施例234所述的方法,其中所述光輸出大于5mW但小于或等于20mW。241.根據(jù)實(shí)施例234所述的方法,其中所述光輸出大于5mW但小于或等于30mW。242.根據(jù)實(shí)施例234所述的方法,其中所述光輸出大于5mW但小于或等于40mW。243.根據(jù)實(shí)施例234-242中任一個(gè)所述的方法，其中所述自發(fā)射式元件以單ー模式進(jìn)行操作。244. —種光刻設(shè)備，包括可編程圖案形成裝置，具有自發(fā)射式元件；和可旋轉(zhuǎn)框架，具有用于接收來自所述自發(fā)射式元件的輻射的光學(xué)元件，所述光學(xué)元件是折射式光學(xué)元件。245. 一種光刻設(shè)備,包括可編程圖案形成裝置，具有自發(fā)射式元件；和可旋轉(zhuǎn)框架，具有用于接收來自所述自發(fā)射式元件的輻射的光學(xué)元件，所述可旋轉(zhuǎn)框架沒有用于接收來自任意所述自發(fā)射式元件或所有所述自發(fā)射式元件的輻射的反射式光學(xué)兀件。246. 一種光刻設(shè)備，包括可編程圖案形成裝置；和可旋轉(zhuǎn)框架，所述可旋轉(zhuǎn)框架包括具有光學(xué)元件的板，所述具有光學(xué)元件的板的表面是平坦的。247.在制造平板顯示器時(shí)使用所述發(fā)明中的一個(gè)或更多個(gè)。248.在集成電路的封裝中使用所述發(fā)明中的一個(gè)或更多個(gè)。249. ー種平板顯示器，所述平板顯示被根據(jù)所述方法中的任意方法制造。250. ー種根據(jù)所述方法中的任意方法制造的集成電路器件。251. 一種設(shè)備，包括光學(xué)裝置列，配置成在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案，所述光學(xué)裝置列包括可編程圖案形成裝置，配置成提供多個(gè)輻射束，和
投影系統(tǒng)，配置成將所述多個(gè)輻射束投影到襯底上，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)透鏡;致動(dòng)器，配置成移動(dòng)光學(xué)裝置列或其一部分，以在襯底的目標(biāo)部分上掃描所述多個(gè)輻射束，其中，所述光學(xué)裝置列配置成經(jīng)由所述投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡一次將所述多個(gè)輻射束中的至少兩個(gè)輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。252.根據(jù)實(shí)施例251所述的設(shè)備，其中光學(xué)裝置列包括移動(dòng)部分和靜止部分，配置成提供所述束的可編程圖案形成裝置被設(shè)置于靜止部分，配置成投影束的投影系統(tǒng)被設(shè)置于可移動(dòng)部分。253.根據(jù)實(shí)施例251或252所述的設(shè)備，其中致動(dòng)器是可旋轉(zhuǎn)的電機(jī)，光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分的移動(dòng)是可旋轉(zhuǎn)的移動(dòng)。254.根據(jù)實(shí)施例251-253中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，還包括第二致動(dòng)器，布置成 導(dǎo)致襯底和光學(xué)裝置列的至少一部分之間的相對(duì)移動(dòng)，使得至少兩個(gè)束在襯底上的投影在垂直于束的移動(dòng)方向的方向上與襯底上的所述至少兩個(gè)束的之前的投影鄰接。255.根據(jù)實(shí)施例254所述的設(shè)備，配置成使得襯底上的至少兩個(gè)束的投影在垂直于束的移動(dòng)方向的方向上至少部分地與所述至少兩個(gè)束在襯底上之前的投影重疊。256.根據(jù)實(shí)施例251-255中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，其中通過同一透鏡一次投影到襯底上的多個(gè)束是至少兩個(gè)束、至少五個(gè)束或至少十個(gè)束。257.根據(jù)實(shí)施例251-256中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備,其中可編程圖案形成裝置被構(gòu)造成發(fā)射所述束，所述束在入射到襯底的目標(biāo)部分上時(shí)被關(guān)于襯底相對(duì)于光學(xué)裝置列的移動(dòng)方向?qū)蔷€地布置。258.根據(jù)實(shí)施例251-257中任一實(shí)施例所述的設(shè)備，包括分段的反射鏡，每個(gè)段用于反射所述束中對(duì)應(yīng)的ー個(gè)束，所述段被布置以便相對(duì)于入射到反射鏡上的束之間的間隔減小被反射鏡反射的束之間的間隔。259.根據(jù)實(shí)施例251-258中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，包括多個(gè)光纖，所述束中的每個(gè)束入射到所述光纖中的對(duì)應(yīng)的一個(gè)光纖，所述光纖被布置成以便相對(duì)于光纖上游的束之間的間隔減小光纖下游的束之間的間隔。260.根據(jù)實(shí)施例251-259中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，包括具有多個(gè)輸入的集成的光波導(dǎo)電路，每個(gè)輸入用于接收所述束中的對(duì)應(yīng)的ー個(gè)束，集成的光波導(dǎo)電路布置成以便相對(duì)于集成的光波導(dǎo)電路上游的束之間的間隔減小集成的光波導(dǎo)電路下游的束之間的間隔。261.根據(jù)實(shí)施例251-260中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，其中投影系統(tǒng)包括第一光學(xué)裝置組和第二光學(xué)裝置組，所述第一光學(xué)裝置組形成投影系統(tǒng)的第一輪形部分，第二光學(xué)裝置組形成投影系統(tǒng)的第二輪形部分。262.根據(jù)實(shí)施例251-261中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，包括第二致動(dòng)器，第二致動(dòng)器布置成導(dǎo)致襯底和光學(xué)裝置列的至少一部分之間的相對(duì)移動(dòng)，其中經(jīng)由同一透鏡一次投影到襯底上的至少兩個(gè)束具有相互的間隔，第二致動(dòng)器配置成導(dǎo)致所述相對(duì)移動(dòng)以便使得所述束的下一投影被投影到所述間隔中。263.根據(jù)實(shí)施例251-262中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，其中所述移動(dòng)是大于500RPM、大于1000RPM、大于2000RPM或大于4000RPM的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。264.根據(jù)實(shí)施例251-263中任ー實(shí)施例所述的設(shè)備，其中可編程圖案形成裝置包括多個(gè)自發(fā)射式對(duì)比度裝置。265.根據(jù)實(shí)施例264所述的設(shè)備，其中自發(fā)射式對(duì)比度裝置包括激光二極管。266. 一種器件制造方法，包括步驟使用光學(xué)裝置列在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案，所述光學(xué)裝置列具有將多個(gè)輻射束投影到襯底上的投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)透鏡；和相對(duì)于襯底移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分，其中通過投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡ー次將所述多個(gè)輻射束中的至少兩個(gè)輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。 267.根據(jù)實(shí)施例266所述的器件制造方法，其中光學(xué)裝置列包括用于選擇性地提供輻射束的可控制元件。268.根據(jù)實(shí)施例267所述的器件制造方法，其中所述可控制元件包括多個(gè)自發(fā)射式對(duì)比度裝置。269.根據(jù)實(shí)施例266-268中任一實(shí)施例所述的器件制造方法，其中所述移動(dòng)步驟包括旋轉(zhuǎn)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分。270. —種設(shè)備，包括光學(xué)裝置列，配置成將多個(gè)束投影到襯底的目標(biāo)部分上，所述光學(xué)裝置列包括具有多個(gè)透鏡的投影系統(tǒng)，所述多個(gè)透鏡布置成大致垂直于多個(gè)束的投影方向；致動(dòng)器，配置成移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分，用于在襯底的目標(biāo)部分上掃描多個(gè)束，其中光學(xué)裝置列配置成經(jīng)由投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡ー次將多個(gè)束中的至少兩個(gè)束投影到襯底的目標(biāo)部分上。盡管在本文中可以做出具體的參考，將所述光刻設(shè)備用于制造特定的裝置或結(jié)構(gòu)(例如集成電路或平板顯示器)，但應(yīng)當(dāng)理解這里所述的光刻設(shè)備和光刻方法可以有其他的應(yīng)用。應(yīng)用包括但不限于集成電路、集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲(chǔ)器的引導(dǎo)和檢測(cè)圖案、平板顯示器、液晶顯示器(IXD)、OLED顯示器、薄膜磁頭、微機(jī)電器件(MEMS)、微光機(jī)電系統(tǒng)(M0EMS)、DNA芯片、封裝(例如倒裝芯片、再分布等)、柔性顯示器或電子裝置(其是顯示器或電子裝置，其可以是可滾動(dòng)的、如紙ー樣可彎曲的和保持不變形的、保形的、高低不平的、薄和/或輕質(zhì)的，例如柔性塑料顯示器)等的制造。另外，例如在平板顯示器中，本發(fā)明的設(shè)備和方法可以用于幫助產(chǎn)生各種層，例如薄膜晶體管層和/或彩色濾光片層。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在這種替代應(yīng)用的情況中，可以將其中使用的任意術(shù)語(yǔ)“晶片”或“管芯”分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語(yǔ)“襯底”或“目標(biāo)部分”同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進(jìn)行處理，例如在軌道(例如，ー種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上并且對(duì)已曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影的工具)、量測(cè)工具或檢驗(yàn)工具中。在可應(yīng)用的情況下，可以將此處的公開內(nèi)容應(yīng)用于這種和其它襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如以便產(chǎn)生多層1C，使得這里使用的所述術(shù)語(yǔ)“襯底”也可以表示已經(jīng)包含多個(gè)已處理層的襯底。平板顯示器襯底可以是矩形形狀。設(shè)計(jì)用于曝光這種類型的襯底的光刻設(shè)備可以提供曝光區(qū)域，其覆蓋矩形襯底的全部寬度，或覆蓋所述寬度的一部分(例如寬度的一半)?？梢栽谄毓鈪^(qū)域的下面掃描襯底，同時(shí)通過圖案化的束同步掃描圖案形成裝置或圖案形成裝置提供變化的圖案。這樣，期望的圖案的所有或一部分被轉(zhuǎn)移到襯底上。如果曝光區(qū)域覆蓋襯底的全部寬度，那么可以以單次掃描完成曝光。如果曝光區(qū)域覆蓋例如襯底的寬度的一半，那么可以在第一掃描之后橫向地移動(dòng)襯底，和通常進(jìn)行另一掃描以曝光襯底的剩余部分。此處使用的術(shù)語(yǔ)“圖案形成裝置”應(yīng)當(dāng)廣義地詮釋成表示可以用于調(diào)制輻射束的橫截面的任意器件，諸如產(chǎn)生(一部分)襯底中的圖案。應(yīng)當(dāng)注意，賦予輻射束的圖案可以不完全對(duì)應(yīng)于襯底的目標(biāo)部分中的期望的圖案，例如如果圖案包括相移特征或所謂的輔助特征。類似地，最終在襯底上產(chǎn)生的圖案可能不對(duì)應(yīng)于在獨(dú)立可控元件的陣列上的任一瞬間形成的圖案。這可以對(duì)于以下的布置尤其是這樣的在所述布置中，形成在襯底的每一部分上的最終圖案在給定的時(shí)間周期上或在給定數(shù)量的曝光期間建造，在給定的時(shí)間周期或給定數(shù)量的曝光期間，獨(dú)立可控元件的陣列上的圖案和/或襯底的相對(duì)位置變化。通常，在襯底的目標(biāo)部分上產(chǎn)生的圖案將對(duì)應(yīng)于在目標(biāo)部分中產(chǎn)生的器件中的特定功能層，例如集成電路或平板顯示器(例如平板顯示器中的彩色濾光片層或平板顯示器中的薄膜晶體管層)。這樣的圖案形成裝置的例子包括例如掩模版、可編程反射鏡陣列、激光二極管陣列、發(fā)光二極管陣列、光柵光閥以及LCD陣列。其圖案在電子裝置(例如計(jì)算機(jī))的幫助下是 可編程的圖案形成裝置在此處被統(tǒng)稱為“對(duì)比度裝置”，例如包括多個(gè)可編程元件的圖案形成裝置，其可以每個(gè)可編程元件調(diào)制輻射束的一部分的強(qiáng)度(例如除了掩模版之外在之前的句子中提及的所有器件)，包括具有多個(gè)可編程元件的電子可編程圖案形成裝置，其通過相對(duì)于輻射束的相鄰部分來調(diào)制輻射束的一部分的相位來將圖案賦予輻射束。在ー實(shí)施例中，圖案形成裝置包括至少10個(gè)可編程元件，例如至少100，至少1000，至少10000，至少100000，至少1000000，或至少10000000個(gè)可編程元件。在下文一定程度上更加詳細(xì)地討論這些器件中的幾個(gè)的實(shí)施例可編程反射鏡陣列?？删幊谭瓷溏R陣列可以包括矩陣可尋址表面，該矩陣可尋址表面具有粘弾性控制層和反射表面。這樣的設(shè)備所依據(jù)的基本原理是例如反射表面的被尋址的區(qū)域?qū)⑷肷涞妮椛浞瓷渥鳛檠苌漭椛?，而未被尋址的區(qū)域?qū)⑷肷涞妮椛浞瓷渥鳛槲幢谎苌涞妮椛洹Ｍㄟ^使用適當(dāng)?shù)目臻g濾波器，可以從反射束中過濾出未被衍射的輻射，僅留下衍射輻射到達(dá)襯底。這樣，所述束根據(jù)矩陣可尋址表面的尋址圖案而被圖案化。應(yīng)當(dāng)理解，作為替代，濾波器可以過濾掉衍射輻射，留下未被衍射的輻射到達(dá)襯底。衍射的光學(xué)MEMS器件的陣列也可以以對(duì)應(yīng)的方式使用。衍射的光學(xué)MEMS器件可以包括多個(gè)反射帶，所述多個(gè)反射帶可以相對(duì)于彼此變形，以形成反射入射輻射作為衍射輻射的光柵?？删幊谭瓷溏R陣列的另外的實(shí)施例采用微小反射鏡的矩陣布置，每個(gè)微小反射鏡可以通過施加適合的局部電場(chǎng)或通過采用壓電致動(dòng)裝置圍繞軸線獨(dú)立地傾斜。傾斜度定義了每一反射鏡的狀態(tài)。在元件是無(wú)缺陷時(shí)，反射鏡通過來自控制器的適合的控制信號(hào)能夠進(jìn)行控制。每個(gè)無(wú)缺陷的元件是可控制的，以采用一系列狀態(tài)中的任意ー個(gè)，以便調(diào)整在投影的輻射圖案中的其對(duì)應(yīng)的像素的強(qiáng)度。再者，反射鏡是矩陣可尋址的，使得被尋址的反射鏡沿著與未被尋址的反射鏡不同的方向反射入射的輻射束；這樣，反射束可以根據(jù)矩陣可尋址反射鏡的尋址圖案進(jìn)行圖案化?？梢允褂眠m合的電子方式進(jìn)行所需要的矩陣尋址。如此處所引述的有關(guān)反射鏡陣列的更多的信息可以參考例如美國(guó)專利Nos. US 5，296，891和US 5，523，193以及PCT專利申請(qǐng)公開Nos. WO 98/38597和W098/33096，通過參考將它們的全部?jī)?nèi)容并入本文中?？删幊蘄XD陣列。在美國(guó)專利No. US 5，229，872中提供了這樣的構(gòu)造的例子，通過參考將其全部?jī)?nèi)容并入本文中。光刻設(shè)備可以包括一個(gè)或更多的圖案形成裝置，例如一個(gè)或更多的對(duì)比度裝置。例如，它可以具有多個(gè)獨(dú)立可控元件的陣列，每個(gè)彼此獨(dú)立地進(jìn)行控制。在這樣的布置中，獨(dú)立可控元件陣列中的ー些或全部可以具有公共的照射系統(tǒng)(或照射系統(tǒng)的一部分)、用于獨(dú)立可控元件的陣列的公共支撐結(jié)構(gòu)和/或公共的投影系統(tǒng)(或投影系統(tǒng)的一部分)中的至少ー個(gè)。應(yīng)當(dāng)理解，在預(yù)先偏置特征、光學(xué)鄰近校正特征、相位變化技術(shù)和/或多重曝光技術(shù)被使用時(shí)，例如在獨(dú)立可控元件的陣列上“顯示的”圖案可以基本上不同于最終轉(zhuǎn)移到襯底的ー個(gè)層或襯底上的圖案。類似地，最終在襯底上產(chǎn)生的圖案可能不對(duì)應(yīng)于在獨(dú)立可控 元件的陣列上在任一瞬間形成的圖案。這可以對(duì)以下布置尤其是這樣的在所述布置中，形成在襯底的每一部分上的最終圖案在給定的時(shí)間周期上或在給定數(shù)量的曝光上建造，在給定的時(shí)間周期或給定數(shù)量的曝光期間獨(dú)立可控元件的陣列上的圖案和/或襯底的相對(duì)位置變化。投影系統(tǒng)和/或照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學(xué)部件，例如折射式、反射式、磁性式、電磁式、靜電式或其它類型的光學(xué)部件，或它們的任意組合，以引導(dǎo)、成形或控制輻射束。所述光刻設(shè)備可以是具有兩個(gè)(例如雙臺(tái))或更多襯底臺(tái)(和/或兩個(gè)或更多的圖案形成裝置臺(tái))的類型。在這種“多臺(tái)”機(jī)器中，可以并行地使用附加的臺(tái)，或可以在ー個(gè)或更多個(gè)臺(tái)上執(zhí)行預(yù)備步驟的同時(shí)，將ー個(gè)或更多個(gè)其它臺(tái)用于曝光。光刻設(shè)備還可以是至少一部分襯底可以被具有相對(duì)高折射率的“浸沒液體”(例如水)覆蓋、以便填充投影系統(tǒng)和襯底之間的空間的類型。浸沒液體還可以被施加至光刻設(shè)備中的其它空間，例如在圖案形成裝置和投影系統(tǒng)之間。浸沒技術(shù)用于増加投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。如在此處所使用的術(shù)語(yǔ)“浸沒”并不意味著諸如襯底等結(jié)構(gòu)必須浸沒在液體中，而是意味著在曝光期間液體位于投影系統(tǒng)和襯底之間。另外，設(shè)備可以設(shè)置有流體處理單元，以允許流體和襯底的照射部分之間的相互作用(例如選擇性地將化學(xué)品連接至襯底或選擇性地修改襯底的表面結(jié)構(gòu))。在一實(shí)施例中，襯底具有大致圓形形狀，可選地具有沿著其周界的一部分的凹ロ和/或平坦化的邊緣。在一實(shí)施例中，襯底具有多邊形形狀，例如矩形形狀。襯底具有大致圓形形狀的實(shí)施例包括這樣的實(shí)施例其中襯底的直徑為至少25mm,例如至少50mm,至少75mm,至少IOOmm,至少125mm,至少150mm,至少175mm,至少200mm,至少250mm,或至少300mm。在一實(shí)施例中，襯底的直徑為至多500mm,至多400mm,至多350mm,至多300mm,至多250mm,至多200mm,至多150mm,至多100mm,或至多75mm。襯底為多邊形(例如矩形)的實(shí)施例包括襯底的至少I個(gè)側(cè)邊,例如至少2個(gè)側(cè)邊或至少3個(gè)側(cè)邊具有至少5cm，例如至少25cm,至少50cm,至少100cm,至少150cm,至少200cm,或至少250cm的長(zhǎng)度的實(shí)施例。在一實(shí)施例中，襯底的至少I個(gè)側(cè)邊具有的長(zhǎng)度為至多1000cm，例如至多750cm，至多500cm，至多350cm，至多250cm，至多150cm，或至多75cm。在一實(shí)施例中，襯底是具有長(zhǎng)度為約250-350cm且寬度為約250-300cm的矩形襯底。襯底的厚度可以變化，且一定程度上可以依賴于例如襯底材料和/或襯底尺寸。在一實(shí)施例中，厚度是至少50 μ m,例如至少100 μ m，至少200 μ m,至少300 μ m,至少400 μ m,至少500 μ m,或至少600 μ m。在一實(shí)施例中，襯底的厚度是至多5000 μ m,例如至多3500 μ m,至多2500 μ m,至多1750 μ m,至多1250 μ m,至多1000 μ m,至多800 μ m,至多600 μ m,至多500 μ m,至多400 μ m,或至多300 μ m。這Jl所指的襯底可以在曝光之前或之后進(jìn)行處理，例如在軌道(ー種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上并且對(duì)已曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影的工具)中?？梢栽谄毓庵盎蚱毓庵鬁y(cè)量襯底的性質(zhì)，例如在量測(cè)工具和/或檢驗(yàn)工具中。在一實(shí)施例中，將抗蝕劑層設(shè)置在襯底上。在一實(shí)施例中，襯底是晶片，例如半導(dǎo)體晶片。在一實(shí)施例中，晶片材料是從由Si，SiGe, SiGeC, SiC, Ge，GaAs, InP和InAs構(gòu)成的組中選擇的。在一實(shí)施例中，晶片是III/V族化合物半導(dǎo)體晶片。在一實(shí)施例中，晶片是硅晶片。在一實(shí)施例中，襯底是陶瓷襯底。在一實(shí)施例中，襯底是玻璃襯底。玻璃襯底可能是有用的，例如在制造平板顯示器和液晶顯示器面板中。在一實(shí)施例中，襯底是塑料襯底。在一實(shí)施例中，襯底是透明的(對(duì)于人的肉眼)。在一實(shí)施例中，襯底是具有顔色的。在一實(shí)施例中，襯底是沒有顔色的。 雖然在一實(shí)施例中圖案形成裝置104如在上文描述和/或顯示成在襯底114之上，但是它可以替代或另外地位于襯底114的下面。另外，在一實(shí)施例中，圖案形成裝置104和襯底114可以是并排的，例如圖案形成裝置104和襯底114垂直地延伸，圖案被水平地投影。在一實(shí)施例中，提供圖案形成裝置104以曝光村底114的至少兩個(gè)相對(duì)的側(cè)面。例如，可以至少在襯底114的每個(gè)各自的相對(duì)側(cè)面上具有至少兩個(gè)圖案形成裝置104，以曝光這些側(cè)面。在一實(shí)施例中，可能具有單個(gè)圖案形成裝置104，以投影襯底114的一個(gè)側(cè)面和適合的光學(xué)裝置(例如束引導(dǎo)反射鏡)而將來自單個(gè)圖案形成裝置104的圖案投影到襯底114的另ー側(cè)面上。盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的特定的實(shí)施例，但是應(yīng)該理解的是本發(fā)明可以以與上述不同的形式實(shí)現(xiàn)。例如，本發(fā)明可以采取包含用于描述上述公開的方法的一個(gè)或更多個(gè)機(jī)器可讀指令序列的計(jì)算機(jī)程序的形式，或者采取具有在其中存儲(chǔ)的這種計(jì)算機(jī)程序的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)的形式(例如，半導(dǎo)體存儲(chǔ)器、磁盤或光盤)。另外，雖然在特定的實(shí)施例和例子的情形下公開了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明超出特定公開的實(shí)施例延伸至其它的可替代的實(shí)施例和/或本發(fā)明的使用和其顯而易見的修改和等價(jià)物。另外，盡管詳細(xì)地顯示和描述了本發(fā)明的許多變形，但是在本發(fā)明的范圍內(nèi)的其它修改基于這一公開對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員是容易理解的。例如，設(shè)想實(shí)施例的特定特征和方面的各種組合或子組合可以被進(jìn)行且仍然落到本發(fā)明的范圍內(nèi)。因此，應(yīng)當(dāng)理解，公開的實(shí)施例的各種特征和方面可以彼此結(jié)合或替代，用于形成公開的本發(fā)明的變化的模式。例如在一實(shí)施例中，圖5的可移動(dòng)的獨(dú)立可控元件的實(shí)施例可以與獨(dú)立可控元件的不可移動(dòng)的陣列組合，例如提供或具有備份系統(tǒng)。因此，盡管在上文描述了本發(fā)明的各種實(shí)施例，但是應(yīng)當(dāng)理解，僅通過舉例的方式顯示出它們，且不是限制性的。相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)明白，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的條件下，可以對(duì)本發(fā)明在形式和細(xì)節(jié)上進(jìn)行各種變化。因此，本發(fā)明的寬度和范圍不應(yīng)當(dāng)被上文描述的示例性實(shí)施例中的任意ー個(gè)限制，而是應(yīng)當(dāng)僅根據(jù)權(quán)利要求和它們的等同物來進(jìn)行 限定。
權(quán)利要求
1.一種設(shè)備，包括 光學(xué)裝置列，配置成在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案，所述光學(xué)裝置列包括 可編程圖案形成裝置，配置成提供多個(gè)輻射束，和 投影系統(tǒng)，配置成將所述多個(gè)輻射束投影到襯底上，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)透鏡； 致動(dòng)器，配置成移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分，以在襯底的目標(biāo)部分上掃描所述多個(gè)輻射束， 其中，所述光學(xué)裝置列配置成經(jīng)由所述投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡ー次將所述多個(gè)輻射束中的至少兩個(gè)輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的設(shè)備，其中光學(xué)裝置列包括移動(dòng)部分和靜止部分，配置成提供所述輻射束的可編程圖案形成裝置被設(shè)置于靜止部分，配置成將輻射束投影的投影系統(tǒng)被設(shè)置于可移動(dòng)部分。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，其中致動(dòng)器是旋轉(zhuǎn)電機(jī)，光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分的移動(dòng)是旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，還包括第二致動(dòng)器，所述第二致動(dòng)器布置成導(dǎo)致襯底和光學(xué)裝置列的至少一部分之間的相對(duì)移動(dòng)，使得所述至少兩個(gè)輻射束在襯底上的投影在垂直于輻射束的移動(dòng)方向的方向上與所述至少兩個(gè)輻射束在襯底上之前的投影鄰接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，配置成使得所述至少兩個(gè)輻射束在襯底上的投影在垂直于輻射束的移動(dòng)方向的方向上至少部分地與所述至少兩個(gè)輻射束在襯底上之前的投影重疊。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，其中通過同一透鏡一次投影到襯底上的多個(gè)輻射束是至少2個(gè)輻射束、至少5個(gè)輻射束或至少10個(gè)輻射束。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，其中可編程圖案形成裝置被構(gòu)造成發(fā)射所述輻射束，所述輻射束在入射到襯底的目標(biāo)部分上時(shí)被關(guān)于襯底相對(duì)于光學(xué)裝置列的移動(dòng)方向?qū)蔷€地布置。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，包括分段的反射鏡，每個(gè)段用于反射所述輻射束中對(duì)應(yīng)的一個(gè)輻射束，所述段被布置以便相對(duì)于入射到反射鏡上的輻射束之間的間隔減小被反射鏡反射的輻射束之間的間隔。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，包括多個(gè)光纖，所述輻射束中的每個(gè)輻射束入射到所述光纖中的對(duì)應(yīng)的一個(gè)光纖，所述光纖被布置成使得相對(duì)于光纖上游的輻射束之間的間隔減小光纖下游的輻射束之間的間隔。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，包括具有多個(gè)輸入的集成的光波導(dǎo)電路，每個(gè)輸入用于接收所述輻射束中的對(duì)應(yīng)的一個(gè)輻射束，集成的光波導(dǎo)電路布置成使得相對(duì)于集成的光波導(dǎo)電路上游的輻射束之間的間隔減小集成的光波導(dǎo)電路下游的輻射束之間的間隔。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，其中投影系統(tǒng)包括第一光學(xué)裝置組和第二光學(xué)裝置組，所述第一光學(xué)裝置組形成投影系統(tǒng)的第一輪形部分，第二光學(xué)裝置組形成投影系統(tǒng)的第二輪形部分。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，包括第二致動(dòng)器，第二致動(dòng)器布置成導(dǎo)致襯底和光學(xué)裝置列的至少一部分之間的相對(duì)移動(dòng)，其中經(jīng)由同一透鏡一次投影到襯底上的至少兩個(gè)輻射束具有相互的間隔，第二致動(dòng)器配置成導(dǎo)致所述相對(duì)移動(dòng)以便使得所述輻射束的下一投影被投影到所述間隔中。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，其中所述移動(dòng)是大于500RPM、大于1000RPM、大于2000RPM或大于4000RPM的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任ー權(quán)利要求所述的設(shè)備，其中可編程圖案形成裝置包括多個(gè)自發(fā)射式對(duì)比度裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中自發(fā)射式對(duì)比度裝置包括激光二極管。
16.一種器件制造方法，包括 使用光學(xué)裝置列在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案，所述光學(xué)裝置列具有用于將多個(gè)輻射束投影到襯底上的投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)透鏡；和 相對(duì)于襯底移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分， 其中通過投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡ー次將多個(gè)輻射束中的至少兩個(gè)輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的器件制造方法，其中光學(xué)裝置列包括用于選擇性地提供輻射束的可控制元件。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的器件制造方法，其中所述可控制元件包括多個(gè)自發(fā)射式對(duì)比度裝置。
19.根據(jù)權(quán)利要求16-18中任ー權(quán)利要求所述的器件制造方法，其中移動(dòng)步驟包括旋轉(zhuǎn)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分。
20.—種設(shè)備,包括 光學(xué)裝置列，配置成將多個(gè)束投影到襯底的目標(biāo)部分上，所述光學(xué)裝置列包括具有多個(gè)透鏡的投影系統(tǒng)，所述多個(gè)透鏡布置成大致垂直于多個(gè)束的投影方向； 致動(dòng)器，配置成移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分，用于在襯底的目標(biāo)部分上掃描多個(gè)束， 其中光學(xué)裝置列配置成經(jīng)由投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡ー次將多個(gè)束中的至少兩個(gè)束投影到襯底的目標(biāo)部分上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光刻設(shè)備，包括構(gòu)造成保持襯底(928)的襯底臺(tái)(902)和能夠在襯底的目標(biāo)部分上生成圖案的光學(xué)裝置列。所述光學(xué)裝置列可以包括配置成提供多個(gè)輻射束的可編程圖案形成裝置，和配置成將多個(gè)束投影到襯底上的投影系統(tǒng)。所述設(shè)備可以設(shè)置有致動(dòng)器，用于相對(duì)于襯底移動(dòng)光學(xué)裝置列或光學(xué)裝置列的一部分(924、930)。所述光學(xué)裝置列可以布置成經(jīng)由所述投影系統(tǒng)中的多個(gè)透鏡中的同一透鏡將所述多個(gè)束中的至少兩個(gè)束投影到襯底的目標(biāo)部分上。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102834777SQ201180018434
公開日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2011年2月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月23日
發(fā)明者埃爾溫·范茨韋特, 彼得·德亞格爾, 約翰內(nèi)斯·昂伍李, 埃里克·弗瑞特茨 申請(qǐng)人:Asml荷蘭有限公司