專利名稱：抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置、以及使用該抗蝕劑涂布方法的光掩模底版和光掩模 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置、以及使用該抗蝕劑涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法，特別是涉及可適用于較大型的基板的抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置、以及使用該抗蝕劑涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法。
背景技術(shù)：
以往，作為向光掩模底版用基板或硅晶片等基板上涂布光致抗蝕劑等涂布液的涂布裝置(coater)，使用的是旋轉(zhuǎn)涂布裝置，通過向基板中央滴加涂布液并接著使基板進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn)，從而基于離心力的作用而使涂布液鋪展開，在基板表面形成涂布膜。但是，上述的旋轉(zhuǎn)涂布裝置存在在基板的周邊部產(chǎn)生被稱作抗蝕劑邊紋(7 U > 的隆起問題。另外，特別是液晶顯示裝置或液晶顯示裝置制造用的光掩模，其需要對大
型基板(例如，至少一邊為300mm以上的方形基板)涂布抗蝕劑，但使用旋轉(zhuǎn)涂布裝置是難以對這樣的大型基板進(jìn)行抗蝕劑的涂布的。因而，近年來，隨著圖案的高精度化、基板尺寸的大型化，期待開發(fā)出對大型基板均勻涂布抗蝕劑膜的技術(shù)。為了解決該課題，提供了被稱為CAP涂布裝置(毛細(xì)管涂布裝置)的涂布裝置作為使用了向大型基板均勻涂布抗蝕劑膜的技術(shù)的裝置。利用該CAP涂布裝置，將具有毛細(xì)管狀間隙的噴嘴沉入到積存有涂布液的液槽中，使噴嘴上升直至保持在朝向下方的狀態(tài)的基板的被涂布面附近，由毛細(xì)管狀間隙使涂布液的接液，接下來使噴嘴沿著被涂布面進(jìn)行相對掃描，從而形成涂布膜。為了使用這樣的CAP涂布裝置來得到均勻的抗蝕劑膜，重要的是在利用具有毛細(xì)管狀間隙的噴嘴進(jìn)行均勻的涂布的同時使涂布得到的抗蝕劑膜均勻地干燥。為了實現(xiàn)這一點，例如有提案提出了一種涂布膜干燥方法，其中，在構(gòu)成為垂直層流(down flow)的潔凈室內(nèi)使被涂布膜干燥時，抑制在被涂布面發(fā)生垂直層流旋轉(zhuǎn)(參照引用文獻(xiàn)1)。另外還有提案提出了下述的干燥方法在CAP涂布裝置中，一邊移動基板一邊在被涂布面涂布抗蝕劑，然后折返使其在與涂布時的移動方向相反的方向移動，在該移動之間使抗蝕劑膜干燥(參照引用文獻(xiàn)2)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開2003-112099號專利文獻(xiàn)2 日本特開2004-311884號

發(fā)明內(nèi)容
在專利文獻(xiàn)1所述的干燥方法中，盡管可抑制潔凈室設(shè)備的垂直層流對設(shè)置于潔凈室的抗蝕劑涂布裝置的影響，但其在對被涂布面進(jìn)行迅速均勻的干燥方面還不充分，希望進(jìn)行進(jìn)一步的改良在專利文獻(xiàn)2所述的干燥方法中，對于涂布至被涂布面的抗蝕劑膜的均勻干燥是有貢獻(xiàn)的，但隨著使基板折返移動，相對于被涂布面與氣氛氣體的接觸方向發(fā)生逆轉(zhuǎn)；并且基板的移動距離受限；由于這些理由等，其在對被涂布面進(jìn)行迅速均勻的干燥方面還不充分，希望進(jìn)行進(jìn)一步的改良。因而，本發(fā)明的目的在于解決上述問題，提供能夠?qū)镁哂忻?xì)管狀間隙的噴嘴涂布抗蝕液形成的被涂布面進(jìn)行更為迅速均勻的干燥的抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置、以及使用該抗蝕劑涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法。為了解決上述課題，本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的實施方式之一為向被涂布面朝向下方的狀態(tài)的基板涂布抗蝕液的方法，在該方法中，將積存在液槽中的抗蝕液利用噴嘴的毛細(xì)管現(xiàn)象引導(dǎo)至上述被涂布面，使抗蝕液浸濕上述被涂布面，使上述噴嘴與上述基板在水平方向相對移動，從而將抗蝕液涂布至上述被涂布面；并對上述被涂布面供給在一定方向上相對流速大致恒定并與上述被涂布面平行的氣流，使上述氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸，從而對經(jīng)上述涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥。本實施方式中使用的抗蝕劑可以使用公知的負(fù)性或正性抗蝕劑。所使用的抗蝕劑的粘度優(yōu)選處于3 20cps(厘泊))的范圍、更優(yōu)選處于5 15cps的范圍。本實施方式可適用于任意的基板，并且可以適用于以液晶顯示裝置制造用的光掩模為代表的一側(cè)尺寸為300mm以上的基板，特別是對于即使一側(cè)尺寸超過IOOOmm的基板也能夠適用。對于“使噴嘴與基板在水平方向相對移動”，其包括使噴嘴發(fā)生移動的情況、使基板發(fā)生移動的情況，也包括使二者發(fā)生移動的情況。另外，所謂“對上述被涂布面，…在一定方向上”，其包括涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向為同一方向的情況，也包括上述行進(jìn)方向為不同方向的情況。所謂“相對流速大致恒定”指的是，相對流速不會出現(xiàn)對被涂布面的干燥的進(jìn)行帶來影響的程度的變動的氣流速度。作為“相對流速大致恒定”，相對流速的變化優(yōu)選為10% 以內(nèi)、更優(yōu)選為5%以內(nèi)。在使基板發(fā)生移動來進(jìn)行涂布時已經(jīng)供給氣流的情況下，若在涂布終止時終止基板的移動，則在該時刻，對于基板的被涂布面內(nèi)的任意位置，所供給的氣流相對于被涂布面的相對流速發(fā)生變化。但是，只要相對流速的變化充分小，例如相對于涂布進(jìn)行中的相對流速的變動為 10%以內(nèi)，即為大致恒定的相對流速，能夠?qū)Ρ煌坎济鎯?nèi)均勻進(jìn)行干燥。另外，作為氣流，可以使用通過了過濾器的清潔干燥空氣或惰性氣體。在本實施方式中，只要氣流的行進(jìn)方向與被涂布面平行，即可以任意設(shè)定涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向的關(guān)系，其中包括為同一方向的情況，也包括為不同方向的情況。利用本實施方式，由于是通過使在一定方向上相對流速大致恒定且與被涂布面平行的氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸來對經(jīng)涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥的，因而可實現(xiàn)迅速均勻的干燥。由此，可以實質(zhì)上使在被涂布面上顯現(xiàn)出來的斑點(肉眼可辨認(rèn)出的色調(diào)不同的斑點)消失，與以往相比，可大幅降低抗蝕劑膜厚值的面內(nèi)分布的不均勻(例如減少一半)。
在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，進(jìn)一步利用與上述被涂布面對向配置的整流板對上述氣流進(jìn)行整流，供給與上述被涂布面平行的氣流。利 用本實施方式，通過利用整流板對氣流進(jìn)行整流，能夠確實地供給與被涂布面平行的氣流，能夠促進(jìn)被涂布面迅速均勻的干燥。在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，在上述被涂布面中，涂布的行進(jìn)方向與上述氣流的行進(jìn)方向進(jìn)一步為同一方向。在本說明書中，“方向”與“朝向”按下述的定義進(jìn)行區(qū)別記載。以向量為例，“方向”意味著不考慮向量的箭頭，在將起點和終點連結(jié)的線上的往復(fù)；“朝向”意味著考慮向量的箭頭，由起點朝向終點行進(jìn)的狀態(tài)。即，對于“涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向為同一方向”，其包括涂布的行進(jìn)朝向與氣流的朝向為同一朝向的情況，也包括朝向相對向的情況。在本實施方式中，由于涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向為同一方向，因而可在基板的寬度方向進(jìn)行均勻的干燥。因而，能夠有效實現(xiàn)被涂布面的均勻干燥。在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，進(jìn)一步通過使上述基板在水平方向移動，將抗蝕液涂布至上述被涂布面，并且使上述氣流以與上述基板移動的朝向相對向的朝向與上述經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸。利用本實施方式，能夠通過使基板側(cè)移動來進(jìn)行涂布，無需移動積存有抗蝕液的液槽、噴嘴。因而，無需擔(dān)心液槽內(nèi)的抗蝕液的液面顫動、利用毛細(xì)管現(xiàn)象的涂布行為不穩(wěn)的情況。進(jìn)一步地，由于氣流以與基板移動的朝向相對向的朝向與經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸， 因而能夠更有效地進(jìn)行被涂布面的干燥。這種情況下，涂布的行進(jìn)朝向與氣流的行進(jìn)朝向也是相同的。即，先進(jìn)行涂布的部分會先與氣流相接觸。在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，進(jìn)一步地，上述氣流的供給在向上述被涂布面的涂布終止之前開始。由于抗蝕液從涂布至被涂布面的時刻干燥就實質(zhì)性地開始了，因而如本實施方式所示，通過在向被涂布面的涂布終止之前開始進(jìn)行氣流的供給，能夠迅速實現(xiàn)被涂布面的均勻干燥。在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，進(jìn)一步地，上述氣流的供給在向上述被涂布面的涂布開始之前開始。利用本實施方式，由于在向被涂布面的涂布開始之前開始進(jìn)行氣流的供給，因而抗蝕液在涂布至被涂布面之后立即與氣流相接觸而進(jìn)行了干燥，可以更為確實地實現(xiàn)被涂布面迅速均勻的干燥。在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，進(jìn)一步地，上述氣流的流速相對于上述噴嘴和上述基板的上述相對移動的速度為10倍以上。利用本實施方式，由于氣流的流速相對于噴嘴和基板的相對移動的速度為10倍以上，因而相當(dāng)于上述的“相對流速大致恒定”的氣流，可以始終對被涂布面內(nèi)進(jìn)行均勻干
O在本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法的其他實施方式中，進(jìn)一步地，上述氣流的流速為 0. 05 1.5米/秒。通過使氣流的流速處于本實施方式的范圍，可以迅速均勻地對被涂布面內(nèi)進(jìn)行干O在本發(fā)明的光掩模底版的制造方法的實施方式之一中，所述光掩模底版的制造方法包括向在透明基板上成膜有光學(xué)膜的光掩模底版基板涂布抗蝕劑的工序，其中，該制造方法利用上述任一抗蝕劑涂布方法來涂布抗蝕劑。此處，可以使用由石英玻璃等構(gòu)成的透明基板，光學(xué)膜中包括遮光膜、半透光膜、 相移膜、在這些膜上所層積的防反射膜等。在本實施方式中，可以發(fā)揮出與上述相同的作用效果，得到光學(xué)上優(yōu)異的光掩模底版。在本發(fā)明的光掩模底版的制造方法的其他實施方式中，所述光掩模的制造方法是將對應(yīng)于要得到的電子器件的轉(zhuǎn)印用圖案描摹至透明基板上的光學(xué)膜上來制造光掩模的方法，其中，該方法中使用上述的光掩模底版。利用本實施方式，可以得到形成有所期望的轉(zhuǎn)印用圖案的光學(xué)上優(yōu)異的光掩模底版。在本發(fā)明的光掩模底版的制造方法的其他實施方式中，所述光掩模的制造方法是形成于透明基板上的2個以上的光學(xué)膜各自進(jìn)行了圖案制作處理的光掩模的制造方法，其中，該制造方法含有涂布抗蝕劑，實施對上述抗蝕劑的描畫和顯影工序，由此來對第1光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作，形成具有第1轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模中間體的工序；以及向該光掩模中間體涂布抗蝕劑，實施對上述抗蝕劑的描畫和顯影工序，由此來對第2光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作， 形成具有第2轉(zhuǎn)印用圖案的光掩?；蚬庋谀Ｖ虚g體的工序；在進(jìn)行上述抗蝕劑的涂布時， 使用上述任一抗蝕劑涂布方法。在光掩模的制造工序中，靜電所致的電位差會產(chǎn)生放電，此時的能量可能會溶損光學(xué)膜，發(fā)生靜電破壞。例如，在對2個以上的光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作時，在進(jìn)行第2次的圖案制作時，已經(jīng)進(jìn)行了圖案制作的光學(xué)膜圖案彼此之間會產(chǎn)生放電，圖案形狀可能會被破壞。 特別是在前端尖細(xì)的形狀的圖案相接近的情況下，易于產(chǎn)生靜電破壞。但是，在本實施方式中，通過供給適當(dāng)濕度(例如，濕度為40 70%)的氣流，能夠?qū)㈧o電破壞防患于未然。在本發(fā)明的抗蝕液的涂布裝置的實施方式之一中，所述抗蝕劑涂布裝置是向被涂布面朝向下方的狀態(tài)的基板涂布抗蝕液的抗蝕劑涂布裝置，其中，該抗蝕劑涂布裝置具備涂布單元、移動單元、以及干燥機(jī)構(gòu)；上述涂布單元具備積存抗蝕液的液槽以及將該積存在液槽中的抗蝕液利用毛細(xì)管現(xiàn)象引導(dǎo)至上述基板涂布面的噴嘴；上述移動單元通過使上述噴嘴和上述基板的至少一方發(fā)生移動而使兩者在水平方向上發(fā)生相對移動；上述干燥機(jī)構(gòu)具備產(chǎn)生氣流的氣流產(chǎn)生源和整流板，上述整流板具有以特定的間隔距離與上述被涂布面對向配置的導(dǎo)向面，將該氣流整流至與上述被涂布面平行的流向；在通過毛細(xì)管現(xiàn)象使上述抗蝕液浸濕上述被涂布面的狀態(tài)下，利用上述移動單元使上述噴嘴和上述基板在水平方向上進(jìn)行相對移動，從而通過上述涂布單元將上述抗蝕液涂布至上述被涂布面；利用上述干燥單元，對于上述被涂布面供給在一定方向上相對流速大致恒定并與上述被涂布面平行的氣流，使上述氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸，從而對經(jīng)上述涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥。此處，對于“通過使上述噴嘴和上述基板的至少一方發(fā)生移動而使兩者在水平方向上發(fā)生相對移動”，其包括使噴嘴發(fā)生移動的情況、使基板發(fā)生移動的情況、以及使二者都發(fā)生移動的情況。另外，只要氣流的行進(jìn)方向與被涂布面平行，則涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向的關(guān)系可以為任意的。即，涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向包括為同一方向的情況，也包括 為不同方向的情況。在液晶顯示裝置制造用的光掩模等的制造中，常對應(yīng)最終制品而發(fā)生頻繁的尺寸變更，而在本實施方式中，具有即使所制造的光掩模的尺寸發(fā)生變更也無需進(jìn)行裝置上的大規(guī)模變更的優(yōu)點。也即，在對尺寸為噴嘴寬度以內(nèi)的基板的涂布中，即使對基板的尺寸進(jìn)行變更，也無需進(jìn)行噴嘴本身的更換；干燥單元也無需對氣流產(chǎn)生源或整流板進(jìn)行更換。利用本實施方式的涂布裝置，由于通過使在一定方向上相對流速大致恒定并與被涂布面平行的氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸來對經(jīng)涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥，因而可實現(xiàn)迅速均勻的干燥。如此，可以實質(zhì)上使在被涂布面上顯現(xiàn)出來的斑點(肉眼可辨認(rèn)出的色調(diào)不同的斑點)消失，與以往相比，可大幅降低抗蝕劑膜厚值的面內(nèi)分布的不均勻(例如減少一半)。在本發(fā)明的抗蝕液的涂布裝置的其他實施方式中，進(jìn)一步地，上述間隔距離能夠進(jìn)行調(diào)整，對應(yīng)于上述氣流的流速調(diào)整上述間隔距離。被涂布面與整流板的導(dǎo)向面的間隔距離若過大，則氣流的整流效果減弱；另外， 若過近，則會產(chǎn)生對整流板的導(dǎo)向面不均勻的因素(由于損傷或抗蝕劑附著等所致的表面平滑性不均勻等)反應(yīng)敏感的不當(dāng)狀況。特別是在氣流的流速快的情況下，對導(dǎo)向面的不均勻因素反應(yīng)敏感的可能性會提高。因而，通過如本實施方式所示對應(yīng)于氣流的流速來調(diào)整間隔距離，即使長時間持續(xù)抗蝕劑的涂布工序，也能夠穩(wěn)定地維持迅速均勻地干燥被涂布面。在本發(fā)明的抗蝕液的涂布裝置的其他實施方式中，進(jìn)一步地，利用上述移動單元使上述基板在水平方向上發(fā)生移動，從而使上述噴嘴和上述基板在水平方向上發(fā)生相對移動、且上述氣流產(chǎn)生源與上述基板進(jìn)行一體移動。利用本實施方式，可以通過使基板側(cè)發(fā)生移動來進(jìn)行涂布，不必移動積存有抗蝕液的液槽和噴嘴。如此，無需擔(dān)心液槽內(nèi)的抗蝕液的液面顫動，涂布行為因毛細(xì)管現(xiàn)象而不穩(wěn)的情況。進(jìn)一步地，由于不必改變基板的被涂布面與氣流產(chǎn)生源的相對位置即可進(jìn)行涂布、干燥，因而可以始終使恒定的氣流與涂布至被涂布面的抗蝕液相接觸。如上所述，在本發(fā)明中，由于是通過使在一定方向上相對流速大致恒定且與被涂布面平行的氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液相接觸來對經(jīng)涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥的，因而可實現(xiàn)迅速、均勻的干燥。由此，可以實質(zhì)上使在被涂布面上顯現(xiàn)出來的斑點消失，與以往相比，可大幅降低抗蝕劑膜厚值的面內(nèi)分布的不均勻。


圖1為示出本發(fā)明的抗蝕劑的涂布裝置的一個實施方式的示意性側(cè)面圖。圖2為示出本發(fā)明的抗蝕劑的涂布裝置的一個實施方式的示意性正面圖。圖3為示出本發(fā)明的抗蝕劑的涂布單元的一個實施方式的示意性側(cè)面圖。圖4為示出本發(fā)明的干燥單元的一個實施方式的示意圖。圖5為示出本發(fā)明的整流板的其他實施方式的示意圖。圖6為示出本發(fā)明的干燥單元的其他實施方式的示意圖。圖7為示出本發(fā)明的干燥單元的其他實施方式的示意圖。圖8為示出在透明基板上成膜有2個以上的光學(xué)膜的光掩模(半透光膜出現(xiàn)在上層的膜結(jié)構(gòu)的光掩模)的制造方法的實施方式的示意圖。圖9為示出在透明基板上成膜有2個以上的光學(xué)膜的光掩模(半透光膜出現(xiàn)在下層的膜結(jié)構(gòu)的光掩模)的制造方法的實施方式的示意圖。符號說明1涂布裝置2涂布單元3吸附單元4移動單元5保持單元9線性規(guī)10基板IOa被涂布面11基底架12移動框架13移動部20涂布液21支承板22升降部23毛細(xì)管間隙24噴嘴25液槽26噴嘴升降部41直線導(dǎo)軌(linear way)42滾珠絲桿43馬達(dá)55保持部件61保持板62直線導(dǎo)軌63軌道(rail)64直線導(dǎo)軌65擺動板66擺動軸67擺動筒68制動器69底板70保持單元框架71導(dǎo)向桿 72底架73升降單元
91測定端子100干燥單元102氣流產(chǎn)生源102a驅(qū)動部102b送風(fēng)噴嘴104整流板104a導(dǎo)向面106基底部件108遮檐部分110抗蝕液
具體實施例方式下面參照附圖對本發(fā)明的各實施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。首先，參照圖1 圖3對本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置的一個實施方式進(jìn)行說明。圖1為本實施方式的涂布裝置1的側(cè)面示意圖，圖2為由圖1的左側(cè)觀察到的正面示意圖。圖3為示出了作為涂布裝置1的主要構(gòu)成機(jī)器的涂布單元2的示意性截面圖。如圖1所示，涂布裝置1具備設(shè)于基底架11的涂布單元2 ；設(shè)于移動框架12的吸附單元3 ；將該移動框架12在水平面內(nèi)進(jìn)行移動的移動單元4 ；安裝于吸附單元3的裝卸自如地保持基板10的保持單元5 ；供給氣流用于對涂布有抗蝕液的基板10的被涂布面進(jìn)行干燥的干燥單元100 ；以及未圖示的控制部。涂布單元2針對被涂布面朝向下方的狀態(tài)的基板10進(jìn)行抗蝕液的涂布，涂布單元2設(shè)于矩形箱狀的基底架11的大致中央部。具體地說，如圖3所示，其結(jié)構(gòu)中具備使支承板21升降的馬達(dá)驅(qū)動方式的升降部 22 ；帶有毛細(xì)管間隙23的噴嘴24 ；固定于支承板21的上端部的液槽25 (在使噴嘴24浸入涂布液20中的狀態(tài)下收納)；以及將噴嘴24由液槽25突出到預(yù)定高度的壓氣缸驅(qū)動方式的噴嘴升降部26，進(jìn)一步地，在液槽25的側(cè)部設(shè)有作為對基板10的板厚進(jìn)行測定的測定單元的線性規(guī)9。另外，關(guān)于進(jìn)一步詳細(xì)的說明，將在下文使用圖3進(jìn)行敘述。在本實施方式中所涂布的抗蝕劑可以使用公知的負(fù)性或正性抗蝕劑，所使用的抗蝕劑的粘度優(yōu)選為3 20cps (厘泊)、更優(yōu)選為5 15cps。另外，在本實施方式中，將涂布裝置1用于抗蝕液的涂布，但并不限定于此，也可以將涂布手裝置1應(yīng)用于其他任意的涂布液的涂布。移動框架12中相對向的一對側(cè)板以及連結(jié)該側(cè)板的頂板，其具有充分的機(jī)械強(qiáng)度從而不會由于剛性不足而使得基板10與涂布單元2的位置精度不準(zhǔn)確。另外，移動框架12藉由直線導(dǎo)軌41與基底架11連結(jié)，并可自如地在水平方向移動。進(jìn)一步地，對于移動框架12，在頂板的大致中央部安裝有吸附單元3，該吸附單元 3由穿 設(shè)有2個以上的吸附孔(未圖示)的吸附板構(gòu)成。另外，在移動框架12—側(cè)的側(cè)板上突設(shè)有移動部13，所述移動部13形成有螺母，與后述的滾珠絲桿42螺合。
移動單元4由直線導(dǎo)軌41、滾珠絲桿42以及馬達(dá)43構(gòu)成，直線導(dǎo)軌41引導(dǎo)框架 12的側(cè)板使其移動，滾珠絲桿42與移動部13的螺母螺合，馬達(dá)43使?jié)L珠絲桿42發(fā)生旋
轉(zhuǎn)。 根據(jù)來自控制部的指示使馬達(dá)43旋轉(zhuǎn)時，滾珠絲桿42發(fā)生旋轉(zhuǎn)，能夠使移動部13 在對應(yīng)于滾珠絲桿42的旋轉(zhuǎn)方向的方向水平移動預(yù)定的距離。保持單元5具備用于保持基板10的四角的周邊部的四個保持部件55。這些保持部件55中的每一個保持部件55都固定在保持板61上。此處，優(yōu)選的是，優(yōu)選設(shè)有壓控單元(未圖示)以使得安裝在保持部件55上的基板10不會自保持部件55脫落。該壓控單元例如使得壓控板上下移動且在水平方向搖動。 如此，保持部件55傾斜時，將安裝于保持部件55的基板10壓向保持部件55的方向。對于保持板61，其藉由直線導(dǎo)軌62兩個兩個地設(shè)置在于Y方向(參照圖1)平行對向設(shè)置的軌道63上；對于里側(cè)的2個保持板61，可以利用采用了滾珠絲桿和馬達(dá)的驅(qū)動單元(未圖示)而使其在Y方向進(jìn)行移動。由此，在基板10的縱向尺寸不同的情況下，利用上述驅(qū)動單元使保持板61在Y方向進(jìn)行移動，可以容易地對向縱向尺寸不同的基板10。另外，對于軌道63，其藉由在X方向(參照圖2)平行對向設(shè)置的直線導(dǎo)軌64而將兩端部安裝于擺動板65，可以利用采用了滾珠絲桿和馬達(dá)的驅(qū)動單元(未圖示)而使其在X方向進(jìn)行移動。由此，在基板10的橫向尺寸不同的情況下，利用上述驅(qū)動單元使保持板61在X方向進(jìn)行移動，可以容易地對向橫向尺寸不同的基板10。對于擺動板65，其正面?zhèn)鹊亩瞬拷逵蓴[動軸66與底板69可自如擺動地連結(jié)，里側(cè)的端部利用突設(shè)于底板69的制動器68進(jìn)行水平支承。另外，隨著擺動筒67，擺動板65擺動預(yù)定角度。該擺動筒67的桿(rod)前端與擺動板65可自如擺動地連結(jié)，并且筒主體的端部與底板69可自如擺動地連結(jié)。底板69在下面的四角突設(shè)有貫通保持單元框架70的導(dǎo)向桿71，可通過設(shè)于底架 72的壓氣缸等升降單元73使其在垂直方向移動。干燥單元100具有經(jīng)由基底部件106設(shè)于基底架11的送風(fēng)套件102和整流板104。 由送風(fēng)套件102吐出經(jīng)整流板104引導(dǎo)的氣流大致與Y方向平行地由圖1的右側(cè)流向左側(cè)。 利用該氣流可以對利用涂布單元2涂布了抗蝕液的基板10的被涂布面進(jìn)行迅速均勻的干燥。另外，關(guān)于進(jìn)一步詳細(xì)的說明，將在后面采用圖4進(jìn)行敘述。<涂布裝置1的動作的概要說明>接下來，參照圖1對上述構(gòu)成的涂布裝置1的動作概要進(jìn)行說明。首先，初期狀態(tài)是如下的狀態(tài)在涂布裝置1中，底板69未被升降單元73使其升高，擺動板65被水平支承，移動框架12處于處理終止位置，涂布單元2未升高。另外，對于保持部件55，對照基板10的縱向尺寸和橫向尺寸預(yù)先進(jìn)行調(diào)整。在該調(diào)整中，通過使軌道63在X方向進(jìn)行移動可以容易地對應(yīng)于基板10的橫向尺寸進(jìn)行保持部件55的定位。另外，通過使里側(cè)的二個保持板61在Y方向進(jìn)行移動可以容易地對應(yīng)于基板10的縱向尺寸進(jìn)行保持部件55的定位。接下來，在擺動筒67的作用下，擺動板65擺動，在前側(cè)(手前側(cè))抬起(圖1中逆時針)，同時移動至安放位置。然后，在涂布裝置1的正面?zhèn)冗M(jìn)行操作的操作者將基板 10以被涂布面朝向涂布裝置1側(cè)的狀態(tài)安放于保持部件55后，上述壓控單元將基板10壓在保持部件55上。由此，涂布裝置1可以防止安放于傾斜狀態(tài)的保持部件55的基板10自保持部件55脫落、落下的不利情況然后，在擺動筒67的作用下，擺動板65按照向里側(cè)傾倒的方式(圖1中順時針) 進(jìn)行擺動，擺動板65的里側(cè)端部與制動器68相抵接，并被水平支承。如此，基板10被水平支承，而壓控單元解除對基板10的壓控。由此，基板10處于水平地置于安裝位置的狀態(tài)。另外，由于解除壓控的狀態(tài)的壓控單元為低于基板10的上面的狀態(tài)，因而即使基板10上升也不與吸附單元3相抵接。接下來，在移動單元4的作用下，移動框架12由處理終止位置移動到安裝位置，使得吸附單元3的吸附位置位于基板10上方。另外，此時，涂布單元2處于下降后的狀態(tài)。接下來，升降單元73使底板69上升直至基板10的上面與吸附單元3相抵接。隨后，吸附單元3自吸附孔(未圖示)吸引，基板10被吸附單元3所吸附，接下來升降單元73下降。然后，移動框架12移動至處理位置側(cè)，同時涂布單元2上升到預(yù)定位置，將涂布液涂布至基板10的被涂布面。此時，涂布單元2使利用毛細(xì)管現(xiàn)象升至噴嘴前端的涂布液浸濕被涂布面，隨后調(diào)整噴嘴位置以得到所期望的涂布厚度，在保持該垂直方向的間隙的狀態(tài)下使移動框架12通過處理位置，由此可以在基板10上形成膜厚均勻的涂布膜。此時，利用干燥單元100供給氣流，對經(jīng)涂布單元2涂布了抗蝕液的基板10的被涂布面進(jìn)行迅速均勻的干燥。另外，對于氣流供給的開始時期，優(yōu)選在終止涂布前開始，更優(yōu)選在開始涂布前開始。另外，在開始涂布之前開始進(jìn)行氣流的供給的情況下，可以在浸濕基板前供給氣流，也可以在浸濕基板后(例如，在浸濕后使噴嘴下降來形成適合涂布的適當(dāng)?shù)耐坎奸g隔 (gap)的時)開始供給氣流。如此之后，移動框架12移動至處理終止位置，然后涂布單元2下降，并使移動框架 12的移動方向反轉(zhuǎn)，在Y方向由處理終止位置向安裝位置移動。另外，在干燥進(jìn)行到周圍環(huán)境不會對經(jīng)涂布的抗蝕劑的面內(nèi)分布產(chǎn)生影響后可以停止氣流的供給。具體地說，可以在涂布開始后5 15分鐘左右停止氣流的供給。另外，升降單元73使底板69上升直至保持部件55與基板10相抵接，保持部件55 與基板10相抵接后，吸附單元3停止吸引，通過吹氣使基板脫離，基板10置放在保持部件 55上。另外，在基板10上有電荷潴留的情況下，若保持部件55由絕緣性的材料構(gòu)成，則將基板10置放于保持部件55時，在基板10與保持部件55相抵接的位置可能會出現(xiàn)靜電破壞。為了防止這樣的靜電破壞，作為保持部件55優(yōu)選使用金屬等導(dǎo)電性材料。接下來，升降單元73使底板69下降，停止后，壓控單元將基板10壓在保持部件55 上，接下來擺動板65擺動至正面?zhèn)取ｋS后，擺動板65的擺動停止后，壓控單元被解除，操作者可以容易地將形成有涂膜的基板10從保持部件55中取出。如此，利用本實施方式的涂布裝置1，在基板10的被涂布面朝下的狀態(tài)下，即使在由下方進(jìn)行涂布液的涂布的情況下，也可以不必設(shè)置會在移動單元4側(cè)產(chǎn)生垂直方向的誤差的反轉(zhuǎn)單元即能提高基板10與涂布單元2的噴嘴的垂直方向的位置精度，因而能在基板10上形成厚度均勻的涂布膜。進(jìn)一步地，通過由干燥單元100供給氣流而對基板10的被涂布面進(jìn)行迅速均勻的干燥，因而從作為外觀性能的斑點和抗蝕劑膜厚的不均勻的方面考慮，品質(zhì)與以往相比有大幅提高。另外，如圖1所示，由于在安放基板10時 保持單元5處于擺動傾斜的狀態(tài)，因而操作者即使不將基板10反轉(zhuǎn)180度也行，能夠容易地以所傾斜的角度將基板10安放于保持部件55、從保持部件55取下。另外，對于保持單元5，由于其具有經(jīng)由直線導(dǎo)軌64可自如移動地安裝在擺動板 65上的軌道63、經(jīng)由直線導(dǎo)軌62可自如移動地安裝在該軌道上的保持板61、以及安裝在該保持板61上的保持部件55，因而即使對于尺寸不同的基板10，也可以迅速且容易地改變保持部件55的位置，可以提高機(jī)種更換中的生產(chǎn)率。本實施方式能夠適用于任意尺寸的基板，優(yōu)選適用于采用正性抗蝕劑的液晶顯示裝置制造用光掩模、特別是一側(cè)尺寸為300mm以上的基板，對于寬度超過IOOOmm的基板也能夠適用。在這樣的液晶顯示裝置制造用光掩模的制造中，常根據(jù)最終制品而產(chǎn)生頻繁的尺寸變更，而在本實施方式中，具有即使所制造的光掩模的尺寸發(fā)生變更也無需進(jìn)行裝置上的大規(guī)模變更的優(yōu)點。即，在對尺寸為噴嘴24的寬度以內(nèi)的基板10的涂布中，即使基板10 的尺寸發(fā)生變更，也無需進(jìn)行噴嘴24本身的交換；對于干燥單元100，其氣流產(chǎn)生源102或整流板104也均無需進(jìn)行更換。<涂布單元2的實施方式的說明>下面，參照圖3對涂布單元2的實施方式進(jìn)一步進(jìn)行詳細(xì)說明。如上所述，涂布單元2具備使支承板21升降的馬達(dá)驅(qū)動方式的升降部22 ；帶有毛細(xì)管間隙23的噴嘴24 ； 固定于支承板21的上端部的液槽25 (在使噴嘴24浸入涂布液20中的狀態(tài)收納)；將噴嘴 24由液槽25突出到預(yù)定高度的壓氣缸驅(qū)動方式的噴嘴升降部26 ；以及用于測定基板10的板厚的線性規(guī)9。升降部22具備可通過利用控制單元進(jìn)行控制的馬達(dá)(未圖示)來對支承板21的高度進(jìn)行微調(diào)的升降結(jié)構(gòu)。即，升降部22為一邊控制噴嘴24與基板10的被涂布面的間隙一邊使噴嘴24進(jìn)行升降的升降單元。另外，噴嘴升降部26具備利用通過控制單元進(jìn)行控制的壓氣缸(未圖示)使噴嘴 24上升相應(yīng)在從收納在液槽25中的狀態(tài)到前端部突出的狀態(tài)的一定距離的升降結(jié)構(gòu)。此處，液槽25固定在支承板21的上部，在液槽25的側(cè)面固定有線性規(guī)9，并且，對于噴嘴24來說，具有利用噴嘴升降部26相對于液槽25僅上升一定距離的構(gòu)成。因而，升降部22控制支承板21的高度時，可以同時控制線性規(guī)9、液槽25和突出狀態(tài)的噴嘴24的尚度。通過以上控制，涂布單元2使利用毛細(xì)管現(xiàn)象升至噴嘴前端的涂布液浸濕被涂布面，隨后調(diào)整噴嘴位置以得到所期望的涂布厚度，在保持該垂直方向的間隙的狀態(tài)下，使移動框架12通過處理位置，由此可以在基板10上形成膜厚均勻的涂布膜。另外，本實施方式中使用的抗蝕劑可以使用公知的負(fù)性或正性抗蝕劑，作為抗蝕劑的粘度，優(yōu)選處于3 20CPS (厘泊))的范圍，更優(yōu)選處于5 15CPS的范圍。<干燥單元100的實施方式的說明>
接下來，采用圖4對本發(fā)明的干燥單元100的實施方式之一進(jìn)行詳細(xì)說明。圖4 為表示與干燥單元100相關(guān)的涂布裝置1的主要構(gòu)成機(jī)器的示意圖，圖4(a)表示干燥單元 100的側(cè)面，圖4(b)表示由圖4(a)中的上方所觀察到的平面。但是，在圖4(b)中，省略了吸附單元3和基板10的記載。在圖4中示出了 將積存在液槽中的抗蝕液利用毛細(xì)管現(xiàn)象引導(dǎo)至基板10的被涂布面的涂布單元2的噴嘴24 ；利用移動單元4在水平方向移動的吸附單元3 ；利用吸附 單元 3的吸引力而保持在被涂布面朝下的狀態(tài)的基板10 ；產(chǎn)生氣流的氣流產(chǎn)生源102 ；以及導(dǎo)向面104a以間隔距離t與被涂布面IOa對向配置、將氣流整流至與被涂布面IOa平行的流向的整流板104。此處，干燥單元100主要由氣流產(chǎn)生源102和整流板104構(gòu)成。在利用涂布單元2的噴嘴24通過毛細(xì)管現(xiàn)象使抗蝕液與被涂布面IOa相接液的狀態(tài)下，通過移動單元4使吸附有基板10的吸附單元3水平移動，從而使噴嘴24和基板 10在水平方向相對移動。由此，可以將抗蝕液110涂布至被涂布面10a。此時，利用干燥單元100，以一定方向上大致恒定的相對流速向被涂布面IOa供給與被涂布面IOa平行的氣流(參照圖4的箭頭)，使氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液110相接觸，從而可以對經(jīng)涂布的抗蝕液 110進(jìn)行干燥。另外，涂布單元2的噴嘴24設(shè)于基底架11的中央部，干燥機(jī)構(gòu)100經(jīng)由基底部件 106與基底架11的端部連接，因而在進(jìn)行抗蝕劑的涂布時，盡管基板10發(fā)生移動，但涂布單元2與干燥單元100的位置關(guān)系無變化。氣流產(chǎn)生源102主要由驅(qū)動部102a和送風(fēng)噴嘴102b構(gòu)成。在驅(qū)動部102a的內(nèi)部配置有經(jīng)電動馬達(dá)驅(qū)動的帶過濾器的風(fēng)扇(未圖示)，利用風(fēng)扇的旋轉(zhuǎn)，通過了過濾器的氣流由送風(fēng)噴嘴102b的送風(fēng)開口吐出，送達(dá)至涂布單元2的噴嘴24側(cè)。通過了該過濾器的清潔氣流如圖4的箭頭所示。作為驅(qū)動部102a所用的風(fēng)扇，可以使用以多翼風(fēng)扇(sirocco fan)、渦輪風(fēng)扇為代表的任意類型的風(fēng)扇。在本實施方式中，送風(fēng)噴嘴102b在與氣流的流向正交的方向上劃分為4室，通過在各室中具備風(fēng)擋等，可以調(diào)整各室氣流的風(fēng)速。進(jìn)一步地，可以在每個室中分別設(shè)置具有獨立的風(fēng)扇的送風(fēng)套件，可以對各送風(fēng)套件的氣流的風(fēng)速進(jìn)行調(diào)節(jié)。另外，劃分送風(fēng)噴嘴 102b的數(shù)目并不限于4，可以劃分為任意數(shù)目，也可以不進(jìn)行劃分而使用一體的送風(fēng)噴嘴 102b。對于所供給的氣流，可以通過驅(qū)動部102a的風(fēng)扇吸引填充在潔凈室內(nèi)的氣體并吐出來進(jìn)行供給，也可以由其它的氣體供給源向驅(qū)動部102a的風(fēng)扇供給氣體并吐出來進(jìn)行供給。另外，也可以不使用風(fēng)扇等的驅(qū)動部而通過直接供給氮氣、稀有氣體等惰性氣體、 干燥氣體等氣體來產(chǎn)生氣流。并且，可以具備加熱單元，將氣流保持在預(yù)定的溫度，也可以具備保濕單元，將氣流保持在預(yù)定的濕度。另外，關(guān)于濕度將在下文中敘述。作為用于向涂布在被涂布面上的抗蝕液供給氣流的其他實施方式，也可以通過將氣體由被涂布面排出而流入新鮮的周圍氣體來取代排出的氣體，從而進(jìn)行氣流的供給。這種情況下，通過具備好像如驅(qū)動部102a那樣在方向上吐出氣體的排出單元(未圖示)來代替向被涂布面供給氣體的驅(qū)動部102a，可以進(jìn)行氣流的供給。也可以如上述那樣，將由被涂布面排出氣體的排出單元設(shè)置于與設(shè)置驅(qū)動部102a 同樣的位置，產(chǎn)生與被涂布面具有相反方向流向的氣流，向涂布至被涂布面的抗蝕液供給氣流。
另外，在由驅(qū)動部102a向被涂布面供給氣流的情況下，一次供給至被涂布面的氣流在離開被涂布面以后也形成氣流。通過在該離開后的氣流的流路上設(shè)置排出單元，使用排出單元來代替驅(qū)動部102a，也可以在與使用驅(qū)動部102a時同樣的方向上產(chǎn)生氣流的流動。對于整流板104，其導(dǎo)向面104a以間隔距離t與被涂布面IOa對向配置，導(dǎo)向面 104a具有平滑的表面性狀。如圖4所示，按照將氣流從下側(cè)連續(xù)進(jìn)行引導(dǎo)的方式在送風(fēng)噴嘴102b到涂布單元2的噴嘴24的位置配置整流板104。對于整流板104的導(dǎo)向面104a與被涂布面IOa“對向配置”，不僅包括如圖4所示那樣的導(dǎo)向面104a與被涂布面IOa平行配置的情況(本實施方式的情況)，例如還包括如圖5所示的形成導(dǎo)向面104a與被涂布面IOa之間的距離在氣流產(chǎn)生源102側(cè)寬、在噴嘴24 側(cè)窄的楔形的氣流流路的情況。即使在這種情況下，在與氣流的流向正交的方向上，導(dǎo)向面 104a與被涂布面IOa之間的距離也是相同的，可以供給與被涂布面IOa平行的氣流。另外，對于整流板104的導(dǎo)向面104a，優(yōu)選按照與進(jìn)行抗蝕劑涂布后的被涂布面 IOa相對向的區(qū)域占進(jìn)行抗蝕劑涂布后的被涂布面的全部面積的90%以上的方式來構(gòu)成。 更優(yōu)選如下構(gòu)成與進(jìn)行抗蝕劑涂布后的涂布面IOa的整個面相對向的區(qū)域包括進(jìn)行抗蝕劑涂布后的被涂布面，并且具有更寬廣的區(qū)域。這是由于，若如此，則能夠在被涂布面的整個面產(chǎn)生基于本發(fā)明的氣流的整流效果。隨著遠(yuǎn)離氣流產(chǎn)生源102，氣流的動量會減少，但利用圖5所示那樣的整流板104 的配置可以彌補(bǔ)氣流流速的減少。作為整流板104的材料，可以使用以樹脂、金屬為代表的任意材料。被涂布面IOa與整流板104的導(dǎo)向面104a的間隔距離t若過大，則氣流的整流效果減弱；另外，若過近，則會產(chǎn)生對整流板104的導(dǎo)向面104a的不均勻的因素反應(yīng)敏感的不當(dāng)狀況。特別是在氣流的流速快的情況下，對導(dǎo)向面的不均勻因素反應(yīng)敏感的可能性會提高。因而，優(yōu)選可根據(jù)氣流的流速來調(diào)整間隔距離t。如此，則可得到用于實現(xiàn)迅速均勻地進(jìn)行被涂布面的干燥的最佳氣流。另外，在基板例如為光掩?；蚬庋谀５装婊宓那闆r下， 根據(jù)制品的不同，板厚種類有多種，為了針對不同板厚度的基板各自形成最佳的整流，優(yōu)選整流板的高度是可變的。例如，對于整流版104的導(dǎo)向面104a，在使用中會產(chǎn)生抗蝕劑的附著所致的污垢、 損傷，若導(dǎo)向面104a過近，則其凹凸(例如數(shù)十 數(shù)百ym的凹凸)可能會反映在抗蝕劑涂布面上。另外，對于在與氣流的流向正交的方向上，氣流產(chǎn)生源102在每個室具有2個以上的風(fēng)扇的情況，其邊界附近的氣流可能會紊亂。因而，針對各種狀況，可以通過調(diào)整間隔距離t來減輕其影響。需要說明的是，在與氣流的流向正交的方向上，在導(dǎo)向面104a的表面性狀為不均勻的情況下，也可以在與氣流的流向正交的方向上的每個室中分別對氣流的風(fēng)速進(jìn)行調(diào)整來應(yīng)對。作為間隔距離t的具體尺寸，優(yōu)選相對于被涂布面IOa與氣流的相對速度的秒速值為1 50%，該值更可以優(yōu)選為10 50%。例如，若被涂布面IOa與氣流的相對速度為 0. 1 1米/秒，則優(yōu)選在10 50mm的范圍內(nèi)選擇間隔距離t。另外，關(guān)于氣流的流速，將在下述的抗蝕劑的涂布方法的說明中進(jìn)行詳述。在 本實施方式中，如圖4 (a)所示，在吸附單元3的兩端設(shè)有遮檐部分108，從而潔凈室內(nèi)不會卷入垂直層流對供給的氣流帶來影響。但是，該遮檐部分108并非為需要必須設(shè)置的部件。在本實施方式中，在被涂布面IOa中，涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向為同一方向。特別是在本實施方式中，利用涂布單元2的噴嘴24涂布了抗蝕劑的基板10在被涂布面IOa朝向下方的狀態(tài)下被移動單元4由附圖中的左側(cè)水平移動至右側(cè)。此時，在已經(jīng)供給氣流的情況下，使涂布至被涂布面IOa的抗蝕液110與附圖中由右側(cè)流向左側(cè)的氣流平行接觸，由此，被涂布面上的抗蝕液被迅速均勻地干燥。此時，針對基板10，干燥在基板10的移動速度與氣流的流速相加的相對流速下進(jìn)行。另外，氣流到達(dá)至涂布單元2的噴嘴24后，流分為左右進(jìn)行流動，從基板10所存在的區(qū)域離開。對于利用該氣流對被涂布面IOa的干燥，在基板10到達(dá)處理終止位置停止，進(jìn)一步地，繼續(xù)進(jìn)行直至基板10向相反朝向移動到達(dá)安裝位置為止。在移動單元4(基板10) 向相反朝向移動時，在從氣流的流速中減去基板10的移動速度的相對流速下對基板10進(jìn)行干燥。通過利用這樣的氣流進(jìn)行干燥，可以在干燥進(jìn)行到周圍環(huán)境不會對經(jīng)涂布的抗蝕劑的面內(nèi)分布產(chǎn)生影響后停止氣流的供給。具體地說，可以在涂布開始后5 15分鐘左右停止氣流的供給，其后可以將基板10由涂布裝置1中取出。利用本實施方式，由于干燥單元100的送風(fēng)噴嘴102b和整流板104的寬度尺寸為噴嘴24的寬度尺寸以上，因而即使進(jìn)行抗蝕劑涂布的基板的尺寸發(fā)生變更，也無需更換干燥單元100的各部件。<干燥單元100的其他的實施方式的說明>在圖4所示的實施方式中，在氣流產(chǎn)生源102與噴嘴24的位置關(guān)系不變的狀態(tài)下，通過移動基板10來進(jìn)行抗蝕劑的涂布和干燥，但并不限于這種情況。例如，也可以將氣流產(chǎn)生源102設(shè)置于基板10側(cè)。在這種情況下，通過利用移動單元4使基板10在水平方向移動，由此使噴嘴24和基板10在水平方向相對移動，且氣流產(chǎn)生源102與基板10 —體移動。但是，整流板104是自噴嘴24開始連續(xù)設(shè)置的。在這種情況下，不必變更基板10的被涂布面IOa與氣流產(chǎn)生源102的相對位置即可進(jìn)行涂布、干燥，可以始終使穩(wěn)定的氣流與涂布至被涂布面IOa的抗蝕液相接觸。在圖4所示的實施方式中，涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向為同一方向，但并不限于這種情況。例如，也可考慮如圖6所示的氣流的流向相對于基板10的行進(jìn)方向正交的情況；還可考慮如圖7所示的氣流的行進(jìn)方向相對于基板10的行進(jìn)方向傾斜的情況。在圖6所示的情況下，氣流不會與噴嘴24相撞，在圖7所示的情況下，氣流改變流動的方向但不會與噴嘴24正面碰撞，因而流動更為平穩(wěn)。在任一情況下，在由基板10的側(cè)部流入氣流時，會產(chǎn)生基板10的寬度方向的條件差，因而據(jù)認(rèn)為適用于比較窄幅的基板。<使用干燥單元100的抗蝕劑涂布方法的實施方式的說明>下面，采用圖4對使用上述干燥單元100的抗蝕劑涂布方法的實施方式之一進(jìn)行說明。
在本抗蝕劑涂布方法中，利用涂布單元2通過噴嘴24的毛細(xì)管現(xiàn)象將積存在液槽 25中的抗蝕液弓I導(dǎo)至被涂布面IOa與被涂布面進(jìn)行接液，利用移動單元4使噴嘴24與基板 10在水平方向相對移動，從而將抗蝕液110涂布至被涂布面10a。此時，干燥單元100對于被涂布面IOb供給在一定方向上相對流速大致恒定并與被涂布面平行的氣流，使氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液110相接觸，從而對經(jīng)涂布的抗蝕液110進(jìn)行干燥。于是，在干燥進(jìn)行到周圍環(huán)境不會對經(jīng)涂布的抗蝕劑的面內(nèi)分布產(chǎn)生影響后停止氣流的供給。例如，可以在涂布開始5 15分鐘左右停止氣流的供給，其后可以將基板10 由涂布裝置1中取出。

特別地，通過利用具有與被涂布面IOa平行的導(dǎo)向面104a的整流板104對氣流進(jìn)行整流，可以供給與被涂布面IOa平行的順暢的氣流。由此，可以對被涂布面進(jìn)行迅速均勻的干燥，從而作為外觀性能的斑點(肉眼可辨認(rèn)出的色調(diào)不同的斑點)大致消失，與現(xiàn)有的干燥方法(例如專利文獻(xiàn)2的圖6所示的干燥方法)相比，可將抗蝕劑膜厚值的面內(nèi)分布大致減少一半。此處，涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向可以取任意的方向，但優(yōu)選涂布的行進(jìn)方向與氣流的行進(jìn)方向相同。這種情況下，在如圖4所示的使基板10在水平方向移動將抗蝕液涂布至被涂布面IOa的情況下，氣流以在與基板10移動的朝向相對向的朝向與經(jīng)涂布的抗蝕液110相接觸。在在這種情況下，通過對基板10側(cè)進(jìn)行移動來進(jìn)行涂布，無需移動積存有抗蝕液的液槽25及噴嘴24，因而無需擔(dān)心液槽25內(nèi)的抗蝕液的液面顫動，涂布行為因毛細(xì)管現(xiàn)象不穩(wěn)的現(xiàn)象。并且，由于氣流在與基板10發(fā)生移動的朝向相對向的朝向與經(jīng)涂布的抗蝕液 110相接觸，因而能夠更有效地進(jìn)行被涂布面IOa的干燥。但是，本發(fā)明并不限于這種情況，也可以使氣流以與基板10的移動方向同樣的朝向與經(jīng)涂布的抗蝕液110相接觸。作為開始進(jìn)行氣流的供給的時機(jī)，優(yōu)選在向被涂布面IOa的涂布終止之前開始， 更優(yōu)選在向被涂布面IOa的涂布開始之前開始。抗蝕液從涂布至被涂布面IOa的時刻開始干燥就實質(zhì)性地進(jìn)行了，通過在向被涂布面IOa的涂布終止之前開始進(jìn)行氣流的供給，能夠?qū)崿F(xiàn)被涂布面的迅速均勻干燥。進(jìn)一步地，在向被涂布面IOa的涂布開始之前開始進(jìn)行氣流的供給的情況下，抗蝕液在涂布至被涂布面IOa之后立即與氣流相接觸進(jìn)行干燥，因而能夠更為確實地實現(xiàn)被涂布面的迅速均勻干燥。在向被涂布面IOa的涂布開始之前開始進(jìn)行氣流的供給的情況下，可以在浸濕基板前供給氣流，也可以在浸濕基板后(例如，在浸濕后使噴嘴下降來形成適合涂布的適當(dāng)?shù)耐坎奸g隔(gap)的時)開始供給氣流。作為所供給的氣流的流速，相對于噴嘴和基板的相對移動速度優(yōu)選為10倍以上、 更優(yōu)選為50倍以上。通過采取這樣的流速，不論基板10與噴嘴24是否有相對移動，均可供給相對流速大致恒定的氣流，因而可以對被涂布面IOa進(jìn)行均勻的干燥。此處，作為噴嘴和基板的相對移動速度，優(yōu)選為0. 05 Im/分鐘的范圍，更優(yōu)選為 0. 1 0.5m/分鐘的范圍。作為氣流的流速，優(yōu)選為0.05 1.5米/秒、更優(yōu)選為0. 1 1.5米/秒。對于由氣流產(chǎn)生源所 產(chǎn)生的氣流的流速，可以將剛好為向?qū)蛎?04a與被涂布面IOa之間供給氣流之前的氣流流速的值作為氣流流速的代表值?？梢砸栽摯碇禐榛A(chǔ)來把握供給至導(dǎo)向面104a和被涂布面IOa之間的氣流的行為。<制造光掩模底版、光掩模的實施方式的說明>也可通過利用上述的抗蝕劑涂布方法對于在透明基板上成膜有光學(xué)膜的光掩模底版基板涂布抗蝕劑來制造光掩模底版。在本實施方式中，可以使用由石英玻璃等構(gòu)成的透明基板，光學(xué)膜中包括遮光膜、半透光膜、相移膜、在這些膜上所層積的防反射膜等。另夕卜，也可以使用該光掩模底版將對應(yīng)于要得到的電子器件的轉(zhuǎn)印用圖案描摹至透明基板上的光學(xué)膜上來制造光掩模。<制造成膜有2個以上的光學(xué)膜的光掩模的實施方式的說明>接下來，參照圖8、9對于應(yīng)用上述的抗蝕劑涂布方法制造在透明基板上成膜有2 個以上的光學(xué)膜的光掩模的情況進(jìn)行說明。在圖8、9中，作為成膜有2個以上的光學(xué)膜的光掩模的一例，示出了除了遮光膜外還成膜有半透光膜(HTL =Half Tone Layer)的光掩模的制造方法。該光掩模可以通過追加半透光膜來調(diào)整光量，表現(xiàn)出灰色調(diào)部(，> 一部)，例如可以在液晶顯示裝置的制造中降低其工時。在圖8中，后進(jìn)行半透光膜(HTL)的成膜，作為結(jié)果，示出了半透光膜出現(xiàn)在上層的膜構(gòu)成的光掩模的制造工序；在圖9中，先進(jìn)行半透光膜(HTL)的成膜，作為結(jié)果，示出了半透光膜出現(xiàn)在下層的膜構(gòu)成的光掩模的制造工序。在圖8所示膜構(gòu)成的光掩模的制造工序中，在由下層順次層積了 Cr系遮光膜 (CR)、防反射膜(AR)的透明基板(參照圖8(a))上進(jìn)行第1次的抗蝕劑涂布，形成抗蝕劑膜，在該抗蝕劑膜上進(jìn)行圖案曝光和顯影來形成第1次抗蝕劑圖案(參照圖8(b))。其后， 通過將該抗蝕劑圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻，來對Cr系遮光膜(CR)和防反射膜(AR)進(jìn)行圖案制作，在其上層積半透光膜(HTL)來形成光掩模中間體(參照圖8(c))。接下來，在光掩模中間體上進(jìn)行第2次抗蝕劑涂布來形成抗蝕劑膜，在該抗蝕劑膜上進(jìn)行圖案曝光和顯影來形成第2次抗蝕劑圖案(參照圖8(d))。其后，可以通過將該抗蝕劑圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻，來形成對半透光膜(HTL)、遮光膜(CR)和防反射膜(AR)進(jìn)行了圖案制作的光掩?；蚬庋谀Ｖ虚g體(參照圖8 (e))。在圖9所示膜構(gòu)成的光掩模的制造工序中，在由下層順次層積了半透光膜(HTL)、 Cr系遮光膜(CR)、防反射膜(AR)的透明基板(參照圖9(a))上進(jìn)行第1次抗蝕劑涂布來形成抗蝕劑膜，在該抗蝕劑膜上進(jìn)行圖案曝光和顯影來形成第1次抗蝕劑圖案(參照圖 9(b))。其后，通過將該抗蝕劑圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻，來形成對半透光膜(HTL)、Cr系遮光膜(CR)和防反射膜(AR)進(jìn)行了圖案制作的光掩模中間體(參照圖9(c))。接下來，在光掩模中間體上進(jìn)行第2次抗蝕劑涂布來形成抗蝕劑膜，在該抗蝕劑膜上進(jìn)行圖案曝光和顯影來形成第2次抗蝕劑圖案(參照圖9(d))。其后，可以通過將該抗蝕劑圖案作為掩模進(jìn)行蝕刻，來形成對半透光膜(HTL)、Cr系遮光膜(CR)和防反射膜(AR) 進(jìn)行了圖案制作的光掩?；蚬庋谀Ｖ虚g體(參照圖9(e))。在圖8和圖9所示的任一制造方法中，在抗蝕劑涂布中，均適于應(yīng)用使用上述干燥單元100的涂布方法。
此處，在光掩模中，靜電所致的電位差會產(chǎn)生放電，此時的能量可能會溶損光學(xué)膜、發(fā)生靜電破壞，特別是在對基板上形成的2個以上的光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作時，在進(jìn)行第 2次的圖案制作時，已經(jīng)進(jìn)行了圖案制作的遮光膜等光學(xué)膜的圖案彼此之間會產(chǎn)生放電，圖案形狀可能會被破壞。特別是在前端間隙的形狀的圖案相接近的情況下，易于產(chǎn)生靜電破壞。在圖8(c)和圖9(c)中，隔著間隔物相鄰的Cr系遮光膜(CR)的圖案彼此之間會產(chǎn)生放電，可能會產(chǎn)生靜電破壞。
此時，由于可利用干燥單元100向基板供給平行的氣流，因而可供給適當(dāng)濕度(例如，濕度為40 70%)的氣流，從而使Cr系遮光膜(CR)與氣流相接觸，所以能夠?qū)㈧o電破壞防患于未然。在潔凈室內(nèi)，對于氣氛本身已經(jīng)受其濕度控制，但如上所述，為使氣流維持在適當(dāng)?shù)臐穸?，也可以具備加濕單元。本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置、以及使用該抗蝕劑涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法的實施方式并不限于上述的實施方式，在本發(fā)明中也包含其他各種實施方式。
權(quán)利要求
1.一種抗蝕劑涂布方法，其是向被涂布面朝向下方的狀態(tài)的基板涂布抗蝕液的方法， 在該方法中將積存在液槽中的抗蝕液利用噴嘴的毛細(xì)管現(xiàn)象引導(dǎo)至上述被涂布面，使抗蝕液浸濕上述被涂布面，使上述噴嘴與上述基板在水平方向相對移動，從而將上述抗蝕液涂布至上述被涂布面；對上述被涂布面供給在一定方向上相對流速大致恒定并與上述被涂布面平行的氣流， 使上述氣流與經(jīng)上述涂布的抗蝕液相接觸，從而對經(jīng)上述涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥。
2.權(quán)利要求1所述的抗蝕劑涂布方法，其中，利用與所述被涂布面對向配置的整流板對所述氣流進(jìn)行整流，供給與所述被涂布面平行的氣流。
3.權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑涂布方法，其中，在所述被涂布面中，涂布的行進(jìn)方向與所述氣流的行進(jìn)方向為同一方向。
4.權(quán)利要求3所述的抗蝕劑涂布方法，其中，通過使所述基板在水平方向發(fā)生移動，將抗蝕液涂布至所述被涂布面，并且使所述氣流以與所述基板的移動朝向相對向的朝向與經(jīng)所述涂布的抗蝕液相接觸。
5.權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑涂布方法，其中，所述氣流的供給在向所述被涂布面的涂布終止之前開始。
6.權(quán)利要求5所述的抗蝕劑涂布方法，其中，所述氣流的供給在向所述被涂布面的涂布開始之前開始。
7.權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑涂布方法，其中，相對于所述噴嘴和所述基板的所述相對移動的速度，所述氣流的流速為10倍以上。
8.權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑涂布方法，其中，所述氣流的流速為0.05 1. 5米/秒。
9.一種光掩模底版的制造方法，該制造方法中包括向在透明基板上成膜有光學(xué)膜的光掩模底版基板涂布抗蝕劑的工序，其中，利用權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑涂布方法來涂布抗蝕劑。
10.一種光掩模的制造方法，其是將對應(yīng)于要得到的電子器件的轉(zhuǎn)印用圖案制作至透明基板上的光學(xué)膜上來制造光掩模的方法，其中，該方法中使用權(quán)利要求9所述的光掩模底版。
11.一種光掩模的制造方法，其是分別對形成于透明基板上的2個以上的光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作的光掩模的制造方法，其中，該制造方法包括形成具有第1轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模中間體的工序以及形成具有第2轉(zhuǎn)印用圖案的光掩?；蚬庋谀Ｖ虚g體的工序，在形成具有第1轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模中間體的工序中，涂布抗蝕劑，實施對上述抗蝕劑的描畫和顯影工序，由此來對第1光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作，形成具有第1轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模中間體；在形成具有第2轉(zhuǎn)印用圖案的光掩?；蚬庋谀Ｖ虚g體的工序中，向該光掩模中間體涂布抗蝕劑，實施對上述抗蝕劑的描畫和顯影工序，由此來對第2光學(xué)膜進(jìn)行圖案制作，形成具有第2轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模或光掩模中間體；在進(jìn)行上述抗蝕劑的涂布時，使用權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑涂布方法。
12.—種抗蝕劑涂布裝置，其是向被涂布面朝向下方的狀態(tài)的基板涂布抗蝕液的抗蝕劑涂布裝置，其中該抗蝕劑涂布裝置具備涂布單元、移動單元、以及干燥機(jī)構(gòu)，上述涂布單元具備積存抗蝕液的液槽以及將積存在該液槽中的抗蝕液利用毛細(xì)管現(xiàn)象引導(dǎo)至上述基板的被涂布面的噴嘴；上述移動單元通過使上述噴嘴和上述基板的至少一方發(fā)生移動而使兩者在水平方向上發(fā)生相對移動；上述干燥機(jī)構(gòu)具備產(chǎn)生氣流的氣流產(chǎn)生源和整流板，上述整流板具有以規(guī)定的間隔距離與上述被涂布面對向配置的導(dǎo)向面，將該氣流整流至與上述被涂布面平行的流向；在通過毛細(xì)管現(xiàn)象使上述抗蝕液浸濕上述被涂布面的狀態(tài)下，利用上述移動單元使上述噴嘴和上述基板在水平方向上進(jìn)行相對移動，由此通過上述涂布單元將上述抗蝕液涂布至上述被涂布面；利用上述干燥單元，對于上述被涂布面供給在一定方向上相對流速大致恒定并與上述被涂布面平行的氣流，使上述氣流與經(jīng)上述涂布的抗蝕液相接觸，從而對經(jīng)上述涂布的抗蝕液進(jìn)行干燥。
13.權(quán)利要求12所述的涂布裝置，其中，所述間隔距離能夠進(jìn)行調(diào)整，所述間隔距離對應(yīng)于所述氣流的流速進(jìn)行調(diào)整。
14.權(quán)利要求12或13所述的抗蝕劑涂布裝置，其中，利用所述移動單元使所述基板在水平方向上移動，從而使所述噴嘴和所述基板在水平方向上相對移動、且所述氣流產(chǎn)生源與所述基板進(jìn)行一體移動。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠更為迅速、均勻地對利用具有毛細(xì)管狀間隙的噴嘴涂布了抗蝕液的被涂布面進(jìn)行干燥的抗蝕劑涂布方法和抗蝕劑涂布裝置、以及使用該抗蝕劑涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法。本發(fā)明的抗蝕劑涂布方法是向被涂布面10a朝向下方的狀態(tài)的基板10涂布抗蝕液的方法，在該方法中，將積存在液槽中的抗蝕液利用噴嘴24的毛細(xì)管現(xiàn)象引導(dǎo)至被涂布面與被涂布面10a進(jìn)行接液、使噴嘴24與基板10在水平方向相對移動，從而將抗蝕液110涂布至被涂布面10a；對于被涂布面10a供給在一定方向上相對流速大致恒定并與被涂布面10a平行的氣流，使氣流與經(jīng)涂布的抗蝕液110相接觸，從而對經(jīng)涂布的抗蝕液110進(jìn)行干燥。
文檔編號G03F1/00GK102207682SQ201110076398
公開日2011年10月5日 申請日期2011年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月29日
發(fā)明者松本浩治 申請人:Hoya株式會社