專利名稱：柱狀隔墊物的生成方法、系統(tǒng)以及液晶顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器的彩膜基板制作的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及ー種柱狀隔墊物的生成方法、系統(tǒng)以及液晶顯示面板。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(Liquid Crystal Display, 簡稱LCD)具有體積小、功耗低以及無福射等特點，近年來得到飛速發(fā)展，從屏幕尺寸到顯示質(zhì)量都取得了很大進歩。目前，LCD發(fā)展重點集中在提高畫面品質(zhì)和降低生產(chǎn)成本等方面。現(xiàn)有液晶顯示器的液晶顯示面板包括兩個基板彩膜基板(CF基板)和陣列基板(Array基板)，兩基板之間設(shè)置有液晶材料組成的液晶層。為了控制液晶層厚度的穩(wěn)定性，現(xiàn)有技術(shù)均在兩基板之間設(shè)置有隔墊物。高性能的液晶顯示器一般在彩膜基板上設(shè)置柱狀隔墊物(Post Spacer，簡稱SP)，通常在兩基板之間設(shè)置的柱狀隔墊物的高度是相等的，根據(jù)此結(jié)構(gòu)特征，在液晶顯示面板受到外部壓カ的時候，可能由于柱狀隔墊物的回復力不足而產(chǎn)生面板凹陷，從而改變背光源光線的傳播路徑，影響顯示灰度，進而使得液晶顯示面板顯示不均。針對此問題，目前提出的一種解決方式如下在彩膜基板上形成主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物，并且在液晶顯示面板對盒時，為了形成不同的高度差，一般把主柱狀隔墊物的位置與陣列基板的薄膜場效應(yīng)晶體管(Thin Film Transistor，簡稱TFT)的位置對應(yīng)，副柱狀隔墊物的位置與陣列基板的柵極金屬層對應(yīng)，從而利用TFT跟柵極金屬層之間的高度差來在主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物之間形成相應(yīng)的高度差，以使主副柱狀隔墊物分別起到各自不同的作用，即在彩膜基板和陣列基板對盒后，主柱狀隔墊物與陣列基板接觸，提供支撐カ，維持彩膜基板與陣列基板之間的盒厚，而在受到擠壓的情況下，副柱狀隔墊物與陣列基板接觸，提高耐壓能力，使得由于擠壓而產(chǎn)生的凹陷盡快恢復。目前，在彩膜基板上形成主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物的高度一般都是相等的，其生成過程如圖I所示，主要包括如下步驟步驟101、在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層。步驟102、使用掩模板對光刻膠層進行曝光，其中，所使用的掩模板在對應(yīng)生成主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域。步驟103、在進行曝光處理后，通過顯影在彩膜基板上生成高度相同的主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物。至此，在彩膜基板上形成主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物的流程結(jié)束。圖I對應(yīng)流程包括的步驟102中，使用掩模板對光刻膠層進行曝光的示意圖如圖2所示，在沉積了有機材料和光刻膠層202的彩膜基板201上，通過掩模板203進行曝光處理，其中，有機材料和光刻膠層202包括主柱狀隔墊物區(qū)域202A以及副柱狀隔墊物區(qū)域202B ;掩模板203包括分別對應(yīng)主柱狀隔墊物區(qū)域202A以及副柱狀隔墊物區(qū)域202B的完全曝光區(qū)域，在該區(qū)域，曝光光線可以完全通過掩模板進入主柱狀隔墊物區(qū)域202A以及副柱狀隔墊物區(qū)域202B。根據(jù)上述技術(shù)方案，采用傳統(tǒng)的柱狀隔墊物的生成方法，主柱狀隔墊物和副柱狀隔墊物的高度是相同的，只是利用陣列基板上TFT跟柵極金屬層的高度不同來使主柱狀隔墊物和副柱狀隔墊物分別起到不同的支撐作用。但是由于設(shè)計要求，主柱狀隔墊物通常不能放到TFT上，在這種情況下，主柱狀隔墊物和副柱狀隔墊物只能放到同一層上面，在液晶顯示面板對盒后它們所起到的作用是相同的，仍然存在由于柱狀隔墊物的回復力不足而產(chǎn)生面板凹陷(或稱為指壓不良)的問題。綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)針對柱狀隔墊物的回復力不足而產(chǎn)生面板凹陷的問題所提出的在彩膜基板上生成主副柱狀隔墊物的方案，只適用于在主柱狀隔墊物能夠放到TFT上的特定場景，不具備通用性，在一些情況下仍然解決不了由于面板凹陷產(chǎn)生的液晶顯示面板顯示不均的問題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明實施例提供ー種柱狀隔墊物的生成方法、系統(tǒng)以及液晶顯示面板，采用該技術(shù)方案，能夠解決由于面板凹陷產(chǎn)生的液晶顯示面板顯示不均的問題，并且具備通用性。本發(fā)明實施例通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明實施例的ー個方面，提供了ー種柱狀隔墊物的生成方法，包括在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層；使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影，在彩膜基板上與所述掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，以及在彩膜基板上與所述掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。根據(jù)本發(fā)明實施例的另ー個方面，還提供了ー種液晶顯示面板，包括陣列基板以及彩膜基板，所述彩膜基板上具有主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物，并且所述主柱狀隔墊物的高度大于所述副柱狀隔墊物的高度；所述彩膜基板與所述陣列基板平行，且所述主柱狀隔墊物的兩端分別與所述彩膜基板以及所述陣列基板接觸。根據(jù)本發(fā)明實施例的另ー個方面，還提供了一種掩模板，包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域；其中，所述完全曝光區(qū)域用于在彩膜基板上生成主柱狀隔墊物，所述部分曝光區(qū)域用于在彩膜基板上生成副柱狀隔墊物。根據(jù)本發(fā)明實施例的另ー個方面，還提供了ー種柱狀隔墊物的生成系統(tǒng)，包括沉積裝置，用于在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層；隔墊物生成裝置，用于使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影，在彩膜基板上與所述掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，以及在彩膜基板上與所述掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。
通過本發(fā)明實施例提供的上述至少ー個技術(shù)方案，在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層，并使用掩模板對該光刻膠層進行曝光以及顯影，生成主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物；其中，所使用的掩模板在對應(yīng)生成主柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域，在對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域為部分曝光區(qū)域。根據(jù)該技術(shù)方案，由于掩模板在對應(yīng)生成主柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域，在對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域為部分曝光區(qū)域，因此，在生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率比生成主柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率低，即在生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光率比生成主柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光率低，從而在經(jīng)過顯影處理將非曝光區(qū)域去除后，使得對應(yīng)曝光率較低的副柱狀隔墊物的高度低于對應(yīng)曝光率較高的主柱狀隔墊物的高度。
本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點可通過在所寫的說明書、權(quán)利要求書、以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)和獲得。


附圖用來提供對本發(fā)明的進ー步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與本發(fā)明實施例一起用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。在附圖中圖I為現(xiàn)有技術(shù)提供的在彩膜基板上生成柱狀隔墊物的流程圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)提供的使用掩模板對光刻膠層進行曝光的示意圖；圖3為本發(fā)明實施例提供的在彩膜基板上生成柱狀隔墊物的流程圖；圖4為本發(fā)明實施例提供的沉積有機材料以及光刻膠層后的彩膜基板的示意圖；圖5為本發(fā)明實施例提供的對圖4中的有機材料以及光刻膠層進行曝光時使用的掩模板的示意圖；圖6為本發(fā)明實施例提供的在彩膜基板上生成的柱狀隔墊物的示意圖；圖7為本發(fā)明實施例提供的使用半色調(diào)掩模板對圖4中的光刻膠層進行曝光的示意圖；圖8為本發(fā)明實施例提供的使用半色調(diào)掩模板對圖4中的光刻膠層進行曝光的示意圖；圖9為本發(fā)明實施例提供的液晶顯示面板的示意圖；圖10為本發(fā)明實施例提供的在彩膜基板上生成柱狀隔墊物的系統(tǒng)示意圖。
具體實施例方式為了給出解決由于面板凹陷產(chǎn)生的液晶顯示面板顯示不均、且具備通用性的實現(xiàn)方案，本發(fā)明實施例提供了ー種柱狀隔墊物的生成方法、系統(tǒng)以及液晶顯示面板，以下結(jié)合說明書附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行說明，應(yīng)當理解，此處所描述的優(yōu)選實施例僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。并且在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案中，一方面，為了達到在彩膜基板上生成的主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物能夠分別起到不同支撐作用的目的，即在彩膜基板和陣列基板對盒后，主柱狀隔墊物與陣列基板接觸，提供支撐力，維持彩膜基板與陣列基板之間的盒厚，而在受到擠壓的情況下，副柱狀隔墊物與陣列基板接觸，提高耐壓能力，使得由于擠壓而產(chǎn)生的凹陷盡快恢復；另ー方面，為了提高彩膜基板的通用性，即在彩膜基板上生成的柱狀隔墊物在對盒時不依賴于陣列基板的TFT位置。如圖3所示，為本發(fā)明實施例提供的在彩膜基板上生成柱狀隔墊物的流程圖，主要包括步驟301至步驟303 步驟301、在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層。該步驟301中，可以采用旋涂方式在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層。并且，為了減少在彩膜基板上沉積的有機材料和光刻膠層的干燥時間，可以對該彩膜基板上沉積的有機材料以及光刻膠層進行烘干處理(即前烘處理)，烘干溫度可以優(yōu)選地采用20°C至150°C之間的溫度，烘干時長可以為I到10分鐘，實際應(yīng)用中，烘干溫度以及時長可以視沉積物(有機材料和光刻膠層)的具體厚度靈活確定。步驟302、使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對光刻膠層進行曝光處理。
該步驟302中，所使用的掩模板為灰度不同的掩模板。進行曝光處理時，每平方厘米的曝光強度可以為10毫焦(mj)至500毫焦，曝光時長可以為I至5分鐘。步驟303、在完成曝光處理后，進行顯影處理，在彩膜基板上與掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，在彩膜基板上與掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。該步驟303中，進行顯影處理的時間可以為I至10分鐘，溫度可以在10到50°C。進一歩地，為了增加生成的柱狀隔墊物的強度，還可以進ー步進行烘干處理(即后烘處理)，烘干溫度可以優(yōu)選地采用100°C至340°C之間的溫度，烘干時長可以為10到100分鐘。至此，在彩膜基板上生成柱狀隔墊物的流程結(jié)束。具體地，上述各步驟的詳細執(zhí)行過程如下圖3對應(yīng)流程包括的步驟301中，在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層，沉積的用于制作柱狀隔墊物的有機材料可以為樹脂材料，例如，聚丙烯酸樹脂或聚酯樹脂。圖4示出了通過上述步驟301沉積有機材料以及光刻膠層后的彩膜基板的示意圖，由圖4所示，包括彩膜基板401以及沉積的有機材料以及光刻膠層402，其中，有機材料和光刻膠層402包括主柱狀隔墊物區(qū)域402A以及副柱狀隔墊物區(qū)域402B。圖3對應(yīng)流程包括的步驟302中，所使用的掩模板為灰度不同的掩模板，該掩模板包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域，具體地，該掩模板在對應(yīng)彩膜基板上將生成主柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域，即完全曝光區(qū)域用于在彩膜基板上生成主柱狀隔墊物；在對應(yīng)彩膜基板上將生成副柱狀隔墊物的區(qū)域為部分曝光區(qū)域，即部分曝光區(qū)域用于在彩膜基板上生成副柱狀隔墊物。設(shè)置該部分曝光區(qū)域的目的主要在于減弱該進入對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率。圖5為步驟302中對圖4中的有機材料和光刻膠層進行曝光時所使用的掩模板的示意圖，其中，掩模板為圖5中對應(yīng)標號500的部分，如圖5所示，掩模板500在對應(yīng)主柱狀隔墊物區(qū)域402A的部分是完全曝光區(qū)域，該部分完全透明；該掩模板500在對應(yīng)副柱狀隔墊物區(qū)域402B的部分是部分曝光區(qū)域，該部分采用半透明膜設(shè)計。圖3對應(yīng)流程包括的步驟302中，通過對彩膜基板上的沉積物(有機材料和光刻膠層)進行顯影處理后，可以得到如圖6所示的在彩膜基板上生成的柱狀隔墊物，如圖6所示，在彩膜基板上生成的副柱狀隔墊物區(qū)域402B的高度低于主柱狀隔墊物區(qū)域402A的高度。本發(fā)明實施例提供的ー個優(yōu)選實施方式中，在進行曝光處理時采用的掩模板包括的部分曝光區(qū)域可以采用半色調(diào)掩模板。具體地，該掩模板在對應(yīng)生成主柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域，在對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域為部分曝光區(qū)域，該部分曝光區(qū)域采用半透膜形式，以減弱進入對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率。圖7為使用半色調(diào)掩模板對圖4中的光刻膠層進行曝光的示意圖，其中，掩模板為圖7中對應(yīng)標號700的部分，如圖7所示，掩模板700在對應(yīng)主柱狀隔墊物區(qū)域402A的部分是完全曝光區(qū)域，該部分完全透明；該掩模板700在對應(yīng)副柱狀隔墊物區(qū)域402B的部分是部分曝光區(qū)域，該部分半透明膜設(shè)計，曝光光線經(jīng)過該部分后由于半透膜的隔離作用有所減弱。本發(fā)明實施例提供的ー個優(yōu)選實施方式中，在進行曝光處理時采用的掩模板包括的部分曝光區(qū)域可以采用灰色調(diào)掩模板。具體地，該掩模板在對應(yīng)生成主柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域，在對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域為部分曝光區(qū)域，該部分曝光區(qū)域采用半透膜以及遮光膜結(jié)合的形式，以減弱進入對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率。圖8為使用半色調(diào)掩模板對圖4中的光刻膠層進行曝光的示意圖，其中，掩模板為圖8中對應(yīng)標號800的部分，如圖8所示，掩模板800在對應(yīng)主柱狀隔墊物區(qū)域402A的部分是完全曝光區(qū)域，該部分完全透明；該掩模板800在對應(yīng)副柱狀隔墊物區(qū)域402B的部分是部分曝光區(qū)域，該部分半透明膜以及遮光膜結(jié)合的設(shè)計，使得曝光光線經(jīng)過該部分后由于遮光膜的隔離以及半透膜的隔離作用有所減弱。根據(jù)本發(fā)明上述實施例提供的在彩膜基板上生成柱狀隔墊物的方法，由于掩模板在對應(yīng)生成主柱狀隔墊物的區(qū)域為完全曝光區(qū)域，在對應(yīng)生成副柱狀隔墊物的區(qū)域為部分曝光區(qū)域，因此，在生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率比生成主柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光光線的通過率低，即在生成副柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光率比生成主柱狀隔墊物的區(qū)域的曝光率低，從而在經(jīng)過顯影處理將非曝光區(qū)域去除后，使得對應(yīng)曝光率較低的副柱狀隔墊物的高度低于對應(yīng)曝光率較高的主柱狀隔墊物的高度，因此可以直接在彩膜基板上實現(xiàn)其主副柱狀隔墊物不同高度的情況，提高了該彩膜基板的通用性。相應(yīng)地，本發(fā)明實施例還提供了一種通過上述方法制備得到的液晶顯示面板，如圖9所示，該液晶顯示面板包括陣列基板901以及彩膜基板902，該彩膜基板902上生成有主柱狀隔墊物902A以及副柱狀隔墊物902B，并且主柱狀隔墊物902A的高度大于副柱狀隔墊物的高度902B，該彩膜基板902與陣列基板901平行，且該彩膜基板902上的主柱狀隔墊物的兩端分別與彩膜基板902以及陣列基板901接觸。該圖9僅示出了與本發(fā)明所提供技術(shù)方案的改進之處相關(guān)的部分，對于該彩膜基板的其它構(gòu)成部分，例如黑矩陣、柵極金屬層等未在圖中標出。對于圖9所示的液晶顯示器包括的柱狀隔墊物的具體生成過程已在上述實施例中說明，此處不再贅述。相應(yīng)地，本發(fā)明實施例還提供了ー種柱狀隔墊物的生成系統(tǒng)，如圖10所示，該系統(tǒng)包括沉積裝置1001以及隔墊物生成裝置1002 ；
其中沉積裝置1001，用于在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層；隔墊物生成裝置1002，用于使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影，在彩膜基板上與所述掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，以及在彩膜基板上與所述掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。本發(fā)明實施例提供的ー個優(yōu)選實施方式中，圖10所示的裝置包括的隔墊物生成裝置1002，具體用于使用部分曝光區(qū)域采用半色調(diào)掩模板或灰色調(diào)掩模板的掩模板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影。
本發(fā)明實施例提供的ー個優(yōu)選實施方式中，圖10所示的裝置包括的沉積裝置1001，具體用于在彩膜基板上沉積聚丙烯酸樹脂和光刻膠層；或在彩膜基板上沉積聚酯樹脂和光刻膠層。該柱狀隔墊物的生成系統(tǒng)與上述柱狀隔墊物的生成方法——對應(yīng)，對于該系統(tǒng)中各裝置所實現(xiàn)的具體功能已在上述方法實施例中詳細描述，此處不再贅述。盡管已描述了本申請的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例做出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本申請范圍的所有變更和修改。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種柱狀隔墊物的生成方法，其特征在于，包括 在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層； 使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影，在彩膜基板上與所述掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，以及在彩膜基板上與所述掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。
2.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，所述掩模板的部分曝光區(qū)域采用半色調(diào)掩模板或灰色調(diào)掩模板。
3.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，用于制作柱狀隔墊物的有機材料為聚丙烯酸樹脂或聚酯樹脂。
4.ー種液晶顯示面板，包括陣列基板以及彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板上具有主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物，并且所述主柱狀隔墊物的高度大于所述副柱狀隔墊物的高度； 所述彩膜基板與所述陣列基板平行，且所述主柱狀隔墊物的兩端分別與所述彩膜基板以及所述陣列基板接觸。
5.一種掩模板，其特征在于，包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域；其中，所述完全曝光區(qū)域用于在彩膜基板上生成主柱狀隔墊物，所述部分曝光區(qū)域用于在彩膜基板上生成副柱狀隔墊物。
6.如權(quán)利要求5所述的掩模板，其特征在干，所述部分曝光區(qū)域采用半色調(diào)掩模板或灰色調(diào)掩模板。
7.ー種柱狀隔墊物的生成系統(tǒng)，其特征在于，包括 沉積裝置，用于在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層； 隔墊物生成裝置，用于使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影，在彩膜基板上與所述掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，以及在彩膜基板上與所述掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述隔墊物生成裝置，具體用于使用部分曝光區(qū)域采用半色調(diào)掩模板或灰色調(diào)掩模板的掩模板對所述有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影。
9.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述沉積裝置，具體用于在彩膜基板上沉積聚丙烯酸樹脂和光刻膠層；或在彩膜基板上沉積聚酯樹脂和光刻膠層。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種柱狀隔墊物的生成方法、系統(tǒng)以及液晶顯示面板，其中，柱狀隔墊物的生成方法包括在彩膜基板上沉積用于制作柱狀隔墊物的有機材料和光刻膠層；使用包括完全曝光區(qū)域以及部分曝光區(qū)域的掩模板對該有機材料和光刻膠層進行曝光以及顯影，在彩膜基板上與所述掩模板包括的完全曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成主柱狀隔墊物，以及在彩膜基板上與所述掩模板包括的部分曝光區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域生成副柱狀隔墊物。液晶顯示面板，包括陣列基板以及彩膜基板，該彩膜基板上生成有主柱狀隔墊物以及副柱狀隔墊物，并且主柱狀隔墊物的高度大于副柱狀隔墊物的高度。采用該技術(shù)方案，能夠解決由于面板凹陷產(chǎn)生的液晶顯示面板顯示不均的問題，并且具備通用性。
文檔編號G03F7/00GK102645793SQ20111007603
公開日2012年8月22日 申請日期2011年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月28日
發(fā)明者馬新利 申請人:京東方科技集團股份有限公司