專利名稱：物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種物體處理裝置、曝光裝置及曝光方法、以及元件制造方法，更詳言之，是關(guān)于對(duì)沿既定二維平面配置的平板狀物體進(jìn)行既定的處理的物體處理裝置、使該物體曝光的曝光裝置及曝光方法、以及使用該曝光裝置或曝光方法的元件制造方法。
背景技術(shù)：
以往，在制造液晶顯示元件、半導(dǎo)體元件(集成電路等)等電子元件(微型元件) 的微影工藝中，主要使用步進(jìn)重復(fù)方式的投影曝光裝置(所謂步進(jìn)機(jī))、或步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置(所謂掃描步進(jìn)機(jī)(亦稱掃描機(jī)))等。在此種曝光裝置中，作為曝光對(duì)象物而于表面涂布有感光劑的玻璃板或晶圓等基板(以下總稱為基板)載置于基板載臺(tái)裝置上。之后，藉由對(duì)形成有電路圖案的掩膜(或標(biāo)線片)照射曝光用光，且將經(jīng)由該掩膜的曝光用光經(jīng)由投影透鏡等光學(xué)系統(tǒng)照射于基板， 以將電路圖案轉(zhuǎn)印至基板上(參照例如專利文獻(xiàn)1 (及對(duì)應(yīng)的專利文獻(xiàn)2))。近年來，曝光裝置的曝光對(duì)象物即基板、特別是液晶顯示元件用的基板(矩形玻璃基板)的尺寸例如為一邊三公尺以上等，有大型化的傾向，于是，曝光裝置的載臺(tái)裝置尺寸亦大型化，其重量亦增大。因此，被期望開發(fā)出一種載臺(tái)裝置，能將曝光對(duì)象物(基板) 以高速且高精度導(dǎo)引，進(jìn)而可謀求小型化、輕量化的簡單構(gòu)成。引用列表[專利文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)1]PCT國際公開第2008/U9762號(hào)[專利文獻(xiàn)2]美國發(fā)明專利申請(qǐng)公開第2010/0018950號(hào)說明書

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的第1態(tài)樣，提供一種物體處理裝置，其具備物體驅(qū)動(dòng)裝置，將沿與水平面平行的既定二維平面配置的平板狀物體驅(qū)動(dòng)于前述二維平面內(nèi)的至少一軸方向；執(zhí)行裝置，對(duì)被前述物體驅(qū)動(dòng)裝置以一定速度驅(qū)動(dòng)的前述物體，在其移動(dòng)路徑上的既定區(qū)域內(nèi)對(duì)前述物體表面的被處理部位執(zhí)行既定處理；調(diào)整裝置，包含具有面積較前述物體狹小的保持面的保持構(gòu)件，使用該保持構(gòu)件從下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的一部分，以調(diào)整前述物體在與前述二維平面交叉的方向的位置；以及驅(qū)動(dòng)裝置，根據(jù)前述物體相對(duì)前述既定區(qū)域的位置，將前述保持構(gòu)件一邊調(diào)整位置、一邊驅(qū)動(dòng)于前述一軸方向。根據(jù)上述，執(zhí)行裝置是對(duì)被物體驅(qū)動(dòng)裝置以一定速度驅(qū)動(dòng)于二維平面內(nèi)的一軸方向的平板狀物體表面的被處理部位，在該物體移動(dòng)路徑上的既定區(qū)域(處理區(qū)域)執(zhí)行既定處理。此處，在執(zhí)行裝置執(zhí)行上述既定處理時(shí)，由于調(diào)整裝置調(diào)整(定位)物體在與二維平面交叉的方向的位置，因此能以高精度進(jìn)行上述既定處理。又，由于調(diào)整裝置的保持構(gòu)件是根據(jù)物體相對(duì)既定區(qū)域(處理區(qū)域)的位置而被控制其位置，因此能以高精度進(jìn)行物體在與二維平面交叉的方向的定位。
根據(jù)本發(fā)明的第2態(tài)樣，提供一種第1曝光裝置，藉由照射能量束使物體曝光，據(jù)以將既定圖案形成于前述物體上，其具備物體驅(qū)動(dòng)裝置，將沿與水平面平行的既定二維平面配置的平板狀物體驅(qū)動(dòng)于前述二維平面內(nèi)的至少一軸方向；曝光系統(tǒng)，對(duì)被前述物體驅(qū)動(dòng)裝置以一定速度驅(qū)動(dòng)的前述物體的表面，在其移動(dòng)路徑上照射前述能量束；調(diào)整裝置，包含具有面積較前述物體狹小的保持面的保持構(gòu)件，使用該保持構(gòu)件從下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的一部分，以調(diào)整前述物體在與前述二維平面交叉的方向的位置；以及驅(qū)動(dòng)裝置，根據(jù)前述物體相對(duì)藉前述曝光系統(tǒng)產(chǎn)生的前述能量束的照射區(qū)域的位置，將前述保持構(gòu)件驅(qū)動(dòng)于前述一軸方向。根據(jù)上述，曝光系統(tǒng)對(duì)被物體驅(qū)動(dòng)裝置以一定速度驅(qū)動(dòng)于二維平面內(nèi)的一軸方向的平板狀物體表面，在該物體移動(dòng)路徑上照射能量束以進(jìn)行曝光。此處，在曝光系統(tǒng)執(zhí)行曝光動(dòng)作時(shí)，藉由調(diào)整裝置調(diào)整(定位)物體在與二維平面交叉的方向的位置，因此能以高精度進(jìn)行曝光處理。又，由于調(diào)整裝置的保持構(gòu)件根據(jù)物體相對(duì)能量束的照射區(qū)域的位置而被控制其位置，因此能以高精度進(jìn)行物體在與二維平面交叉的方向的定位。根據(jù)本發(fā)明的第3態(tài)樣，提供一種第2曝光裝置，使用能量束使物體曝光，據(jù)以將既定圖案形成于前述物體上，其具備光學(xué)系統(tǒng)，經(jīng)由前述圖案以將前述能量束照射于與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的一部分區(qū)域；驅(qū)動(dòng)裝置，將沿前述二維平面配置的平板狀物體在前述二維平面內(nèi)包含前述部分區(qū)域的既定區(qū)域內(nèi)驅(qū)動(dòng)于至少一軸方向；以及調(diào)整裝置，具有與前述部分區(qū)域?yàn)橥潭鹊拇笮』蜉^此小的保持面，在前述物體被前述驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)時(shí)，從下方以非接觸狀態(tài)保持與該保持面對(duì)向的前述物體的一部分以調(diào)整前述物體在與前述二維平面交叉的方向的位置，且根據(jù)前述物體相對(duì)前述部分區(qū)域的位置移動(dòng)于前述一軸方向。根據(jù)上述，光學(xué)系統(tǒng)是對(duì)被驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)于二維平面內(nèi)的一軸方向的平板狀物體照射能量束以使其曝光。此處，在光學(xué)系統(tǒng)執(zhí)行曝光動(dòng)作時(shí)，由于藉由調(diào)整裝置設(shè)定(定位)物體在與二維平面交叉的方向的位置，因此能以高精度進(jìn)行曝光處理。又，由于調(diào)整裝置是根據(jù)物體相對(duì)能量束的照射區(qū)域的位置而被控制保持面的位置，因此能以高精度進(jìn)行物體在與二維平面交叉的方向的定位。根據(jù)本發(fā)明的第4態(tài)樣，提供一種元件制造方法，其包含使用本發(fā)明的物體處理裝置或曝光裝置使物體曝光的動(dòng)作；以及使前述已曝光的物體顯影的動(dòng)作。此處，藉由使用平面面板顯示器用的基板作為物體，而提供制造平面面板顯示器作為元件的制造方法。平面面板顯示器用的基板除了玻璃基板等以外，亦包含膜狀構(gòu)件等。根據(jù)本發(fā)明的第5態(tài)樣，提供一種曝光方法，是使用能量束使物體曝光，據(jù)以將既定圖案形成于前述物體上，其包含在與水平面平行的既定二維平面內(nèi)的既定區(qū)域內(nèi)將沿前述二維平面配置的平板狀物體驅(qū)動(dòng)于至少一軸方向的動(dòng)作；該既定區(qū)域包含經(jīng)由前述圖案的前述能量束被光學(xué)系統(tǒng)照射的一部分區(qū)域；以及在前述物體被驅(qū)動(dòng)時(shí)，一邊根據(jù)前述物體相對(duì)前述部分區(qū)域的位置變更與前述部分區(qū)域?yàn)橥潭鹊拇笮』蜉^此小的保持面在前述一軸方向的位置，一邊從前述物體下方以非接觸狀態(tài)保持前述物體的與前述保持面對(duì)向的部分，以調(diào)整前述部分在與前述二維平面交叉的方向的位置的動(dòng)作。根據(jù)本發(fā)明的第6態(tài)樣，提供一種元件制造方法，其包含使用本發(fā)明的曝光方法使物體曝光的動(dòng)作；以及使前述已曝光的物體顯影的動(dòng)作。


圖1是概略顯示第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成之圖。圖2是圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。圖3是圖2的A-A線剖面圖。圖4是圖2的基板載臺(tái)裝置所具有的定點(diǎn)載臺(tái)的剖面圖。圖5(A)是放大顯示圖2的基板載臺(tái)裝置所具有的基板保持框的一部分的俯視圖， 圖5(B)是圖5㈧的B-B線剖面圖。圖6 (A) 圖6 (C)是用以說明對(duì)基板進(jìn)行曝光處理時(shí)的基板載臺(tái)裝置的動(dòng)作的俯視圖。圖7(A) 圖7(D)是用以說明曝光動(dòng)作時(shí)的空氣夾具單元的動(dòng)作的俯視圖(其 1)。圖8(A) 圖8(D)是用以說明曝光動(dòng)作時(shí)的空氣夾具單元的動(dòng)作的俯視圖(其 2)。圖9(A)及圖9(B)是用以說明曝光動(dòng)作時(shí)的基板載臺(tái)裝置的動(dòng)作的側(cè)視圖。圖10是第2實(shí)施形態(tài)相關(guān)的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。圖11是圖10的基板載臺(tái)裝置的側(cè)視圖。圖12㈧ 圖12(C)是用以說明使用圖10的基板載臺(tái)裝置的曝光動(dòng)作時(shí)的空氣夾具單元的動(dòng)作的俯視圖。圖13是顯示第3實(shí)施形態(tài)相關(guān)的基板檢查裝置的概略構(gòu)成之圖。
具體實(shí)施例方式《第1實(shí)施形態(tài)》以下，根據(jù)圖1 圖9(B)說明本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)。圖1是顯示第1實(shí)施形態(tài)相關(guān)的用于平面面板顯示器、例如液晶顯示裝置(液晶面板)等的制造的液晶曝光裝置10的概略構(gòu)成。液晶曝光裝置10是以用于液晶顯示裝置的顯示面板的矩形玻璃基板P(以下簡稱為基板P)為曝光對(duì)象物的步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置、亦即所謂掃描機(jī)。液晶曝光裝置10如圖1所示，具備照明系統(tǒng)Ι0Ρ、保持掩膜M的掩膜載臺(tái)MST、投影光學(xué)系統(tǒng)PL、搭載有上述掩膜載臺(tái)MST及投影光學(xué)系統(tǒng)PL等的機(jī)體BD、保持基板P的基板載臺(tái)裝置PST、以及此等的控制系統(tǒng)等。以下的說明中，將在曝光時(shí)掩膜M與基板P相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL分別被相對(duì)掃描的方向設(shè)為X軸方向、將在水平面內(nèi)與X軸方向正交的方向設(shè)為Y軸方向、將與X軸及Y軸正交的方向設(shè)為Z軸方向，且將繞X軸、Y軸、及Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別設(shè)為θχ、9y、及θ ζ方向。照明系統(tǒng)IOP與例如美國發(fā)明專利第6，552，775號(hào)說明書等所揭示的照明系統(tǒng)為類似構(gòu)成。亦即，照明系統(tǒng)IOP是將從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分色鏡、快門、波長選擇過濾器、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光) IL照射于掩膜Μ。照明光IL使用例如i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、h線(波長 405nm)等的光(或者上述i線、g線、h線的合成光)。又，照明光IL的波長可藉由波長選擇過濾器，依照例如被要求的解析度適當(dāng)進(jìn)行切換。于掩膜載臺(tái)MST上，例如藉由真空吸附(或靜電吸附)固定有掩膜M，該掩膜M于其圖案面(圖1的下面)形成有電路圖案等。掩膜載臺(tái)MST可透過例如未圖示的空氣軸承以非接觸方式懸浮支承于固定于后述機(jī)體BD的一部分即鏡筒定盤31上面的一對(duì)掩膜載臺(tái)導(dǎo)件35上。掩膜載臺(tái)MST能藉由包含例如線性電機(jī)的掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(未圖示)在一對(duì)掩膜載臺(tái)導(dǎo)件35上以既定行程被驅(qū)動(dòng)于掃描方向(X軸方向)，且分別適當(dāng)微幅被驅(qū)動(dòng)于Y軸方向及ΘΖ方向。掩膜載臺(tái)MST在XY平面內(nèi)的位置信息(包含ΘΖ方向的旋轉(zhuǎn)信息)，是藉由包含未圖示的激光干涉儀的掩膜干涉儀系統(tǒng)予以測(cè)量。投影光學(xué)系統(tǒng)PL是在圖1的掩膜載臺(tái)MST下方支承于鏡筒定盤31。本實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL具有與例如美國發(fā)明專利第6，552，775號(hào)說明書所揭示的投影光學(xué)系統(tǒng)類似的構(gòu)成。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PL包含掩膜M的圖案像的投影區(qū)域配置成交錯(cuò)格子狀的復(fù)數(shù)個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(多透鏡投影光學(xué)系統(tǒng))，發(fā)揮與具有以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的長方形的單一像場(chǎng)的投影光學(xué)系統(tǒng)同等的功能。本實(shí)施形態(tài)中的復(fù)數(shù)個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)均使用例如以兩側(cè)遠(yuǎn)心的等倍系統(tǒng)形成正立正像者。又，以下將投影光學(xué)系統(tǒng)PL的配置成交錯(cuò)格子狀的復(fù)數(shù)個(gè)投影區(qū)域總稱為曝光區(qū)域ΙΑ(參照?qǐng)D2)。因此，在以來自照明系統(tǒng)IOP的照明光IL照明掩膜M上的照明區(qū)域后，藉由通過掩膜M的照明光IL，使該照明區(qū)域內(nèi)的掩膜M的電路圖案的投影像(部分正立像)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL形成于照明光IL的照射區(qū)域(曝光區(qū)域IA)；該區(qū)域IA與配置于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)取⒈砻嫱坎加泄庾?感應(yīng)劑)的基板P上的照明區(qū)域共軛。接著，藉由掩膜載臺(tái)MST與基板載臺(tái)裝置PST的同步驅(qū)動(dòng)，使掩膜M相對(duì)照明區(qū)域(照明光IL)移動(dòng)于掃描方向(X軸方向)，且使基板P相對(duì)曝光區(qū)域ΙΑ(照明光IL)移動(dòng)于掃描方向(X軸方向)，藉此進(jìn)行基板P上的一個(gè)照射區(qū)域(區(qū)劃區(qū)域)的掃描曝光，以將掩膜M的圖案(掩膜圖案)轉(zhuǎn)印于該照射區(qū)域。亦即，本實(shí)施形態(tài)中，藉由照明系統(tǒng)IOP及投影光學(xué)系統(tǒng)PL 將掩膜M的圖案生成于基板P上，并且藉由照明光IL對(duì)基板P上的感應(yīng)層(光阻層)的曝光將該圖案形成于基板P上。機(jī)體BD是例如美國發(fā)明專利申請(qǐng)公開第2008/0030702號(hào)說明書等所揭示，具有前述鏡筒定盤31與在地面F上自下方分別支承鏡筒定盤31的+Y側(cè)、-Y側(cè)端部的一對(duì)支承壁32。一對(duì)支承壁32分別透過包含例如空氣彈簧的防振臺(tái)34支承于地面F上，機(jī)體BD 是與地面F在振動(dòng)上分離。又，于一對(duì)支承壁32彼此間架設(shè)有與Y軸平行延伸設(shè)置的剖面矩形(參照?qǐng)D3)的構(gòu)件所構(gòu)成的Y柱33。于Y柱33下面與后述定盤12的上面之間形成有既定的空隙(隙縫/間隔/間隙(GAP)/空間距離)。亦即，Y柱33與定盤12彼此為非接觸，在振動(dòng)上彼此分離。基板載臺(tái)裝置PST具備設(shè)置于地面F上的定盤12、從下方以非接觸方式保持基板P以調(diào)整該基板P在Z軸方向、ΘΧ方向、θ y方向的至少一方向的位置(以下稱為面位置)的定點(diǎn)載臺(tái)40 (參照?qǐng)D2)、設(shè)置于定盤12上的復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50、保持基板P的基板保持框60、將基板保持框60 (沿XY平面)驅(qū)動(dòng)于X軸方向及Y軸方向的驅(qū)動(dòng)單元70。如圖2所示，定盤12是由在俯視下(從+Z側(cè)觀看)以X軸方向?yàn)殚L邊方向的矩形板狀構(gòu)件構(gòu)成。定點(diǎn)載臺(tái)40如圖2所示配置于較定盤12上的中央略往-X側(cè)的位置。又，如圖4所示，定點(diǎn)載臺(tái)40具備搭載于Y柱33上的重量抵銷器42、支承于重量抵銷器42的夾具構(gòu)件84 (后述空氣夾具單元80的一部分)、用以將夾具構(gòu)件84驅(qū)動(dòng)于與XY平面交叉的方向的致動(dòng)器(例如復(fù)數(shù)個(gè)Z音圈電機(jī)38(以下簡稱為Z-VCM38))等。此外，在圖4中為了避免圖式過于復(fù)雜，省略復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50、基板保持框60、驅(qū)動(dòng)單元70等的圖示。重量抵銷器42具備例如固定于Y柱33的盒體43、收容于盒體43內(nèi)最下部的空氣彈簧44、支承于空氣彈簧44的Z滑件45。盒體43由+Z側(cè)開口的有底筒狀的構(gòu)件構(gòu)成?？諝鈴椈?4具有藉由橡膠是材料形成的中空構(gòu)件所構(gòu)成的伸縮囊44a、配置于伸縮囊4 上方(+Z側(cè))及下方(-Z側(cè))的與XY平面平行的一對(duì)板體44b (例如金屬板)。伸縮囊44a 內(nèi)部藉由從未圖示的氣體供應(yīng)裝置被供應(yīng)氣體，而成為壓力較外部高的正壓空間。重量抵銷器42以空氣彈簧44所產(chǎn)生的向上(+Z方向)的力抵銷基板P、夾具構(gòu)件84、Z滑件45等的重量(因重力加速度而產(chǎn)生的向下(-Z方向)的力)，藉以減低對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)Z-VCM38的負(fù)荷。Z滑件45是由下端部固定于板體44b (配置于空氣彈簧44的+Z側(cè))的與Z軸平行延伸設(shè)置的柱狀構(gòu)件構(gòu)成。Z滑件45經(jīng)由復(fù)數(shù)個(gè)平行板彈簧46連接于盒體43的內(nèi)壁面。平行板彈簧46具有在上下方向分離配置的與XY平面平行的一對(duì)板彈簧。平行板彈簧 46是在Z滑件45的+X側(cè)、-X側(cè)、+Y側(cè)、-Y側(cè)的例如共計(jì)四處連接Z滑件45與盒體43 (在 Z滑件45的+Y側(cè)及-Y側(cè)的平行板彈簧46未圖示)。Z滑件45相對(duì)于盒體43的與XY平面平行的方向的移動(dòng)被各平行板彈簧46的剛性(拉伸剛性)限制，但相對(duì)于此，在Z軸方向可藉由各平行板彈簧46的可撓性，在Z軸方向相對(duì)盒體43以微幅行程移動(dòng)。因此，Z滑件45藉由伸縮囊44a內(nèi)的氣體壓力被調(diào)整，而相對(duì)Y柱33上下移動(dòng)。此外，作為產(chǎn)生用以抵銷基板P重量的向上的力的構(gòu)件并不限于上述空氣彈簧(伸縮囊)，亦可是例如氣缸、線圈彈簧等。又，亦可使用例如軸承面與Z滑件的側(cè)面對(duì)向的非接觸推力軸承(例如空氣軸承等氣體靜壓軸承)等來作為限制Z滑件在XY平面內(nèi)的位置的構(gòu)件(參照PCT國際公開第2008/U9762號(hào)(對(duì)應(yīng)美國發(fā)明專利申請(qǐng)公開第2010/0018950號(hào)說明書))。空氣夾具單元80如圖4所示具備從下面?zhèn)纫苑墙佑|方式吸附保持基板P的一部分的夾具構(gòu)件84、將夾具構(gòu)件84驅(qū)動(dòng)于X軸方向的驅(qū)動(dòng)單元90、導(dǎo)引夾具構(gòu)件84的移動(dòng)的導(dǎo)引板91。夾具構(gòu)件84，包含夾具本體81與一體固定于該夾具本體81下面的底座82。夾具本體81是由高度方向上較低(薄型)的長方體狀構(gòu)件構(gòu)成，其上面(+Z側(cè)的面)是在俯視下以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的長方形(參照?qǐng)D幻。夾具本體81上面的面積設(shè)定成較曝光區(qū)域IA更廣，特別是在掃描方向即X軸方向的尺寸設(shè)定成較曝光區(qū)域IA在X軸方向的尺寸更長。夾具本體81于其上面具有未圖示的復(fù)數(shù)個(gè)氣體噴出孔，藉由將從未圖示的氣體供應(yīng)裝置供應(yīng)的氣體、例如高壓空氣朝向基板P下面噴出，而將基板P懸浮支承。進(jìn)而，夾具本體81于其上面具有未圖示的復(fù)數(shù)個(gè)氣體吸引孔。于夾具本體81連接有未圖示的氣體吸引裝置(真空裝置)，該氣體吸引裝置經(jīng)由夾具本體81的氣體吸引孔吸引夾具本體81上面與基板P下面間的氣體，并在夾具本體81與基板P之間產(chǎn)生負(fù)壓。夾具構(gòu)件84藉由從夾具本體81噴出至基板P下面的氣體的壓力以及吸引在夾具本體81與基板P下面之間的氣體時(shí)產(chǎn)生的負(fù)壓的平衡，以非接觸方式吸附保持基板P。如此，夾具構(gòu)件84對(duì)基板P施加所謂預(yù)負(fù)荷，因此能提高形成于夾具本體81與基板P間的氣體(空氣)膜的剛性，即使假設(shè)于基板P產(chǎn)生扭曲或翹曲，亦能將基板P—部分確實(shí)地沿夾具本體81的上面(基板保持面)加以矯正。但夾具本體81由于并不限制基板P在XY平面內(nèi)的位置，因此即使基板P 被夾具本體81吸附保持的狀態(tài)，亦可相對(duì)照明光IL(參照?qǐng)D1)分別移動(dòng)于X軸方向(掃描方向)及Y軸方向(步進(jìn)方向)。此處，如圖5(B)所示，本實(shí)施形態(tài)中，將從夾具本體81上面噴出的氣體的流量或壓力及氣體吸引裝置所吸引的氣體的流量或壓力，設(shè)定成使得夾具本體81的上面(基板保持面)與基板P下面間的距離Da(空隙(隙縫/間隔/間隙(GAP)/空間距離)))成為例如 0. 02mm程度。此外，氣體噴出孔及氣體吸引孔可為藉由機(jī)械加工而形成者，亦可以多孔質(zhì)材料形成夾具本體81并使用其孔部作為氣體噴出孔及氣體吸引孔。此種空氣夾具單元(真空預(yù)負(fù)荷空氣軸承)的構(gòu)成、功能的詳細(xì)內(nèi)容是揭示于例如PCT國際公開第2008/1215615寸。返回圖4，底座82由板狀構(gòu)件構(gòu)成。底座82于其下面具有未圖示氣體靜壓軸承、 例如空氣軸承，對(duì)后述導(dǎo)引板91的上面噴出氣體、例如空氣。藉由于底板82與導(dǎo)引板91之間形成的氣體膜的剛性，于底板82下面與導(dǎo)引板91上面之間形成一定的空隙(隙縫/間隔/間隙(GAP)/空間距離)。將夾具構(gòu)件84驅(qū)動(dòng)于X軸方向的驅(qū)動(dòng)單元90，具有分別于Y柱33的+X側(cè)及-X 側(cè)各配置有一支承柱92、分別設(shè)于各支承柱92上端及下端附近(合計(jì)四處)的各一對(duì)滑輪 93 (參照?qǐng)D7 (A))、以及兩條驅(qū)動(dòng)帶94 (參照?qǐng)D7 (A))。一對(duì)支承柱92分別由與Z軸平行延伸設(shè)置的柱狀構(gòu)件構(gòu)成，并且具有-Z側(cè)端部連接于定盤12。成對(duì)的滑輪93于Y軸方向以既定間隔配置(參照?qǐng)D7(A))。成對(duì)的滑輪93分別被支承成可繞著與Y軸平行的軸95 旋轉(zhuǎn)。于+X側(cè)支承位于-Z側(cè)的一對(duì)滑輪93的軸95，連接有用以使該軸95旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置、例如電動(dòng)電機(jī)96。電動(dòng)電機(jī)96藉由未圖示的主控制裝置控制。兩條驅(qū)動(dòng)帶94彼此平行地于Y軸方向以既定間隔配置(參照?qǐng)D7(A))。兩條驅(qū)動(dòng)帶94各自的一端連接于底座82的+X側(cè)側(cè)面。又，兩條驅(qū)動(dòng)帶94各自的中間部分，從一端側(cè)觀看時(shí)依序卷繞于+X側(cè)且+Z側(cè)的滑輪93、+X側(cè)且-Z側(cè)的滑輪93、-X側(cè)且-Z側(cè)的滑輪 93、以及-X側(cè)且+Z側(cè)的滑輪93，且其另一端固定于底座82的-Z側(cè)側(cè)面。一對(duì)驅(qū)動(dòng)帶94 中架設(shè)于+X側(cè)且-Z側(cè)的一對(duì)滑輪93以及-X側(cè)且-Z側(cè)的一對(duì)滑輪93間的區(qū)域的部分通過Y柱33下方。是以，當(dāng)藉由電動(dòng)電機(jī)使+X側(cè)且-Z側(cè)的滑輪93旋轉(zhuǎn)后，藉由該滑輪93與驅(qū)動(dòng)帶 94間產(chǎn)生的摩擦力，夾具構(gòu)件84被驅(qū)動(dòng)帶94牽引而往+X方向或-X方向移動(dòng)。夾具構(gòu)件 84的位置根據(jù)使用例如旋轉(zhuǎn)編碼器等測(cè)量的滑輪93(或者軸％)的旋轉(zhuǎn)數(shù)，藉由未圖示的主控制裝置予以開環(huán)控制。此外，用以將夾具構(gòu)件84驅(qū)動(dòng)于X軸方向的驅(qū)動(dòng)裝置的構(gòu)成并不限于此，亦可藉由例如包含進(jìn)給螺桿機(jī)構(gòu)或齒條與小齒輪機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)裝置、或線性電機(jī)來驅(qū)動(dòng)夾具構(gòu)件。又，亦可使用例如繩等取代上述驅(qū)動(dòng)帶來牽引夾具構(gòu)件。于導(dǎo)引板91的下面中央固定有具半球面狀軸承面的氣體靜壓軸承、例如球面空氣軸承83。球面空氣軸承83嵌合于在Z滑件45的+Z側(cè)端面(上面)形成的凹部45a。藉此，導(dǎo)引板91于Z滑件45被支承成可相對(duì)XY平面擺動(dòng)(可于θ x及θ y方向旋轉(zhuǎn))。如前所述，由于于導(dǎo)引板91與夾具構(gòu)件84(底座82)之間形成一定的空隙(隙縫/間隔/間隙(GAP)/空間距離)，因此當(dāng)導(dǎo)引板91相對(duì)XY平面擺動(dòng)時(shí)，夾具構(gòu)件84則與導(dǎo)引板91 一體地相對(duì)XY平面擺動(dòng)。此外，作為將導(dǎo)引板91支承成可相對(duì)XY平面擺動(dòng)的構(gòu)造，可以是例如PCT國際公開第2008/U9762號(hào)所揭示的使用了復(fù)數(shù)個(gè)空氣墊(空氣軸承)的擬似球面軸承構(gòu)造，亦可使用彈性鉸鏈裝置。復(fù)數(shù)個(gè)本實(shí)施形態(tài)中為四個(gè)的Z-VCM分別于重量抵銷器42的+X側(cè)、-X側(cè)、+Y 側(cè)、-Y側(cè)各設(shè)有一個(gè)(-Y側(cè)的Z-VCM參照?qǐng)D3，+Y側(cè)的Z-VCM的圖示則省略)。四個(gè)Z-VCM 雖其設(shè)置位置不同但具有相同構(gòu)成及功能。四個(gè)Z-VCM 38均包含固定在設(shè)置于定盤12上的底座框85的Z固定件47與固定于導(dǎo)引板91下面的Z可動(dòng)件48。底座框85包含俯視下形成為圓環(huán)狀的板狀構(gòu)件所構(gòu)成的本體部8 與在定盤12 上自下方支承本體部85a的復(fù)數(shù)個(gè)腳部85b。本體部8 配置于Y柱33上方，并且于形成于其中央部的開口部內(nèi)插入有重量抵銷器42。因此，本體部8 與Y柱33及重量抵銷器42 分別為非接觸的。復(fù)數(shù)支(三支以上)腳部8 分別由與Z軸平行延伸設(shè)置的構(gòu)件構(gòu)成， 腳部85b的+Z側(cè)端部連接于本體部85a，-Z側(cè)端部固定于定盤12。復(fù)數(shù)支腳部8 分別插入于在Y柱中與復(fù)數(shù)支腳部8 分別對(duì)應(yīng)而形成的貫通于Z軸方向的復(fù)數(shù)個(gè)貫通孔33a， 并且復(fù)數(shù)支腳部8 與Y柱33為非接觸的。Z可動(dòng)件48由剖面倒U字形的構(gòu)件構(gòu)成，于一對(duì)對(duì)向面分別具有包含磁石的磁石單元49。另一方面，Z固定件47具有包含線圈的線圈單元(圖示省略)，該線圈單元插入于一對(duì)磁石單元49間。供應(yīng)至Z固定件47的線圈的電流的大小、方向等受到未圖示的主控制裝置控制，在對(duì)線圈單元的線圈供應(yīng)電流后，藉由因線圈單元與磁石單元的電磁相互作用而產(chǎn)生的電磁力(勞倫茲力)，將Z可動(dòng)件48 (亦即導(dǎo)引板91)相對(duì)Z固定件47 (亦即底座框85)驅(qū)動(dòng)于Z軸方向。未圖示的主控制裝置是藉由同步控制四個(gè)Z-VCM 38，將導(dǎo)引板91驅(qū)動(dòng)于Z軸方向(使其上下移動(dòng))。又，主控制裝置藉由適當(dāng)控制分別對(duì)四個(gè)Z固定件47所具有的線圈供應(yīng)的電流大小、方向等，而使導(dǎo)引板91相對(duì)XY平面擺動(dòng)于任意方向(驅(qū)動(dòng)于ΘΧ方向、07方向)。定點(diǎn)載臺(tái)40藉此動(dòng)作來調(diào)整基板P中夾具構(gòu)件84(夾具本體81)所保持的部位在Z軸方向的位置、以及在θ χ、θ y方向的位置的至少一個(gè)位置。 此外，本實(shí)施形態(tài)的Z軸VCM雖均是可動(dòng)件具有磁石單元的動(dòng)磁式音圈電機(jī)，但并不欲限于此，亦可以是可動(dòng)件具有線圈單元的動(dòng)圈式音圈電機(jī)。又，驅(qū)動(dòng)方式亦可以是勞倫茲力驅(qū)動(dòng)方式以外的驅(qū)動(dòng)方式。此處，由于四個(gè)Z-VCM 38各自的Z固定件47搭載于底座框85上，因此使用四個(gè) Z-VCM 38將導(dǎo)引板91驅(qū)動(dòng)于Z軸方向、或θ χ方向、θ y方向時(shí)作用于Z固定件47的驅(qū)動(dòng)力的反作用力不會(huì)傳達(dá)至Y柱33。因此，即使使用Z-VCM 38驅(qū)動(dòng)導(dǎo)引板91，亦不會(huì)對(duì)重量抵銷器42的動(dòng)作有任何影響。又，由于驅(qū)動(dòng)力的反作用力亦不會(huì)傳達(dá)至具有Y柱33的機(jī)體BD，因此即使使用Z-VCM 38驅(qū)動(dòng)導(dǎo)引板91，其驅(qū)動(dòng)力的反作用力亦不會(huì)影響投影光學(xué)系統(tǒng)PL等。此外，由于Z-VCM 38只要能使導(dǎo)引板91沿Z軸方向上下移動(dòng)及使其相對(duì)XY平面擺動(dòng)于任意的方向即可，因此只要設(shè)于例如不在同一直線上的三處，三個(gè)Z-VCM 38亦可。被Z-VCM 38驅(qū)動(dòng)的導(dǎo)引板91的位置信息是使用復(fù)數(shù)個(gè)、在本實(shí)施形態(tài)中例如四個(gè)Z感測(cè)器86加以求出。Z感測(cè)器86是與四個(gè)Z-VCM 38對(duì)應(yīng)地于重量抵銷器42的+X 側(cè)、-X側(cè)、+Y側(cè)、-Y側(cè)分別各設(shè)有一個(gè)(+Y側(cè)、-Y側(cè)的Z感測(cè)器的圖示省略)。藉此，本實(shí)施形態(tài)中，藉由使被Z-VCM驅(qū)動(dòng)的被驅(qū)動(dòng)物(此處為導(dǎo)引板91)上的Z-VCM的驅(qū)動(dòng)點(diǎn)(驅(qū)
12動(dòng)力的作用點(diǎn))與Z感測(cè)器86的測(cè)量點(diǎn)彼此接近，提高測(cè)量點(diǎn)與驅(qū)動(dòng)點(diǎn)之間的被驅(qū)動(dòng)物的剛性，以提高Z感測(cè)器86的可控制性。亦即，由Z感測(cè)器86輸出與被驅(qū)動(dòng)物的驅(qū)動(dòng)距離對(duì)應(yīng)的正確的測(cè)量值，以謀求定位時(shí)間的縮短。若從提高可控制性的觀點(diǎn)來看，最好是Z感測(cè)器86的取樣周期亦較短。四個(gè)Z感測(cè)器86均為實(shí)質(zhì)相同的感測(cè)器。Z感測(cè)器86是與固定于導(dǎo)引板91下面的目標(biāo)物87 —起構(gòu)成求出以Y柱33為基準(zhǔn)的導(dǎo)引板91在Z軸方向的位置信息的例如電容式(或渦電流式)位置感測(cè)器。如前所述，由于導(dǎo)引板91的上面與底座82的下面之間的距離為一定，因此未圖示的主控制裝置是根據(jù)四個(gè)Z感測(cè)器86的輸出持續(xù)求出夾具構(gòu)件 84在Z軸方向及ΘΧ、θ y各方向的位置信息，并根據(jù)其測(cè)量值適當(dāng)控制四個(gè)Z-VCM 38，藉此控制夾具構(gòu)件84上面的位置。此處，夾具構(gòu)件84的最終位置是控制成通過接近空氣夾具單元80上空的基板P的上面持續(xù)在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的焦點(diǎn)位置高度。未圖示的主控制裝置一邊藉由未圖示的面位置測(cè)量系統(tǒng)(自動(dòng)聚焦裝置)監(jiān)測(cè)基板P上面的位置(面位置)， 一邊使用可控制性高的Z感測(cè)器86的位置信息來驅(qū)動(dòng)且控制夾具構(gòu)件84以使該基板P的上面持續(xù)位于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的焦深內(nèi)(使投影光學(xué)系統(tǒng)PL總是聚焦于基板P的上面)。 此處的面位置測(cè)量系統(tǒng)(自動(dòng)聚焦裝置)具有在曝光區(qū)域IA內(nèi)Y軸方向的位置為不同的復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)。例如，于各投影區(qū)域內(nèi)配置有至少一個(gè)測(cè)量點(diǎn)。此情形下，該復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)是依據(jù)復(fù)數(shù)個(gè)投影區(qū)域的交錯(cuò)格子狀配置在X軸方向分開的兩列。是以，可根據(jù)該復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)的測(cè)量值(面位置)求出曝光區(qū)域IA部分的基板P表面的Z位置，進(jìn)而可求出基板 P的縱搖量(θ y旋轉(zhuǎn))及橫搖量(θ χ旋轉(zhuǎn))。又，面位置測(cè)量系統(tǒng)亦可與該復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)分別地、或進(jìn)一步地于曝光區(qū)域IA的Y軸方向(非掃描方向)外側(cè)具有測(cè)量點(diǎn)。此時(shí)，藉由使用包含該外側(cè)的測(cè)量點(diǎn)的位于Y軸方向最外側(cè)的兩個(gè)測(cè)量點(diǎn)的測(cè)量值，而能更正確地求出橫搖量(91旋轉(zhuǎn))。又，面位置測(cè)量系統(tǒng)亦可于曝光區(qū)域IA外側(cè)、于X軸方向(掃描方向)稍微分離的位置具有其他測(cè)量點(diǎn)。此情形下，可進(jìn)行基板P的聚焦/調(diào)平的所謂的先讀取控制。除此之外，面位置測(cè)量系統(tǒng)亦可取代在各投影區(qū)域內(nèi)至少配置有一個(gè)的復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)或進(jìn)一步地在自曝光區(qū)域IA往X軸方向(掃描方向)分離的位置具有排列于Y 軸方向的復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)(其配置區(qū)域與曝光區(qū)域IA在Y軸方向的位置對(duì)應(yīng))。此情形下， 可在曝光開始前，例如對(duì)準(zhǔn)測(cè)量時(shí)，進(jìn)行事前取得基板P的面位置分布的焦點(diǎn)制圖。在曝光時(shí)，使用以該焦點(diǎn)制圖取得的信息進(jìn)行基板P的聚焦/調(diào)平控制。關(guān)于基板的焦點(diǎn)制圖及使用焦點(diǎn)制圖信息的曝光時(shí)的基板的聚焦/調(diào)平控制，已詳細(xì)揭示于例如美國發(fā)明專利申請(qǐng)公開第2008/0088843號(hào)說明書等。此外，Z感測(cè)器只要能求出導(dǎo)引板91在Z軸方向及θ χ、θ y各方向的位置信息即可，因此只要設(shè)于例如不在同一直線上的三處，三個(gè)Z感測(cè)器亦可。復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50(本實(shí)施形態(tài)中例如為三十四臺(tái))是藉由從下方以非接觸方式將基板P (不過，除了前述定點(diǎn)載臺(tái)40所保持的部分以外)支承成基板P維持與水平面大致平行，藉此防止來自外部的振動(dòng)傳達(dá)至基板P，或防止基板P因其自身重量而變形(彎曲)及裂開，或抑制因基板P的自身重量而往Z軸方向彎曲所導(dǎo)致產(chǎn)生的基板P在X及Y 各方向的尺寸誤差(或XY平面內(nèi)的位置偏移)的產(chǎn)生。復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50，除了其配置位置或大小不同以外，具有實(shí)質(zhì)相同的功能。 本實(shí)施形態(tài)中，如圖2所示于定點(diǎn)載臺(tái)40的+Y側(cè)及-Y側(cè)配置例如各一臺(tái)空氣懸浮單元50，并且于定點(diǎn)載臺(tái)40的+X側(cè)及-X側(cè)，沿Y軸方向以等間隔排列的例如八臺(tái)空氣懸浮單元50所構(gòu)成的空氣懸浮單元列，是沿X軸方向以既定間隔配置有各兩列。亦即，復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50配置成包圍定點(diǎn)載臺(tái)40周圍。以下，為了使說明方便，將四列空氣懸浮單元列自-X側(cè)依序稱為第一 第四列，且將構(gòu)成各空氣懸浮單元列的八臺(tái)空氣懸浮單元自-Y 側(cè)依序稱為第一 第八臺(tái)。此外，分別構(gòu)成第二及第三列的空氣懸浮單元列的第四及第五臺(tái)空氣懸浮單元50，與其他空氣懸浮單元50相較雖較小，但其能力(例如每單位面積的空氣噴出量)與其他空氣懸浮單元50相同。各空氣懸浮單元50，如圖3所示，例如包含對(duì)基板P下面噴出氣體(例如空氣)的本體部51、從下方支承本體部51的支承部52、以及在定盤12上自下方支承支承部52的復(fù)數(shù)個(gè)(例如一對(duì))腳部53。本體部51由長方體狀構(gòu)件構(gòu)成，于其上面(+Z側(cè)的面)具有復(fù)數(shù)個(gè)氣體噴出孔。本體部51藉由朝向基板P下面噴出氣體(空氣)而懸浮支承基板P，在基板P沿XY平面移動(dòng)時(shí)導(dǎo)引其移動(dòng)。復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50各自的上面是位于同一 XY 平面上。此外，可構(gòu)成為空氣懸浮單元自設(shè)于外部的未圖示氣體供應(yīng)裝置被供應(yīng)氣體，空氣懸浮單元本身亦可具有例如風(fēng)扇等送風(fēng)裝置。本實(shí)施形態(tài)中，如圖5(B)所示，是將從本體部51噴出的氣體壓力及流量，設(shè)定成本體部51的上面(空氣噴出面)與基板P下面間的距離Db (空隙(隙縫/間隔/間隙(GAP)/空間距離))成為例如0.8mm左右。此外，氣體噴出孔可藉由機(jī)械加工而形成，或亦可將本體部以多孔質(zhì)材料形成，并使用其孔部作為氣體噴出孔。支承部52是由俯視為長方形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，其下面支承于一對(duì)腳部53。此外， 分別配置于定點(diǎn)載臺(tái)40的+Y側(cè)、-Y側(cè)的一對(duì)(兩臺(tái))空氣懸浮單元50的腳部構(gòu)成為不接觸于Y柱33 (例如腳部形成為倒U字形，橫跨Y柱33而配置)。此外，復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元的數(shù)量及其配置不限于上述說明所例示者，亦可因應(yīng)例如基板P的大小、形狀、重量、可移動(dòng)范圍、或空氣懸浮單元的能力等來適當(dāng)變更。又，各空氣懸浮單元的支承面(氣體噴出面)的形狀、相鄰的空氣懸浮單元間之間隔等亦無特別限定。扼要言之，空氣懸浮單元只要配置成能涵蓋基板P的整體可移動(dòng)范圍(或略廣于可移動(dòng)范圍的區(qū)域)即可?；灞３挚?0如圖2所示，具有在俯視下以X軸方向?yàn)殚L邊方向的矩形外形形狀 (輪廓)?；灞３挚?0在Y軸方向以既定間隔具有一對(duì)以X軸方向?yàn)殚L邊方向的與XY 平面平行的平板狀構(gòu)件即X框構(gòu)件61x，并且該對(duì)X框構(gòu)件61x在+X側(cè)、-X側(cè)端部分別藉由以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的與XY平面平行的平板狀構(gòu)件即Y框構(gòu)件61y連接。從剛性的確保及輕量化的觀點(diǎn)來看，一對(duì)X框構(gòu)件61x及一對(duì)Y框構(gòu)件61y，均藉由例如GFRP (Glass Fiber Reinforced Plastics，玻璃纖維強(qiáng)化塑膠)等纖維強(qiáng)化合成樹脂材料或陶瓷等形成較佳。于-Y側(cè)的X框構(gòu)件61x上面固定有于-Y側(cè)的面具有與Y軸正交的反射面的Y移動(dòng)鏡62y。又，于-X側(cè)的Y框構(gòu)件61y上面固定有于-X側(cè)的面具有與X軸正交的反射面的 X移動(dòng)鏡62x?；灞３挚?0(亦即基板P)在XY平面內(nèi)的位置信息(包含ΘΖ方向的旋轉(zhuǎn)信息)，是藉由包含對(duì)X移動(dòng)鏡6 的反射面照射測(cè)距光束的復(fù)數(shù)臺(tái)(例如兩臺(tái))的X激光干涉儀63x及對(duì)Y移動(dòng)鏡62y的反射面照射測(cè)距光束的復(fù)數(shù)臺(tái)(例如兩臺(tái))的Y激光干涉儀63y的激光干涉儀系統(tǒng)，以例如0. 25nm程度的解析能力持續(xù)檢測(cè)。X激光干涉儀63x、 Y激光干涉儀63y分別透過既定的固定構(gòu)件64x，64y固定于機(jī)體BD (圖3中未圖示，參照?qǐng)D1)。此外，X激光干涉儀63x、Y激光干涉儀63y，其臺(tái)數(shù)及間隔被設(shè)定成分別在基板保持框 60的可移動(dòng)范圍內(nèi)來自至少一個(gè)干涉儀的測(cè)距光束可照射于對(duì)應(yīng)的移動(dòng)鏡。是以，各干涉儀的臺(tái)數(shù)并不限定于兩臺(tái)，可視基板保持框的移動(dòng)行程而例如僅一臺(tái)或三臺(tái)以上。又，在使用復(fù)數(shù)測(cè)距光束時(shí)，可設(shè)置復(fù)數(shù)光學(xué)系統(tǒng)，并且光源或控制單元亦可在復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)距光束間共用?；灞３挚?0具有從下方真空吸附來保持基板P端部(外周緣部)的復(fù)數(shù)個(gè)例如四個(gè)保持單元65。四個(gè)保持單元65在一對(duì)X框構(gòu)件61x各自彼此對(duì)向的對(duì)向面在X軸方向分離安裝有各兩個(gè)。此外，保持單元的數(shù)目及配置并不限于此，亦可按照基板大小、易彎曲程度等來適當(dāng)追加額外的保持單元。又，保持單元65亦可安裝于Y框構(gòu)件。由圖5㈧及圖5(B)可知，保持單元65具有形成為H剖面L字形的臂部66。于臂部66的基板載置面部，設(shè)有用以藉由例如真空吸附來吸附基板P的吸附墊67。又，于臂部66的上端部設(shè)有接頭構(gòu)件68，該接頭構(gòu)件68連接至管(圖示省略)的一端，管的另一端連接于未圖示的真空裝置。吸附墊67與接頭構(gòu)件68是經(jīng)由設(shè)于臂部66內(nèi)部的配管構(gòu)件而彼此連通。于臂部66與X框構(gòu)件61x的彼此對(duì)向的對(duì)向面，分別形成有突出成凸?fàn)畹耐範(fàn)畈?9a，在該彼此對(duì)向的一對(duì)凸?fàn)畈?9a之間，透過復(fù)數(shù)個(gè)螺栓69b架設(shè)有在Z軸方向分離的一對(duì)與XY平面平行的板彈簧69。亦即，臂部66與X框構(gòu)件61x是藉由平行板彈簧而連接。是以，臂部66相對(duì)X框構(gòu)件61x在X軸方向及Y軸方向藉由板彈簧69的剛性而限制其位置，相對(duì)于此，在Z軸方向(垂直方向)上則能藉由板彈簧69的彈性以不旋轉(zhuǎn)于 θχ方向的方式位移(上下移動(dòng))于Z軸方向。此處，臂部66的下端面(-Z側(cè)端面)是較一對(duì)X框構(gòu)件61χ及一對(duì)Y框構(gòu)件61y 各自的下端面(-Z側(cè)端面)更往-ζ側(cè)突出。其中，臂部66中基板載置面部的厚度T，設(shè)定為較空氣懸浮單元50的氣體噴出面與基板P的下面間的距離Db(本實(shí)施形態(tài)中例如為 0.8mm左右)薄(例如設(shè)定為0.5mm左右)。因此，在臂部66的基板載置面的下面與復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50的上面之間形成有例如0. 3mm左右的空隙(隙縫/間隔/間隙(GAP) / 空間距離)，在基板保持框60與XY平面平行移動(dòng)于復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50上時(shí)，臂部66 與空氣懸浮單元50彼此不接觸。此外，如圖6(A) 圖6(C)所示，在基板P的曝光動(dòng)作中， 臂部66由于不通過定點(diǎn)載臺(tái)40的上方，因此臂部66與夾具構(gòu)件84亦不會(huì)彼此接觸。此夕卜，臂部66的基板載置面部是如上述厚度較薄，因此在Z軸方向的剛性較低，但由于能擴(kuò)大抵接于基板P的部分(與XY平面平行的平面部)的面積，因此能使吸附墊大型化，提升基板的吸附力。又，能確保臂部本體在與XY平面平行的方向的剛性。驅(qū)動(dòng)單元70如圖3所示，具有固定于定盤12上的一對(duì)X導(dǎo)件71、分別搭載于一對(duì)X導(dǎo)件71且可在X導(dǎo)件71上移動(dòng)于X軸方向的一對(duì)X可動(dòng)部72 (-Y側(cè)的X可動(dòng)部的圖示省略)、架設(shè)于一對(duì)X可動(dòng)部72間的Y導(dǎo)件73、以及搭載于Y導(dǎo)件73且可在Y導(dǎo)件73 上移動(dòng)于Y軸方向的Y可動(dòng)部74。如圖2及圖3所示，基板保持框60的+X側(cè)的Y框構(gòu)件 61y固定于Y可動(dòng)部74。一對(duì)X導(dǎo)件71除其配置位置不同以外，其余為實(shí)質(zhì)相同。一對(duì)X導(dǎo)件71如圖2所示，于Y軸方向以既定間隔配置于較Y柱33更為+X側(cè)的區(qū)域。一個(gè)X導(dǎo)件71 (-Y側(cè))配置于分別構(gòu)成第三及第四列的空氣懸浮單元列的第二臺(tái)空氣懸浮單元50與第三臺(tái)空氣懸浮單元50之間，另一個(gè)X導(dǎo)件71 (+Y側(cè))配置于分別構(gòu)成第三及第四列的空氣懸浮單元列的第六臺(tái)空氣懸浮單元50與第七臺(tái)空氣懸浮單元50之間。又，一對(duì)X導(dǎo)件71均較第四列的空氣懸浮單元列更往+X側(cè)延伸。此外，圖3中為避免圖式過于復(fù)雜，省略空氣懸浮單元 50的圖示的一部分。一對(duì)X導(dǎo)件71具有以X軸方向?yàn)殚L邊方向的與)(Z平面平行的板狀構(gòu)件所構(gòu)成的本體部71a、以及在定盤12上支承本體部71a的復(fù)數(shù)個(gè)例如三個(gè)支承臺(tái)71b (參照?qǐng)D1)。本體部71a的Z軸方向的位置設(shè)定成其上面位于復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50各自的支承部52下方。于本體部71a的+Y側(cè)側(cè)面、-Y側(cè)側(cè)面、以及上面(+Z側(cè)的面)如圖1所示分別固定有與χ軸平行延伸設(shè)置的X線性導(dǎo)件75。又，在本體部71a的+Y側(cè)、-Y側(cè)各自的側(cè)面固定有磁石單元76，該磁石單元76包含沿X軸方向排列的復(fù)數(shù)個(gè)磁石(參照?qǐng)D3)。一對(duì)X可動(dòng)部72如圖1所示，由TL剖面為倒U字形的構(gòu)件構(gòu)成，前述X導(dǎo)件71 插入于該構(gòu)件的一對(duì)對(duì)向面間。于一對(duì)X可動(dòng)部72各自的內(nèi)側(cè)面(頂面及彼此對(duì)向的一對(duì)對(duì)向面)分別固定有形成為剖面U字形的滑件77?；?7具有未圖示的滾動(dòng)體(例如球體、滾子等)，以相對(duì)X線性導(dǎo)件75可滑動(dòng)的狀態(tài)卡合(嵌合)于X線性導(dǎo)件75。又，于 X可動(dòng)部72的一對(duì)對(duì)向面分別固定有與固定在X導(dǎo)件71的磁石單元76對(duì)向的包含線圈的線圈單元78。一對(duì)線圈單元78構(gòu)成藉由與一對(duì)磁石單元76的電磁相互作用將X可動(dòng)部72在X導(dǎo)件71上驅(qū)動(dòng)于X軸方向的電磁力(勞倫茲力)驅(qū)動(dòng)方式的X線性電機(jī)。供應(yīng)至線圈單元78的線圈的電流大小、方向等是受未圖示的主控制裝置控制。X可動(dòng)部72在X 軸方向的位置信息是藉由未圖示的線性編碼器系統(tǒng)或光干涉儀系統(tǒng)以高精度測(cè)量。于一對(duì)X可動(dòng)部72各自的上面固定有與Z軸平行的軸79的一端(下端)。-Y側(cè)的軸79如圖1所示，是通過構(gòu)成第四列(或是依X可動(dòng)部72的位置不同而為第三列)的空氣懸浮單元列的第二臺(tái)空氣懸浮單元50與第三臺(tái)空氣懸浮單元50之間而較各空氣懸浮單元50上面(氣體噴出面)更往+Z側(cè)延伸。又，+Y側(cè)的軸79是通過構(gòu)成第四列(或是依X可動(dòng)部72的位置不同而為第三列)的空氣懸浮單元列的第六臺(tái)空氣懸浮單元50與第七臺(tái)空氣懸浮單元50之間。一對(duì)軸79各自的另一端(上端)固定于Y導(dǎo)件73的下面 (參照?qǐng)D3)。因此，Y導(dǎo)件73配置于較空氣懸浮單元50上面的更上方。Y導(dǎo)件73由以Y 軸方向?yàn)殚L邊方向的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于其內(nèi)部具有未圖示的磁石單元，該磁石單元包含沿Y 軸方向排列的復(fù)數(shù)個(gè)磁石。此處，在對(duì)基板P進(jìn)行曝光處理等時(shí)，Y導(dǎo)件73由于如圖3所示配置于復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50上方，因此其下面被從空氣懸浮單元50噴出的空氣支承， 藉此，例如可防止Y導(dǎo)件73因例如其Y軸方向兩端部的自身重量而下垂。因此，不需確保用以防止上述下垂的剛性，可謀求Y導(dǎo)件73的輕量化。Y可動(dòng)部74如圖3所示，由在內(nèi)部具有空間的高度方向尺寸較小(薄)的箱形構(gòu)件構(gòu)成，于其下面形成有容許軸79通過的開口部，又，Y可動(dòng)部74于+Y側(cè)及-Y側(cè)側(cè)面亦具有開口部，Y導(dǎo)件73經(jīng)由該開口部插入于Y可動(dòng)部74內(nèi)。又，Y可動(dòng)部74，在對(duì)向于Y導(dǎo)件73的對(duì)向面具有未圖示的非接觸推力軸承、例如空氣軸承，并且可以非接觸狀態(tài)在Y導(dǎo)件73上移動(dòng)于Y軸方向。由于保持基板P的基板保持框60固定于Y可動(dòng)部74，因此對(duì)前述定點(diǎn)載臺(tái)40及復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50分別為非接觸狀態(tài)。再者，Y可動(dòng)部74于其內(nèi)部具有包含線圈的線圈單元(圖示省略)。該線圈單元構(gòu)成藉由與Y導(dǎo)件73所具有的磁石單元的電磁相互作用將Y可動(dòng)部74在Y導(dǎo)件73上驅(qū)動(dòng)于Y軸方向的電磁力驅(qū)動(dòng)方式的Y線性電機(jī)。供應(yīng)至線圈單元的線圈的電流大小、方向等受未圖示的主控制裝置控制。Y可動(dòng)部74在Y軸方向的位置信息是藉由未圖示的線性編碼器系統(tǒng)或干涉儀系統(tǒng)以高精度測(cè)量。此外，上述X線性電機(jī)、Y線性電機(jī)可以是動(dòng)磁式及動(dòng)圈式的任一者，其驅(qū)動(dòng)方式亦不限于勞倫茲力驅(qū)動(dòng)方式，亦可以是可變磁阻驅(qū)動(dòng)方式等其他方式。又，作為將上述X可動(dòng)部驅(qū)動(dòng)于X軸方向的驅(qū)動(dòng)裝置、以及將上述Y可動(dòng)部驅(qū)動(dòng)于 Y軸方向的驅(qū)動(dòng)裝置，可視例如被要求的基板的定位精度、產(chǎn)能、基板的移動(dòng)行程等，使用例如包含滾珠螺桿或齒條與小齒輪等的單軸驅(qū)動(dòng)裝置，亦可使用采用例如金屬線或皮帶等將 X可動(dòng)部、Y可動(dòng)部分別牽引于X軸方向、Y軸方向的裝置。除此之外，液晶曝光裝置10亦具有用以測(cè)量位于緊鄰?fù)队肮鈱W(xué)系統(tǒng)PL下方的基板P表面(上面)的面位置信息(Z軸、θ χ、θ y的各方向的位置信息)的面位置測(cè)量系統(tǒng) (圖示省略)?？墒褂美缑绹l(fā)明專利第5，448，332號(hào)說明書等所揭示的斜入射方式者作為面位置測(cè)量系統(tǒng)。如上述構(gòu)成的液晶曝光裝置10 (參照?qǐng)D1)，在未圖示的主控制裝置的控制下，藉由未圖示的掩膜裝載器將掩膜M裝載于掩膜載臺(tái)MST，以及藉由未圖示的基板裝載器將基板P裝載于基板載臺(tái)裝置PST。其后，藉由主控制裝置使用未圖示的對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量結(jié)束后，即進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作。圖6(A) 圖6(C)顯示上述曝光動(dòng)作時(shí)的基板載臺(tái)裝置PST的動(dòng)作的一例。此夕卜，以下是說明分別于基板P的+Y側(cè)、-Y側(cè)區(qū)域各設(shè)定一個(gè)以X軸方向?yàn)殚L邊方向的矩形照射區(qū)域、即所謂單一基板雙顯示器的情形。如圖6(A)所示，曝光動(dòng)作是從基板P的-Y側(cè)且-X側(cè)的區(qū)域朝向基板P的-Y側(cè)且+X側(cè)的區(qū)域進(jìn)行。此時(shí)，藉由驅(qū)動(dòng)單元70的X可動(dòng)部72 (參照?qǐng)D1等)在X導(dǎo)件71上被往-X方向驅(qū)動(dòng)，而將基板P相對(duì)曝光區(qū)域IA往-X 方向(參照?qǐng)D6 (A)的黑箭頭)驅(qū)動(dòng)，而對(duì)基板P的-Y側(cè)區(qū)域進(jìn)行掃描動(dòng)作(曝光動(dòng)作)。 其次，基板載臺(tái)裝置PST是如圖6 (B)所示，藉由驅(qū)動(dòng)單元70的Y可動(dòng)部74在Y導(dǎo)件73上被往-Y方向(參照?qǐng)D6(B)的白箭頭)驅(qū)動(dòng)，以進(jìn)行步進(jìn)動(dòng)作。此外，圖6(B)中，為了使理解容易而顯示在基板P是位于曝光區(qū)域IA內(nèi)的狀態(tài)下進(jìn)行步進(jìn)動(dòng)作之圖，但實(shí)際的步進(jìn)動(dòng)作是較圖6(B)所示的狀態(tài)更使基板P位于-X側(cè)的狀態(tài)下進(jìn)行。此后，如圖6(C)所示，藉由驅(qū)動(dòng)單元70的X可動(dòng)部72 (參照?qǐng)D1等)在X導(dǎo)件71上被往+X方向驅(qū)動(dòng)，而將基板P 相對(duì)曝光區(qū)域IA往+X方向(參照?qǐng)D6(C)的黑箭頭)驅(qū)動(dòng)，而對(duì)基板P的+Y側(cè)區(qū)域進(jìn)行掃描動(dòng)作(曝光動(dòng)作)。主控制裝置在進(jìn)行如圖6(A) 圖6(C)所示的步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作中，使用干涉儀系統(tǒng)及面位置測(cè)量系統(tǒng)持續(xù)測(cè)量基板P在XY平面內(nèi)的位置信息及基板P表面的被曝光部位的面位置信息，根據(jù)其測(cè)量值適當(dāng)控制四個(gè)Z-VCM 38，以調(diào)整(定位)成使基板P 中被定點(diǎn)載臺(tái)40保持的部分、亦即使位于緊鄰?fù)队肮鈱W(xué)系統(tǒng)PL下方的被曝光部位的面位置(Z軸方向、θ x及θ y各方向的位置)位于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的焦深內(nèi)。藉此，本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10所具有的基板載臺(tái)裝置PST中，即使例如假設(shè)于基板P表面產(chǎn)生起伏或基板P產(chǎn)生厚度的誤差，亦可確實(shí)地使基板P的被曝光部位的面位置位于投影光學(xué)系統(tǒng) PL的焦深內(nèi)，而能使曝光精度提升。此處，如前所述基板載臺(tái)裝置PST中，定點(diǎn)載臺(tái)40的空氣夾具單元80的夾具本體 81 (夾具構(gòu)件84)的位置在X軸方向?yàn)榭勺兊?。未圖示的主控制裝置是視曝光動(dòng)作時(shí)基板 P的位置控制夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)在X軸方向的位置。以下，使用圖7(A) 圖8(C)具體說明空氣夾具單元80的動(dòng)作的一例。此外，圖7(A) 圖8(C)中，為避免圖式復(fù)雜，是省略復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50、基板保持框60、驅(qū)動(dòng)單元70等的圖示。又，以下說明之例中， 與圖6㈧ 圖6 (C)所示之例同樣地，曝光動(dòng)作是從基板P的-X側(cè)且-Y側(cè)區(qū)域進(jìn)行。此處，液晶曝光裝置10中，需在曝光時(shí)使基板P以既定的一定速度移動(dòng)(等速移動(dòng))于X軸方向。因此，主控制裝置在曝光開始前，如圖7(A)所示，預(yù)先使基板P較曝光區(qū)域IA往+X側(cè)位于一距離(基板P自靜止?fàn)顟B(tài)加速至既定的一定速度為止時(shí)的移動(dòng)距離與取基板P與掩膜載臺(tái)MST (參照?qǐng)D1)的同步時(shí)所需的距離(所謂靜定距離)所總合者)量。 又，在圖7(A)所示狀態(tài)下，主控制裝置控制驅(qū)動(dòng)單元90，使夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)位于導(dǎo)引板91上的+X側(cè)區(qū)域，并且在該位置藉由吸附來保持基板P的-X側(cè)端部附近的區(qū)域 (包含照射區(qū)域的-X側(cè)端部的區(qū)域)。導(dǎo)引板91其X軸方向的尺寸設(shè)定為，在如圖7 (A) 所示的基板P曝光前的靜止位置、亦即基板P從曝光區(qū)域IA退離的位置夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)能從下方保持基板P。為了進(jìn)行曝光動(dòng)作而將基板P往-X方向(參照?qǐng)D7(B)的白箭頭)加速后，主控制裝置是根據(jù)未圖示的旋轉(zhuǎn)編碼器的測(cè)量值控制驅(qū)動(dòng)單元90，以追隨基板P的方式使夾具構(gòu)件84往-Z方向(參照?qǐng)D7(B)的黑箭頭)加速?；錚在進(jìn)入圖7 (B)所示曝光區(qū)域IA 前一刻的狀態(tài)下，進(jìn)行等速移動(dòng)，夾具構(gòu)件84亦追隨基板P進(jìn)行等速移動(dòng)。此處，由于基板 P與夾具構(gòu)件84是非接觸狀態(tài)，因此夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的位置控制較基板P的位置控制粗略亦可。因此，即使如本實(shí)施形態(tài)所示，藉由根據(jù)滑輪93或軸95(參照?qǐng)D4)的旋轉(zhuǎn)數(shù)的開環(huán)控制進(jìn)行夾具構(gòu)件84的位置控制，亦不會(huì)特別產(chǎn)生問題。由圖7(B)所示的狀態(tài)進(jìn)一步將基板P往-X方向驅(qū)動(dòng)后，即如圖7(C)所示，基板 P(設(shè)定于基板P上的照射區(qū)域)進(jìn)入曝光區(qū)域IA，而開始曝光動(dòng)作。又，夾具構(gòu)件84亦追隨基板P進(jìn)入曝光區(qū)域IA內(nèi)(參照?qǐng)D9(A))。接著，在夾具構(gòu)件84進(jìn)入曝光區(qū)域IA內(nèi)時(shí)， 主控制裝置是控制驅(qū)動(dòng)單元90使夾具構(gòu)件84減速，而如圖7 (D)所示，在夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的上面中心與曝光區(qū)域IA的中心大致一致的狀態(tài)下使夾具構(gòu)件84停止(參照?qǐng)D9⑶)。此外，為了使夾具構(gòu)件84的中心一致于曝光區(qū)域IA的中心而使夾具構(gòu)件84停止，雖須如圖7(C)所示，在夾具本體81的中心位于曝光區(qū)域IA的中心略微上游側(cè)(+X側(cè)) 的狀態(tài)下使夾具構(gòu)件84減速，但由于本實(shí)施形態(tài)的夾具本體81，如前所述X軸方向的尺寸設(shè)定為較曝光區(qū)域IA長，因此在減速開始時(shí)點(diǎn)能涵蓋曝光區(qū)域IA整體。是以，夾具構(gòu)件84 即使相對(duì)基板P減速亦能確實(shí)地藉由吸附來保持曝光區(qū)域IA內(nèi)的基板P。此后，主控制裝置如圖8 (A)所示，一邊使基板P往-X方向以既定的一定速度移動(dòng)，一邊對(duì)基板P進(jìn)行曝光動(dòng)作(夾具構(gòu)件84停止)。如前所述，基板P中在曝光區(qū)域IA 內(nèi)被進(jìn)行曝光動(dòng)作的被曝光部位，藉由包含夾具本體81的定點(diǎn)載臺(tái)40調(diào)整其面位置。又，主控制裝置在對(duì)基板P的-Y側(cè)照射區(qū)域的曝光動(dòng)作結(jié)束前一刻，是使夾具構(gòu)件84往-X方向加速，并如圖8 (B)所示，夾具本體81在保持有基板P的+X側(cè)端部附近的區(qū)域(包含照射區(qū)域的+X側(cè)端部的區(qū)域)的狀態(tài)下將基板P與夾具構(gòu)件84 —起往X軸方向等速驅(qū)動(dòng)。此后，如圖8(C)所示，基板P通過曝光區(qū)域IA，結(jié)束曝光動(dòng)作。此時(shí)，夾具本體 81 (夾具構(gòu)件84)亦與基板P —起通過曝光區(qū)域IA。主控制裝置在使基板P及夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)各自在從曝光區(qū)域IA退離的位置停止后，即如圖8 (D)所示，使基板P 往-Y方向移動(dòng)。接著，主控制裝置將基板P及夾具構(gòu)件84各自往+X方向加速，以與圖 7(A) 圖8(C)所示程序類似的程序(不過，基板P及夾具構(gòu)件84各自的驅(qū)動(dòng)方向?yàn)橄喾吹?進(jìn)行對(duì)基板P的+Y側(cè)照射區(qū)域的曝光動(dòng)作。此處，假設(shè)夾具構(gòu)件84的位置為固定，在例如基板P的前端部進(jìn)入曝光區(qū)域IA 時(shí)，基板P與夾具本體81的上面重迭的面積、亦即作用于夾具本體81的因基板P自身重量產(chǎn)生的負(fù)荷，會(huì)隨著基板P移動(dòng)于掃描方向而增加。然而，由于夾具本體81是藉由基板P 與夾具本體81間的氣體的壓力平衡(噴出壓與吸引壓的平衡)的吸附來保持基板的構(gòu)成， 因此當(dāng)作用于夾具本體81的因基板P自身重量產(chǎn)生的負(fù)荷變動(dòng)時(shí)，而有上述的壓力平衡被破壞，基板P與夾具本體81的距離(基板P的懸浮量)變動(dòng)的可能性。相對(duì)于此，本實(shí)施形態(tài)的夾具本體81，由于是在曝光動(dòng)作開始前預(yù)先在曝光區(qū)域IA外保持基板P，并與該基板P —起進(jìn)入曝光區(qū)域IA內(nèi)，因此能將基板P的懸浮量維持于一定。又，由于與對(duì)基板P上的照射區(qū)域的曝光動(dòng)作的結(jié)束對(duì)應(yīng)地，夾具構(gòu)件84與基板 P 一起相對(duì)曝光區(qū)域IA往掃描方向的下游側(cè)移動(dòng)，因此在進(jìn)行步進(jìn)動(dòng)作(參照?qǐng)D8 (D))、對(duì)在Y軸方向相鄰的其他照射區(qū)域進(jìn)行曝光動(dòng)作時(shí)，亦能使夾具本體81在曝光區(qū)域IA外預(yù)先保持基板P。又，在藉由定點(diǎn)載臺(tái)40調(diào)整基板P的面位置時(shí)，基板保持框60的臂部66是追隨基板P的動(dòng)作(往Z軸方向的移動(dòng)或傾斜動(dòng)作)而位移于Z軸方向。藉此，防止基板P的破損、或臂部66與基板P的偏移(吸附誤差)等。此外，復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50由于能較夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)使基板P更高地懸浮，因此在該基板P與復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元 50間的空氣剛性較夾具本體81與基板P間的空氣剛性低。是以，基板P可容易地在復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50上變化姿勢(shì)。又，由于固定有基板保持框60的Y可動(dòng)部74以非接觸方式被支承于Y導(dǎo)件73，因此在基板P的姿勢(shì)變化量大、臂部66無法追隨基板P時(shí)，能藉由基板保持框60本身的姿勢(shì)的變化，避免上述吸附誤差等。此外，亦可作成使Y導(dǎo)件73與X可動(dòng)部72的連結(jié)部剛性較低而使Y導(dǎo)件73整體與基板保持框60 —起進(jìn)行姿勢(shì)變化的構(gòu)成。又，基板載臺(tái)裝置PST中，被復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50懸浮支承成大致水平的基板P 是被基板保持框60保持。又，基板載臺(tái)裝置PST中，藉由驅(qū)動(dòng)單元70驅(qū)動(dòng)基板保持框60， 藉以使基板P沿水平面(XY 二維平面)被導(dǎo)引，且基板P中被曝光部位(曝光區(qū)域IA內(nèi)的基板P的一部分)的面位置被定點(diǎn)載臺(tái)40精確控制。如上述，由于基板載臺(tái)裝置PST中， 將基板P沿XY平面導(dǎo)引的裝置即驅(qū)動(dòng)單元70 (XY載臺(tái)裝置)、與將基板P保持成大致水平且進(jìn)行Z軸方向的定位的裝置即復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50、以及定點(diǎn)載臺(tái)40 (Z/調(diào)平載臺(tái)裝置)是彼此獨(dú)立的不同裝置，因此與在XY 二維載臺(tái)裝置上將臺(tái)構(gòu)件(基板保持具)(用以將基板P以良好平面度保持，具有與基板P大致相同程度的面積)分別驅(qū)動(dòng)于Z軸方向及傾斜方向(Z/調(diào)平載臺(tái)亦與基板同時(shí)地被XY 二維驅(qū)動(dòng))的習(xí)知載臺(tái)裝置(參照例如PCT 國際公開第2008/U9762號(hào)(對(duì)應(yīng)美國發(fā)明專利申請(qǐng)公開第2010/0018950號(hào)說明書))相較，可大幅減低其重量(特別是可動(dòng)部分的重量)。具體而言，例如使用一邊超過:3m的大型基板時(shí)，相較于習(xí)知的載臺(tái)裝置中可動(dòng)部分的總重量為接近10t，本實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PST能使可動(dòng)部分(基板保持框60、X可動(dòng)部72、Y導(dǎo)件73、以及Y可動(dòng)部74等)的總重量降為數(shù)百kg程度。因此，例如用以驅(qū)動(dòng)X可動(dòng)部72的X線性電機(jī)、用以驅(qū)動(dòng)Y可動(dòng)
19部74的Y線性電機(jī)可分別為輸出較小者，而能減低運(yùn)轉(zhuǎn)成本。又，電源設(shè)備等的基礎(chǔ)整備亦較為容易設(shè)置。又，由于線性電機(jī)的輸出較小即可，因此能減低初期成本。又，驅(qū)動(dòng)單元70中，由于保持基板保持框60的Y可動(dòng)部74以非接觸方式被支承于Y導(dǎo)件73，而將基板P沿XY平面導(dǎo)引，因此幾乎沒有從設(shè)置于地面F上的定盤12側(cè)經(jīng)由空氣軸承傳達(dá)的Z軸方向的振動(dòng)(干擾)對(duì)基板保持框60的控制帶來不良影響的虞。因此，基板P的姿勢(shì)穩(wěn)定，曝光精度提升。又，由于驅(qū)動(dòng)單元70的Y可動(dòng)部74以非接觸狀態(tài)被支承于Y導(dǎo)件73而可防止產(chǎn)生灰塵，因此縱使Y導(dǎo)件73及Y可動(dòng)部74配置于較復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50的上面(氣體噴出面)更上方，亦不會(huì)對(duì)基板P的曝光處理帶來影響。另一方面，X導(dǎo)件71及X可動(dòng)部 72配置于較空氣懸浮單元50更下方，因此即使假設(shè)產(chǎn)生灰塵，對(duì)曝光處理帶來影響的可能性亦低。不過，亦可使用例如空氣軸承等將X可動(dòng)部72相對(duì)X導(dǎo)件71以非接觸狀態(tài)支承成可移動(dòng)于X軸方向。又，定點(diǎn)載臺(tái)40的重量抵銷器42，由于是搭載于與定盤12在振動(dòng)上分離的Y柱33 上，因此例如使用驅(qū)動(dòng)單元70驅(qū)動(dòng)基板保持框60 (基板P)時(shí)產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的反作用力或振動(dòng)等不會(huì)傳達(dá)至重量抵銷器42。因此，能以高精度進(jìn)行使用Z-VCM 38的夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的位置(亦即基板P的被曝光部位的面位置)控制。又，驅(qū)動(dòng)夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的四個(gè)Z-VCM38，由于Z固定件47固定于與Y柱33成非接觸的底座框85，因此驅(qū)動(dòng)夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)時(shí)的驅(qū)動(dòng)力的反作用力不會(huì)傳至重量抵銷器42。是以，能以高精度控制夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的位置。又，由于藉由使用了移動(dòng)鏡62x，62y (固定于基板保持框60，亦即接近最終定位控制的對(duì)象物即基板P而配置)的干涉儀系統(tǒng)來測(cè)量基板保持框60的位置信息，因此能將控制對(duì)象(基板P)與測(cè)量點(diǎn)間的剛性維持得較高。亦即，由于能將應(yīng)該知道最終位置的基板與測(cè)量點(diǎn)視為一體，因此可提升測(cè)量精度。又，由于直接測(cè)量基板保持框60的位置信息，因此即使假設(shè)于X可動(dòng)部72及Y可動(dòng)部74產(chǎn)生直線運(yùn)動(dòng)誤差，測(cè)量結(jié)果亦不易受其影響。此夕卜，亦可藉由干涉儀系統(tǒng)以外的測(cè)量系統(tǒng)、例如編碼器等測(cè)量基板保持框60的位置信息。又，基板載臺(tái)裝置PST由于是復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元50、定點(diǎn)載臺(tái)40、驅(qū)動(dòng)單元70 以平面排列配置于定盤12上的構(gòu)成，因此組裝、調(diào)整、維護(hù)等均容易進(jìn)行。又，由于構(gòu)件的數(shù)目較少且各構(gòu)件為輕量，因此輸送亦為容易?！兜?實(shí)施形態(tài)》其次，根據(jù)圖10 圖12(C)說明第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置。由于本第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置具有除了保持基板P的基板載臺(tái)裝置的構(gòu)成不同這點(diǎn)以外，其余則與第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10類似的構(gòu)成，因此以下僅說明基板載臺(tái)裝置的構(gòu)成。此處， 為了避免重復(fù)說明，對(duì)具有與上述第1實(shí)施形態(tài)同等功能的構(gòu)件，賦予與上述第1實(shí)施形態(tài)相同的符號(hào)，省略其說明。如圖10所示，與第2實(shí)施形態(tài)相關(guān)的基板載臺(tái)裝置PST2與上述第1實(shí)施形態(tài)的相異點(diǎn)在于，于與定點(diǎn)載臺(tái)140的夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的移動(dòng)范圍重迭的區(qū)域，具有從下方以非接觸方式支承基板P的空氣懸浮單元150。于定點(diǎn)載臺(tái)140的導(dǎo)引板191，形成各三個(gè)在+X側(cè)端部及-X側(cè)端部分別開口的俯視為矩形的缺口 191a，于該缺口 191a內(nèi)分別收容有空氣懸浮單元150(參照?qǐng)D12(B))。收容于缺口 191a內(nèi)的六臺(tái)空氣懸浮單元150，除了對(duì)向于基板P的氣體噴出面的面積較狹窄、以及本體部51可上下移動(dòng)以外，具有與其他空氣懸浮單元50相同的功能。如圖11所示，空氣懸浮單元150的腳部153，包含筒狀盒體153a，固定于定盤12 上；以及軸153b，一端收容于盒體153a內(nèi)部且于另一端固定于支承部52，藉由例如氣壓缸裝置等未圖示的單軸致動(dòng)器相對(duì)盒體153a被驅(qū)動(dòng)于Z軸方向。本體部51，藉由軸15 被往-Z方向驅(qū)動(dòng)，而能如圖11所示的Y柱33的+X側(cè)的空氣懸浮單元150，使其上面較導(dǎo)引板191上面(導(dǎo)引夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的水平移動(dòng)的導(dǎo)引面)更位于-Z側(cè)。在此狀態(tài)下，是在夾具本體81及底座82在導(dǎo)引板191上移動(dòng)時(shí)防止與本體部51的接觸。又， 本體部51，藉由軸15 被往+Z方向驅(qū)動(dòng)，而能如圖11所示的Y柱33的-X側(cè)的空氣懸浮單元150，使其上面較導(dǎo)引板191上面更位于+Z側(cè)。空氣懸浮單元150是在本體部51的上面配置于與其他復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元150的上面相同平面上的位置(與基板P的下面的距離成為例如0. 8mm位置)，與其他空氣懸浮單元50協(xié)同動(dòng)作而懸浮支承基板P。使用本第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PST2的曝光動(dòng)作中，如圖12 (A)所示，當(dāng)夾具本體81在曝光區(qū)域IA的+X側(cè)區(qū)域保持基板P時(shí)，未圖示的主控制裝置是如圖11所示，將各空氣懸浮單元150控制成配置于Y柱33的+X側(cè)的三臺(tái)空氣懸浮單元150各自的本體部 51的上面位于較導(dǎo)引板191的上面更下方。相對(duì)于此，配置于Y柱33的-X側(cè)的三臺(tái)空氣懸浮單元150，如圖11所示，本體部51的上面分別被主控制裝置控制成配置于與其他空氣懸浮單元50的上面相同平面上。此后，主控制裝置是與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣地，一邊將基板P以一定速度往-X 方向驅(qū)動(dòng)，一邊在曝光區(qū)域IA內(nèi)對(duì)基板P進(jìn)行曝光動(dòng)作。又，如圖12(B)所示，在曝光動(dòng)作中，夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)與上述第1實(shí)施形態(tài)類似地在緊鄰曝光區(qū)域IA的下方停止。 配置于Y柱33的-X側(cè)的三臺(tái)空氣懸浮單元150，是以非接觸方式支承包含基板P的-X側(cè)端部的區(qū)域，藉此，抑制基板P因自身重量導(dǎo)致的垂下(彎曲)。又，在此圖12(B)所示的狀態(tài)下，主控制裝置將配置于Y柱33的+X側(cè)的三臺(tái)空氣懸浮單元150分別控制成其本體部51的上面配置于與其他空氣懸浮單元150的上面相同平面上。配置于Y柱33的+X側(cè)的三臺(tái)空氣懸浮單元150，是以非接觸方式支承包含基板P的+X側(cè)端部的區(qū)域，藉此，抑制基板P因自身重量導(dǎo)致的垂下(彎曲)。又，在曝光動(dòng)作進(jìn)行，且基板P進(jìn)而被往-X方向驅(qū)動(dòng)后，即如圖12(C)所示，與上述第1實(shí)施形態(tài)類似地，夾具本體81在以非接觸方式且保持有基板P的+X側(cè)端部附近的區(qū)域的狀態(tài)下，與基板P —起被往-X方向驅(qū)動(dòng)。因此，主控制裝置是將配置于Y柱33的-X 側(cè)的三臺(tái)空氣懸浮單元150分別控制成夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)與空氣懸浮單元150不接觸，將其本體部51往-Z方向驅(qū)動(dòng)。以上說明的第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PST2中，基板P，其下面是在曝光區(qū)域 IA的+X側(cè)及/或-X側(cè)被形成于導(dǎo)引板191的缺口 191a內(nèi)所配置的復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元 150以非接觸方式支承，因此是抑制因其自身重量導(dǎo)致的彎曲。又，由于復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元150分別藉由本體部51上下移動(dòng)而從夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的移動(dòng)路徑退離，因此不妨礙夾具本體81 (夾具構(gòu)件84)的移動(dòng)?！兜?實(shí)施形態(tài)》其次，說明第3實(shí)施形態(tài)。上述第1及第2實(shí)施形態(tài)相關(guān)的基板載臺(tái)裝置是設(shè)于
21液晶曝光裝置，相對(duì)于此，如圖13所示，第3實(shí)施形態(tài)相關(guān)的基板載臺(tái)裝置PST3是設(shè)于基板檢查裝置900?；鍣z查裝置900具有支承于機(jī)體BD的攝影單元910。攝影單元910具有一包含例如均未圖示的CCD (電荷耦合元件)等影像感測(cè)器、透鏡等的攝影光學(xué)系統(tǒng)，并且拍攝配置于緊鄰其下方(-Z側(cè))處的基板P的表面。來自攝影單元910的輸出(基板P表面的影像數(shù)據(jù))輸出至未圖示的外部裝置，根據(jù)該影像數(shù)據(jù)進(jìn)行基板P的檢查(例如圖案的缺陷或微粒等的檢測(cè))。此外，基板檢查裝置900所具有的基板載臺(tái)裝置PST3的構(gòu)成是與上述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PST(參照?qǐng)D1)的構(gòu)成相同。主控制裝置在基板P的檢查時(shí)，是使用定點(diǎn)載臺(tái)40 (參照?qǐng)D幻將基板P的被檢查部位(緊鄰攝影單元910下方的部位)的面位置調(diào)整成位于攝影單元910所具有的攝影光學(xué)系統(tǒng)的焦深內(nèi)。因此能取得基板 P的鮮明影像數(shù)據(jù)。又，由于能高速且高精度地進(jìn)行基板P的定位，因此能提升基板P的檢查效率。此外，亦可于基板檢查裝置的基板載臺(tái)裝置應(yīng)用上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置。此外，上述第3實(shí)施形態(tài)中，雖例示了檢查裝置900為攝影方式的情形，但檢查裝置不限于攝影方式，亦可是其他方式、繞射/散射檢測(cè)、或散射測(cè)量(scatterometry)等。此外，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖使用基板保持框高速且高精度地控制基板在XY平面內(nèi)的位置，但當(dāng)適用于無需以高精度控制基板位置的物體處理裝置時(shí)，則不一定要使用基板保持框，亦可使例如復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元具有使用空氣的基板水平搬送功能。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，基板雖是被用以驅(qū)動(dòng)于X軸及Y軸的正交兩軸方向的驅(qū)動(dòng)單元(XY 二維載臺(tái)裝置)沿水平面導(dǎo)引，但只要例如基板上的曝光區(qū)域?qū)挾扰c基板寬度相同，驅(qū)動(dòng)單元僅于單軸方向?qū)б寮纯伞Ｓ?，上述各?shí)施形態(tài)中，在曝光動(dòng)作結(jié)束前一刻， 基板與夾具本體已一起移動(dòng)于掃描方向(參照?qǐng)D8(B)及圖8(C))，但在例如曝光時(shí)不進(jìn)行步進(jìn)動(dòng)作的情形，于曝光時(shí)不進(jìn)行掃描方向的反轉(zhuǎn)時(shí)，亦可使夾具本體保持停止于緊鄰曝光區(qū)域下方(參照?qǐng)D8(A))。又，上述第2實(shí)施形態(tài)中，配置于夾具本體的移動(dòng)路徑上的復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元，雖分別是本體部移動(dòng)于上下方向的構(gòu)成，但并不欲限于此，例如亦可藉由移動(dòng)于水平方向來從夾具本體的移動(dòng)路徑退離。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元雖將基板懸浮支承成與XY平面成平行，但依照作為支承對(duì)象的物體種類不同，使該物體懸浮的裝置的構(gòu)成并不限于此，亦可藉由例如磁氣或靜電使物體懸浮。又，定點(diǎn)載臺(tái)的夾具構(gòu)件亦類似地，依照作為保持對(duì)象的物體種類不同，亦可作成藉由例如磁氣或靜電來保持保持對(duì)象的物體的構(gòu)成。此外，上述各實(shí)施形態(tài)中，夾具構(gòu)件雖僅設(shè)置一個(gè)，但并不欲限于此，亦可設(shè)置復(fù)數(shù)個(gè)夾具構(gòu)件。例如，在設(shè)置兩個(gè)夾具構(gòu)件時(shí)，可將該兩個(gè)夾具構(gòu)件排列配置于基板的掃描方向(X軸方向)，使一方的夾具構(gòu)件待機(jī)于曝光位置，使另一方的夾具構(gòu)件從掃描方向的上游側(cè)與基板一起往曝光位置移動(dòng)(預(yù)掃描)。接著，掃描方向反轉(zhuǎn)后，使另一方的夾具構(gòu)件待機(jī)于曝光位置，使一方的夾具構(gòu)件從掃描方向的上游側(cè)與基板一起往曝光位置移動(dòng) (預(yù)掃描)?；蛑谠O(shè)置三個(gè)夾具構(gòu)件的情形，將該三個(gè)夾具構(gòu)件排列配置于基板的掃描方向(X軸方向)，使中央的夾具構(gòu)件隨時(shí)位于曝光區(qū)域，使一側(cè)與另一側(cè)的夾具構(gòu)件中的既定的一方對(duì)應(yīng)于掃描方向從掃描方向的上游側(cè)與基板一起往曝光位置移動(dòng)(預(yù)掃描)。又，復(fù)數(shù)個(gè)夾具構(gòu)件的大小可均與上述各實(shí)施形態(tài)相同，亦可為相異，特別是在尺寸較小的情形，復(fù)數(shù)個(gè)夾具構(gòu)件的合計(jì)大小可設(shè)定為與上述實(shí)施形態(tài)的夾具構(gòu)件大小大致相同(大致相同形狀、且大致相同面積)。又，亦可于夾具構(gòu)件設(shè)置配衡質(zhì)量塊(利用了動(dòng)量守恒定律的反作用力抵銷器)。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，基板保持框在XY平面內(nèi)的位置信息雖藉由激光干涉儀系統(tǒng)(包含對(duì)設(shè)于基板保持框的移動(dòng)鏡照射測(cè)距光束的激光干涉儀)來求出，但基板保持框的位置測(cè)量裝置并不限于此，亦可使用例如二維編碼器系統(tǒng)。此情形下，可于例如基板保持框設(shè)置標(biāo)尺，并藉由固定于機(jī)體等的讀頭求出基板保持框的位置信息，或于基板保持框設(shè)置讀頭，而使用固定于例如機(jī)體等的標(biāo)尺求出基板保持框的位置信息。此外，上述各實(shí)施形態(tài)中，定點(diǎn)載臺(tái)可使基板的被曝光區(qū)域(或被攝影區(qū)域)僅位移于Z軸方向及θχ、θ y方向中的Z軸方向者。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，基板保持框雖具有俯視呈矩形的外形形狀(輪廓)與俯視呈矩形的開口部，但保持基板的構(gòu)件的形狀并不限于此，亦可視例如保持對(duì)象即物體的形狀進(jìn)行適當(dāng)變更(例如物體若是圓板狀，則保持構(gòu)件亦為圓形框狀)。此外，上述各實(shí)施形態(tài)中，基板保持框無需完全包圍基板周圍，亦可有一部分缺口。又，為了搬送基板，例如基板保持框的用于保持基板的構(gòu)件并不一定要使用。此情形下，需測(cè)量基板本身的位置，并且例如使基板側(cè)面為鏡面，藉由對(duì)該鏡面照射測(cè)距光束的干涉儀來測(cè)量基板的位置?；蛘?，亦可于基板表面(或背面)形成光柵，并藉由具備對(duì)該光柵照射測(cè)量光并接收其繞射光的讀頭的編碼器來測(cè)量基板的位置。又，照明光可以是例如ArF準(zhǔn)分子激光光(波長193nm)、KrF準(zhǔn)分子激光光(波長 248nm)等的紫外光、或例如F2激光光(波長157nm)等的真空紫外光。另外，作為照明光， 可使用例如諧波，其是以摻有鉺(或鉺及鐿兩者)的光纖放大器，將從DFB半導(dǎo)體激光或纖維激光振蕩出的紅外線區(qū)或可見區(qū)的單一波長激光光放大，并以非線形光學(xué)結(jié)晶將其轉(zhuǎn)換波長成紫外光。又，亦可使用固態(tài)激光(波長355nm、266nm)等。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖已說明投影光學(xué)系統(tǒng)PL具備復(fù)數(shù)支投影光學(xué)系統(tǒng)的多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，但投影光學(xué)系統(tǒng)的支數(shù)不限于此，只要有一支以上即可。又，不限于多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，亦可是使用了歐浮納(Offner)型的大型反射鏡的投影光學(xué)系統(tǒng)等。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖是說明使用投影倍率為等倍系統(tǒng)者來作為投影光學(xué)系統(tǒng)PL，但并不欲限于此，投影光學(xué)系統(tǒng)亦可是放大系統(tǒng)及縮小系統(tǒng)的任一者。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖已說明曝光裝置是掃描步進(jìn)機(jī)的情形，但并不欲限于此，亦可將上述各實(shí)施形態(tài)適用于合成照射區(qū)域與照射區(qū)域的步進(jìn)接合方式的投影曝光裝置。又，上述各實(shí)施形態(tài)，亦可適用于不使用投影光學(xué)系統(tǒng)的近接方式的曝光裝置。此外，上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置，在適用于尺寸(包含外徑、對(duì)角線、一邊的至少一個(gè))為500mm以上的基板、例如液晶顯示元件等平面面板顯示器(FPD)用的大型基板曝光的曝光裝置時(shí)，特別有效。又，曝光裝置用途并不限定于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印至矩形玻璃板的液晶顯示元件用曝光裝置，亦可廣泛適用于用來制造例如半導(dǎo)體用的曝光裝置、用于制造薄膜磁頭、 微型機(jī)器及DNA芯片等的曝光裝置。又，除了用于制造半導(dǎo)體元件等的微型元件的曝光裝置以外，為了制造用于光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置及電子射線曝光裝置等的掩膜或標(biāo)線片，亦能將上述各實(shí)施形態(tài)適用于用以將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。此外，作為曝光對(duì)象的物體并不限玻璃板，亦可以是例如晶圓、陶瓷基板、膜構(gòu)件、或者空白掩膜等其他物體。此外，上述各實(shí)施形態(tài)相關(guān)的物體處理裝置并不限適用于曝光裝置，亦可適用于具備例如噴墨式機(jī)能性液體沉積裝置的元件制造裝置。又，爰用與至此為止的說明中所引用的曝光裝置等相關(guān)的所有公報(bào)、PCT國際公開、美國發(fā)明專利申請(qǐng)公開說明書及美國發(fā)明專利說明書的揭示分別納入在此作為參考。《元件制造方法》接著，說明在微影步驟使用上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的微型元件的制造方法。 上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置中，可藉由在板體(玻璃基板)上形成既定圖案(電路圖案、電極圖案等)而制得作為微型元件的液晶顯示元件。〈圖案形成步驟〉首先，進(jìn)行使用上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置將圖案像形成于感光性基板(涂布有光阻的玻璃基板等)的所謂光微影步驟。藉由此光微影步驟，于感光性基板上形成包含多數(shù)個(gè)電極等的既定圖案。其后，經(jīng)曝光的基板，藉由經(jīng)過顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟而于基板上形成既定圖案?！床噬珵V光片形成步驟〉其次，形成與R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))對(duì)應(yīng)的三個(gè)點(diǎn)的組多數(shù)個(gè)排列成矩陣狀、或?qū)、G、B的三條條紋的復(fù)數(shù)個(gè)濾光器組排列于水平掃描線方向的彩色濾光片?！磫卧M裝步驟〉接著，使用在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板、以及在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片等來組裝液晶面板(液晶單元)。例如于在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板與在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片的間注入液晶，而制造液晶面板(液晶單元)?！茨＝M組裝步驟〉其后，安裝用以進(jìn)行已組裝完成的液晶面板(液晶單元)的顯示動(dòng)作的電路、背光等各零件，而完成液晶顯示元件。此時(shí)，在圖案形成步驟中，由于是使用上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置而能以高產(chǎn)能且高精度進(jìn)行板體的曝光，其結(jié)果能提升液晶顯示元件的生產(chǎn)性?！秾?shí)用性》如以上所說明，本發(fā)明的物體處理裝置適于對(duì)平板狀物體進(jìn)行既定處理。又，本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法適于使平板狀物體曝光。又，本發(fā)明的元件制造方法適于生產(chǎn)微型元件。
權(quán)利要求
1.一種物體處理裝置，包括一物體驅(qū)動(dòng)裝置，其將沿與水平面平行的一既定二維平面配置的一平板狀物體驅(qū)動(dòng)于該二維平面內(nèi)的至少一軸方向；一執(zhí)行裝置，其對(duì)被該物體驅(qū)動(dòng)裝置以一定速度驅(qū)動(dòng)的該物體，在該物體的移動(dòng)路徑上的一既定區(qū)域內(nèi)對(duì)該物體表面的被處理部位執(zhí)行既定處理；一調(diào)整裝置，其包含一具有面積較該物體狹小的保持面的保持構(gòu)件，使用該保持構(gòu)件從下方以非接觸狀態(tài)保持該物體的一部分，并且調(diào)整該物體在與該二維平面交叉的方向的位置；以及一驅(qū)動(dòng)裝置，其根據(jù)該物體相對(duì)該既定區(qū)域的位置，將該保持構(gòu)件一邊調(diào)整位置、一邊驅(qū)動(dòng)于該一軸方向。
2.如權(quán)利要求1所述的物體處理裝置，其中，在對(duì)該物體進(jìn)行該既定處理之前，該保持構(gòu)件是在該既定區(qū)域于該物體的移動(dòng)方向的上游側(cè)的位置預(yù)先保持一包含該物體的該被處理部位前端部的區(qū)域，并且在為進(jìn)行該既定處理而驅(qū)動(dòng)該物體時(shí)，則該保持構(gòu)件與該物體一起移動(dòng)于該一軸方向。
3.如權(quán)利要求2所述的物體處理裝置，其中，該保持面的尺寸在該一軸方向較該被處理部位短；在對(duì)該物體進(jìn)行該既定處理的期間，該驅(qū)動(dòng)裝置使該保持構(gòu)件停止于與該既定區(qū)域?qū)?yīng)的位置。
4.如權(quán)利要求3所述的物體處理裝置，其中，在對(duì)該物體的該既定處理結(jié)束前，該保持構(gòu)件是被該驅(qū)動(dòng)裝置朝向該物體的移動(dòng)方向的下游側(cè)加速，并且在保持有一包含該物體的該被處理部位后端部的區(qū)域的狀態(tài)下與該物體一起移動(dòng)于該一軸方向。
5.如權(quán)利要求1至4中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該保持面的尺寸在該一軸方向較該既定區(qū)域長。
6.如權(quán)利要求1至5中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該調(diào)整裝置藉由從該保持構(gòu)件的該保持面對(duì)該物體噴出氣體，且吸引該保持面與該物體之間的氣體而以非接觸方式來保持該物體。
7.如權(quán)利要求6所述的物體處理裝置，其中，該調(diào)整裝置是使該物體與該保持面間的氣體的壓力及流量的至少一方為可變的，以使該物體與該保持面的距離為一定的。
8.如權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該調(diào)整裝置具有一將該保持構(gòu)件驅(qū)動(dòng)于與該二維平面交叉的方向的致動(dòng)器。
9.如權(quán)利要求8所述的物體處理裝置，其中，該調(diào)整裝置進(jìn)一步包含一支承該保持構(gòu)件的支承構(gòu)件；該致動(dòng)器包含一可動(dòng)件，其設(shè)于該支承構(gòu)件；以及一固定件，其設(shè)于一與測(cè)量該保持構(gòu)件的位置信息的測(cè)量構(gòu)件在振動(dòng)上分離的構(gòu)件。
10.如權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該調(diào)整裝置具有一抵銷該物體的重量的重量抵銷裝置。
11.如權(quán)利要求1至10中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其進(jìn)一步具備一上游側(cè)支承裝置，該上游側(cè)支承裝置是在一位于較該既定區(qū)域于該物體的移動(dòng)方向的上游側(cè)且與該保持構(gòu)件的移動(dòng)范圍重迭的區(qū)域內(nèi)，從下方以非接觸方式支承該物體；當(dāng)該保持構(gòu)件較該既定區(qū)域位于該物體的移動(dòng)方向的上游側(cè)時(shí)，該上游側(cè)的支承裝置從該保持構(gòu)件的移動(dòng)路徑上退離。
12.如權(quán)利要求11所述的物體處理裝置，其中，該上游側(cè)的支承裝置藉由對(duì)該物體噴出一氣體而以非接觸方式支承該物體。
13.如權(quán)利要求1至12中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其進(jìn)一步具備一下游側(cè)的支承裝置，該下游側(cè)的支承裝置是在一位于較該既定區(qū)域于該物體的移動(dòng)方向的下游側(cè)且與該保持構(gòu)件的移動(dòng)范圍重迭的區(qū)域內(nèi)，從下方以非接觸方式支承該物體；當(dāng)該保持構(gòu)件較該既定區(qū)域位于該物體的移動(dòng)方向的下游側(cè)時(shí)，該下游側(cè)的支承裝置從該保持構(gòu)件的移動(dòng)路徑上退離。
14.如權(quán)利要求13所述的物體處理裝置，其中，該下游側(cè)的支承裝置是對(duì)該物體噴出一氣體而以非接觸方式支承該物體。
15.如權(quán)利要求1至14中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其進(jìn)一步具備一非接觸支承裝置，該非接觸支承裝置是在一該物體的可移動(dòng)范圍內(nèi)且在該保持構(gòu)件的移動(dòng)范圍夕卜，對(duì)該物體噴出一氣體而從下方以非接觸方式支承該物體。
16.如權(quán)利要求1至15中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該物體的一端部是被沿該物體端部延伸設(shè)置的框狀構(gòu)件所構(gòu)成的移動(dòng)體保持；該物體驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)該移動(dòng)體。
17.如權(quán)利要求1至16中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該執(zhí)行裝置包含一為了檢查該物體而拍攝該物體的一表面的影像的攝影裝置。
18.如權(quán)利要求1至17中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該物體是一用于一顯示器裝置的顯示面板的基板。
19.如權(quán)利要求1至18中任一權(quán)利要求所述的物體處理裝置，其中，該執(zhí)行裝置是一藉由使用一能量束使該物體曝光而據(jù)以將一既定圖案形成于該物體上的圖案形成裝置。
20.一種元件制造方法，包含使用如權(quán)利要求19所述的物體處理裝置使物體曝光的動(dòng)作；以及使該已曝光的物體顯影的動(dòng)作。
21.一種曝光裝置，其藉由照射一能量束使物體曝光而據(jù)以將一既定圖案形成于該物體上，其具備一物體驅(qū)動(dòng)裝置，其將沿與水平面平行的一既定二維平面配置的一平板狀物體驅(qū)動(dòng)于該二維平面內(nèi)的至少一軸方向；一曝光系統(tǒng)，其對(duì)被該物體驅(qū)動(dòng)裝置以一定速度驅(qū)動(dòng)的該物體的一表面，在該物體移動(dòng)路徑上照射該能量束；一調(diào)整裝置，其包含一具有面積較該物體狹小的保持面的保持構(gòu)件，使用該保持構(gòu)件從下方以非接觸狀態(tài)保持該物體的一部分，并且調(diào)整該物體在與該二維平面交叉的方向的位置；以及一驅(qū)動(dòng)裝置，其根據(jù)該物體相對(duì)藉該曝光系統(tǒng)產(chǎn)生的該能量束的照射區(qū)域的位置，將該保持構(gòu)件驅(qū)動(dòng)于該一軸方向。
22.如權(quán)利要求21所述的曝光裝置，其中，該保持面的尺寸在該一軸方向較該物體上的被曝光區(qū)域短；在對(duì)該物體進(jìn)行該照射的期間，該驅(qū)動(dòng)裝置是使該保持構(gòu)件停止于一與該照射區(qū)域?qū)?yīng)的位置。
23.如權(quán)利要求21或22所述的曝光裝置，其中，該保持面的尺寸在該一軸方向較該照射區(qū)域長。
24.如權(quán)利要求21至23中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其中，該調(diào)整裝置藉由從該保持構(gòu)件的該保持面對(duì)該物體噴出一氣體，且吸引該保持面與該物體之間的氣體而以非接觸方式保持該物體。
25.如權(quán)利要求M所述的曝光裝置，其中，該調(diào)整裝置使該物體與該保持面之間的氣體的壓力及流量的至少一方為可變的，以使該物體與該保持面的距離為一定的。
26.如權(quán)利要求21至25中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其中，該調(diào)整裝置具有一將該保持構(gòu)件驅(qū)動(dòng)于與該二維平面交叉的方向的致動(dòng)器。
27.如權(quán)利要求沈所述的曝光裝置，其中，該調(diào)整裝置進(jìn)一步包含一支承該保持構(gòu)件的支承構(gòu)件；該致動(dòng)器包含一可動(dòng)件，其設(shè)于該支承構(gòu)件；以及一固定件，其設(shè)于一與用以測(cè)量該保持構(gòu)件的位置信息的測(cè)量構(gòu)件在振動(dòng)上分離的構(gòu)件。
28.如權(quán)利要求21至27中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其中，該調(diào)整裝置具有一抵銷該物體的重量的重量抵銷裝置。
29.如權(quán)利要求21至觀中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備一上游側(cè)的支承裝置，該上游側(cè)的支承裝置是在一較該能量束的照射區(qū)域于該物體的移動(dòng)方向的上游側(cè)且與該保持構(gòu)件的移動(dòng)范圍重迭的區(qū)域內(nèi)，從下方以非接觸方式支承該物體；當(dāng)該保持構(gòu)件較該照射區(qū)域位于該物體的移動(dòng)方向的上游側(cè)時(shí)，該上游側(cè)的支承裝置從該保持構(gòu)件的移動(dòng)路徑上退離。
30.如權(quán)利要求四所述的的曝光裝置，其中，該上游側(cè)的支承裝置藉由對(duì)該物體噴出一氣體而以非接觸方式支承該物體。
31.如權(quán)利要求21至30中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備一下游側(cè)的支承裝置，該下游側(cè)的支承裝置是在一較該能量束的照射區(qū)域于該物體的移動(dòng)方向的下游側(cè)且與該保持構(gòu)件的移動(dòng)范圍重迭的區(qū)域內(nèi)，從下方以非接觸方式支承該物體；當(dāng)該保持構(gòu)件較該照射區(qū)域位于該物體的移動(dòng)方向的下游側(cè)時(shí)，該下游側(cè)的支承裝置從該保持構(gòu)件的移動(dòng)路徑上退離。
32.如權(quán)利要求31所述的的曝光裝置，其中，該下游側(cè)的支承裝置藉由對(duì)該物體噴出一氣體而以非接觸方式支承該物體。
33.如權(quán)利要求21至32中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備一非接觸支承裝置，是在該物體的可移動(dòng)范圍內(nèi)且在該保持構(gòu)件的移動(dòng)范圍外，藉由對(duì)該物體噴出一氣體而從下方以非接觸方式支承該物體。
34.如權(quán)利要求21至33中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其中，該物體的一端部是被一沿該物體端部延伸設(shè)置的框狀構(gòu)件所構(gòu)成的移動(dòng)體保持；該物體驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)該移動(dòng)體。
35.一種曝光裝置，其藉由使用一能量束使一物體曝光，據(jù)以將一既定圖案形成于該物體上，其具備一光學(xué)系統(tǒng)，其經(jīng)由該圖案以將該能量束照射于與水平面平行的一既定二維平面內(nèi)的一部分區(qū)域；一驅(qū)動(dòng)裝置，其將一沿該二維平面配置的平板狀物體在該二維平面內(nèi)包含該部分區(qū)域的一既定區(qū)域內(nèi)驅(qū)動(dòng)于至少一軸方向；以及一調(diào)整裝置，其具有與該部分區(qū)域?yàn)橥潭鹊拇笮』蜉^此小的保持面，在該物體被該驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)時(shí)，從下方以非接觸狀態(tài)保持與該保持面對(duì)向的該物體的一部分以調(diào)整該物體在與該二維平面交叉的方向的位置，且根據(jù)該物體相對(duì)該部分區(qū)域的位置移動(dòng)于該一軸方向。
36.如權(quán)利要求35所述的的曝光裝置，其進(jìn)一步具備一非接觸支承裝置，該非接觸支承裝置是使支承面對(duì)向于該物體的被該調(diào)整裝置保持的部分以外的其他區(qū)域，以從下方以非接觸方式支承該物體。
37.如權(quán)利要求35或36所述的的曝光裝置，其進(jìn)一步具備一面位置測(cè)量系統(tǒng)，該面位置測(cè)量系統(tǒng)是在該既定區(qū)域的一部分內(nèi)測(cè)量該物體的上面在與該二維平面垂直的方向的面位置分布。
38.如權(quán)利要求21至37中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其中，該物體是尺寸不小于 500mm的基板。
39.一種元件制造方法，包含使用權(quán)利要求21至38中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置使物體曝光的動(dòng)作；以及使該已曝光的物體顯影的動(dòng)作。
40.一種平面面板顯示器的制造方法，其包含使用權(quán)利要求21至38中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置使一平面面板顯示器用的基板曝光的動(dòng)作；以及使已曝光的該基板顯影的動(dòng)作。
41.一種曝光方法，其藉由使用一能量束使一物體曝光，據(jù)以將一既定圖案形成于該物體上，其包含將沿與水平面平行的一既定二維平面配置的一平板狀物體，在一包含該二維平面內(nèi)的一部分區(qū)域的既定區(qū)域內(nèi)驅(qū)動(dòng)于至少一軸方向的動(dòng)作；該部分區(qū)域經(jīng)由該圖案且利用該能量束被光學(xué)系統(tǒng)照射；以及在該物體被驅(qū)動(dòng)時(shí)，一邊根據(jù)該物體相對(duì)該部分區(qū)域的位置變更與該部分區(qū)域?yàn)橥潭鹊拇笮』蜉^此小的保持面在該一軸方向的位置，一邊從該物體下方以非接觸狀態(tài)保持該物體的與該保持面對(duì)向的部分，以調(diào)整該部分在與該二維平面交叉的方向的位置的動(dòng)作。
42.如權(quán)利要求41所述的曝光方法，其進(jìn)一步包含從下方以非接觸方式支承該物體的該部分以外的其他區(qū)域的動(dòng)作。
43.一種元件制造方法，其包含使用如權(quán)利要求41或42所述的曝光方法使物體曝光的動(dòng)作；以及使該已曝光的物體顯影的動(dòng)作。
全文摘要
于基板(P)下方，配置有對(duì)基板(P)下面噴出空氣的復(fù)數(shù)個(gè)空氣懸浮單元(50)，基板(P)被以非接觸方式支承成大致水平。又，基板(P)被定點(diǎn)載臺(tái)(40)所具有的夾具本體(81)從下方以非接觸方式保持被曝光部位，該被曝光部位的面位置被精確調(diào)整。是以，能以高精度對(duì)基板(P)進(jìn)行曝光。由于夾具本體(81)根據(jù)基板的位置移動(dòng)于掃描方向，因此即使在基板進(jìn)入曝光區(qū)域(IA)時(shí)亦能確實(shí)地保持基板。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102483580SQ20108003692
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月20日
發(fā)明者青木保夫 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康