專利名稱：微光刻投射曝光裝置的照明系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及微光刻投射曝光裝置的照明系統(tǒng)以及涉及操作這種裝置的方法。
背景技術(shù)：
微光刻(亦稱作光刻(photolithography, lithography))是用于制造集成電路、液晶顯示器及其他微結(jié)構(gòu)器件的技術(shù)。微光刻工藝連同刻蝕工藝一起被用于圖案化薄膜疊層(stack)中的特征，其中薄膜疊層已形成于例如硅晶片的基板上。在制造的每一層處，晶片首先涂布光刻膠，其為對(duì)特定波長的光敏感的材料。接著，頂部具有光刻膠的晶片在投射曝光裝置中暴露于通過掩模的投射光。掩模包含要成像于光刻膠上的電路圖案。曝光后，將光刻膠顯影，以產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于掩模中所包含的電路圖案的像。接著，刻蝕工藝將電路圖案轉(zhuǎn)移至晶片上的薄膜疊層。最后，移除光刻膠。利用不同的掩模重復(fù)此工藝，產(chǎn)生多層微結(jié)構(gòu)組件。投射曝光裝置一般包括照明系統(tǒng)，其照明掩模上的場，其例如具有矩形或彎曲的狹縫的形狀。該裝置還包含:用于對(duì)準(zhǔn)掩模的掩模臺(tái)、將掩模上的照明場成像至光刻膠上的投射物鏡(有時(shí)也稱為“透鏡”)、以及用于對(duì)準(zhǔn)涂布了光刻膠的晶片的晶片對(duì)準(zhǔn)臺(tái)。投射曝光裝置發(fā)展中的一個(gè)重要目標(biāo)為能夠在晶片上微光刻地定義尺寸越來越小的結(jié)構(gòu)。小結(jié)構(gòu)產(chǎn)生高集成密度，其一般對(duì)借助于這種裝置產(chǎn)生的微結(jié)構(gòu)組件的性能具有有利的影響。過去已追求了各種方法來達(dá)成此目標(biāo)。已用一種方法來降低用于將電路圖案成像于光刻膠上的投射光的波長。這利用了可微光刻地定義的特征的最小尺寸與投射光的波長大致成比例的事實(shí)。因此，這種裝置的制造者努力使用具有越來越短波長的投射光。目前所使用的最短波長為248nm、193nm、及157nm，因此落在深(DUV)或真空(VUV)紫外光譜范圍中。下一代商業(yè)可得的裝置將使用具有甚至更短波長的投射光，波長約為13.5nm，其在極紫外光(EUV)光譜范圍中。EUV裝置包含反射鏡，而非透鏡，因?yàn)橥哥R吸收幾乎所有的EUV光。另一方法為改進(jìn)掩模的照明。理想上，投射曝光裝置的照明系統(tǒng)使用具有良好定義的空間及角度輻照度分布的投射光，來照明掩模上所照明的場的每一點(diǎn)?！敖嵌容椪斩确植肌币辉~描述光叢(bundle)(其朝向掩模上的特定點(diǎn)匯聚)的總光能量如何在組成光叢的光線的各個(gè)方向之中分布。照射在掩模上的投射光的角度輻照度分布通常被適配于要成像至光刻膠上的圖案種類。舉例來說，相較于小尺寸的特征，相對(duì)大尺寸的特征可能需要不同的角度輻照度分布。最常使用的角度輻照度分布為傳統(tǒng)、環(huán)形、雙極和四極照明設(shè)定。這些術(shù)語是指照明系統(tǒng)的瞳表面中的輻照度分布。舉例來說，在環(huán)形照明設(shè)定下，瞳表面上只照明環(huán)形區(qū)域。因此，只有小范圍的角度存在于投射光的角度輻照度分布中，且所有光線以類似的角度傾斜照射到掩模上。在此技術(shù)領(lǐng)域中已知有不同的手段用來修改投射光在掩模平面中的角度輻照度分布，以獲得理想的照明設(shè)定。為了在掩模平面中產(chǎn)生不同角度輻照度分布時(shí)獲得最大靈活性，已提出使用反射鏡陣列，其確定瞳表面中的輻照度分布。在EP1262836A1中，反射鏡陣列被實(shí)施為微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)，其包括超過1000個(gè)微反射鏡。每個(gè)反射鏡可圍繞兩個(gè)正交的傾斜軸傾斜。因此，入射于這種反射鏡裝置上的輻射可被反射到半球的幾乎任何想要的方向。布置在反射鏡陣列與瞳表面之間的聚光透鏡將反射鏡所產(chǎn)生的反射角轉(zhuǎn)換為瞳表面中的位置。此照明系統(tǒng)使得以多個(gè)點(diǎn)照明瞳表面成為可能，其中每個(gè)點(diǎn)與一個(gè)特定反射鏡關(guān)聯(lián)，且可通過傾斜此反射鏡而使每個(gè)點(diǎn)可在瞳表面上自由地移動(dòng)。使用反射鏡陣列的類似照明系統(tǒng)已揭露于US2006/0087634A1、US7061582B2以及W02005/026843A2 中。雖然使用反射鏡陣列的照明系統(tǒng)對(duì)修改角度輻照度分布非常靈活，但掩模平面中的照明場上的空間和角度輻照度分布的均勻性仍是問題。未來的照明系統(tǒng)很可能需要這些量有非常低的場依賴性。已開發(fā)出一些方法來降低光學(xué)積分器上的場相依焦點(diǎn)，光學(xué)積分器通常用于照明系統(tǒng)中產(chǎn)生多個(gè)二次光源。由二次光源發(fā)射出的光束是由聚光器疊加到掩模平面上或與掩模平面光學(xué)共軛的場光闌平面上。光學(xué)積分器通常包括一個(gè)或多個(gè)光學(xué)格柵(raster)元件陣列，其產(chǎn)生與二次光源關(guān)聯(lián)的光束。與這樣的光束專屬關(guān)聯(lián)的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)格柵元件形成光學(xué)通道，該光學(xué)通道獨(dú)立于其他光學(xué)通道。由于與光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的每個(gè)光束完全照明掩?；驁龉怅@平面，所以位于光學(xué)通道內(nèi)的光學(xué)元件可用于修改照明特性。舉例來說,US5615047描述了布置于光學(xué)積分器之前的平板,其包含多個(gè)濾波器區(qū)域，每個(gè)濾波器區(qū)域與光學(xué)積分器的單格光學(xué)通道關(guān)聯(lián)。由于濾波器元件的位置與掩?；驁龉怅@平面光學(xué)共軛，所以可選擇濾波器區(qū)域的透射率分布，使得在掩?；驁龉怅@平面處獲得均勻空間輻照度分布。此外，US6049374提出使用與光學(xué)積分器的特定通道關(guān)聯(lián)的吸收濾波器元件。US2009/0021715A1 (其轉(zhuǎn)讓給本申請(qǐng)的申請(qǐng)人)描述了一照明系統(tǒng)，其中移除了角度輻照度分布的不期望的殘余場相依性。為此目的，放置于單獨(dú)(individual)光學(xué)通道中的光學(xué)元件(例如棱鏡)改變與這些光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的光束的某些光學(xué)特性。然而，仍然需要對(duì)照明系統(tǒng)進(jìn)行改進(jìn)，特別是關(guān)于入射到掩模上的投射光的角度輻照度分布的場相依性。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種照明系統(tǒng)，其提高關(guān)于掩模級(jí)的角度輻照度分布的場相依性的靈活性。根據(jù)本發(fā)明，此目的通過一種包含光學(xué)積分器的照明系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)，該光學(xué)積分器包含光學(xué)格柵元件的陣列，其中光束與每個(gè)光學(xué)格柵元件關(guān)聯(lián)。照明系統(tǒng)還包含聚光器，其將與光學(xué)格柵元件關(guān)聯(lián)的光束疊加于共同場平面中，該共同場平面與掩模平面相同或光學(xué)共軛，在照明系統(tǒng)操作期間所要照明的掩模設(shè)置于該掩模平面中。照明系統(tǒng)的調(diào)制器被配置為修改(modify)場中的角度輻照度分布的場相依性，該場在掩模平面中被照明系統(tǒng)照明。調(diào)制器包含多個(gè)調(diào)制器單元，其中每個(gè)調(diào)制器單元與光束中的至少一個(gè)(優(yōu)選僅一個(gè))關(guān)聯(lián)，且布置于聚光器之前的位置，使得只有所關(guān)聯(lián)的光束入射到該調(diào)制器單元上。此外，每個(gè)調(diào)制器單元被配置為可變地重新分布相關(guān)聯(lián)的光束的空間和/或角度輻照度分布，而不阻擋任何光。照明系統(tǒng)還包含控制裝置，其被配置為控制調(diào)制器單元，使得如果控制裝置接收到必須修改掩模平面中的角度輻照度分布的場相依性的輸入指令，則至少一個(gè)調(diào)制器單元重新分布關(guān)聯(lián)的光束的空間和/或角度輻照度分布。因此，本發(fā)明舍棄試圖在掩模平面上的照明場的每一點(diǎn)處產(chǎn)生相同的良好定義的角度輻照度分布(即將角度輻照度分布的場相依性降低至非常小的可容忍值)的傳統(tǒng)方法。相反地，本發(fā)明尋求提供一種照明系統(tǒng)，其能夠使裝置的操作者快速地改變掩模平面中的角度輻照度分布的場相依性。這使得可以不同的角度輻照度分布選擇地照明照明場的不同部分。若這些分布專門適配于在這些部分中照明的電路圖案，則圖案將可更準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)移到光刻膠或其他類型的光敏表面。然而，對(duì)于不期望以不同照明設(shè)定來照明掩模不同部分的應(yīng)用，本發(fā)明也可以是有用的?？焖傩薷难谀＜?jí)的角度輻照度分布的場相依性的能力則可被用于非常有效地降低場相依性，即使是在場相依性隨時(shí)間改變并因此無法利用布置在光學(xué)積分器的光學(xué)通道中的固定光學(xué)元件來降低的情況下也是如此。在一個(gè)實(shí)施例中，調(diào)制器被配置為使得在照明場的第一部分處產(chǎn)生第一角度輻照度分布，且在照明場的第二部分處產(chǎn)生不同于第一角度輻照度分布的第二角度輻照度分布。特別地，在掃描曝光機(jī)(scanner)類型的裝置中(其中在光刻膠曝光過程中沿掃描方向移動(dòng)掩模)，可通過沿掃描方向延伸的線形成第一和第二部分。第一部分可鄰接照明場的一端，而第二部分可鄰接照明場的相對(duì)端。在掃描曝光機(jī)類型裝置的情況下，該一端和相對(duì)端可沿垂直于掃描方向的方向界定照明場。在其他實(shí)施例中，第一部分為第一角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域，且第二部分為第二角度輻照度分布均勻的 二維區(qū)域。若裝置為掃描曝光機(jī)類型，則照明場通常具有沿X方向的長尺寸以及沿Y方向的短尺寸，其中Y方向垂直于X方向且對(duì)應(yīng)于裝置的掃描方向。從而，第一部分可具有與第二部分共同的至少一個(gè)Y坐標(biāo)，但沒有共同的X坐標(biāo)。換言之，兩個(gè)部分沿X方向并排布置，或者可能沿Y方向位移，但不具有共同的點(diǎn)落在平行于Y方向延伸的線上。在某些實(shí)施例中，甚至可以快速改變角度輻照度分布，使得在掃描操作中將掩模投射至光感層的同時(shí)改變角度輻照度分布。接著，由二維區(qū)域所形成的第一和第二部分可沿掃描方向Y布置為一前一后，使得這兩個(gè)部分也可具有共同的X坐標(biāo)。一般而言，這兩個(gè)部分的第一和第二角度輻照度分布可與選自以下組的照明設(shè)定關(guān)聯(lián):傳統(tǒng)照明設(shè)定、角度照明設(shè)定、雙極照明設(shè)定、η極照明設(shè)定(η彡4)。在其他實(shí)施例中，每個(gè)調(diào)制器單元布置在格柵場平面中，該格柵場平面在光傳播方向上位于光學(xué)格柵元件陣列之前。每個(gè)調(diào)制器單元被配置為可變地重新分布關(guān)聯(lián)光束在格柵場平面中的空間輻照度分布，而不阻擋任何光。這利用了以下事實(shí):格柵場平面與共同場平面光學(xué)共軛，因此格柵場平面中的關(guān)聯(lián)光束的任何空間重新分布直接轉(zhuǎn)換為共同場平面中重新分布的空間輻照度分布。由于每個(gè)調(diào)制器單元與特定光束(其從關(guān)聯(lián)的光學(xué)格柵元件的位置所確定的方向朝共同場平面?zhèn)鞑?關(guān)聯(lián)，所以若調(diào)制器單元改變共同場平面中的關(guān)聯(lián)光束所產(chǎn)生的空間輻照度分布，則角度輻照度分布的場相依性改變。一般來說，與光學(xué)格柵元件關(guān)聯(lián)的格柵場平面將共面。然而，若光學(xué)格柵元件具有不同的光學(xué)特性，則格柵場平面也可能傾斜或沿光學(xué)軸位移。在某些實(shí)施例中，每個(gè)調(diào)制器單元被配置為沿垂直于照明系統(tǒng)的光學(xué)軸的方向在格柵場平面中移動(dòng)一區(qū)域，此區(qū)域由與該調(diào)制器單元關(guān)聯(lián)的光束照明。接著，共同場平面中的照明場也移動(dòng)，其移動(dòng)量與格柵場平面中的區(qū)域的移動(dòng)成比例。在掃描類型的裝置中，移動(dòng)方向可等于X方向。在此語境中，應(yīng)注意到，格柵場平面通常不是數(shù)學(xué)意義上的平面，而是光學(xué)上的定義，因此可具有一定的“厚度”。因此，在這樣的“厚”場平面內(nèi)的傾斜移動(dòng)仍視為是垂直于光學(xué)軸的移動(dòng)。照明區(qū)域的移動(dòng)可通過調(diào)制器單元實(shí)現(xiàn)，而不改變關(guān)聯(lián)光束的角度輻照度分布。從而，共同場平面中的特定光束所產(chǎn)生的角度輻照度分布僅由關(guān)聯(lián)的光學(xué)格柵元件的位置決定，而基本獨(dú)立于與該光束關(guān)聯(lián)的照明區(qū)域在格柵場平面中的位置。配置調(diào)制器單元，使得能夠可變地重新分布關(guān)聯(lián)光束在格柵場平面中的空間輻照度分布，這通常需要在格柵場平面中有一些空間可用于容納光學(xué)組件、制動(dòng)器、及為此目的所需的其他機(jī)械組件。這隱含著格柵場平面的照明部分必須由間隙分隔。產(chǎn)生格柵場平面(其中照明部分是由間隙所分隔)的光學(xué)積分器在光傳播方向中計(jì)算可包含光學(xué)格柵兀件的第一陣列、第二陣列、和第三陣列，其中格柵場平面位于光學(xué)格柵元件的第二陣列與第三陣列之間。這樣的光學(xué)積分器描述于2009年9月30日申請(qǐng)的德國專利申請(qǐng)DE102009045219 (其被轉(zhuǎn)讓給本申請(qǐng)的申請(qǐng)人)中。在其他實(shí)施例中，每個(gè)調(diào)制器單元布置于瞳平面中或緊鄰?fù)矫?，此瞳平面在光傳播方向中位于光學(xué)格柵元件的陣列之后。每個(gè)調(diào)制器單元被配置為可變地重新分布瞳平面中關(guān)聯(lián)光束的角度輻照度分布，而不阻擋任何光。這利用了以下事實(shí):瞳平面中的角度輻照度分布轉(zhuǎn)換為共同場平面中的空間輻照度分布，其中共同場平面與瞳平面成傅立葉關(guān)系O在此上下文中，每個(gè)調(diào)制器可被配置為圍繞垂直于光學(xué)軸的傾斜軸，傾斜與該調(diào)制器單元關(guān)聯(lián)的光束。這將造成共同場平面中空間輻照度分布的移動(dòng)。在掃描裝置的情況中，傾斜軸可等于Y方向，Y方向等于掃描方向。不論調(diào)制器單元的位置，每個(gè)調(diào)制器單元都可包含一光學(xué)元件，其被配置為改變?nèi)肷溆谄渖系年P(guān)聯(lián)光束的傳播方向。此外，每個(gè)調(diào)制器單元可包含制動(dòng)器，其耦接(couple)至光學(xué)元件、且被配置為響應(yīng)于從控制裝置接收的控制信號(hào)而改變光學(xué)元件的位置和/或取向。在此上下文中，光束的平行移動(dòng)也視為傳播方向的改變。光學(xué)元件可為折射光學(xué)元件，特別是透鏡、棱鏡或菲涅耳棱鏡，或衍射光學(xué)元件。一般來說，制動(dòng)器可被配置為沿相對(duì)于照明系統(tǒng)的光學(xué)軸傾斜(優(yōu)選垂直)的方向位移光學(xué)兀件。在其他實(shí)施例中，制動(dòng)器被配置為繞著旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)光學(xué)元件，該旋轉(zhuǎn)軸相對(duì)于照明系統(tǒng)的光學(xué)軸傾斜(優(yōu)選垂直)。在某些實(shí)施例中，調(diào)制器被配置為使得角度輻照度分布在照明場上不連續(xù)地變化。如果需要照明的掩模包含不同的圖案區(qū)域，且各個(gè)圖案區(qū)域需要均勻但不同的角度輻照度分布，則這將特別有用。在其他實(shí)施例中，調(diào)制器被配置為使得角度輻照度分布在照明場的至少一部分上連續(xù)變化。舉例來說，如果圖案特征的密度、尺寸、和/或取向在較大的圖案區(qū)域內(nèi)不均勻，但在照明場的至少一部分上也以大致連續(xù)的方式變化，則這可能是有利的。在后一情況下，第一部分可為第一角度輻照度分布均勻的第一線。第二部分可為第二角度輻照度分布均勻的第二線。接著，調(diào)制器被配置為使得在布置于第一線與第二線之間的區(qū)域內(nèi)，第一角度輻照度分布連續(xù)地轉(zhuǎn)換為第二角度輻照度分布。為了產(chǎn)生連續(xù)變化的輻照度分布，可使用調(diào)制器單元，其被配置為改變格柵場平面中被與該調(diào)制器單元關(guān)聯(lián)的光束照明的區(qū)域內(nèi)的輻照度分布，而不將其移動(dòng)。換言之，格柵場平面中的被照明的區(qū)域的尺寸、幾何形狀、以及位置不會(huì)被調(diào)制器單元改變，但此區(qū)域內(nèi)的輻照度分布確實(shí)響應(yīng)于從控制裝置接收的控制信號(hào)而改變。在連續(xù)變化的角度輻照度分布的情況中，每個(gè)調(diào)制器單元可被構(gòu)造為將輻照度分布從均勻輻照度分布轉(zhuǎn)換為修改的輻照度分布，其沿參考方向線性地增大或減小。在掃描裝置的情況中，此方向可等于X方向，X方向垂直于掃描方向Y。本發(fā)明的主題還是操作微光刻投射曝光裝置的方法，其包含以下步驟:(a)提供包含照明系統(tǒng)及投射物鏡的微光刻投射曝光裝置；(b)提供將由照明系統(tǒng)照 明的掩模；(c)定義期望的第一角度輻照度分布以及期望的第二角度輻照度分布，第二角度輻照度分布不同于第一角度輻照度分布；以及(d)照明掩模，使得在掩模的第一部分獲得第一角度輻照度分布以及在掩模的不同于第一部分的第二部分獲得第二角度輻照度分布。第一及第二角度輻照度分布可以與選自以下組的照明設(shè)定關(guān)聯(lián):傳統(tǒng)照明設(shè)定、角度照明設(shè)定、雙極照明設(shè)定、η彡4的η極照明設(shè)定。第一部分可為第一角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域。第二部分亦可為第二角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域。掩模包含的特征圖案可以在第一部分與第二部分處不同。替代地，第一部分可為第一角度輻照度分布均勻的第一線，第二部分為第二角度輻照度分布均勻的第二線。接著，在布置于第一線與第二線之間的區(qū)域內(nèi)，第一角度輻照度分布連續(xù)地轉(zhuǎn)換為第二角度輻照度分布。該方法可包含以獲得第一及第二角度輻照度分布的方式來控制照明系統(tǒng)中包含的調(diào)制器的步驟。該方法亦可包含以下步驟:重新分布與照明系統(tǒng)中包含的光學(xué)格柵元件關(guān)聯(lián)的光束的空間和/或角度輻照度分布，而不阻擋任何光。可在通過投射物鏡將掩模投射至光敏表面的同時(shí)改變角度輻照度分布。本發(fā)明也可一般地適用于光學(xué)格柵元件為反射鏡的EUV照明系統(tǒng)。定義:“場平面” 一詞在此用于表示與掩模平面光學(xué)共軛的平面?！巴矫妗?一詞在此用于表示穿過掩模平面中的不同點(diǎn)的邊緣光線相交的平面?！熬鶆颉?一詞在此用于表示不依賴于位置的特性。
“光(light) ”一詞在此用于表示任何電磁輻射，特別是可見光、UV、DUV、VUV、EUV光以及X射線?！肮饩€(light ray)” 一詞在此用于表示其傳播路徑可由線來描述的光?！肮鈪?light bundle)”一詞在此用于表示在場平面中具有共同源點(diǎn)的多個(gè)光線?！肮馐?light beam)” 一詞在此用于表不通過特定透鏡或其他光學(xué)兀件的光?！叭∠颉币辉~在此用于表示三維空間中的對(duì)象的角定向(angular alignment)。取向通常由三個(gè)角度的集合所表示?！拔恢谩币辉~在此用于表示三維空間中的對(duì)象的參考點(diǎn)的地點(diǎn)。位置通常由三個(gè)笛卡爾坐標(biāo)的集合表示。因此，取向和位置完整地描述三維空間中的對(duì)象的放置?！肮鈱W(xué)格柵兀件” 一詞在此用于表不任何光學(xué)兀件，例如透鏡、棱鏡、或衍射光學(xué)兀件，其與其他光學(xué)格柵元件一起布置，使得產(chǎn)生或維持多個(gè)相鄰的光學(xué)通道?！肮鈱W(xué)積分器” 一詞在此用于表示增加乘積NA.a的光學(xué)系統(tǒng)，其中NA為數(shù)值孔徑，而a為照明場面積?！熬酃馄?condenser)”一詞在此用于表示在兩平面(例如場平面與瞳平面)之間建立(至少近似的)傅立葉關(guān)系的光學(xué)元件或光學(xué)系統(tǒng)?！肮曹椘矫妗币辉~在此用于表示建立了成像關(guān)系的平面。有關(guān)共軛平面概念的更多信息描述在E.Delano 的論文中，其標(biāo)題為“First-order Design and the J1J Diagram(一階設(shè)計(jì)與圖表)”，發(fā)表于Applied Optics，1963年第2卷第12號(hào)第1251-1256頁?！皥鱿嘁佬浴币辉~在此用于表示物理量對(duì)場平面中的位置的任何函數(shù)相依性?！翱臻g輻照度分布”一詞在此用于表示總輻照度在光照射的實(shí)際或虛擬表面上如何變化?？臻g輻照度分布通?？捎珊瘮?shù)Is(x，y)描述，其中x，y為表面上點(diǎn)的空間坐標(biāo)。如果應(yīng)用到場平面，則空間輻照度分布必須將多個(gè)光叢所產(chǎn)生的輻照度積分。“角度輻照度分布” 一詞在此用于表示光叢的輻照度如何隨組成光叢的光線的角度而變化。角度輻照度分布通常可由函數(shù)Ia(a，β)描述，其中α，β為描述光線方向的角坐標(biāo)。如果角度輻照度分布具有場相依性，則Ia也將是場坐標(biāo)的函數(shù)，即Ia=IaU，β，X，y)。


可通過參考以下詳細(xì)說明并結(jié)合附圖而更容易理解本發(fā)明的各種特征及優(yōu)點(diǎn)，其中:圖1為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的投射曝光裝置的示意透視圖；圖2為將由圖1所示的投射曝光裝置投射的掩模的放大透視圖；圖3為照明系統(tǒng)的子午剖面圖，該照明系統(tǒng)為圖1所示的裝置的部分；圖4為圖3所示的照明系統(tǒng)中所含的反射鏡陣列的透視圖；圖5為圖3所示的照明系統(tǒng)中所含的三個(gè)光學(xué)格柵元件陣列的透視圖；圖6為可替代地包含于圖3所示的照明系統(tǒng)中的光學(xué)格柵元件陣列的俯視圖；圖7為沿圖6所示的陣列的線VI1-VII的剖面圖；圖8為圖3所示的照明系統(tǒng)中所含的光學(xué)積分器的三個(gè)相鄰光學(xué)通道的示意子午剖面圖9為描述格柵場平面中的輻照度分布的3x3通道光學(xué)積分器的俯視圖；圖10為掩模的類似圖2的透視圖，其描述為掩模上的不同圖案區(qū)域獲得的不同角度輻照度分布；圖11為類似圖8的示意子午剖面圖，其附加地顯示圖8所示的調(diào)制器單元內(nèi)的光學(xué)組件；圖12顯示可用于圖8所示的實(shí)施例中的調(diào)制器單元的替代實(shí)施例；圖13為圖3所示的照明系統(tǒng)的光學(xué)積分器的示意子午剖面圖，其描述包含于其中的光學(xué)格柵元件的焦距；圖14為根據(jù)另一實(shí)施例的照明系統(tǒng)的子午剖面圖，其中調(diào)制器單元布置于照明系統(tǒng)的瞳平面中；圖15為圖14所示的光學(xué)積分器的三個(gè)相鄰光學(xué)通道的示意子午剖面圖，其表示方式類似于圖8;圖16是從圖15切出的部分，其顯示調(diào)制器單元內(nèi)的光學(xué)元件；圖17為穿過菲涅爾棱鏡的XZ平面的剖面圖，該菲涅爾棱鏡可替代地用作圖16所示的調(diào)制器單元中的光學(xué)元件；圖18為包含兩個(gè)楔形物的調(diào)制器單元中所含的光學(xué)元件的又一實(shí)施例的透視圖；圖19為沿照明場的X方向不連續(xù)地變化的角度輻照度分布的示意圖；圖20為在產(chǎn)生圖19所示的角度輻照度分布的格柵場平面中的輻照度分布的說明圖；圖21為沿照明場的X方向連續(xù)地變化的角度輻照度分布的示意說明圖；圖22是為了產(chǎn)生圖21所示的變化的角度輻照度分布而由共同場平面中的光學(xué)通道產(chǎn)生的空間輻照度分布的說明圖；圖23為照明系統(tǒng)的三個(gè)相鄰光學(xué)通道的示意子午剖面圖，該照明系統(tǒng)在掩模平面中產(chǎn)生連續(xù)變化的角度輻照度分布；圖24是從圖23切出的部分，其示意地描述禮帽(top-hat)輻照度分布如何被調(diào)制器單元轉(zhuǎn)換為不同的線性減小或增大的輻照度分布；圖25為一圖表，其指示圖23及圖24所示的調(diào)制器單元內(nèi)所含的光學(xué)件的兩歌光學(xué)表面；圖26為一圖表，其顯示XZ平面中的光學(xué)件的形狀；圖27為包含兩個(gè)圖26所示的光學(xué)件的光學(xué)元件的透視圖；圖28至圖30為布置于不同X位置的圖27所示的光學(xué)元件的沿Z方向的正視圖。
具體實(shí)施例方式1.投射曝光裝置的總體結(jié)構(gòu)圖1為根據(jù)本發(fā)明的投射曝光裝置10的透視且高度簡化的視圖。裝置10包含產(chǎn)生投射光束的照明系統(tǒng)12。投射光束照明掩模16上的場14，掩模16包含由圖1中細(xì)線條所示意表示的多個(gè)小特征19所形成的圖案18。在此實(shí)施例中，照明場14具有不包含裝置的光學(xué)軸OA的環(huán)段(ring segment)形狀。然而，也可考慮其他形狀的照明場14，例如矩形。投射物鏡20將照明場14內(nèi)的圖案18成像到由基板24所支撐的光感層22 (例如光刻膠)上?？捎晒杈纬傻幕?4布置在晶片臺(tái)(圖未示出)上，使得光感層22的頂表面準(zhǔn)確地位于投射物鏡20的像平面中。通過掩模臺(tái)(圖未示出)將掩模16定位于投射物鏡20的物平面中。由于投射物鏡20的放大倍率β為I β |〈1，所以照明場14內(nèi)的圖案18的縮小像18’被投射至光感層22上。在投射過程中，掩模16及基板24沿對(duì)應(yīng)于圖1所指示的Y方向的掃描方向移動(dòng)。照明場14接著掃描整個(gè)掩模16，使得可連續(xù)地成像大于照明場14的圖案化區(qū)域?；?4和掩模16的速度比等于投射物鏡20的放大倍率β。若投射物鏡20反轉(zhuǎn)像(β〈O)，則掩模16與基板24以相反方向移動(dòng)，如圖1中箭頭Al和Α2所示。然而，本發(fā)明也可用于步進(jìn)曝光機(jī)(st印per)工具，其中掩模16與基板24在掩模的投射過程中不移動(dòng)。I1.多重照明設(shè)定圖2為掩模16的放大透視圖。此掩模上的圖案18包含三個(gè)相同的第一圖案區(qū)域181a、181b、181c，其沿Y方向前后布置。為了簡化起見，假設(shè)第一圖案區(qū)域181a、181b、181c的特征19是沿Y方向延伸的直線。圖案18還包含三個(gè)相同的第二圖案區(qū)域182a、182b、182c，其也沿Y方向前后布置，但與第一圖案區(qū)域181a、181b、181c在橫向上位移，使得第一圖案區(qū)域181a、181b、181c與第二圖案區(qū)域182a、182b、182c沒有共同的X坐標(biāo)。假設(shè)第二圖案區(qū)域182a、182b、182c包括沿X方向延伸的特征19以及沿Y方向延伸的特征19。圖2所示的掩模16假設(shè)用于如下的制造步驟中:兩個(gè)不同的裸芯(die)同時(shí)曝光，并且將經(jīng)歷相同的后續(xù)制造步驟，例如刻蝕。裸芯是足夠小，以至于他們可以在投射物鏡20的X方向的寬度為W的像場內(nèi)彼此相鄰定位，如圖1所示。在一個(gè)完整的掃描周期內(nèi)，可以曝光與第一圖案區(qū)域181a、181b、181c關(guān)聯(lián)的三個(gè)第一類型裸芯以及與第二圖案區(qū)域182a、182b、182c關(guān)聯(lián)的三個(gè)第二類型裸芯。接著，將掃描方向反向或是在無任何照明的情況下將掩模16返回到其原始位置，并執(zhí)行下一掃描周期。在此方法中，可在基板24上同時(shí)曝光兩行不同的裸芯。—般而言，若需要最佳的成像質(zhì)量，則不同的圖案在掩模級(jí)需要不同的角度輻照度分布。在此實(shí)施例中，假設(shè)沿Y方向延伸的特征19以X雙極照明設(shè)定最佳地成像于光感層22上。在圖2中，虛線圓圈表示與光叢關(guān)聯(lián)的瞳26，該光叢朝著位于第一圖案區(qū)域之一中的一場點(diǎn)聚合。在瞳26中，沿X方向彼此隔開的兩個(gè)極(pole) 27代表光朝著場點(diǎn)傳播的方向。由于假設(shè)圖案在第一圖案區(qū)域181a、181b、181c上均勻，因此需要在第一圖案區(qū)域181 a、181 b、181 c中的每個(gè)場點(diǎn)處產(chǎn)生此X雙極照明設(shè)定。與第二類型的裸芯關(guān)聯(lián)的第二圖案區(qū)域182a、182b、182c包括沿X方向延伸的特征以及沿Y方向延伸的特征19。針對(duì)這些特征19，假設(shè)環(huán)狀照明設(shè)定產(chǎn)生最佳成像質(zhì)量。圖2繪示出瞳26中被照明的環(huán)面28，其與朝著第二圖案區(qū)域182a、182b、182c之一的場點(diǎn)聚合的光叢關(guān)聯(lián)。同樣地，需要在第二圖案區(qū)域182a、182b、182c中的每各場點(diǎn)處產(chǎn)生此環(huán)狀照明設(shè)定。這隱含著照明系統(tǒng)12必須能夠在照明場14內(nèi)同時(shí)且并排地產(chǎn)生兩個(gè)不同的照明設(shè)定。在下文中，將參考圖3至圖13對(duì)能夠執(zhí)行此任務(wù)的照明系統(tǒng)12的結(jié)構(gòu)做更詳細(xì)的描述。
II1.照明系統(tǒng)的總體結(jié)構(gòu)圖3為圖1所顯示的照明系統(tǒng)12的子午剖面圖。為了清楚表示，圖3的說明圖被大大簡化且未依比例繪示。這特別隱含著不同的光學(xué)單元僅由一個(gè)或非常少的光學(xué)元件來表示。實(shí)際上，這些單元可包含多得多的透鏡及其他光學(xué)元件。照明系統(tǒng)12包括殼體29及光源30，在所示的實(shí)施例中，光源30被實(shí)現(xiàn)為準(zhǔn)分子激光器。光源30發(fā)射波長為約193nm的投射光。也可考慮其他類型的光源30及其他波長，例如 248nm 或 157nm。在所示的實(shí)施例中，由光源30所發(fā)射的投射光進(jìn)入擴(kuò)展光束的光束擴(kuò)展單元32。舉例來說，光束擴(kuò)展單元32可包含數(shù)個(gè)透鏡或可實(shí)現(xiàn)為反射鏡布置。從光束擴(kuò)展單元32出來的投射光為幾乎準(zhǔn)直的投射光束34。接著，投射光束34進(jìn)入瞳定義單元36，其用于在后續(xù)瞳平面中產(chǎn)生可變的空間輻照度分布。為此目的，瞳定義單元36包含微反射鏡40的陣列38，微反射鏡40可在制動(dòng)器的幫助下圍繞兩個(gè)正交軸單獨(dú)地傾斜。圖4為陣列38的透視圖，其示出兩個(gè)平行光束42、44如何根據(jù)光束42、44所入射的反射鏡40的傾斜角度而被反射至不同方向。在圖3及圖4中，陣列38僅包含6x6個(gè)反射鏡40 ;實(shí)際上，陣列38可包含數(shù)百、甚至數(shù)千個(gè)反射鏡40。瞳定義單元36還包含棱鏡46，其具有第一平面表面48a和第二平面表面48b，它們都相對(duì)于照明系統(tǒng)12的光學(xué)軸OA傾斜。在這些傾斜的表面48a、48b處，以全內(nèi)反射方式反射射入的光。第一表面48a將射入的光朝反射鏡陣列38的反射鏡40反射，而第二表面48b將從反射鏡40所反射的光導(dǎo)向棱鏡46的出射表面49。因此，可通過單獨(dú)地傾斜陣列38的反射鏡40而改變從出射表面49出來的光的角度輻照度分布。有關(guān)瞳定義單元36的更多細(xì)節(jié)可參考US2009/0116093A1。在第一聚光器50的幫助下，由瞳定義單元36所產(chǎn)生的角度輻照度分布被轉(zhuǎn)換為空間輻照度分布，其中第一聚光器50將射入的光導(dǎo)向光學(xué)積分器52。在此實(shí)施例中，光學(xué)積分器52包含光學(xué)格柵兀件56的第一陣列54a、第二陣列54b、及第三陣列54c。圖5為三個(gè)陣列54a、54b、54c的透視圖。每個(gè)陣列在支撐板的前側(cè)和后側(cè)上包含光學(xué)格柵兀件56的子陣列,光學(xué)格柵兀件56由沿X或Y方向延伸的平行圓柱透鏡形成。在光學(xué)格柵元件56的折射力沿X和Y方向必須不同的情況下，使用圓柱透鏡通常特別有利。圖6及圖7分別顯示根據(jù)替代實(shí)施例的陣列54a的俯視圖及沿線VI1-VII的剖面圖。此處的光學(xué)格柵元件56是由具有正方形輪廓的平凸(plano-convex)透鏡所形成。其他陣列54b、54c與陣列54a僅在光學(xué)格柵兀件56的凸表面的曲率方面不同。再次參考圖3,第一、第二及第三陣列54a、54b、及54c的光學(xué)格柵兀件56分別彼此前后布置，使得每個(gè)陣列的一個(gè)光學(xué)格柵兀件56正好與其他兩個(gè)陣列的一個(gè)光學(xué)格柵元件56關(guān)聯(lián)。彼此相關(guān)聯(lián)的三個(gè)光學(xué)格柵元件沿共同軸對(duì)準(zhǔn)，且定義光學(xué)通道。在光學(xué)積分器52內(nèi)，在一個(gè)光學(xué)通道中傳播的光束不與在其他光學(xué)通道中傳播的光束交叉或重疊。換言之，與光學(xué)格柵元件56關(guān)聯(lián)的光學(xué)通道彼此光學(xué)地隔離。在第二陣列54b與第三陣列54c之間設(shè)置格柵場平面58，其中布置調(diào)制器62的調(diào)制器單元60。調(diào)制器單元60經(jīng)由控制線64而連接至控制裝置66，控制裝置66接著連接至控制投射曝光裝置10的整體操作的中央裝置控制68。在此實(shí)施例中，照明系統(tǒng)12的瞳平面70設(shè)置于第三陣列54c之后(也可布置于其之前)。第二聚光器72在瞳平面70與場光闌(field stop)平面71之間建立傅立葉關(guān)系，在場光闌平面71中布置了可調(diào)節(jié)場光闌74。場光闌平面71與布置了調(diào)制器單元60的格柵場平面58光學(xué)共軛。這表示通過第三陣列54c的關(guān)聯(lián)光學(xué)格柵元件56及第二聚光器72將光學(xué)通道內(nèi)的格柵場平面58中的區(qū)域成像到場光闌平面71上。光學(xué)通道內(nèi)的照明區(qū)域的像疊加在場光闌平面71中，且這產(chǎn)生場光闌平面71的非常均勻的照明。此過程通常通過以共同照明場光闌平面71的二次光源識(shí)別光學(xué)通道中的照明區(qū)域來描述。通過場光闌物鏡76將場光闌平面71成像到掩模平面78上，其中在掩模臺(tái)(圖未示)的幫助下將掩模16布置在掩模平面78上?？烧{(diào)節(jié)場光闌74也被成像在掩模平面78上，且至少定義照明場14中沿掃描方向Y延伸的短側(cè)邊。IV.調(diào)制器下文中將參考圖8而解釋調(diào)制器62的功能，其中圖8為形成于光學(xué)積分器52中的三個(gè)相鄰光學(xué)通道1、11及III的示意子午剖面圖。入射在光學(xué)積分器52上的投射光具有低發(fā)散性。為簡化起見，在此討論中將忽略此發(fā)散性，從而假設(shè)入射在光學(xué)格柵元件56的第一陣列54a上的光為準(zhǔn)直的。進(jìn)一步假設(shè)光學(xué)積分器52的三個(gè)光學(xué)格柵元件56被均勻地照明，如圖8的箭頭A3所示。為簡化起見，形成于正交圓柱透鏡相交處的光學(xué)格柵元件56被表不為雙凸透鏡。開始兩個(gè)陣列54a、54b的光學(xué)格柵元件56具有以下效應(yīng):將與單獨(dú)光學(xué)通道1、
I1、及III關(guān)聯(lián)的光束的寬度在X方向上減小。也可以沿Y方向發(fā)生減小，但可以具有不同的縮減因子。在調(diào)制器單元60上照明的區(qū)域具有矩形形狀，且至少沿X方向由間隙分隔，其中該間隙在圖8中由相鄰箭頭對(duì)A4之間的空白區(qū)表示。調(diào)制器單元60具有以下效應(yīng):將格柵場平面58中的這些照明區(qū)域沿X方向橫向移動(dòng)。此橫向移動(dòng)在圖8中由光學(xué)通道II和III的箭頭對(duì)A5所表示。在上面的光學(xué)通道I中，調(diào)制器單元60在中性狀態(tài)，使得輻照度分布未被移動(dòng)。第三陣列54c的光學(xué)格柵元件56及第二聚光器72將格柵場平面58中的輻照度分布成像于場光闌平面71上，如前文中已提及。場光闌平面71中僅由上面的光學(xué)通道I所產(chǎn)生的輻照度分布在圖8中由實(shí)線繪示的矩形標(biāo)示。此輻照度分布在場光闌平面71的中心，這是因?yàn)檎{(diào)制器單元60未在其進(jìn)入側(cè)移動(dòng)輻照度分布。然而，場光闌平面71中由中間及下面的光學(xué)通道II及III所產(chǎn)生的輻照度分布(其在圖8中分別由虛線及點(diǎn)線顯示)現(xiàn)在分別被沿X方向橫向移動(dòng)。這僅是每個(gè)光學(xué)通道中格柵場平面58與場光闌平面71之間的光學(xué)共軛的結(jié)果。場光闌平面71中由光學(xué)通道1、11及III中的每個(gè)產(chǎn)生的角度輻照度分布取決于光學(xué)通道在瞳平面70中的位置。第二聚光器72的光學(xué)軸與光學(xué)通道的位置之間的距離越大，由光學(xué)通道所產(chǎn)生的照明角度將越大。因此，三個(gè)光學(xué)通道1、11、及III能夠產(chǎn)生具有不同角度輻照度分布的不同照明場。這將于下文中參考圖9及圖10做更詳細(xì)的解釋。圖9為光學(xué)積分器52的格柵場平面58的俯視圖，其中只提供了 3x3個(gè)光學(xué)通道。圖9中的暗區(qū)域表示格柵場平面58中投射光所照明的區(qū)域。由圖9中可看出，在關(guān)聯(lián)于各個(gè)光學(xué)通道的調(diào)制器單元60的操作下，五個(gè)區(qū)域80沿-X移動(dòng)，兩個(gè)區(qū)域81沿+X方向移動(dòng)。兩個(gè)區(qū)域82沒有被照明，即，瞳定義單元36沒有將任何光導(dǎo)向與這些區(qū)域82關(guān)聯(lián)的光學(xué)格柵元件56。如同以上所解釋，圖9中所示的區(qū)域80的橫向移動(dòng)具有以下效果:場光闌平面71中的照明區(qū)域以及掩模平面78也被移動(dòng)。通過適當(dāng)?shù)剡x擇區(qū)域80的尺寸，可實(shí)現(xiàn)掩模16上的場14的左半部或右半部由各自光學(xué)通道照明。圖10為掩模16上的透視圖，并描述此簡化示例的照明條件?？煽闯鲈谡彰鲌?4的一半上，可獲得類似C-quad照明設(shè)定(其包含五個(gè)極，即四個(gè)外側(cè)極83a和一個(gè)中心極83b)的角度輻照度分布。這五個(gè)極對(duì)應(yīng)于圖9所示的五個(gè)照明區(qū)域80。在場14的另一半上，可獲得類似包含兩個(gè)極84的Y雙極照明設(shè)定的角度輻照度分布。這兩個(gè)極84對(duì)應(yīng)于圖9所示的兩個(gè)照明區(qū)域81。從前述中應(yīng)可清楚了解到，若光學(xué)通道的數(shù)量足夠多，并且瞳定義單元36也能夠在光學(xué)積分器52上產(chǎn)生所需的輻照度分布，則幾乎可以在照明場14的兩個(gè)半邊上產(chǎn)生任何任意的照明設(shè)定。在下文中，將參考圖11及圖12描述調(diào)制器單元60的兩個(gè)不同實(shí)施例。在圖11所示的實(shí)施例中，調(diào)制器62的每一調(diào)制器單元60包含兩個(gè)圓柱透鏡86、88，其可單獨(dú)地沿X方向位移，如圖11中的雙箭頭所示。通過使圓柱透鏡86、88從各自光學(xué)通道的光學(xué)軸偏心(decenter)，與光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的光束被橫向位移。這利用了以下事實(shí):偏軸的透鏡(decentered lens)的效果與居中的透鏡(centered lens)加上三角棱鏡的效果相同。為了位移圓柱透鏡86、88，標(biāo)示為90、92的制動(dòng)器耦接至圓柱透鏡86、88。制動(dòng)器90,92響應(yīng)于從控制裝置66接收的控制信號(hào)改變透鏡86、88的位置。圖12顯示調(diào)制器62的另一實(shí)施例的子午剖面圖。在此實(shí)施例中，每個(gè)調(diào)制器單元60包含具有平行六面體形狀的棱鏡94。每個(gè)棱鏡94具有兩對(duì)平面矩形表面和一對(duì)具有平行四邊形輪廓的平面表面。在標(biāo)示為96的制動(dòng)器的幫助下，棱鏡94可繞旋轉(zhuǎn)軸98旋轉(zhuǎn)。在所示的用于上面的光學(xué)通道I的旋轉(zhuǎn)位置中，棱鏡94處于中性狀態(tài)，其中光束以垂直入射通過兩個(gè)平面表面。在所示的用于中間及下面的光學(xué)通道II及III的旋轉(zhuǎn)位置中，光束通過兩個(gè)傾斜的平面表面，使得光束被橫向地移動(dòng)。圖13為光學(xué)積分器52的一個(gè)光學(xué)通道的示意子午剖面圖。在此說明圖中，中心光叢100及邊緣光叢102的光線軌跡分別以實(shí)線及虛線表示。三個(gè)陣列54a、54b及54c的光學(xué)格柵元件56的焦距被標(biāo)示為fa、fb、及f。。格柵場平面58中的陰影區(qū)域104表示沒有投射光通過的空間，其因此可用來容納諸如制動(dòng)器、支撐結(jié)構(gòu)、或調(diào)制器單元60的軸等組件。在具有直徑d的第一陣列54a的光學(xué)格柵元件56上的輻照度分布被以d’ /d的縮小比例成像于格柵場平面58上，其在格柵場平面58中的直徑為d’。由相鄰焦平面間的間隙可看出，光學(xué)格柵元件56以稍微失焦(defocused)的方式定位。舉例來說，這使得能夠調(diào)節(jié)來校正遠(yuǎn)心誤差(telecentricity errors)。有關(guān)光學(xué)積分器52的更多細(xì)節(jié)可參考上述于2009年9月30日申請(qǐng)的德國專利申請(qǐng)DE102009045219，其被轉(zhuǎn)讓給本申請(qǐng)的申請(qǐng)人。V.替代實(shí)施例圖14為根據(jù)另一實(shí)施例的照明系統(tǒng)112的類似于圖3的示意子午剖面圖。在此實(shí)施例中，光學(xué)積分器152僅包含光學(xué)格柵兀件156的兩個(gè)陣列154a、154b。然而,與圖3所示的照明系統(tǒng)12的主要差別為，包含調(diào)制器單元160的調(diào)制器162未布置于格柵場平面58中，而是布置于瞳平面70中，瞳平面70緊接在光學(xué)格柵元件156的最后陣列之后，介于第二陣列154b與第二聚光器72之間。此外，調(diào)制器單元160被配置為在不阻擋任何光的情況下可變地重新分布瞳平面70中的關(guān)聯(lián)光束的角度輻照度分布而不是非空間輻照度分布。以下將參考圖15進(jìn)行更詳細(xì)的解釋，其中圖15類似圖8的表示方式，顯示了光學(xué)積分器152的三個(gè)相鄰光學(xué)通道1、II及III。調(diào)制器單元160布置在第二陣列154b之后的位置處，在該位置中，與光學(xué)積分器152的光學(xué)通道1、11及III關(guān)聯(lián)的光束還未重疊。因此，入射在調(diào)制器單元160的每個(gè)上的光僅與光學(xué)通道1、I1、及III之一關(guān)聯(lián)。如前所述，調(diào)制器單元160修改關(guān)聯(lián)光束的角度輻照度分布，其可通過比較箭頭A7與A6而清楚看出，箭頭A7與A6分別表示在調(diào)制器單元160之后及之前的關(guān)聯(lián)光束的光線。第二聚光器72將不同的角度輻照度分布轉(zhuǎn)換為場光闌平面71中的不同空間輻照度分布。在上面的光學(xué)通道I中，調(diào)制器單元160處于光束的發(fā)散性增加的操作狀態(tài)中。因此，以實(shí)線106繪示于場光闌平面71中的空間輻照度分布沿X方向具有其最大尺寸。在中間的光學(xué)通道II中，調(diào)制器單元160處于發(fā)散性不增加的操作狀態(tài)中，但與此光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的光束在-X方向上傾斜。這產(chǎn)生圖15中由虛線108表示的空間輻照度分布。此空間輻照度分布沿X方向的寬度為由上面的光學(xué)通道I所產(chǎn)生的最大寬度的一半，且輻照度水平為由上面的光學(xué)通道I所產(chǎn)生的輻照度水平的兩倍。在下面的光學(xué)通道III中，調(diào)制器單元160處于與此光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的光束朝+X方向傾斜的操作狀態(tài)。這產(chǎn)生圖15中由虛線110表示的空間輻照度分布是。因此，這里通過圍繞傾斜軸(其平行于Y軸且因而垂直于照明系統(tǒng)112的光學(xué)軸0A)傾斜與調(diào)制器單元160關(guān)聯(lián)的光束，可以再次利用特定光學(xué)通道照明場光闌平面71及掩模16的不同部分。若上面的光學(xué)通道的調(diào)制器單元160被配置為使得在中性操作狀態(tài)中不增加發(fā)散性，則調(diào)制器162將具有與圖8所示的調(diào)制器62相同的效果。圖16為三個(gè)相鄰光學(xué)通道1、II及III的光學(xué)積分器152及調(diào)制器160的示意子午剖面圖。每個(gè)調(diào)制器單元160包含三角形棱鏡113以及制動(dòng)器(圖未示出)，其中制動(dòng)器被配置為響應(yīng)于從控制裝置66接收的控制信號(hào)而沿+X或-X方向位移棱鏡113。在為與上面的光學(xué)通道I關(guān)聯(lián)的調(diào)制器單元160示出的棱鏡113的中性位置中，發(fā)散性增加，但光束整體未被傾斜。若操作制動(dòng)器且沿-X或+X方向橫向位移棱鏡113,如為與中間光學(xué)通道II及下面光學(xué)通道III關(guān)聯(lián)的兩個(gè)調(diào)制器單元160所示出的，則與這些光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的光束圍繞Y方向傾斜，如前文中參考圖15所描述的。若棱鏡113所處的位置在為上面的光學(xué)通道I示出的居中位置與為中間及下面的光學(xué)通道II及III示出的端位置之一之間，則將在場光闌平面71中獲得具有兩個(gè)非零輻照度水平的臺(tái)階式(st印ped)輻照度分布。這兩個(gè)水平之間的比例取決于棱鏡113的X位置。因此，每個(gè)光學(xué)通道可將光的任意部分導(dǎo)向場光闌平面71中的照明場的兩個(gè)半邊。在此實(shí)施例中，同樣也有利的是在光學(xué)通道1、II以及III之間具有可用的自由空間，用于容納位移棱鏡113的制動(dòng)器。這可通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)光學(xué)積分器152而實(shí)現(xiàn)。圖17為根據(jù)替代實(shí)施例的棱鏡113’在XZ平面的剖面圖。此實(shí)施例的棱鏡113’為圖16所示的三角形棱鏡113的“菲涅爾(fresnelized)”等同物。因此，菲涅爾棱鏡113’并不具有大致三角形的剖面，而具有鋸齒形的臺(tái)階輪廓，如圖17所示。菲涅爾棱鏡113’在像差方面可具有優(yōu)勢(shì)，該像差否則可能被圖16所示的三角形棱鏡113產(chǎn)生。若棱鏡113或113’不能被沿著X方向位移，例如因?yàn)闆]有可用的空間來使能棱鏡113、113’的移動(dòng)運(yùn)動(dòng)，或容納制動(dòng)器和支撐結(jié)構(gòu)或其他機(jī)械組件，則棱鏡可由沿Y方向位移的其他折射光學(xué)元件所取代，以修改與其關(guān)聯(lián)的光束的角度輻照度分布。圖18為這樣的折射光學(xué)兀件(其整體被標(biāo)不為116)的透視圖。光學(xué)兀件116包含兩個(gè)并排布置的折射楔形物118、120，其中一個(gè)楔形物118所在的位置是通過將該楔形物118從另一楔形物120的位置圍繞平行于Z方向的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)180°而獲得。若折射光學(xué)元件116被用于圖16所示的調(diào)制器單元160中使得其能沿Y方向位移，則只要適當(dāng)?shù)卮_定尺寸，楔形物118或楔形物120就可以被完全地暴露到與各自的光學(xué)通道關(guān)聯(lián)的光束。從而，達(dá)到與圖16所示的中間的光學(xué)通道II及下面的光學(xué)通道III相同的效果。若折射光學(xué)元件116位于一半光束通過楔形物118且另一半光束通過楔形物120的居中位置，則可獲得與圖16所示的上面的光學(xué)通道I基本相同的效果。V1.輻照度管理在前述中，對(duì)于必須如何在各個(gè)光學(xué)通道上分布投射光的可用量以在掩模平面上獲得想要的輻照度以及角度光分布的問題并無太多說明。在下文中，將描述若要對(duì)不同的圖案區(qū)域181a、181b、181c與182a、182b、182c實(shí)現(xiàn)圖2所示的照明設(shè)定，必須如何執(zhí)行輻照度管理。為簡化起見，將假設(shè)光學(xué)積分器中可用的光學(xué)通道數(shù)量為6x6。圖19示意地顯示在此情況中與單獨(dú)場點(diǎn)關(guān)聯(lián)的瞳26中的輻照度分布(以下稱作瞳輻照度分布)必須如何在照明場14上沿X方向變化。在照明場14的左半邊，照明設(shè)定122應(yīng)為環(huán)形，而在照明場14的右半邊，必須設(shè)置X雙極照明設(shè)定124。由于可用光學(xué)通道的限制數(shù)目，在圖19的表示中，僅初略地近似了這兩個(gè)不同的照明設(shè)定。進(jìn)一步假設(shè)，在環(huán)形照明設(shè)定122的情況下，瞳中照明的總面積是X雙極設(shè)定情況下的兩倍。由于掩模16上的點(diǎn)應(yīng)接收相同量的光，而不論是它們位于照明場14的左半邊還是右半邊，因此與X雙極照明設(shè)定相比，在環(huán)形照明設(shè)定下，照明瞳區(qū)域中的輻照度需為一半。這在圖19中由區(qū)域126、127繪示，區(qū)域126、127與光學(xué)積分器152的不同光學(xué)通道關(guān)聯(lián)且具有不同的涂黑程度(blackening)。這些瞳輻照度分布(其對(duì)于照明場14的左半邊和右半邊中的場點(diǎn)不同)必須由光學(xué)積分器152及調(diào)制器162產(chǎn)生。圖20描述照明系統(tǒng)112的瞳平面70中為此目的而需要的輻照度分布?？煽闯鲇兴膫€(gè)不同的輻照度水平，即零水平128 (白色)、三分之一輻照度水平130 (淺灰)、三分之二輻照度水平132 (深灰)、及完全輻照度水平134 (黑)。最高輻照度水平134對(duì)于必須將光導(dǎo)向照明場14的兩個(gè)半邊的那些光學(xué)通道而言是必須的。更具體的，這些光學(xué)通道必須將三分之一的可用光導(dǎo)向照明場14的左半邊(其中需要產(chǎn)生環(huán)形照明設(shè)定)，且必須將剩下的三分之二的可用光導(dǎo)向照明場的右半邊(其中需要產(chǎn)生X雙極照明設(shè)定)?？梢岳美缋忡R113或113’獲得場光闌平面71或掩模平面78中的這種臺(tái)階式輻照度分布，其中棱鏡113或113’位于圖15及16中為上面的光學(xué)通道I顯示的居中位置與為中間的光學(xué)通道II及下面的光學(xué)通道III顯示的端位置之間的位置中。
對(duì)于僅將它們的光導(dǎo)向照明場14的右半邊的那些光學(xué)通道而言需要三分之二輻照度水平132，以獲得X雙極照明設(shè)定124。如前所述，這種情況下的輻照度是僅將它們的光導(dǎo)向照明場14的左半邊的區(qū)域(此處需要獲得環(huán)形照明設(shè)定122)的情況的兩倍。在這些區(qū)域中，需要三分之一輻照度水平130。瞳平面70中完全不將光導(dǎo)向照明場14的那些區(qū)域處需要零輻照度水平128。在瞳定義單元36的反射鏡陣列38的幫助下，可容易獲得四個(gè)不同的輻照度水平128、130、134、132。若為簡化起見假設(shè)陣列38 (只)包含各自產(chǎn)生相同輻照度的36個(gè)反射鏡，則三個(gè)反射鏡40可將投射光導(dǎo)向需要完全輻照度水平134的每個(gè)光學(xué)通道，兩個(gè)反射鏡40可將投射光導(dǎo)向需要三分之二輻照度水平132的每個(gè)光學(xué)通道，以及一個(gè)反射鏡40可將投射光導(dǎo)向需要三分之一輻照度水平130的每個(gè)光學(xué)通道。全部36個(gè)反射鏡中剩下四個(gè)反射鏡完全不將任何光導(dǎo)向光學(xué)積分器52。然而，通常來說，反射鏡不會(huì)產(chǎn)生如前文中所假設(shè)的相同的輻照度，而是產(chǎn)生相當(dāng)不同(盡管為已知)的輻照度。從而，可控制產(chǎn)生最高輻照度的反射鏡40，使得它們將投射光導(dǎo)向需要完全輻照度水平134的那些區(qū)域?？刂飘a(chǎn)生約為完全水平134的三分之二的反射鏡40，使得它們將投射光導(dǎo)向需要三分之二輻照度水平132的區(qū)域，以此類推。VI1.角度輻照度分布的連續(xù)變化在前文中，已假設(shè)掩模16上有兩個(gè)部分，它們沿X方向并排設(shè)置，且需要以不同的角度輻照度分布照明。然而，亦可考慮由以下方式照明掩模16:角度輻照度分布連續(xù)地變化，特別是沿垂直于掃描方向Y的方向。圖21在類似圖19的表示方式中描述瞳輻照度分布可以如何在照明場14內(nèi)沿X方向變化。在照明場14的左端，產(chǎn)生環(huán)形照明設(shè)定122。在照明場14的右端，產(chǎn)生X雙極照明設(shè)定124。瞳中在所述相對(duì)端之間的不同灰度陰影表示角度輻照度分布在照明場14的兩個(gè)端之間如何連續(xù)地變化。因此，沿Y方向延伸的每條線形成角度輻照度分布均勻的部分，但此分布在照明場14的與環(huán)形照明設(shè)定122和X雙極照明設(shè)定124關(guān)聯(lián)的相對(duì)端處的兩個(gè)特定分布之間連續(xù)地變化。針對(duì)此情形，圖22描述場光闌平面71中必須由總共6x6個(gè)光學(xué)通道中的每個(gè)產(chǎn)生的輻照度分布。通過比較圖21及22可看出，某些光學(xué)通道136必須產(chǎn)生從照明場左端的半最大值線性地減小至照明場14右端的零值的輻照度分布。其他光學(xué)通道138必須在場光闌平面71中產(chǎn)生從零值線性增大到最大輻照度水平的輻照度分布。還有其他光學(xué)通道140必須在場光闌平面71中產(chǎn)生從照明場14左端的半最大值線性地增大至照明場14右端的最大值的福照度分布?？捎扇〈鷪D3所示實(shí)施例中的調(diào)制器60的調(diào)制器262產(chǎn)生這種輻照度分布。將參考圖23來說明調(diào)制器262的功能，圖23為光學(xué)積分器52的三個(gè)相鄰光學(xué)通道1、II和III以及與光學(xué)通道1、II和III關(guān)聯(lián)的調(diào)制器單元260的子午剖面圖。除了圖8所示的調(diào)制器單元60，圖23所示的調(diào)制器單元260被配置為改變由與調(diào)制器單元260關(guān)聯(lián)的光束所照明的格柵場平面58內(nèi)的輻照度分布，而不移動(dòng)輻照度分布。換言之，在照明區(qū)域內(nèi)重新分布光，但這種區(qū)域的位置不改變。在圖23中，這由具有不同厚度的箭頭AS來表示，箭頭AS指示此X坐標(biāo)處的輻照度。
圖24示意地描述圖23所示的三個(gè)光學(xué)通道1、II及III的空間輻照度分布的重新分布。同樣地，假設(shè)調(diào)制器單元260入口側(cè)的輻照度分布是均勻的(即，禮帽(top hat)分布)，其由圖24中的矩形142所表示。調(diào)制器單元260將此矩形輻照度分布142轉(zhuǎn)換為圖24的右側(cè)所示的線性減小或增大的分布144a、144b及144c。再次參考圖23，由調(diào)制器單元260所執(zhí)行的空間光分布的此重新分布在場光闌平面71中產(chǎn)生期望的輻照度分布136、138、140，因?yàn)楦駯艌銎矫?8通過第三陣列54c的光學(xué)格柵元件56及第二聚光器72而與場光闌平面71光學(xué)共軛。如圖23示意地顯示，可在調(diào)制器單元260所含的折射光學(xué)元件的幫助下產(chǎn)生均勻空間輻照度分布142向各種線性增大或減小的空間輻照度分布的重新分布。在下文中，將示例性地描述必須如何塑形折射光學(xué)元件，以使均勻輻照度分布142被轉(zhuǎn)換為從零線性增加至最大值的福照度分布144b。圖25顯示具有前表面148及后表面149的折射光學(xué)件146，作為起點(diǎn)。前表面的形狀假設(shè)由方程…“)給定，而后表面149的形狀假設(shè)由方程w2(x’)給定。還假設(shè)在位置X處進(jìn)入前表面148的光線在前表面148處折射，且在位置X’處離開后表面149。小體積元素中的總光能量守恒，即:I (X) dx=I’(X，)dx’(I)假設(shè)前表面148處的輻照度分布142均勻，則后表面149的輻照度分布I’(X’)為:
權(quán)利要求
1.一種微光刻投射曝光裝置(10)的照明系統(tǒng)，包含: (a)光學(xué)積分器(52; 152),包含光學(xué)光柵兀件(56 ；156)的陣列(54c ; 154b),其中一光束與每個(gè)光學(xué)格柵元件關(guān)聯(lián)； (b)聚光器(72)，其將與所述光學(xué)格柵元件關(guān)聯(lián)的所述光束疊加于共同場平面(71)中，所述共同場平面(71)與掩模平面(78)相同或光學(xué)共軛，在所述照明系統(tǒng)(12)的操作過程中將要照明的掩模(16)設(shè)置在所述掩模平面(78)中； (c)調(diào)制器(62；162 ;262)， -被配置為修改照明場(14)中的角度輻照度分布的場相依性，所述照明場(14)由所述照明系統(tǒng)(12)在所述掩模平面(78)中照明，且 -包含多個(gè)調(diào)制器單元(60 ；160 ;260)，其中每個(gè)調(diào)制器單元: 一與所述光束之一關(guān)聯(lián)； 一布置于所述聚光器(72)前的位置中，使得只有所關(guān)聯(lián)的光束入射到所述調(diào)制器單元(60)上；以及 -被配置為可變地重新分布所關(guān)聯(lián)的光束的空間和/或角度輻照度分布，而不阻擋任何光； (d)控制裝置(66)，其被配置為控制所述調(diào)制器單元￠0；160 ;260)，使得若所述控制裝置接收到需要修改所述掩模平面(78)中的所述角度輻照度分布的場相依性的輸入指令，則至少一個(gè)調(diào)制器單元重新分布所關(guān)聯(lián)的光束的所述空間和/或角度輻照度分布。
2.按權(quán)利要求1所述的照明系統(tǒng)，其中所述調(diào)制器被配置為使得在所述照明場(14)的第一部分(181a、181b、181c)產(chǎn)生第一角度輻照度分布，以及在所述照明場(14)的第二部分(182a、182b、182c)產(chǎn)生不同于所述第一角度輻照度分布的第二角度輻照度分布。
3.按權(quán)利要求2所述的照明系統(tǒng)，其中所述第一部分是所述第一角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域(181a、181b、181c)，且其中所述第二部分是所述第二角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域(182a、182b、182c)。
4.按權(quán)利要求2或3所述的照明系統(tǒng)，其中所述照明場(14)具有沿X方向的長尺寸以及沿Y方向的短尺寸，所述Y方向垂直于所述X方向，且其中所述第一部分(181a、181b、181c)與所述第二部分(182a、182b、182c)具有至少一個(gè)Y坐標(biāo)相同，但無X坐標(biāo)相同。
5.按權(quán)利要求2至4中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中所述第一角度輻照度分布和所述第二角度輻照度分布與選自以下組的照明設(shè)定關(guān)聯(lián):傳統(tǒng)照明設(shè)定、角度照明設(shè)定、雙極照明設(shè)定、η彡4的η極照明設(shè)定。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(60;260)布置在格柵場平面(58)中，所述格柵場平面(58)在光傳播方向上位于光學(xué)格柵元件的所述陣列(54c)之前，且其中每個(gè)調(diào)制器單元被配置為可變地重新分布所述格柵場平面中所關(guān)聯(lián)的光束的所述空間輻照度分布，而不阻擋任何光。
7.按權(quán)利要求6所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(60)被配置為沿垂直于所述照明系統(tǒng)(12)的光學(xué)軸(OA)的方向，移動(dòng)所述格柵場平面(58)中由與所述調(diào)制器單元關(guān)聯(lián)的光束所照明的區(qū)域。
8.按權(quán)利要求4或7所述的照明系統(tǒng)，其中所述方向等于所述X方向。
9.按權(quán)利要求7或8所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(60)被配置為移動(dòng)所述照明區(qū)域，而不改變所述光束的所述角度輻照度分布。
10.按權(quán)利要求6至9中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中從光傳播方向算起，所述光學(xué)積分器(52)包含光學(xué)格柵兀件(56)的第一陣列、第二陣列、及第三陣列(54a、54b、54c),且其中所述格柵場平面(58)位于光學(xué)格柵元件(56)的所述第二陣列(54b)與所述第三陣列(54c)之間。
11.按權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(160)布置于瞳平面(70)中或緊鄰所述瞳平面(70)，所述瞳平面(70)在所述光傳播方向中位于光學(xué)格柵元件(156)的所述陣列(154b)之后，且其中每個(gè)調(diào)制器單元(160)被配置為可變地重新分布所述瞳平面(70)中所關(guān)聯(lián)的光束的所述角度輻照度分布，而不阻擋任何光。
12.按權(quán)利要求11所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(160)被配置為圍繞垂直于所述照明系統(tǒng)(12)的光學(xué)軸(OA)的傾斜軸傾斜與所述調(diào)制器單元關(guān)聯(lián)的光束。
13.按權(quán)利要求4或12所述的照明系統(tǒng)，其中所述傾斜軸等于所述Y方向。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(60；160 ；260)包含: (a)光學(xué)元件(86,88；94 ；112 ;112，；116 ; 150)，其被配置為改變?nèi)肷溆谄渖系乃P(guān)聯(lián)的光束的傳播方向；以及 (b)制動(dòng)器(90、92；96 ;152)，耦接至所述光學(xué)元件，其中所述制動(dòng)器被配置為響應(yīng)于從所述控制裝置￠6)接收的控制信號(hào)而改變所述光學(xué)元件的位置和/或取向。
15.按權(quán)利要求14所述的照明系統(tǒng)，其中所述光學(xué)元件為折射光學(xué)元件，尤其是透鏡(86、88)、棱鏡(94 ；112 ;112，)、特別是菲涅耳棱鏡(112，)，或衍射光學(xué)元件。
16.按權(quán)利要求14或15所述的照明系統(tǒng)，其中所述制動(dòng)器(90、92;152)被配置為沿相對(duì)于所述照明系統(tǒng)(12)的光學(xué)軸(OA)傾斜的方向位移所述光學(xué)元件。
17.按權(quán)利要求14至16中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中所述制動(dòng)器(96)被配置為繞旋轉(zhuǎn)軸(98)旋轉(zhuǎn)所述光學(xué)元件(94)，所述旋轉(zhuǎn)軸(98)相對(duì)于所述照明系統(tǒng)(12)的光學(xué)軸(OA)是傾斜的。
18.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中所述調(diào)制器(60；160)被配置為使得所述角度輻照度分布在所述照明場(14)上不連續(xù)地變化。
19.按權(quán)利要求1至17中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中所述調(diào)制器(260)被配置為使得所述角度輻照度分布在所述照明場(14)的至少一部分上連續(xù)地變化。
20.按權(quán)利要求2或19所述的照明系統(tǒng)，其中所述第一部分為所述第一角度輻照度分布均勻的第一線，且其中所述第二部分為所述第二角度輻照度分布均勻的第二線，且其中所述調(diào)制器(260)被配置為使得在布置于所述第一線與所述第二線之間的區(qū)域內(nèi)，所述第一角度輻照度分布連續(xù)地轉(zhuǎn)變?yōu)樗龅诙嵌容椪斩确植肌?br> 21.按權(quán)利要求20所述的照明系統(tǒng)，其中所述第一線鄰接所述照明場的一端，且所述第二線鄰接所述照明場的相對(duì)端。
22.按權(quán)利要求4或21所述的照明系統(tǒng)，其中所述一端和所述相對(duì)端沿所述X方向界定所述照明場。
23.按權(quán)利要求19至22中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(260)被配置為改變所述格柵場平面(58)中由與所述調(diào)制器單元關(guān)聯(lián)的光束照明的區(qū)域內(nèi)的輻照度分布，而不將其移動(dòng)。
24.按權(quán)利要求19至23中的任一項(xiàng)所述的照明系統(tǒng)，其中每個(gè)調(diào)制器單元(120)被配置為將所述輻照度分布從均勻輻照度分布(142)轉(zhuǎn)換為沿參考方向線性地增大或減小的修改的輻照度分布(144a、144b、144c)。
25.按權(quán)利要求24所述的照明系統(tǒng)，其中所述參考方向等于所述X方向。
26.一種用于操作微光刻投射曝光裝置的方法，包含以下步驟: a)提供包含照明系統(tǒng)(12)及投射物鏡(20)的微光刻投射曝光裝置(10)； b)提供要由所述照明系統(tǒng)(12)照明的掩模(16)； c)定義期望的第一角度輻照度分布和期望的第二角度輻照度分布，所述第二角度輻照度分布不同于所述第一角度輻照度分布； d)照明所述掩模(16)，使得在所述掩模的第一部分(181a、181b、181c)處獲得所述第一角度輻照度分布以及在所述掩模的不同于所述第一部分的第二部分(182a、182b、182c)處獲得所述第二角度輻照度分布。
27.按權(quán)利要求26所述的方法，其中所述第一角度輻照度分布以及所述第二角度輻照度分布與選自以下組的照明設(shè)定關(guān)聯(lián):傳統(tǒng)照明設(shè)定、角度照明設(shè)定、雙極照明設(shè)定、n ^ 4的η極照明設(shè)定。
28.按權(quán)利要求26或27所述的方法，其中所述第一部分為所述第一角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域(181a、181b、181c)，且其中所述第二部分為所述第二角度輻照度分布均勻的二維區(qū)域(182a、1 82b、182c)。
29.按權(quán)利要求26或27所述的方法，其中所述第一部分為所述第一角度輻照度分布均勻的第一線，且其中所述第二部分為所述第二角度輻照度分布均勻的第二線，且其中在布置于所述第一線與所述第二線之間的區(qū)域內(nèi)，所述第一角度輻照度分布連續(xù)地轉(zhuǎn)變?yōu)樗龅诙嵌容椪斩确植肌?br> 30.按權(quán)利要求26至29中的任一項(xiàng)所述的方法，包含以下步驟:控制所述照明系統(tǒng)(12)中所含的調(diào)制器(60、160、260)，使得獲得所述第一角度輻照度分布及所述第二角度輻照度分布。
31.按權(quán)利要求26至30中的任一項(xiàng)所述的方法，包含以下步驟:重新分布與所述照明系統(tǒng)中所含的光學(xué)格柵元件(56 ；156)關(guān)聯(lián)的光束的空間和/或角度輻照度分布，而不阻擋任何光。
32.按權(quán)利要求26至31中的任一項(xiàng)所述的方法，其中所述掩模中所含的特征圖案在所述第一部分與所述第二部分處不同。
33.按權(quán)利要求26至32中的任一項(xiàng)所述的方法，其中在掃描操作中通過所述投射物鏡(20)將所述掩模(16)投射至光敏表面(22)的同時(shí)，改變所述角度輻照度分布。
全文摘要
一種微光刻投射曝光裝置(10)的照明系統(tǒng)，包含具有光學(xué)光柵元件(56；156)的陣列(54c；154b)的光學(xué)積分器(52；152)。聚光器(72)將與光學(xué)光柵元件關(guān)聯(lián)的光束疊加于共同場平面(71)中。調(diào)制器(62；162；262)修改在照明場中的角度輻照度分布的場相依性。該調(diào)制器的單元(60；160；260)與光束之一關(guān)聯(lián)，且布置于聚光器(72)前的位置處，使得只有所關(guān)聯(lián)的光束入射到單個(gè)調(diào)制器單元(60)上。此外，所述單元還被配置為可變地重新分布關(guān)聯(lián)光束的空間和/或角度輻照度分布，而不阻擋任何光。若控制裝置(66)接收到需要修改掩模平面(78)中的角度輻照度分布的場相依性的輸入指令，則控制裝置(66)控制調(diào)制器單元(60；160；260)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK103097955SQ201080068869
公開日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2010年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月30日
發(fā)明者M.帕特拉, M.施瓦布 申請(qǐng)人:卡爾蔡司Smt有限責(zé)任公司