專利名稱：曝光方法及曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一邊將被曝光體向一方向輸送一邊在設(shè)定在被曝光體上的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域形成不同的曝光圖案的曝光方法及曝光裝置，詳細(xì)而言，涉及提高多種曝光圖案的形成效率的曝光方法及曝光裝置。
背景技術(shù)：
以往，在這種曝光方法中，一邊將被曝光體向一方向輸送，一邊選擇光掩模的一掩模圖案組并通過(guò)該一掩模圖案組在被曝光體的規(guī)定的曝光區(qū)域上曝光形成一曝光圖案組， 接著，將上述被曝光體暫時(shí)返回到曝光開始前的待機(jī)位置，之后將光掩模的掩模圖案組切換成另一掩模圖案組，然后再次開始被曝光體的輸送，從而通過(guò)上述另一掩模圖案組在被曝光體的另一曝光區(qū)域上曝光形成另一曝光圖案組(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1 日本特開2008-310217號(hào)公報(bào)然而，在這種以往的曝光方法中，每當(dāng)一個(gè)掩模圖案組的曝光結(jié)束時(shí)，被曝光體暫時(shí)返回到曝光開始前的待機(jī)位置，因此，要形成的曝光圖案的種類越多，則對(duì)被曝光體的全部的曝光結(jié)束為止的被曝光體的總移動(dòng)距離越長(zhǎng)。因此，當(dāng)要在同一被曝光體上形成多種曝光圖案時(shí)，存在曝光圖案的形成效率差這樣的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，應(yīng)對(duì)這樣的問(wèn)題點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種提高對(duì)同一被曝光體的多種曝光圖案的形成效率的曝光方法及曝光裝置。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的曝光方法一邊向一個(gè)方向輸送被曝光體，一邊在該被曝光體的沿輸送方向以規(guī)定間隔設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域形成不同的曝光圖案， 所述曝光方法進(jìn)行如下的步驟當(dāng)使用光掩模的一掩模圖案組進(jìn)行的對(duì)所述被曝光體的一曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，與所述被曝光體的輸送速度同步地移動(dòng)所述光掩模，從而從所述一掩模圖案組切換成另一掩模圖案組的步驟，其中，所述光掩模通過(guò)將與各所述曝光圖案對(duì)應(yīng)的多種掩模圖案組沿著所述被曝光體的輸送方向以規(guī)定間隔排列而形成；當(dāng)從所述光掩模的所述一掩模圖案組向另一掩模圖案組的切換結(jié)束時(shí)，停止該光掩模的移動(dòng)，通過(guò)所述另一掩模圖案組來(lái)執(zhí)行對(duì)所述被曝光體的下一曝光區(qū)域的曝光的步
馬聚ο根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，當(dāng)一邊向一個(gè)方向輸送被曝光體，一邊使用光掩模的一掩模圖案組進(jìn)行的對(duì)被曝光體的一曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，與被曝光體的輸送速度同步地使光掩模移動(dòng)而從一掩模圖案組切換成另一掩模圖案組，其中該光掩模通過(guò)將與各曝光圖案對(duì)應(yīng)的多種掩模圖案組沿著被曝光體的輸送方向以規(guī)定間隔排列而形成，并且，當(dāng)從光掩模的一掩模圖案組向另一掩模圖案組的切換結(jié)束時(shí)，使該光掩模的移動(dòng)停止，通過(guò)另一掩模圖案組來(lái)執(zhí)行對(duì)被曝光體的下一曝光區(qū)域的曝光，從而在被曝光體的沿輸送方向以規(guī)定間隔
3設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域上形成不同的曝光圖案。另外，所述光掩模向所述被曝光體的輸送方向移動(dòng)。由此，使光掩模向被曝光體的輸送方向移動(dòng)而進(jìn)行掩模圖案組的切換。另外，本發(fā)明的曝光裝置一邊向一個(gè)方向輸送被曝光體，一邊在該被曝光體的沿輸送方向以規(guī)定間隔設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域形成不同的曝光圖案，所述曝光裝置具備輸送機(jī)構(gòu)，其以規(guī)定速度輸送所述被曝光體；掩模臺(tái)，其與所述輸送機(jī)構(gòu)的上表面對(duì)置配設(shè)，保持光掩模并能夠與所述輸送機(jī)構(gòu)的移動(dòng)同步地移動(dòng)，其中，所述光掩模通過(guò)將與各所述曝光圖案對(duì)應(yīng)的多種掩模圖案組沿著所述被曝光體的輸送方向以規(guī)定間隔排列而形成，當(dāng)使用所述光掩模的一掩模圖案組進(jìn)行的對(duì)所述被曝光體的一曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，移動(dòng)所述掩模臺(tái)，從而從所述光掩模的一掩模圖案組切換成另一掩模圖案組，通過(guò)該另一掩模圖案組來(lái)執(zhí)行對(duì)所述被曝光體的下一曝光區(qū)域的曝光。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，當(dāng)一邊利用輸送機(jī)構(gòu)向一方向以規(guī)定速度輸送被曝光體，一邊使用光掩模的一掩模圖案組進(jìn)行的對(duì)被曝光體的一曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，與被曝光體的移動(dòng)同步地使掩模臺(tái)移動(dòng)而從光掩模的一掩模圖案組切換成另一掩模圖案組，通過(guò)該另一掩模圖案組來(lái)執(zhí)行對(duì)被曝光體的下一曝光區(qū)域的曝光，從而在被曝光體的沿輸送方向以規(guī)定間隔設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域上形成不同的曝光圖案。并且，所述掩模臺(tái)向所述被曝光體的輸送方向移動(dòng)。由此，使光掩模向被曝光體的輸送方向移動(dòng)而進(jìn)行掩模圖案組的切換。[發(fā)明效果]根據(jù)本發(fā)明的第一方面或第三方面，與現(xiàn)有技術(shù)不同，每當(dāng)對(duì)規(guī)定的曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，不使被曝光體返回到曝光開始前的待機(jī)位置，而是一邊使被曝光體連續(xù)地以規(guī)定速度移動(dòng)，一邊在多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域上分別形成不同的曝光圖案。因此，全部曝光結(jié)束之前的被曝光體的總移動(dòng)距離遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)。因而，與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠提高對(duì)同一被曝光體的多種曝光圖案的形成效率。另外，根據(jù)本發(fā)明的第二方面或第四方面，能夠構(gòu)成使光掩模與被曝光體接近對(duì)置而進(jìn)行曝光的接近式曝光裝置。


圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的實(shí)施方式的簡(jiǎn)圖。圖2是表示在上述曝光裝置中使用的被曝光體的表面設(shè)定的曝光區(qū)域的一設(shè)定例的俯視圖。圖3是表示上述曝光裝置中使用的光掩模的一結(jié)構(gòu)例的俯視圖。圖4是表示上述曝光裝置的控制機(jī)構(gòu)的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的框圖。圖5是表示本發(fā)明的曝光方法的流程圖。圖6是表示本發(fā)明的曝光方法的說(shuō)明圖。
具體實(shí)施方式
以下，基于附圖，詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的實(shí)施方式的簡(jiǎn)圖。該曝光裝置在曝光工序的執(zhí)行中始終一邊將被曝光體向一方向輸送，一邊在設(shè)定于被曝光體上的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域形成不同的曝光圖案，該曝光裝置具備輸送機(jī)構(gòu)1、光源2、耦合光學(xué)系統(tǒng)3、掩模臺(tái)4、攝像機(jī)構(gòu)6、控制機(jī)構(gòu)7。上述輸送機(jī)構(gòu)1在上表面Ia上載置被曝光體8而向箭頭A所示的方向以規(guī)定的速度進(jìn)行輸送，從上表面Ia噴射并吸引空氣，使該空氣的噴射和吸引達(dá)到平衡而使被曝光體8浮起規(guī)定量，在該狀態(tài)下，通過(guò)未圖示的輸送輥保持被曝光體8的兩端緣部而進(jìn)行輸送。而且，輸送機(jī)構(gòu)1具備檢測(cè)被曝光體8的移動(dòng)速度的速度傳感器及檢測(cè)被曝光體8的位置的位置傳感器(未圖示)。如圖2所示，在此使用的被曝光體8沿著輸送方向(箭頭A方向)以間隔W預(yù)先設(shè)定要形成第一曝光圖案組的第一曝光區(qū)域9和要形成第二曝光圖案組的第二曝光區(qū)域10， 例如是帶有多面的濾色基板等。在上述輸送機(jī)構(gòu)1的上方設(shè)有光源2。該光源2發(fā)射紫外線作為光源光5，是氙氣燈、超高壓水銀燈或激光光源等。在上述光源2的光發(fā)射方向前方設(shè)有耦合光學(xué)系統(tǒng)3。該耦合光學(xué)系統(tǒng)3將從光源2發(fā)射出的光源光5形成為平行光而對(duì)后述的光掩模11的掩模圖案組進(jìn)行照射，包括光積分儀、聚光透鏡等光學(xué)部件而構(gòu)成。而且，還具備對(duì)應(yīng)于光掩模11的各掩模圖案組的形成區(qū)域的外形形狀而對(duì)光源光5的橫截面形狀進(jìn)行整形的掩模。與上述輸送機(jī)構(gòu)1的上表面對(duì)置地設(shè)置掩模臺(tái)4。該掩模臺(tái)4保持光掩模11的周緣部，并能夠沿著與箭頭A所示的被曝光體8的輸送方向相同的方向(箭頭B方向)，與該被曝光體8的移動(dòng)速度同步地進(jìn)行移動(dòng)，如圖3所示，該光掩模11通過(guò)將第一及第二掩模圖案組12、13以間隔W沿著被曝光體8的輸送方向(箭頭A方向)排列而形成，該第一及第二掩模圖案組12、13與形成在被曝光體8上的不同種類的第一及第二曝光圖案組分別對(duì)應(yīng)，該間隔W與設(shè)定在被曝光體8上的第一及第二曝光區(qū)域9、10的間隔相同。設(shè)有攝像機(jī)構(gòu)6，該攝像機(jī)構(gòu)6能夠拍攝從上述光掩模11的曝光位置向與輸送方向(箭頭A方向)相反的方向離開規(guī)定距離的位置。該攝像機(jī)構(gòu)6拍攝被曝光體8的表面， 是在與輸送機(jī)構(gòu)1的上表面平行的面內(nèi)，沿著與輸送方向大致正交的方向?qū)⒍鄠€(gè)受光元件排列成一直線狀而成的線陣相機(jī)。具體而言，攝像機(jī)構(gòu)6配設(shè)成以光掩模11的掩模圖案組的曝光中心位置為基準(zhǔn)而拍攝朝向與輸送方向相反的方向離開了距離L的位置。與上述輸送機(jī)構(gòu)1、光源2、掩模臺(tái)4、攝像機(jī)構(gòu)6電接線而設(shè)置控制機(jī)構(gòu)7。該控制機(jī)構(gòu)7適當(dāng)?shù)乜刂戚斔蜋C(jī)構(gòu)1及掩模臺(tái)4的移動(dòng)，如圖4所示，具備圖像處理部14、存儲(chǔ)器15、運(yùn)算部16、比較器17、輸送機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)控制器18、掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器19、光源驅(qū)動(dòng)控制器20、控制部21。在此，圖像處理部14通過(guò)對(duì)攝像機(jī)構(gòu)6所拍攝到的被曝光體8表面的圖像進(jìn)行處理而檢測(cè)各曝光區(qū)域9、10的輸送方向最前頭側(cè)的位置。而且，存儲(chǔ)器15存儲(chǔ)各曝光區(qū)域 9、10的箭頭A方向的尺寸、及光掩模11的曝光中心位置與攝像機(jī)構(gòu)6的攝像位置之間的距離L等，并臨時(shí)存儲(chǔ)后述的運(yùn)算部16中的運(yùn)算結(jié)果。而且，運(yùn)算部16基于輸送機(jī)構(gòu)1的位置傳感器的輸出而運(yùn)算被曝光體8的移動(dòng)距離。此外，比較器17對(duì)運(yùn)算部16所運(yùn)算的輸送機(jī)構(gòu)1的移動(dòng)距離和從存儲(chǔ)器15讀出的各尺寸進(jìn)行比較。并且，輸送機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)控制器18控制輸送機(jī)構(gòu)1的驅(qū)動(dòng)，以使得被曝光體8以規(guī)定速度移動(dòng)。而且，掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器 19使掩模臺(tái)4與被曝光體8的移動(dòng)同步地移動(dòng)，從而從光掩模11的第一掩模圖案組12向第二掩模圖案組13切換。此外，光源驅(qū)動(dòng)控制器20控制光源2的點(diǎn)亮及熄滅的驅(qū)動(dòng)。并且，控制部21以適當(dāng)驅(qū)動(dòng)上述各結(jié)構(gòu)要素的方式統(tǒng)一控制裝置整體。接下來(lái)，參照?qǐng)D5說(shuō)明如上構(gòu)成的曝光裝置的動(dòng)作及使用該曝光裝置進(jìn)行的曝光方法。在此，對(duì)被曝光體8在其表面沿著輸送方向以間隔W設(shè)定有形成不同的曝光圖案的第一曝光區(qū)域9和第二曝光區(qū)域10的情況進(jìn)行說(shuō)明。首先，在步驟Sl中，掩模臺(tái)4停止在待機(jī)位置而選擇光掩模11的第一掩模圖案組 12。在步驟S2中，輸送機(jī)構(gòu)1被輸送機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)控制器18控制而進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，開始向箭頭 A方向以規(guī)定速度輸送被曝光體8的動(dòng)作。在步驟S3中，圖像處理部14對(duì)攝像機(jī)構(gòu)6所拍攝的被曝光體8的表面的圖像進(jìn)行處理，在第一曝光區(qū)域9的箭頭A方向的前側(cè)緣部，檢測(cè)例如由預(yù)先形成在第一曝光區(qū)域 9內(nèi)的多個(gè)基準(zhǔn)圖案構(gòu)成的基準(zhǔn)圖案組的箭頭A方向前側(cè)的緣部。在步驟S4中，通過(guò)運(yùn)算部16，基于輸送機(jī)構(gòu)1的位置傳感器的輸出而檢測(cè)第一曝光區(qū)域9的箭頭A方向的前側(cè)緣部，然后算出被曝光體8移動(dòng)的距離，通過(guò)比較器17對(duì)該算出的被曝光體8的移動(dòng)距離與從存儲(chǔ)器15讀出的距離L進(jìn)行比較。然后，當(dāng)兩者一致而在步驟S4中判定為“是”時(shí)，向步驟S5前進(jìn)。在步驟S5中，光源驅(qū)動(dòng)控制器20啟動(dòng)而將光源2點(diǎn)亮。由此，從光源2發(fā)射并經(jīng)由耦合光學(xué)系統(tǒng)3而形成為平行光、進(jìn)而橫截面形狀對(duì)應(yīng)于掩模圖案組的外形形狀進(jìn)行了整形的光源光5向光掩模11的第一掩模圖案組12照射，從而在被曝光體8的第一曝光區(qū)域9上曝光形成第一曝光圖案M (參照?qǐng)D6 (a))。在步驟S6中，通過(guò)運(yùn)算部16，基于輸送機(jī)構(gòu)1的位置傳感器的輸出而運(yùn)算被曝光體8的移動(dòng)距離，通過(guò)比較器17對(duì)該距離和從存儲(chǔ)器15讀出的第一曝光區(qū)域9的箭頭A 方向的尺寸進(jìn)行比較，判定是否兩者一致而結(jié)束對(duì)第一曝光區(qū)域9的曝光。在此，當(dāng)兩者一致(參照?qǐng)D6(b))而在步驟S6中判定為“是”時(shí)，向步驟S7前進(jìn)。在步驟S7中，掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器19啟動(dòng)，與被曝光體8的輸送速度同步地使掩模臺(tái)4向箭頭B方向移動(dòng)(參照?qǐng)D6(c)、(d)、(e))。需要說(shuō)明的是，圖6(c)表示光掩模11與被曝光體8的移動(dòng)同步地向箭頭B方向移動(dòng)，并同時(shí)在光掩模11的第一掩模圖案組12的箭頭B方向后部側(cè)的部分對(duì)被曝光體8的第一曝光區(qū)域9進(jìn)行曝光的狀態(tài)，圖6 (d)表示光掩模11進(jìn)一步移動(dòng)，從而光掩模11的第二掩模圖案組13的箭頭B方向的前端部與光源光 5的箭頭A(或箭頭B)方向后端部一致的狀態(tài)，圖6(e)表示光掩模11進(jìn)一步移動(dòng)，從而光掩模11的第一掩模圖案組12的箭頭B方向后端部與光源光5的箭頭A (或箭頭B)方向前端部一致的狀態(tài)，表示對(duì)被曝光體8的第二曝光區(qū)域25的曝光開始的狀態(tài)。在步驟S8中，基于掩模臺(tái)4所具備的而省略了圖示的位置傳感器來(lái)檢測(cè)掩模臺(tái)4 的移動(dòng)距離，通過(guò)掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器19來(lái)判定是否掩模臺(tái)4移動(dòng)規(guī)定距離、從而光掩模11 的掩模圖案組從第一掩模圖案組12完全切換成第二掩模圖案組13。在此，當(dāng)從第一掩模圖案組12向第二掩模圖案組13的掩模圖案組的切換結(jié)束時(shí)，步驟S8作出“是”判定而向步驟S9前進(jìn)。
在步驟S9中，通過(guò)掩模臺(tái)驅(qū)動(dòng)控制器19使掩模臺(tái)4的移動(dòng)停止，通過(guò)光掩模11 的第二掩模圖案組13對(duì)繼續(xù)移動(dòng)中的被曝光體8的第二曝光區(qū)域10執(zhí)行曝光，形成第二曝光圖案25(參照?qǐng)D6(f))。在步驟SlO中，通過(guò)運(yùn)算部16，基于輸送機(jī)構(gòu)1的位置傳感器的輸出而運(yùn)算被曝光體8的移動(dòng)距離，通過(guò)比較器17對(duì)該距離和從存儲(chǔ)器15讀出的第二曝光區(qū)域10的箭頭A 方向的尺寸進(jìn)行比較，判定是否兩者一致而結(jié)束對(duì)第二曝光區(qū)域10的曝光。在此，當(dāng)兩者一致而作出“是”的判定時(shí)結(jié)束曝光。然后，通過(guò)光源驅(qū)動(dòng)控制器20進(jìn)行控制而將光源2熄滅，通過(guò)輸送機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)控制器18進(jìn)行控制而停止輸送機(jī)構(gòu)1的驅(qū)動(dòng)。在此，在多個(gè)被曝光體8被依次輸送且對(duì)該多個(gè)被曝光體8連續(xù)執(zhí)行曝光時(shí)，繼續(xù)驅(qū)動(dòng)輸送機(jī)構(gòu)1。需要說(shuō)明的是，在上述實(shí)施方式中，說(shuō)明了設(shè)定在被曝光體8上的曝光區(qū)域?yàn)閮蓚€(gè)的情況，但本發(fā)明并不局限于此，設(shè)定的曝光區(qū)域也可以是三個(gè)以上。這種情況下，三個(gè)以上的掩模圖案組在光掩模11上沿著被曝光體8的輸送方向(箭頭A方向)排列設(shè)置，當(dāng)上述步驟SlO結(jié)束時(shí)返回步驟S7，在對(duì)全部曝光區(qū)域的曝光結(jié)束之前反復(fù)執(zhí)行步驟S7 S10。另外，在上述實(shí)施方式中，說(shuō)明了適用于將光掩模11與被曝光體8接近對(duì)置配置的接近式曝光裝置的情況，但本發(fā)明并不局限于此，也可以適用于將光掩模11的掩模圖案組投影到被曝光體8上而進(jìn)行曝光的投影曝光裝置。這種情況下，光掩模11的移動(dòng)方向與被曝光體8的輸送方向相反。符號(hào)說(shuō)明
1..輸送機(jī)構(gòu)
4..掩模臺(tái)
5..光源光
8..被曝.光體
9..第—曝光區(qū)域
10..第:二曝光區(qū)域
11. 光!奄模
12. 第--掩模圖案
13..第:二掩模圖案
24. 第--曝光圖案
25..第:二曝光圖案
權(quán)利要求
1.一種曝光方法，一邊向一個(gè)方向輸送被曝光體，一邊在該被曝光體的沿輸送方向以規(guī)定間隔設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域形成不同的曝光圖案，所述曝光方法的特征在于，進(jìn)行如下的步驟當(dāng)使用光掩模的一掩模圖案組進(jìn)行的對(duì)所述被曝光體的一曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，與所述被曝光體的輸送速度同步地移動(dòng)所述光掩模，從而從所述一掩模圖案組切換成另一掩模圖案組的步驟，其中，所述光掩模通過(guò)將與各所述曝光圖案對(duì)應(yīng)的多種掩模圖案組沿著所述被曝光體的輸送方向以規(guī)定間隔排列而形成；當(dāng)從所述光掩模的所述一掩模圖案組向另一掩模圖案組的切換結(jié)束時(shí)，停止該光掩模的移動(dòng)，通過(guò)所述另一掩模圖案組來(lái)執(zhí)行對(duì)所述被曝光體的下一曝光區(qū)域的曝光的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光掩模沿所述被曝光體的輸送方向移動(dòng)。
3.—種曝光裝置，一邊向一個(gè)方向輸送被曝光體，一邊在該被曝光體的沿輸送方向以規(guī)定間隔設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域形成不同的曝光圖案，所述曝光裝置的特征在于，具備輸送機(jī)構(gòu)，其以規(guī)定速度輸送所述被曝光體；掩模臺(tái)，其與所述輸送機(jī)構(gòu)的上表面對(duì)置配設(shè)，保持光掩模并能夠與所述輸送機(jī)構(gòu)的移動(dòng)同步地移動(dòng)，其中，所述光掩模通過(guò)將與各所述曝光圖案對(duì)應(yīng)的多種掩模圖案組沿著所述被曝光體的輸送方向以規(guī)定間隔排列而形成，當(dāng)使用所述光掩模的一掩模圖案組進(jìn)行的對(duì)所述被曝光體的一曝光區(qū)域的曝光結(jié)束時(shí)，移動(dòng)所述掩模臺(tái)，從而從所述光掩模的一掩模圖案組切換成另一掩模圖案組，通過(guò)該另一掩模圖案組來(lái)執(zhí)行對(duì)所述被曝光體的下一曝光區(qū)域的曝光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述掩模臺(tái)沿所述被曝光體的輸送方向移動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種曝光方法及曝光裝置。在曝光方法中，當(dāng)一邊向箭頭A方向輸送被曝光體(8)，一邊使用光掩模(11)的第一掩模圖案組(12)進(jìn)行的對(duì)被曝光體(8)的第一曝光區(qū)域(9)的曝光結(jié)束時(shí)，與被曝光體的輸送速度同步地使光掩模(11)移動(dòng)而從第一掩模圖案組(12)切換成第二掩模圖案組(13)，其中光掩模(11)通過(guò)將與各曝光圖案對(duì)應(yīng)的多種掩模圖案組沿著被曝光體(8)的輸送方向以規(guī)定間隔排列而形成，并且，當(dāng)光掩模(11)的掩模圖案組的切換結(jié)束時(shí)，使該光掩模(11)的移動(dòng)停止，通過(guò)第二掩模圖案組(13)來(lái)執(zhí)行對(duì)被曝光體(8)的第二曝光區(qū)域(10)的曝光，從而在被曝光體(8)的沿輸送方向以規(guī)定間隔設(shè)定的多個(gè)曝光區(qū)域的每個(gè)區(qū)域上形成不同的曝光圖案(24、25)。由此，提高對(duì)同一被曝光體的多種曝光圖案的形成效率。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102365588SQ201080013999
公開日2012年2月29日 申請(qǐng)日期2010年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月3日
發(fā)明者梶山康一 申請(qǐng)人:株式會(huì)社V技術(shù)