專利名稱：一種曝光膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及手動(dòng)曝光機(jī)，尤其涉及改變曝光效果的曝光膜。
背景技術(shù)：
手動(dòng)曝光機(jī)的曝光框由框架與MYLAR (Mylar (邁拉)一種堅(jiān)韌聚脂類高分子物) 膜組成，在電機(jī)抽氣的條件下，達(dá)到一定的真空壓力，使得菲林與線路緊密貼壓在一起，才不會(huì)產(chǎn)生曝光不良。MYLAR膜比較粗糙，以利于排氣，而在抽真空的過(guò)程中，菲林受到MYLAR膜摩擦力的作用，容易被拉伸變形，產(chǎn)生偏位，影響品質(zhì)。
發(fā)明內(nèi)容為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種。本實(shí)用新型提供了一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為0. 06mm至0. 15mm。。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述曝光膜的厚度為0. 09mm至0. 12mm。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述曝光膜的厚度為0. 1mm。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，相鄰抽氣孔之間的距離為km。本實(shí)用新型的有益效果是在手動(dòng)曝光機(jī)上增加PE膜(聚乙烯膜)，可緩解生產(chǎn)菲林受到MYLAR膜拉力而變形的影響。在PE膜中設(shè)置抽氣孔，利于抽氣。解決因抽氣不良產(chǎn)生的曝光不良。
圖1是本實(shí)用新型一種曝光膜結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖說(shuō)明及具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。在MYLAR膜的下面貼一張比曝光框略小的白色透明的PE膜，如圖1所示，厚度在 0. 1 mm左右。PE膜中均勻的打一些抽氣孔1，以利于抽氣。實(shí)施例1 一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為 0. 06mm，所述抽氣孔1為若干均勻設(shè)置的抽氣孔，相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm，優(yōu)選 4cm。實(shí)施例2:一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為 0. 15mm，所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔，相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm，優(yōu)選4cm。實(shí)施例3 一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為 0. 09mm，所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔，相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm，優(yōu)選 4cm。實(shí)施例4 一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為 0. 12mm，所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔，相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm，優(yōu)選 4cm。實(shí)施例5 一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為 0. 1mm，所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔，相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm，優(yōu)選 4cm。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型所作的進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，不能認(rèn)定本實(shí)用新型的具體實(shí)施只局限于這些說(shuō)明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種曝光膜，其特征在于所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔(1)的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為0. 06mm至0. 15mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光膜，其特征在于所述曝光膜的厚度為0.09mm至 0. 12mm0
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種曝光膜，其特征在于所述曝光膜的厚度為0.1mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項(xiàng)所述的一種曝光膜，其特征在于所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光膜，其特征在于相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm0
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光膜，其特征在于相鄰抽氣孔之間的距離為4cm。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種曝光膜，所述曝光膜為膜上設(shè)有抽氣孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度為0.06mm至0.15mm。所述抽氣孔為若干均勻設(shè)置的抽氣孔。相鄰抽氣孔之間的距離為2cm至7cm。本實(shí)用新型的有益效果是在手動(dòng)曝光機(jī)上增加PE膜(聚乙烯膜)，可緩解生產(chǎn)菲林受到MYLAR膜拉力而變形的影響，在PE膜中設(shè)置抽氣孔，利于抽氣。解決因抽氣不良產(chǎn)生的曝光不良。
文檔編號(hào)G03F1/62GK202102240SQ201120163308
公開日2012年1月4日 申請(qǐng)日期2011年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月20日
發(fā)明者左德龍, 張庭主, 鄧峻 申請(qǐng)人:深圳市崇達(dá)電路技術(shù)股份有限公司