專利名稱：基板處理裝置和基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板處理裝置和基板處理方法。特別是，涉及如液晶面板用的玻璃母板這樣的基板的洗凈裝置。此外，本申請主張基于2009年12月21日申請的日本專利申請2009-289241號的優(yōu)先權(quán)，該申請的全部內(nèi)容作為參照被編入本說明書中。
背景技術(shù)：
作為液晶顯示裝置(LCD)的構(gòu)成部件的液晶面板具有使一對玻璃基板以確保規(guī)定間隔的狀態(tài)相對的結(jié)構(gòu)。伴隨液晶面板的大型化、量產(chǎn)化，液晶面板用的玻璃基板(玻璃母板)在逐年大型化，在液晶面板的生產(chǎn)線中，用于搬運(yùn)這樣大型化的玻璃基板的基板搬運(yùn)裝置設(shè)置于工廠內(nèi)。 近年來，在對液晶面板用的玻璃基板進(jìn)行處理的處理裝置中，從效率化的觀點出發(fā)往往邊搬運(yùn)基板邊施行各種處理(例如，專利文獻(xiàn)I)。另外，邊搬運(yùn)玻璃基板邊洗凈的裝置例如也已公開在專利文獻(xiàn)2中。圖I是示出在專利文獻(xiàn)I中公開的基板處理裝置1000的構(gòu)成的圖。圖I所示的基板處理裝置1000串聯(lián)地具備基板導(dǎo)入部120、基板處理部130和基板導(dǎo)出部140。首先，在基板導(dǎo)入部120中配置有上游側(cè)交接裝置110和上游側(cè)破損檢測裝置111。上游側(cè)交接裝置110將基板200載至基板導(dǎo)入部120，其后，基板200通過輥式輸送機(jī)150搬運(yùn)。接著，基板處理部130包括藥洗部130A、水洗部130B以及干燥部130C。在藥洗部130A中設(shè)置有藥液供給噴嘴121和刷洗處理用的刷子122。水洗部130B被劃分為低壓水供給部124、高壓水供給部125、超聲波洗凈水供給部126和純水供給部127。在各供給部124 127中分別在輸送機(jī)150的上下兩側(cè)配置有洗凈水供給用的噴嘴124a 127a等。干燥部130C對從水洗部130B導(dǎo)出的基板200施行干燥處理。在干燥部130C的內(nèi)部以夾著輸送機(jī)150的方式配置有上下一對氣刀128。另外，在基板導(dǎo)出部140中配置有下游側(cè)交接裝置114和下游側(cè)破損檢測裝置115。下游側(cè)交接裝置114將基板200導(dǎo)出至下游。在此，將基板200導(dǎo)入至搬運(yùn)開始位置Pl，然后通過輸送機(jī)150搬運(yùn)，接著移動至基板停止位置P2。并且，用基板處理裝置1000的基板處理部130能夠邊搬運(yùn)基板200邊進(jìn)行洗凈、干燥?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :特開2007-225324號公報專利文獻(xiàn)2 :特開平3-29919號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題本申請的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在實際使用基板處理裝置(例如，圖I所示的基板處理裝置1000)的情況下，有如下的問題。圖2是示出本申請的發(fā)明人驗證的基板處理裝置2000的一部分的截面示意圖。在圖2所示的基板處理裝置2000中設(shè)置有包括第I處理槽230A、第2處理槽230B、第3處理槽230C的基板處理部230。在第I處理槽230A、第2處理槽230B、第3處理槽230C中配置有搬運(yùn)基板200的輸送機(jī)250。另外，第I處理槽230A、第2處理槽230B、第3處理槽230C分別為箱形的結(jié)構(gòu)，在各處理槽之間設(shè)置有用于移動基板200的開口部290(290A、290B)。在圖2所示的例子中，第2處理槽230B是濕型的洗凈處理槽(例如，水洗凈槽)，第3處理槽230C是干型的洗凈處理槽(例如，干燥槽)。在第2處理槽230B中配置有洗凈水用的噴嘴210。另外，在第3處理槽230C中配置有風(fēng)淋器(air shower) 212 此外，在該 例子中第I處理槽230A是濕型的洗凈處理槽(例如，藥液洗凈槽)。另外，在從第I處理槽230A到230C中設(shè)置有排氣用的管道240。在該基板處理裝置2000的構(gòu)成中，濕型的處理槽230B中的液體的飛沫不會去向干型的處理槽230C —方。具體地說，處理槽230B和處理槽230C分別設(shè)置有管道，為濕型的處理槽230B中的液體的飛沫(浮游霧)被吸引的結(jié)構(gòu)。另外，在處理槽230B和處理槽230C中配置有噴出空氣來產(chǎn)生空氣壁的氣刀215，使得濕型的處理槽230B中的液體的飛沫不移動。該氣刀215是排液幕裝置，通過從氣刀215噴出的空氣的墻壁，基板200能夠在開口部290B中移動，且該液體的飛沫會被隔斷。然而，根據(jù)本申請的發(fā)明人的觀測發(fā)現(xiàn)，實際上盡管有氣刀215還是會發(fā)生從濕型的處理槽230B向干型的處理槽230C —方流動的氣流300。液體的飛沫310有時會乘著該氣流300從處理槽230B移動至處理槽230C，附著在位于處理槽230C的基板200上。異物(在此為飛沫)在洗凈后的基板200的上面的附著可能成為下一工序的制造工藝中的不良的原因，因此無法令人滿意。本申請的發(fā)明人推測了該氣流300發(fā)生的原因，得出如下的結(jié)論。圖3是示出氣刀215周邊的立體圖。另外，圖4和圖5是示出氣刀215周邊的上面圖。如圖3所示，氣刀215的寬度W2延展為覆蓋基板200的寬度Wl。但是，從圖4可知，在氣刀215的端部215e與處理槽230B(或者處理槽230C)的壁面230e之間有間隙S。這樣，如圖5所示，即使在與氣刀215的寬度W2相比開口部290B的寬度W與之相同或者更窄的情況下，也可能產(chǎn)生避開氣刀215并通過間隙S和開口部290B的氣流300。當(dāng)液體的飛沫乘著這樣的氣流300時，就會發(fā)生向處理槽230C中的基板200附著的情況。本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其主要目的在于提供抑制了處理槽之間的液體的飛沫(浮游霧)的移動的基板處理裝置。用于解決問題的方案本發(fā)明的基板處理裝置是進(jìn)行基板的處理的基板處理裝置，具備第I處理槽，其包含能搬運(yùn)基板的搬運(yùn)輥；和第2處理槽，其與上述第I處理槽連結(jié)，來自上述第I處理槽的上述搬運(yùn)輥延長存在于上述第2處理槽，在上述第I處理槽和第2處理槽的邊界區(qū)域配置有一對排液幕裝置，配置于上述一對排液幕裝置之間的搬運(yùn)輥中的至少一個是在構(gòu)成上述搬運(yùn)輥的中心部的搬運(yùn)軸的兩個端部形成有吹氣孔的搬運(yùn)輥。
在某優(yōu)選實施方式中，上述第I處理槽是濕型的處理槽，并且上述第2處理槽是干型的處理槽。在某優(yōu)選實施方式中，上述搬運(yùn)軸的寬度比上述排液幕裝置的寬度大，在上述搬運(yùn)軸的兩個端部中位于上述排液幕裝置的外側(cè)的部分形成有上述吹氣孔。在某優(yōu)選實施方式中，上述搬運(yùn)軸具有中空結(jié)構(gòu)，對上述搬運(yùn)軸的內(nèi)部導(dǎo)入使之從上述吹氣孔噴出的氣體。在某優(yōu)選實施方式中，上述一對排液幕裝置分別包括上側(cè)幕部位和下側(cè)幕部位。在某優(yōu)選實施方式中，上述基板是液晶面板用的玻璃母板。本發(fā)明的基板處理方法是處理基板的基板處理方法，包含利用搬運(yùn)輥將基板搬入第I處理槽的工序(a)邊利用上述搬運(yùn)輥使上述基板移動，一邊在上述第I處理槽中處理上述基板的第I處理工序(b);利用上述搬運(yùn)輥將上述基板從上述第I處理槽搬入與 上述第I處理槽連接的第2處理槽的工序(C);以及一邊利用上述搬運(yùn)輥使上述基板移動，一邊在上述第2處理槽中處理上述基板的第2處理工序(d)，在上述第I處理槽和上述第2處理槽的邊界區(qū)域，一對排液幕裝置送出氣體，由此隔斷在上述第I處理槽和上述第2處理槽之間的浮游霧的移動，在配置于上述一對排液幕裝置之間的上述搬運(yùn)輥中的至少一個中，從構(gòu)成上述搬運(yùn)輥的中心部的搬運(yùn)軸的兩個端部送出氣體，由此隔斷在上述一對排液幕裝置的外側(cè)迂回的浮游霧的移動。在某優(yōu)選實施方式中，在上述第I處理工序(b)中執(zhí)行濕型的基板洗凈處理，并且在上述第2處理工序(d)中執(zhí)行干型的基板洗凈處理。在某優(yōu)選實施方式中，上述基板是液晶面板用的玻璃母板。本發(fā)明的搬運(yùn)輥是用于搬運(yùn)基板的搬運(yùn)輥，具備搬運(yùn)軸；和基板接觸部，其設(shè)置于上述搬運(yùn)軸的外面，與基板接觸，上述搬運(yùn)軸具有中空結(jié)構(gòu)，在上述搬運(yùn)軸的兩個端部形成有用于噴出氣體的吹氣孔。發(fā)明效果在本發(fā)明的基板處理裝置中，在第I處理槽和第2處理槽的邊界區(qū)域中配置有一對排液幕裝置，配置于一對排液幕裝置之間的搬運(yùn)輥中的至少I個是在搬運(yùn)軸的兩個端部形成有吹氣孔的搬運(yùn)輥。從而，從在搬運(yùn)軸的兩個端部形成的吹氣孔噴出空氣，由此能夠抑制在搬運(yùn)軸的兩個端部迂回的液體的飛沫(浮游霧)的移動。


圖I是示出現(xiàn)有的基板處理裝置1000的構(gòu)成的圖。圖2是示出基板處理裝置2000的構(gòu)成的截面圖。圖3是示出氣刀215的周邊的構(gòu)成的立體圖。圖4是示出氣刀215的周邊的構(gòu)成的上面圖。圖5是示出氣刀215的周邊的構(gòu)成的上面圖。圖6是示出本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置100的構(gòu)成的截面圖。圖7是示出本發(fā)明的實施方式的搬運(yùn)輥30和氣刀15的構(gòu)成的上面圖。圖8是示出本發(fā)明的實施方式的搬運(yùn)輥30的構(gòu)成的立體圖。圖9是示出本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置100的改變例的截面圖。
具體實施例方式下面參照

本發(fā)明的實施方式。在下面的附圖中，為了說明的簡潔化，用相同的附圖標(biāo)記來示出實質(zhì)上具有相同功能的構(gòu)成要素。此外，本發(fā)明不限于下面的實施方式。圖6示意性地示出本發(fā)明的實施方式的基板處理裝置100的構(gòu)成。本實施方式的基板處理裝置100是進(jìn)行基板20的處理的裝置，具備包含可以搬運(yùn)基板20的搬運(yùn)輥32 (32a)的第I處理槽IOA和與第I處理槽IOA連結(jié)的第2處理槽10B。本實施方式的基板20是例如液晶面板用的基板、TOP(等離子體顯示面板)用的基板等。圖6所示的例子的基板20是液晶面板用的玻璃 母板(例如，第8代 第10代的玻璃母板)。在第2處理槽IOB中設(shè)置有搬運(yùn)輥32 (32b)，該搬運(yùn)輥32 (32b)是第I處理槽IOA的搬運(yùn)輥32(32a)的延長。本實施方式中的第I處理槽IOA和第2處理槽IOB分別為箱型形狀。在第I處理槽IOA中，在第2處理槽IOB側(cè)形成有開口部11A，另一方面，在第2處理槽IOB中，在第I處理槽IOA側(cè)形成有開口部11B。開口部IlA和IlB具有能使基板20通過的形狀，并且通過第I處理槽IOA和第2處理槽IOB設(shè)置有包括搬運(yùn)輥的基板輸送機(jī)33。搬運(yùn)輥32能如箭頭55那樣旋轉(zhuǎn)，基板20沿著該旋轉(zhuǎn)在搬運(yùn)輥32上從第I處理槽IOA移動至第2處理槽IOB (箭頭50)。此外，在第I處理槽IOA的上游側(cè)設(shè)置有開口部13A，在第2處理槽IOB的下游側(cè)設(shè)置有開口部13B。并且，包括搬運(yùn)輥32的基板輸送機(jī)33延伸到第I處理槽IOA的上游側(cè)和第2處理槽IOB的下游側(cè)。本實施方式的第I處理槽IOA是濕型的處理槽，并且第2處理槽IOB是干型的處理槽。在圖6所示的例子中，在第I處理槽IOA中能夠執(zhí)行濕型的基板洗凈處理，另一方面，在第2處理槽IOB中能夠執(zhí)行干型的基板洗凈處理。在第I處理槽IOA中，在搬運(yùn)輥32的上下兩方配置有洗凈液用的噴嘴12。雖然未圖示，但也可以在第I處理槽IOA中配置洗凈用的刷子。此外，在第I處理槽IOA是藥液洗凈槽的情況下，從洗凈液用的噴嘴12噴射藥液，在第I處理槽IOA是水洗凈槽的情況下，從洗凈液用的噴嘴12噴射水(例如，低壓水、高壓水、超聲波洗凈水、純水等)。另外，在第2處理槽IOB配置有風(fēng)淋器14。從風(fēng)淋器14噴射例如干燥空氣。另外，在第I處理槽IOA和第2處理槽IOB中配置有管道40，能夠吸出各處理槽中的空氣。另外，在第I處理槽IOA和第2處理槽IOB的邊界區(qū)域60配置有一對排液幕裝置15A、15B。排液幕裝置15(15A、15B)是噴出空氣來產(chǎn)生空氣壁的氣刀。并且，從排液幕(氣刀)15送出氣體(空氣)，由此能夠隔斷浮游霧的移動。具體地說，有時在第I處理槽IOA內(nèi)產(chǎn)生的液體的飛沫(浮游霧)會通過存在于邊界區(qū)域60的開口部IlAUlB進(jìn)入第2處理槽10B，但排液幕15(15A、15B)會防止該浮游霧的進(jìn)入。在圖6所示的構(gòu)成例中，第I處理槽IOA的排液幕裝置15A夾著搬運(yùn)輥32包括上側(cè)幕部位和下側(cè)幕部位。同樣，第2處理槽IOB的排液幕裝置15B也夾著搬運(yùn)輥32包括上側(cè)幕部位和下側(cè)幕部位。在本實施方式的構(gòu)成中，是能從構(gòu)成基板輸送機(jī)33的搬運(yùn)輥32中的配置于一對排液幕裝置15A、15B之間的搬運(yùn)輥30的兩個端部噴射空氣19的結(jié)構(gòu)。即，配置于一對排液幕裝置15A、15B之間的搬運(yùn)輥30(30a、30b)中的至少一個是在構(gòu)成搬運(yùn)輥的中心部的搬運(yùn)軸的兩個端部形成有吹氣孔的搬運(yùn)輥30，從該吹氣孔噴射空氣19。在圖6所示的例子中，在第I處理槽IOA中配置設(shè)置有吹氣孔的搬運(yùn)輥30a，并且在第2處理槽IOB中也配置設(shè)置有吹氣孔的搬運(yùn)輥30b。圖7是示出第2處理槽IOB的搬運(yùn)輥30 (30b)的周邊的上面圖。本實施方式的搬運(yùn)輥30b包括與基板20接觸的基板接觸部(圓盤部)31和通過基板接觸部31的中心延伸的搬運(yùn)軸34?；褰佑|部31設(shè)置于搬運(yùn)軸34的外面，但基板接觸部31和搬運(yùn)軸34也可以是一體型的構(gòu)成。另外，搬運(yùn)軸34具有中空形狀(圓筒形狀)，在搬運(yùn)軸34的兩個端部36形成有吹氣孔35。在本實施方式的構(gòu)成中，搬運(yùn)軸34的寬度W3比排液幕裝置15(15B)的寬度W2大。并且，在搬運(yùn)軸34的兩個端部36中位于排液幕裝置15 (15B)的外側(cè)的部分(位于區(qū)域65的部分)形成有吹氣孔35。圖8是放大地示出搬運(yùn)輥30的兩個端部36周邊的立體圖。搬運(yùn)輥30的搬運(yùn)軸34具有中空結(jié)構(gòu)，因此當(dāng)將空氣導(dǎo)入搬運(yùn)軸34的內(nèi)部時，就能夠從吹氣孔35噴出空氣19。要將空氣導(dǎo)入至搬運(yùn)軸34的內(nèi)部，可以在搬運(yùn)軸34的端部連接有空氣導(dǎo)入用管38，從該管38導(dǎo)入空氣。從管38導(dǎo)入的空氣例如是干燥空氣，但也可以使用其它氣體(例如，氮、 氬等)。從生產(chǎn)線的觀點出發(fā)，從管38導(dǎo)入與用于第2處理槽IOB的排液幕裝置15B(和/或者風(fēng)淋器14)所使用的氣體(例如，干燥空氣)相同的氣體是高效的。在本實施方式的基板處理裝置100中，如圖7所示，在第I處理槽IOA和第2處理槽IOB的邊界區(qū)域60配置有一對排液幕裝置15A、15B。并且，配置于一對排液幕裝置15A、15B之間的搬運(yùn)輥中的至少I個是形成有吹氣孔35的搬運(yùn)輥30 (30a和/或者30b)。從而，即使產(chǎn)生于第I處理槽IOA的浮游霧92乘著氣流90在排液幕裝置15A的外側(cè)迂回并通過后，穿過開口部11A、11B，然后將要在排液幕裝置15B的外側(cè)迂回時，也能夠通過來自吹氣孔35的空氣19來抑制該浮游霧92的移動。即，通過從吹氣孔35噴出的空氣19，能夠抑制在搬運(yùn)軸34的兩個端部36迂回的浮游霧92的移動(箭頭90)。根據(jù)本實施方式的構(gòu)成，通過來自排液幕裝置15A、15B的空氣壁17和來自吹氣孔35的吹氣19，能夠抑制浮游霧92從第I處理槽IOA向第2處理槽IOB移動。其結(jié)果是，能夠抑制浮游霧92 (即異物)附著到存在于第2處理槽的基板20上，因此能夠減少下一工序中的制造工藝的不良的原因。如下例示地說明本實施方式的構(gòu)成的尺寸。排液幕裝置15(15A、15B)的寬度W2例如是250 3230mm，搬運(yùn)軸34的寬度W3例如是300 3500mm。搬運(yùn)軸34的直徑例如是25 50mm。形成于搬運(yùn)軸34的吹氣孔35的直徑(在圓型的情況下)例如是0. I
2.0mm。此外，吹氣孔35除全面地形成于搬運(yùn)軸34的外周的情況以外，也可以僅形成于搬運(yùn)軸34的上部區(qū)域和下部區(qū)域。此外，在圖7所示的例子中，說明了在第2處理槽IOB的一側(cè)設(shè)置有附帶吹氣孔35的搬運(yùn)輥30b的構(gòu)成，而如果是在第I處理槽IOA的一側(cè)也設(shè)置有附帶吹氣孔35的搬運(yùn)輥30a的構(gòu)成，能夠提高抑制浮游霧92的移動的效果。另外，在本實施方式中，在一對排液幕裝置15A、15B之間配置有附帶吹氣孔35的搬運(yùn)輥30(30a、30b)，但也可以在一對排液幕裝置15A、15B之間以外的區(qū)域(即，幕裝置15A的上游或者幕裝置15B的下游)配置附帶吹氣孔35的搬運(yùn)輥30。除此以外，在本實施方式的搬運(yùn)輥30中的搬運(yùn)軸34的兩個端部36形成有吹氣孔35，但也可以在兩個端部36以外的部位(例如，中央部)形成吹氣孔35來使吹氣19產(chǎn)生。
另外，在本實施方式的基板處理方法中，首先利用搬運(yùn)輥32將基板20搬入第I處理槽10A，然后一邊利用搬運(yùn)輥32使基板20移動，一邊在第I處理槽IOA中處理基板20。接著，利用搬運(yùn)輥32將基板20搬入第2處理槽10B，然后一邊利用搬運(yùn)輥32使基板20移動，一邊在第2處理槽IOB中處理基板20。在上述實施方式中，在第I處理槽IOA中執(zhí)行基于濕處理的洗凈處理，在第2處理槽IOB中執(zhí)行基于干處理的干燥處理，但不限于此，也可以執(zhí)行其它處理。具體地說，能夠在第I處理槽IOA中執(zhí)行干處理，然后在第2處理槽中進(jìn)行濕處理，在這種情況下，能夠利用本實施方式的機(jī)構(gòu)(15A、15B、30)來抑制從第2處理槽IOB向第I處理槽IOA流入的浮游霧92的移動。除此以外，本實施方式的基板處理不限于基板20的洗凈、干燥工序，也能夠應(yīng)用于其它處理。例如，也可以應(yīng)用于基板20的涂敷工序和干燥工序等。而且，即使是第I處理槽IOA是濕處理，第2處理槽IOB是濕處理的情況，在使用于第I處理槽的液體(例如，藥液)的浮游霧92 —流入第2處理槽就會在制造工藝中出現(xiàn)故障的情況下，也能夠應(yīng)用本實施方式的機(jī)構(gòu)。并且，即使是第I處理槽IOA是干處理，第2處理槽IOB是干處理的情況，在想要抑制使用于第I處理槽IOA的浮游物(例如，浮游粒子)等流入第2處理槽IOB的 情況下，也可以使用本實施方式的機(jī)構(gòu)。圖9是示出本實施方式的基板處理裝置100的改變例的截面圖。在圖9所示的基板處理裝置100中，在第I處理槽IOA中執(zhí)行干處理，在第2處理槽IOB中執(zhí)行濕處理。具體地說,在第I處理槽IOA中配置有加熱基板20的加熱器45，在第2處理槽IOB中執(zhí)行濕處理(例如，洗凈處理)前，在第I處理槽IOA中執(zhí)行基板20的加熱工序(用于下一工序的預(yù)備處理)。在圖9所示的構(gòu)成中，當(dāng)浮游霧從第2處理槽IOB流入第I處理槽IOA而附著于第I處理槽IOA中的基板20時，就有該浮游霧干燥后在基板20上變成污潰的可能性。在該污潰無法通過第2處理槽IOB中的洗凈處理除掉的情況下，就有在以后的制造工藝中發(fā)展成不良的原因的可能性。在此，設(shè)置有一對排液幕裝置15A、15B和附帶吹氣孔35的搬運(yùn)輥30(30a、30b)，因此可以得到能夠抑制上述浮游霧的移動的效果。上面說明了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但上述記載不是限定事項，當(dāng)然可以有各種改變。工業(yè)上的可利用件根據(jù)本發(fā)明，能夠提供抑制了處理槽之間的浮游霧的移動的基板處理裝置。附圖標(biāo)記說明IOA第I處理槽IOB第2處理槽IlA 開口部IlB 開口部12 噴嘴13A 開口部13B 開口部14風(fēng)淋器15排液幕裝置(氣刀)
17空氣(空氣壁)19空氣(吹氣)20 基板30搬運(yùn)輥31基板接觸部32搬運(yùn)輥33基板輸送機(jī)34搬運(yùn)軸35吹氣孔36搬運(yùn)軸的兩個端部38空氣導(dǎo)入用管40 管道45加熱器90 氣流92浮游霧100基板處理裝置121藥液供給噴嘴122 刷子124低壓水供給部124a 127a 噴嘴125高壓水供給部126超聲波洗凈水供給部127純水供給部128 氣刀130基板處理部130A 藥洗部 130B 水洗部130C 干燥部200 基板1000基板處理裝置2000基板處理裝置
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置， 是進(jìn)行基板的處理的基板處理裝置， 具備 第I處理槽，其包含能搬運(yùn)基板的搬運(yùn)輥；和 第2處理槽，其與上述第I處理槽連結(jié)， 來自上述第I處理槽的上述搬運(yùn)輥延長存在于上述第2處理槽， 在上述第I處理槽和第2處理槽的邊界區(qū)域配置有一對排液幕裝置， 配置于上述一對排液幕裝置之間的搬運(yùn)輥中的至少一個是在構(gòu)成上述搬運(yùn)輥的中心部的搬運(yùn)軸的兩個端部形成有吹氣孔的搬運(yùn)輥。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的基板處理裝置， 上述第I處理槽是濕型的處理槽，并且， 上述第2處理槽是干型的處理槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或者2所述的基板處理裝置， 上述搬運(yùn)軸的寬度比上述排液幕裝置的寬度大， 在上述搬運(yùn)軸的兩個端部中位于上述排液幕裝置的外側(cè)的部分形成有上述吹氣孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中的任一項所述的基板處理裝置， 上述搬運(yùn)軸具有中空結(jié)構(gòu)， 對上述搬運(yùn)軸的內(nèi)部導(dǎo)入用于從上述吹氣孔噴出的氣體。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中的任一項所述的基板處理裝置， 上述一對排液幕裝置分別包括上側(cè)幕部位和下側(cè)幕部位。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中的任一項所述的基板處理裝置， 上述基板是液晶面板用的玻璃母板。
7.一種基板處理方法， 是處理基板的基板處理方法， 包含利用搬運(yùn)輥將基板搬入第I處理槽的工序(a)； 一邊利用上述搬運(yùn)輥使上述基板移動，一邊在上述第I處理槽中處理上述基板的第I處理工序(b)； 利用上述搬運(yùn)輥將上述基板從上述第I處理槽搬入與上述第I處理槽連接的第2處理槽的工序(C);以及 一邊利用上述搬運(yùn)輥使上述基板移動，一邊在上述第2處理槽中處理上述基板的第2處理工序⑷， 在上述第I處理槽和上述第2處理槽的邊界區(qū)域，一對排液幕裝置送出氣體，由此隔斷在上述第I處理槽和上述第2處理槽之間的浮游霧的移動， 在配置于上述一對排液幕裝置之間的上述搬運(yùn)輥中的至少一個中，從構(gòu)成上述搬運(yùn)輥的中心部的搬運(yùn)軸的兩個端部送出氣體，由此隔斷在上述一對排液幕裝置的外側(cè)迂回的浮游霧的移動。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理方法， 在上述第I處理工序(b)中執(zhí)行濕型的基板洗凈處理，并且， 在上述第2處理工序(d)中執(zhí)行干型的基板洗凈處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或者8所述的基板處理方法，上述基板是液晶面板用的玻璃母板。
10.一種搬運(yùn)輥，是用于搬運(yùn)基板的搬運(yùn)輥，具備搬運(yùn)軸；和基板接觸部，其設(shè)置于上述搬運(yùn)軸的外面，與基板接觸，上述搬運(yùn)軸具有中空結(jié)構(gòu)，在上述搬運(yùn)軸的兩個端部形成有用于噴出氣體的吹氣孔。
全文摘要
提供抑制了處理槽之間的浮游霧的移動的基板處理裝置。進(jìn)行基板(20)的處理的基板處理裝置(100)具備包含可以搬運(yùn)基板(20)的搬運(yùn)輥(32)的第1處理槽(10A)和與第1處理槽(10A)連結(jié)的第2處理槽(10B)。搬運(yùn)輥(32)延長存在于第2處理槽(10B)，在第1處理槽(10A)和第2處理槽(10B)的邊界區(qū)域(60)中配置有一對排液幕裝置(15A、15B)，配置于一對排液幕裝置(15A、15B)之間的搬運(yùn)輥(30)中的至少一個是在搬運(yùn)軸(34)的兩個端部(36)形成有吹氣孔(35)的搬運(yùn)輥(30)。
文檔編號G02F1/1333GK102656509SQ20108005701
公開日2012年9月5日 申請日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月21日
發(fā)明者沖昌彥 申請人:夏普株式會社