專利名稱：曝光頭、曝光頭的控制方法、圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過成像光學(xué)系統(tǒng)將來自發(fā)光元件的光成像的曝光頭、該曝光頭的控 制方法及使用了該曝光頭的圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
作為這樣的曝光頭，在專利文獻(xiàn)1中記載有相對于多個發(fā)光元件配置一個成像光 學(xué)系統(tǒng)的曝光頭。成像光學(xué)系統(tǒng)將來自對應(yīng)的多個發(fā)光元件的光成像。然后，該成像光將 被曝光面曝光。其中，目前已知如下所述的情況發(fā)光元件在反復(fù)進(jìn)行發(fā)光的過程中劣化，從而導(dǎo) 致發(fā)光元件的光量降低。并且，若發(fā)生這種的光量降低，則存在曝光頭不能執(zhí)行良好的曝光 動作的可能性。與此對應(yīng)，在專利文獻(xiàn)2中提出了在不受發(fā)光元件劣化影響的情況下實(shí)現(xiàn) 良好的曝光動作的光量控制技術(shù)。該光量控制技術(shù)在曝光頭出廠前檢查中使各發(fā)光元件依 次發(fā)光，通過光量傳感器檢測來自各發(fā)光元件的光。進(jìn)而，在出廠后，例如在曝光動作的間 隔或接通電源時的時刻，進(jìn)行與出廠前檢查時同樣的光量檢測。然后，從出廠前后分別檢測 出的光量求解發(fā)光元件的劣化程度。具體而言，求出出廠前后的檢測光量的比(專利文獻(xiàn) 2中的“補(bǔ)正系數(shù)”)。根據(jù)這樣求出的比控制發(fā)光元件的光量，由此，在不受劣化影響的情 況下使各發(fā)光元件的光量均勻化，從而實(shí)現(xiàn)良好的曝光動作。專利文獻(xiàn)1 日本特開2008-36937號公報專利文獻(xiàn)2 日本特開2004-82330號公報然而，發(fā)光元件的光量也隨溫度變化而變動。因此，若在出廠前的光量檢測時和出 廠后的光量檢測時發(fā)光元件的溫度發(fā)生變化，則不僅在劣化的作用下，在溫度變化的作用 下發(fā)光元件的光量也會發(fā)生變化。其結(jié)果是，存在從出廠前后的檢測光量求出的劣化程度 受到溫度變化的影響，而無法準(zhǔn)確地求出劣化程度的情況。并且，在這種情況下，存在無法 適當(dāng)?shù)匾种屏踊鸬墓饬孔儎?，而不能?zhí)行良好的曝光動作的可能性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述課題而提出，其目的在于提供一種抑制劣化所引起的發(fā)光元件的 光量變動，從而能夠?qū)崿F(xiàn)良好的曝光動作的技術(shù)。[適用例1]本適用例的曝光頭具備發(fā)光元件；將來自所述發(fā)光元件的光成像的 成像光學(xué)系統(tǒng)；相對于所述發(fā)光元件配置的多個參考元件；控制所述發(fā)光元件的發(fā)光并且 在潛像形成動作中熄滅所述參考元件的控制機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)在不進(jìn)行所述潛像形成動 作的時刻根據(jù)發(fā)光的所述發(fā)光元件及所述多個參考元件的光量求解所述發(fā)光元件的劣化 程度，并且，根據(jù)所述劣化程度控制所述潛像形成動作中的所述發(fā)光元件的光量。[適用例2]所述適用例的曝光頭具有多個所述發(fā)光元件，所述多個發(fā)光元件配置 為第一方向上的距離比第二方向上的距離長，且配置成點(diǎn)對稱，所述多個參考元件配置在 對應(yīng)的所述多個發(fā)光元件的第一方向外側(cè)，且相對于所述多個發(fā)光元件的點(diǎn)對稱中心而配
3置成點(diǎn)對稱。由此，有利于使參考元件與多個發(fā)光元件為大致相同溫度，從而能夠更加高精 度地求解發(fā)光元件的劣化程度。其結(jié)果是，曝光頭能夠執(zhí)行良好的曝光動作。[適用例3]所述適用例的曝光頭的所述發(fā)光元件及所述參考元件是有機(jī)EL元件。 由此，由于有機(jī)EL元件的光量根據(jù)劣化及溫度變化而變動，因此，本適用例適合于高精度 地求解發(fā)光元件的劣化程度從而實(shí)現(xiàn)良好的曝光動作。[適用例4]本適用例的曝光頭的控制方法的特征在于，包括第一工序，其中，使 配置在曝光頭的發(fā)光元件及多個參考元件發(fā)光，從而根據(jù)所述發(fā)光元件及所述多個參考元 件的光量求解所述發(fā)光元件的劣化程度；第二工序，其中，根據(jù)所述劣化程度控制所述發(fā)光 元件的光量，同時通過配置在所述曝光頭的成像光學(xué)系統(tǒng)將來自所述發(fā)光元件的光成像而 執(zhí)行在潛像擔(dān)載體上形成潛像的潛像形成動作，并且，在所述潛像形成動作中使所述多個 參考元件不發(fā)光。[適用例5]本適用例的圖像形成裝置具備潛像擔(dān)載體；曝光頭，其具有發(fā)光元 件、將來自所述發(fā)光元件的光成像而將所述潛像擔(dān)載體曝光的成像光學(xué)系統(tǒng)、相對于所述 發(fā)光元件配置的多個參考元件；控制機(jī)構(gòu)，其在將潛像形成在所述潛像擔(dān)載體上的潛像形 成動作中控制所述發(fā)光元件的發(fā)光，并且，在所述潛像形成動作中熄滅所述多個參考元件， 所述控制機(jī)構(gòu)在不進(jìn)行所述潛像形成動作的時刻根據(jù)發(fā)光的所述發(fā)光元件及所述多個參 考元件的光量求解所述發(fā)光元件的劣化程度，并且，根據(jù)所述劣化程度控制所述潛像形成 動作中的所述發(fā)光元件的光量。在如此構(gòu)成的發(fā)明(曝光頭、曝光頭的控制方法、圖像形成裝置)中，通過成像光 學(xué)系統(tǒng)將來自多個光學(xué)元件的光成像而執(zhí)行潛像形成動作(曝光動作)。這樣，用于潛像 形成動作的發(fā)光元件的光量受到因反復(fù)進(jìn)行潛像形成動作而引起的劣化和溫度這兩方面 的影響。因此，如背景技術(shù)中所說明的那樣，存在無法準(zhǔn)確地求解發(fā)光元件的劣化程度的情 況。對應(yīng)于此，本發(fā)明根據(jù)多個參考元件和多個發(fā)光元件的光量求解發(fā)光元件的劣化程度。 所述多個參考元件相對于多個發(fā)光元件設(shè)置，且處于與所述多個發(fā)光元件大致相同的溫度 下。并且，由于所述參考元件在潛像形成動作中熄滅，因此，不會產(chǎn)生因潛像形成動作而引 起的劣化。即，本發(fā)明通過使用處于與多個發(fā)光元件大致相同的溫度下且不產(chǎn)生劣化的參 考元件的光量，從而能夠在抑制溫度的影響的同時高精度地求解多個發(fā)光元件各自的劣化 程度。由此，根據(jù)該劣化程度來控制各發(fā)光元件的光量，從而能夠使曝光頭抑制因劣化而引 起的發(fā)光元件的光量變動，執(zhí)行良好的曝光。另外，通過使用這種曝光頭，圖像形成裝置能 夠形成良好的圖像。另外，曝光頭的控制方法可以如下所述地構(gòu)成。即，在第一工序中，根據(jù)發(fā)光的發(fā) 光元件及多個參考元件的光量、和存儲在存儲機(jī)構(gòu)中的發(fā)光的發(fā)光元件及多個參考元件的 光量，求解發(fā)光元件的劣化程度，由此能夠構(gòu)成曝光頭的控制方法。通過如此構(gòu)成，即使在 求出存儲在存儲機(jī)構(gòu)中的光量之際、和在第一工序中使多個發(fā)光元件及多個參考元件發(fā)光 之際溫度不同的情況下，也能夠在抑制溫度的影響的同時高精度地求解發(fā)光元件的劣化程 度。


圖1是表示安裝有行式頭的圖像形成裝置的一例的示意圖。
圖2是表示圖像形成裝置的電結(jié)構(gòu)的框圖。
圖3是表示能夠適用本發(fā)明的行式頭的簡要立體圖。
圖4是圖3所示的行式頭的A-A線局部剖面圖。
圖5表示發(fā)光元件組的結(jié)構(gòu)，(a)是俯視圖，(b)是表示發(fā)光元件組內(nèi)溫度的圖。
圖6是表示頭基板的里面的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖7是表示透鏡陣列的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖8是透鏡陣列及頭基板等的長度方向的剖面圖。
圖9是表示發(fā)光控制模塊的結(jié)構(gòu)的框圖。
圖10是表示行式頭所進(jìn)行的點(diǎn)潛像形成動作的圖。
圖11是表示在行式頭出廠前執(zhí)行的出廠前光量測定的流程圖。
圖12是表示在出廠后的規(guī)定時刻執(zhí)行的劣化率鑒定的流程圖。
圖13是表示在發(fā)光元件組行中的發(fā)光元件組內(nèi)溫度的圖。
圖14是表示在發(fā)光元件組列中的發(fā)光元件組內(nèi)溫度的圖。
圖15是表示參考元件的配設(shè)方式的另一例的俯視圖。
符號說明
21Y、21K…感光體鼓(潛像擔(dān)載體)
29…行式頭(曝光頭)
293…頭基板
295…發(fā)光元件組(多個發(fā)光元件)
2951…發(fā)光元件
299…透鏡陣列
LS…透鏡(成像光學(xué)系統(tǒng))
MC…主控制器
HC…頭控制器
LEC…發(fā)光控制模塊
LGD…長度方向
LTD…寬度方向
MD…主掃描方向
SD…副掃描方向
SC…光量傳感器
具體實(shí)施例方式圖1是表示安裝有本實(shí)施方式的行式頭的圖像形成裝置的一例的示意圖。另外， 圖2是表示圖1的圖像形成裝置的電結(jié)構(gòu)的框圖。該裝置是能夠選擇性地執(zhí)行彩色模式和 單色模式的圖像形成裝置，在所述彩色模式中，將黑色(K)、青色(C)、品紅色(M)、黃色(Y) 這四色的調(diào)色劑重合而形成彩色圖像，在所述單色模式中，僅使用黑色(K)的調(diào)色劑來形 成單色圖像。此外，圖1是與彩色模式執(zhí)行時對應(yīng)的圖。如圖2所示，在該圖像形成裝置中，若從主機(jī)等外部裝置將圖像形成指令向具有 CPU和存儲器等的主控制器MC施加，則該主控制器MC向發(fā)動機(jī)控制器EC施加控制信號等，并且將與圖像形成指令對應(yīng)的視頻數(shù)據(jù)VD向頭控制器HC施加。另外，該頭控制器HC根據(jù) 來自主控制器MC的視頻信號VD與來自發(fā)動機(jī)控制器EC的垂直同步信號Vsync及參數(shù)值 來控制各色的行式頭29。由此，發(fā)動機(jī)部EG執(zhí)行規(guī)定的圖像形成動作，在復(fù)寫紙、轉(zhuǎn)印紙及 0HP用透明片等片上形成與圖像形成指令對應(yīng)的圖像。在圖1所示的圖像形成裝置所具有的殼主體3內(nèi)，設(shè)有內(nèi)置電源電路基板、主控制 器MC、發(fā)動機(jī)控制器EC及頭控制器HC的電氣安裝件箱5。另外，圖像形成單元7、轉(zhuǎn)印帶單 元8及供紙單元11也配置在殼主體3內(nèi)。另外，在圖1中殼主體3內(nèi)右側(cè)配置有二次轉(zhuǎn)印 單元12、定影單元13、片材引導(dǎo)部件15。此外，供紙單元11相對于裝置主體1而裝拆自如 地構(gòu)成。并且，該供紙單元11及轉(zhuǎn)印頭單元8構(gòu)成為能夠分別拆下而進(jìn)行修理或更換。圖像形成單元7具備形成多個不同顏色的圖像的四個圖像形成站Y(黃色用)、 M(品紅色用)、C(青色用)、K(黑色用)。另外，各圖像形成站Y、M、C、K設(shè)有沿主掃描方 向MD具有規(guī)定長度的表面的圓筒形的感光體鼓21 (21Y、21M、21C、21K)。并且，各圖像形成 站Y、M、C、K分別將對應(yīng)的顏色的調(diào)色劑像形成在感光體鼓21的表面。感光體鼓21配置 為軸向與主掃描方向MD平行或大致平行。另外，將各感光體鼓21分別與專用的驅(qū)動電動 機(jī)連接而使其沿圖中箭頭方向即旋轉(zhuǎn)方向D21的方向以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。由此，將感光 體鼓21的表面沿與主掃描方向MD正交或大致正交的副掃描方向SD輸送。另外，在感光體 鼓21的周圍沿旋轉(zhuǎn)方向配置有帶電部23、行式頭29、顯影部25及感光體清潔器27。并且， 通過上述功能部來執(zhí)行潛像形成動作及調(diào)色劑顯影動作。由此，在彩色模式執(zhí)行時，將在全 部的圖像形成站Y、M、C、K形成的調(diào)色劑像重合在轉(zhuǎn)印帶單元8所具有的轉(zhuǎn)印帶81上而形 成彩色圖像，并且，在單色模式執(zhí)行時，只使用在圖像形成站K形成的調(diào)色劑像來行程單色 圖像。此外，在圖1中，由于圖像形成單元7的各圖像形成站Y、M、C、K的結(jié)構(gòu)彼此相同，因 此，為了便于圖示僅對一部分圖像形成站標(biāo)注符號，對其他圖像形成站省略符號。帶電部23具有表面由彈性橡膠構(gòu)成的帶電輥。該帶電輥構(gòu)成為在帶電位置與感 光體鼓21的表面抵接而從動旋轉(zhuǎn)，伴隨著感光體鼓21的旋轉(zhuǎn)動作相對于感光體鼓21沿從 動方向以周向速度從動旋轉(zhuǎn)。另外，該帶電輥與帶電偏壓產(chǎn)生部(省略圖示)連接，接受來 自帶電偏壓產(chǎn)生部的帶電偏壓的供電而在帶電部23與感光體鼓21抵接的帶電位置使感光 體鼓21的表面帶電。行式頭29具備多個發(fā)光元件，并且離開感光體鼓21而配置。并且，從上述發(fā)光元 件對通過帶電部23而帶電的感光體鼓21的表面照射光，從而在該表面形成靜電潛像。顯影部25具有在表面擔(dān)載調(diào)色劑的顯影輥251。并且，在從與顯影輥251電連接 的顯影偏壓產(chǎn)生部(省略圖示)施加到顯影輥251的顯影偏壓的作用下，在顯影輥251與 感光體輥21抵接的顯影位置，帶電調(diào)色劑從顯影輥251向感光體輥21移動而使由行式頭 29形成的靜電潛像顯現(xiàn)。這樣，將在上述顯影位置顯現(xiàn)的調(diào)色劑像沿感光體鼓21的旋轉(zhuǎn)方向D21輸送，之 后，在如后所述的轉(zhuǎn)印帶81與各感光體鼓21抵接的一次轉(zhuǎn)印位置TR1 —次轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶 81上。另外，在本實(shí)施方式中，在感光體鼓21的旋轉(zhuǎn)方向D21上，在一次轉(zhuǎn)印位置TR1的 下游側(cè)且?guī)щ姴?3的上游側(cè)，與感光體鼓21的表面抵接而設(shè)置有感光體清潔器27。該感 光體清潔器27與感光體鼓21的表面抵接，從而清潔去除一次轉(zhuǎn)印后殘留在感光體鼓21的
6表面上的調(diào)色劑。轉(zhuǎn)印帶單元8具備驅(qū)動輥82 ；在圖1中配置在驅(qū)動輥82的左側(cè)的從動輥83 (刮 板對置輥)、被架設(shè)在上述輥之間的沿圖示箭頭D81(輸送方向)循環(huán)驅(qū)動的轉(zhuǎn)印帶81。另 外，轉(zhuǎn)印帶單元8在轉(zhuǎn)印帶81的內(nèi)側(cè)具備四個一次轉(zhuǎn)印輥85Y、85M、85C、85K，所述四個一次 轉(zhuǎn)印輥85Y、85M、85C、85K在感光體盒安裝時分別相對于各圖像形成站Y、M、C、K所具有的 感光體鼓21—對一地對置配置。上述一次轉(zhuǎn)印輥85分別與一次轉(zhuǎn)印偏壓產(chǎn)生部(省略圖 示)電連接。并且，在彩色模式執(zhí)行時，如圖1所示，通過將全部的一次轉(zhuǎn)印輥85Y、85M、85C、 85K定位在圖像形成站Y、M、C、K側(cè)，從而按壓轉(zhuǎn)印帶81使其與圖像形成站Y、M、C、K各自 具有的感光體鼓21抵接，在各感光體鼓21與轉(zhuǎn)印帶81之間形成一次轉(zhuǎn)印位置TR1。然后， 在適當(dāng)?shù)臅r刻從上述一次轉(zhuǎn)印偏壓產(chǎn)生部對一次轉(zhuǎn)印輥85施加一次轉(zhuǎn)印偏壓，由此，將形 成在各感光體鼓21的表面上的調(diào)色劑像在各自對應(yīng)的一次轉(zhuǎn)印位置TR1轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶81 的表面，從而形成彩色圖像。另一方面，在單色模式執(zhí)行時，使四個一次轉(zhuǎn)印輥85中彩色模式下的一次轉(zhuǎn)印輥 85Y、85M、85C離開分別對置的圖像形成站Y、M、C，并且，僅使單色模式下的一次轉(zhuǎn)印輥85K 與圖像形成站K抵接，從而僅使單色的圖像形成站K與轉(zhuǎn)印帶81抵接。其結(jié)果是，僅在一 次轉(zhuǎn)印輥85K和圖像形成站K之間形成一次轉(zhuǎn)印位置TR1。然后，在適當(dāng)?shù)臅r刻從所述一次 轉(zhuǎn)印偏壓產(chǎn)生部對一次轉(zhuǎn)印輥85K施加一次轉(zhuǎn)印偏壓，由此，將在感光體鼓21K的表面上形 成的調(diào)色劑像在一次轉(zhuǎn)印位置TR1轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶81的表面，從而形成單色圖像。進(jìn)而，轉(zhuǎn)印帶單元8具有配置在一次轉(zhuǎn)印輥85K的下游側(cè)且驅(qū)動輥82的上游側(cè)的 下游導(dǎo)輥86。另外，該下游導(dǎo)輥86構(gòu)成為，在一次轉(zhuǎn)印輥85與圖像形成站Y、M、C、K的感 光體鼓21抵接而形成的一次轉(zhuǎn)印位置TR1處的一次轉(zhuǎn)印輥85與感光體鼓21的公共內(nèi)切 線上，與轉(zhuǎn)印帶81抵接。驅(qū)動輥82將轉(zhuǎn)印帶81沿圖示箭頭D81的方向循環(huán)驅(qū)動，并且，兼作二次轉(zhuǎn)印輥 121的支承輥。在驅(qū)動輥82的周面形成有厚度3mm左右、體積電阻率為1000k Q cm以下 的橡膠層，并經(jīng)由金屬制的軸接地，由此，作為從省略了圖示的二次轉(zhuǎn)印偏壓產(chǎn)生部經(jīng)由二 次轉(zhuǎn)印輥121而供給的二次轉(zhuǎn)印偏壓的導(dǎo)電路徑。這樣，通過在驅(qū)動輥82上設(shè)置高摩擦且 具有沖擊吸收性的橡膠層，由此，片進(jìn)入驅(qū)動輥82與二次轉(zhuǎn)印輥121的抵接部分(二次轉(zhuǎn) 印位置TR2)時的沖擊難以到達(dá)轉(zhuǎn)印帶81，從而能夠防止畫質(zhì)的劣化。供紙單元11具備供紙部，該供紙部具有能夠?qū)盈B保持片的供紙盒77和從供紙盒 77將片一張一張供給的撿拾輥79。通過撿拾輥79從供給部供給的片在抵抗輥對( > 夕^
卜口一，一対)80中調(diào)節(jié)供紙時刻，之后沿片引導(dǎo)部件15向二次轉(zhuǎn)印位置TR2供給。二次轉(zhuǎn)印輥121相對于轉(zhuǎn)印帶81離開或抵接自如地設(shè)置，由二次轉(zhuǎn)印輥驅(qū)動機(jī)構(gòu) (省略圖示)離開或抵接驅(qū)動。定影單元13具有內(nèi)置鹵素加熱器等發(fā)熱體并旋轉(zhuǎn)自如的加 熱輥131和對該加熱輥131按壓施力的加壓部132。并且，通過片引導(dǎo)部件15將在其表面 二次轉(zhuǎn)印有圖像的片向由加熱輥131和加壓部132的加壓帶1323形成的捏夾部引導(dǎo)，在該 捏夾部以規(guī)定的溫度將圖像熱定影。加壓部132由兩個輥1321、1322和架設(shè)在上述輥上的 加壓帶1323構(gòu)成。并且，通過將加壓帶1323的表面中由兩個輥1321、1322張架的帶張緊 面向加熱輥131的周面壓緊，由此，使加熱輥131與加壓帶1323所形成的捏夾部構(gòu)成為較 寬。另外，將受過上述定影處理的片向設(shè)置在殼主體3的上表面部的排紙托盤4輸送。
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另外，在該裝置中，與刮板對置輥83對置而配置有清潔部71。清潔部71具有清潔 刮板711和廢棄調(diào)色劑箱713。清潔刮板711的前端部經(jīng)由轉(zhuǎn)印帶81與刮板對置輥83抵 接，由此，除去二次轉(zhuǎn)印后殘留在轉(zhuǎn)印帶81上的調(diào)色劑或紙屑等雜質(zhì)。并且，將這樣被除去 的雜質(zhì)回收在廢棄調(diào)色劑箱713中。在以下的說明中，第一方向?yàn)橹鲯呙璺较騇D，第二方向?yàn)楦睊呙璺较騍D,第一方 向與第二方向正交或大致正交。圖3是表示本實(shí)施方式的行式頭的簡要立體圖。另外，圖 4是圖3所示的行式頭的A-A線局部剖面圖，是與透鏡的光軸OA平行的剖面。此外，A-A線 與后述的發(fā)光元件組列295C或透鏡列LSC平行或大致平行。行式頭29的長度方向LGD與 主掃描方向MD平行或大致平行，行式頭29的寬度方向LTD與副掃描方向SD平行或大致平 行。此外，長度方向L⑶和寬度方向LTD相互正交或大致正交。如后所述，在該行式頭29 中，在頭基板293上形成有多個發(fā)光元件，各發(fā)光元件向感光體鼓21的表面射出光束。因 此，在本說明書中，將與長度方向LGD及寬度方向LTD正交的方向、即從發(fā)光元件朝向感光 體鼓表面的方向作為光束的行進(jìn)方向Doa。該光束行進(jìn)方向Doa與透鏡的光軸OA平行或大 致平行。行式頭29具有箱體291，并且，在所述箱體291的長度方向LGD的兩端設(shè)有定位銷 2911和螺紋插入孔2912。并且，將所述定位銷2911插入穿設(shè)在覆蓋感光體鼓21并且相對 于感光體鼓21被定位的感光體罩(省略圖示)上的定位孔(省略圖示)中，由此，將行式 頭29相對于感光體鼓21定位。進(jìn)而，通過將固定螺釘經(jīng)由螺紋插入孔2912插入到感光體 罩的螺紋孔(省略圖示)而進(jìn)行固定，由此，將行式頭29相對于感光體鼓21定位固定。在箱體291的內(nèi)部配置有頭基板293、遮光部件297及兩片透鏡陣列299(299A、 299B)。箱體291的內(nèi)部與頭基板293的表面293_h抵接，另一方面，里蓋2913與頭基板293 的里面293-t抵接。通過固定器具2914將該里蓋2913隔著頭基板293向箱體291內(nèi)部按 壓。即，固定器具2914具有將里蓋2913向箱體291內(nèi)部側(cè)(圖4中的上側(cè))按壓的彈力， 在所述彈力的作用下按壓里蓋，由此將箱體291的內(nèi)部光密(換言之，不從箱體291內(nèi)部漏 光，且光無法從箱體291的外部侵入)密封。此外，固定器具2914設(shè)置在箱體291的長度 方向L⑶上的多個部位。在頭基板293的里面293-t設(shè)有將多個發(fā)光元件形成組的發(fā)光元件組295。 頭基板293由玻璃等透光性部件形成，發(fā)光元件組295的各發(fā)光元件所射出的光束 能夠從頭基板293的里面293-t向表面293-h透過。該發(fā)光元件是下發(fā)射型的有機(jī) EL (Electro-Luminescence電致發(fā)光)元件，由密封部件294覆蓋。若各發(fā)光元件2951被 電流驅(qū)動，則射出相互相等波長的光束。該發(fā)光元件2951是所謂的完全擴(kuò)散面光源，從發(fā) 光面射出的光束遵守朗伯余弦定律。圖5 (a)是表示設(shè)置在頭基板的里面的發(fā)光元件組的結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖6是表示頭 基板的里面的結(jié)構(gòu)的俯視圖，任意一個圖都相當(dāng)于從頭基板的表面?zhèn)扔^察里面的情況。此 外，在上述圖中透鏡LS由雙點(diǎn)劃線表示，但這只是用于表示發(fā)光元件組295與透鏡LS的對 應(yīng)關(guān)系，并不表示透鏡LS形成在頭基板里面293-t上。如圖5(a)所示，在本實(shí)施方式中設(shè) 有用于將感光體鼓21表面曝光的曝光用的發(fā)光元件2951 (白圓標(biāo)記)和不用于曝光動作 的參考元件Erf (陰影圓標(biāo)記)。并且，將12個發(fā)光元件2951形成組而構(gòu)成一個發(fā)光元件 組295。具體而言，在長度方向L⑶上，7個發(fā)光元件2951以發(fā)光元件間距Pel的兩倍的間距排列而構(gòu)成發(fā)光元件行2951R，并且，兩行的發(fā)光元件行2951R_1、2951R_2配置在寬度方 向LTD上不同的位置。進(jìn)而，上述兩行發(fā)光元件行2951R_1、2951R_2相互錯開發(fā)光元件間距 Pel而配置。其結(jié)果是，在發(fā)光元件組295中，各發(fā)光元件2951設(shè)置在長度方向L⑶上相互 不同的位置。另外，相對于各發(fā)光元件組295，在該發(fā)光元件組295的外側(cè)配置有兩個參考 元件Erf_l、Erf_2。具體而言，參考元件Erf_l位于發(fā)光元件組295的發(fā)光元件行2951R_1 的長度方向LGD上的一側(cè)(圖5的左側(cè))端部。另外，參考元件Erf_2位于發(fā)光元件組295 的發(fā)光元件行2951R_2的長度方向LGD上的一側(cè)(圖5的右側(cè))端部。另外，該參考元件 Erf也與發(fā)光元件2951同樣是下發(fā)射型的有機(jī)EL元件。并且，如圖6所示，多個發(fā)光元件 組295相互離開而二維配置。詳情如下所述。在寬度方向LTD上相互不同的位置配置三個發(fā)光元件組295而構(gòu)成發(fā)光元件組列 295C。在各發(fā)光元件組列295C中，三個發(fā)光元件組295在長度方向LGD上相互錯開發(fā)光元 件組間距Peg而配置。并且，多個發(fā)光元件組列295C以發(fā)光元件組列間距(=PegX3)沿 長度方向LGD排列。這樣，各發(fā)光元件組295以發(fā)光元件組間距Peg設(shè)置在長度方向LGD 上，各發(fā)光元件組295的長度方向LGD上的位置Teg相互不同。換言之，可以說發(fā)光元件組295如下所述地配置。即，在頭基板293的里面293_t， 將多個發(fā)光元件組295沿長度方向LGD排列而構(gòu)成發(fā)光元件組行295R，并且，三個發(fā)光元件 組行295R設(shè)置在寬度方向LTD上相互不同的位置。上述三個發(fā)光元件組行295R以發(fā)光元 件組行間距Pegr設(shè)置在寬度方向LTD上。并且，各發(fā)光元件組行295R在長度方向LGD上 相互錯開發(fā)光元件組間距Peg。由此，多個發(fā)光元件組295以發(fā)光元件組間距Peg設(shè)置在長 度方向LGD上，各發(fā)光元件組295的長度方向LGD上的位置Teg相互不同。這里，發(fā)光元件組295的位置Teg可以作為從光的行進(jìn)方向Doa觀察時的發(fā)光元 件組295的重心而獲得。發(fā)光元件組295的重心可以作為從光的行進(jìn)方向Doa觀察構(gòu)成發(fā) 光元件組295的多個發(fā)光元件2951時的該多個發(fā)光元件2951的重心而獲得。另外，發(fā)光元 件組間距Peg可以作為長度方向LGD上的位置Teg相鄰的兩個發(fā)光元件組295 (例如，發(fā)光 元件組295_1、295_2)的長度方向L⑶上的各位置Teg的間隔而獲得。此外，在圖6中，發(fā) 光元件組295的長度方向LGD上的位置Teg由從發(fā)光元件組295的位置向長度方向軸LGD 引出的垂線的足表示。在頭基板293的里面293-t，多個光量傳感器SC沿長度方向LGD排列。各光量傳 感器SC檢測發(fā)光元件2951射出的光和后述的參考元件Efr射出的光。并且，將光量傳感 器SC的檢測值向后述的發(fā)光控制模塊LEC輸出(圖9)。返回到圖3、圖4繼續(xù)進(jìn)行說明。遮光部件297抵接配置在頭基板293的表面 293-h。在遮光部件297上設(shè)置有對應(yīng)每個發(fā)光元件組295的導(dǎo)光孔2971 (換言之，相對于 多個發(fā)光元件組295 —對一地設(shè)置有多個導(dǎo)光孔2971)。各導(dǎo)光孔2971作為在光束的行 進(jìn)方向Doa上貫通的孔而形成于遮光部件297上。另外，在遮光部件297的上側(cè)(頭基板 293的相反側(cè))，兩片透鏡陣列299沿光束的行進(jìn)方向Doa排列配置。這樣，在光束的行進(jìn)方向Doa上，在發(fā)光元件組295與透鏡陣列299之間配置有對 應(yīng)每個發(fā)光元件組295而設(shè)有導(dǎo)光孔2971的遮光部件297。因此，從發(fā)光元件組295發(fā)出 的光束通過與該發(fā)光元件組295對應(yīng)的導(dǎo)光孔2971而朝向透鏡陣列299。反言之，從發(fā)光 元件組295射出的光束中朝向與該發(fā)光元件組295對應(yīng)的導(dǎo)光孔2971以外的光束被遮光部件297遮擋。這樣，從一個發(fā)光元件組295射出的光全部經(jīng)由相同的導(dǎo)光孔2971而朝向 透鏡陣列299，并且，通過遮光部件297防止從不同發(fā)光元件組295射出的光束彼此的干涉。圖7是表示透鏡陣列的結(jié)構(gòu)的俯視圖，相當(dāng)于從光束的行進(jìn)方向Doa側(cè)觀察透鏡 陣列的情況。需要說明的是，該圖中各透鏡LS形成在透鏡陣列基板2991的里面2991-t上， 該圖表示該透鏡陣列基板里面2991-t的結(jié)構(gòu)。如圖6等中所表示的那樣，在透鏡陣列299 中，對應(yīng)每個發(fā)光元件組295而設(shè)有透鏡LS。即，在各透鏡陣列299中，多個透鏡LS相互離 開并二維配置。詳情如下所述。在寬度方向LTD上相互不同的位置配置三個透鏡LS而構(gòu)成透鏡列LSC。在各透鏡 列LSC中，三個透鏡LS在長度方向LGD上相互錯開透鏡間距Pis而配置。并且，多個透鏡 列LSC以透鏡列間距(=PlsX3)沿長度方向LGD排列。這樣，各透鏡LS在長度方向LGD 上以透鏡間距Pis設(shè)置，各透鏡LS的長度方向LSD上的位置Tls相互不同。換言之，可以說透鏡LS如下所述地配置。即，沿長度方向LGD排列多個透鏡LS而 構(gòu)成透鏡行LSR，并且，三個透鏡行LSR設(shè)置在寬度方向LTD上相互不同的位置。上述三個 透鏡行LSR以透鏡行間距Plsr沿寬度方向LTD排列。并且，各透鏡行LSR在長度方向LGD 上相互錯開透鏡間距Pis。由此，多個透鏡LS以透鏡間距Pis設(shè)置在長度方向L⑶上，各透 鏡LS的長度方向LGD上的位置Tls相互不同。此外，在該圖中，透鏡LS的位置由透鏡LS 的頂點(diǎn)(即，凹陷最大的點(diǎn))代表，透鏡LS的長度方向LGD上的位置Tls由從透鏡LS的頂 點(diǎn)向長度方向軸LGD引出的垂線的足表示。圖8是透鏡陣列和頭基板等的長度方向的剖面圖，表示包含形成在透鏡陣列上的 透鏡LS的光軸在內(nèi)的長度方向剖面。透鏡陣列299具有在長度方向LGD上是長尺寸且透 光性的透鏡陣列基板2991。該透鏡陣列基板2991由線膨脹系數(shù)比較小的玻璃形成。在透 鏡陣列基板2991的表面2991-h和里面2991-t中的透鏡陣列基板2991的里面2991-t上 形成有透鏡LS。透鏡LS例如可以由光固化性樹脂形成。在該行式頭29中，為了提高光學(xué)設(shè)計的自由度，將具有這樣結(jié)構(gòu)的透鏡陣列299 沿光束的行進(jìn)方向Doa排列配置兩片(透鏡陣列299A、299B)。上述兩片透鏡陣列299A、 299B隔著基座296而對置(圖3、圖4)，該基座296實(shí)現(xiàn)對透鏡陣列299A、299B的間隔進(jìn)行 限定的功能。這樣，沿光束的行進(jìn)方向Doa排列的兩片透鏡LSI、LS2對應(yīng)每個發(fā)光元件組 295而配置(圖3、圖4、圖8)。這里，光束的行進(jìn)方向Doa的上游側(cè)的透鏡陣列299A的透 鏡LS為第一透鏡即透鏡LS1，光束的行進(jìn)方向Doa的下游側(cè)的透鏡陣列299B的透鏡LS為 第二透鏡即透鏡LS2。從發(fā)光元件組295射出的光束LB通過與該發(fā)光元件組295對置配置的兩片透鏡 LS1、LS2成像，從而在感光體鼓表面(潛像形成面)形成點(diǎn)SP。S卩，由兩片透鏡LS1、LS2構(gòu) 成成像光學(xué)系統(tǒng)，對應(yīng)每個發(fā)光元件組295都對置配置有該成像光學(xué)系統(tǒng)。成像光學(xué)系統(tǒng) 的光軸0A與光的行進(jìn)方向Doa平行，且通過發(fā)光元件組295的重心位置。該成像光學(xué)系統(tǒng) 具有所謂的反轉(zhuǎn)擴(kuò)大的光學(xué)特性。即，成像光學(xué)系統(tǒng)形成倒立像，成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)倍率 的絕對值大于1。以上是行式頭29及具備該行式頭29的圖像形成裝置的具體結(jié)構(gòu)。接下來，對行式 頭29的曝光動作進(jìn)行說明。行式頭29根據(jù)視頻數(shù)據(jù)VD將感光體鼓21表面曝光。視頻數(shù) 據(jù)VD在主控制器MC中生成(圖2)。即，主控制器MC具有圖像處理部51，該圖像處理部51對來自外部裝置的圖像形成指令所含有的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行信號處理從而生成視頻數(shù)據(jù)VD。在 每次從頭控制器HC輸入垂直請求信號VREQ時，對一頁量的圖像執(zhí)行該信號處理。然后，圖 像處理部51在每次從頭控制器HC接收水平請求信號HREQ時，將一行量的視頻數(shù)據(jù)VD向 頭控制器HC輸出。頭控制器HC根據(jù)從發(fā)動機(jī)控制器EC施加的同步信號Vsync，生成垂直請求信號 VREQ及水平請求信號HREQ。另外，頭控制器HC將從主控制器MC收到的視頻數(shù)據(jù)VD向設(shè) 置在行式頭29上的發(fā)光控制模塊LEC(圖9)輸出。該發(fā)光控制模塊LEC分別設(shè)置在四色 量的行式頭29上。圖9是表示發(fā)光控制模塊的結(jié)構(gòu)的框圖。發(fā)光控制模塊LEC包括控制發(fā)光控制模 塊LEC的各部的控制電路55、驅(qū)動發(fā)光元件2951的驅(qū)動電路57、光量傳感器SC(圖6)及 存儲器56?？刂齐娐?5根據(jù)從頭控制器HC接收的視頻數(shù)據(jù)VD，控制驅(qū)動電路57的發(fā)光 元件。此時，控制電路55根據(jù)預(yù)先求出而存儲在存儲器56中的發(fā)光元件2951的劣化率驅(qū) 動各發(fā)光元件2951，從而使各發(fā)光元件2951發(fā)出大致均勻的光量(第二工序)。此外，發(fā) 光元件2951的劣化率的鑒定方法如后所述。其中，如圖6所示，在行式頭29上二維配置有多個發(fā)光元件組295。因此，為了在 感光體鼓21表面形成合適的潛像，頭控制器HC與發(fā)光控制模塊LEC協(xié)同動作，對各發(fā)光元 件組295的發(fā)光進(jìn)行如下所述的控制。圖10是表示行式頭所進(jìn)行的點(diǎn)潛像形成動作的圖。 以下，參照圖5、圖6、圖10說明行式頭29所進(jìn)行的點(diǎn)潛像形成動作。概括來說，各發(fā)光元 件組295在相互不同的曝光區(qū)域ER形成點(diǎn)組SG而執(zhí)行潛像形成動作。在與此相關(guān)的潛像 形成動作中，將感光體鼓21的表面向副掃描方向SD輸送，同時，頭控制器HC與發(fā)光控制模 塊LEC協(xié)同動作而使各發(fā)光元件2951在規(guī)定的時刻發(fā)光，由此，在主掃描方向MD上排列形 成多個點(diǎn)SP。此外，在該潛像形成動作中，參考元件Erf熄滅。以下，詳細(xì)說明。首先，若屬于寬度方向LTD最上游的發(fā)光元件組行295R_A的發(fā)光元件組 295(295_1、295_4等)的發(fā)光元件行2951R_2發(fā)光，則形成由圖10的“第一次”的陰影圖案 表示的七個點(diǎn)。接著發(fā)光元件行2951R_2，發(fā)光元件行2951R_1發(fā)光，從而形成由圖10的 “第二次”的陰影圖案表示的七個點(diǎn)。這樣，在長度方向LGD上以發(fā)光元件間距Pel配置的 兩個發(fā)光元件2951能夠形成沿主掃描方向MD排列而相鄰的兩個點(diǎn)(例如，點(diǎn)SP1、SP2)。 這里，從寬度方向LTD的下游側(cè)的發(fā)光元件行2951R開始依次發(fā)光的原因在于與成像光學(xué) 系統(tǒng)具有倒立特性這一情況對應(yīng)。接下來，屬于寬度方向LTD上發(fā)光元件組行295R_A的下游側(cè)的發(fā)光元件組行 295R_B的發(fā)光元件組295 (295_2等)進(jìn)行與上述發(fā)光元件組行295R_A相同的發(fā)光動作，形 成由圖10的“第三次” “第四次”的陰影圖案表示的點(diǎn)。另外，屬于寬度方向LTD上發(fā)光 元件組行295R_B的下游側(cè)的發(fā)光元件組行295R_C的發(fā)光元件組295 (295_3等)進(jìn)行與上 述發(fā)光元件組行295R_A相同的發(fā)光動作，形成由圖10的“第五次” “第六次”的陰影圖 案表示的點(diǎn)。這樣，通過執(zhí)行第一 第六次為止的發(fā)光動作，由此，在主掃描方向MD上排列 形成多個點(diǎn)。這樣，各發(fā)光元件組295_1、295_2、295_3、…分別在主掃描方向MD上排列形成點(diǎn) 組SG_1、SG_2、SG_3、…，由此，在主掃描方向MD上形成一行量的行潛像。然后，根據(jù)感光 體鼓21表面的向副掃描方向SD的移動，依次形成行潛像，由此，能夠形成二維的靜電潛像。
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其中，發(fā)光元件2951在反復(fù)曝光動作中劣化。因此，在本實(shí)施方式中，求解該發(fā)光 元件2951的劣化程度，根據(jù)該劣化程度控制發(fā)光元件2951的光量。以下，使用圖11、圖12 說明本實(shí)施方式的光量控制技術(shù)。圖11是表示在行式頭出廠前執(zhí)行的出廠前光量測定的流程圖。圖12是表示在出 廠后的規(guī)定時刻執(zhí)行的劣化率鑒定的流程圖。以下，使用上述流程圖說明發(fā)光元件的劣化 率鑒定。此外，控制電路55控制發(fā)光控制模塊LEC各部來執(zhí)行上述流程圖的動作。在圖11所表示的出廠前光量測定中，對全部發(fā)光元件組295_1、295_2、…
發(fā)光元件2951及參考元件Eref 的光量進(jìn)行測定。具體而言，如下所述。在步驟S101中，將 1代入變量N。該變量N是為了指定發(fā)光元件組295而在各發(fā)光元件組的符號295后接著 下劃線標(biāo)注的符號。在步驟S102中，使與發(fā)光元件組295_N對應(yīng)的參考元件Erf_l、Erf_2 依次發(fā)光，通過光量傳感器SC檢測各參考元件Erf_l、Erf_2的光量。然后，將各檢測光量 與發(fā)光元件組295_N對應(yīng)而存儲在存儲器56中(步驟S103)。另外，在步驟S104中，使發(fā) 光元件組295_N的各發(fā)光元件2951依次發(fā)光，通過光量傳感器SC檢測各發(fā)光元件2951的 光量。然后，將各檢測光量與發(fā)光元件組295_N對應(yīng)而存儲在存儲器56中(步驟S105)。 在步驟S106中，判斷是否對全部發(fā)光元件組295都完成了執(zhí)行步驟S102 S105而獲取光 量的處理。然后，在沒有對全部發(fā)光元件組295都完成光量獲取(在S106中為“否”)的情 況下，進(jìn)入步驟S107，將變量N增加1后返回到步驟S102。另一方面，在對全部發(fā)光元件組 295都完成了光量獲取(在步驟S106中為“是”)的情況下，結(jié)束出廠前光量測定。并且，在本實(shí)施方式中，在行式頭29出廠后沒有進(jìn)行曝光動作的時刻(例如，曝光 動作的間隔的時刻)執(zhí)行發(fā)光元件2951的劣化率鑒定(第一工序)(圖12)。在圖12所 示的劣化率鑒定中，與出廠前光量測定同樣，對全部發(fā)光元件組295_1、295_2、…295_N中 發(fā)光元件2951及參考元件Eref的光量進(jìn)行測定。具體而言，如下所述。在步驟S201中， 將1代入變量N。在步驟S202中，使與發(fā)光元件組295_N對應(yīng)的參考元件Erf_l、Erf_2依 次發(fā)光，通過光量傳感器SC檢測各參考元件Erf_l、Erf_2的光量。然后，將各檢測光量與 發(fā)光元件組295_N對應(yīng)而存儲在存儲器56中(步驟S203)。另外，在步驟S204中，使發(fā)光 元件組295_N的各發(fā)光元件2951依次發(fā)光，通過光量傳感器SC檢測各發(fā)光元件2951的光 量。然后，將各檢測光量與發(fā)光元件組295_N對應(yīng)而存儲在存儲器56中(步驟S205)。此外，在本實(shí)施方式中，設(shè)有多個光量傳感器SC。因此，可以將發(fā)光元件2951或參 考元件Erf的檢測光量作為各光量傳感器SC的輸出值的和而求解。然而，也可以將最接近 發(fā)光元件2951或參考元件Erf的光量傳感器SC的輸出值作為發(fā)光元件2951或參考元件 Erf的檢測光量。然后，根據(jù)由步驟S202 S205檢測出的光量確定溫度補(bǔ)正系數(shù)a (步驟S206)。 然后，將出廠前后的發(fā)光元件2951的檢測光量的比乘以溫度補(bǔ)正系數(shù)a而得到的值作為 各發(fā)光元件2951的劣化率而求解(步驟S207)。所述劣化率鑒定的原理如下所述。出廠前光量檢測中的發(fā)光元件2951的檢測光量Pa由下式表示(檢測光量Pa)=(光量基本值)X(入射距離系數(shù))X (傳感器增益)…式 1需要說明的是，光量基本值是沒有劣化的發(fā)光元件2951的光量。另外，入射距離 系數(shù)是與從發(fā)光元件2951到光量傳感器SC的距離對應(yīng)的系數(shù)，相當(dāng)于發(fā)光元件2951射出的光的光量到達(dá)傳感器SC之前衰減的衰減率。另外，傳感器增益是光量傳感器SC的增益。另一方面，劣化率鑒定中的發(fā)光元件2951的檢測光量Pb由下式表示(檢測光量Pb)=(光量基本值)X(劣化率)X (入射距離系數(shù))X (發(fā)光元件溫 度變動量)X (傳感器增益) …式2這里，發(fā)光元件溫度變動量是基于出廠前光量測定時與劣化率鑒定時之間的溫度 差的、劣化率鑒定對象的發(fā)光元件2951的光量變動量。并且，在現(xiàn)有技術(shù)中，通過將檢測光 量Pa、Pb的比作為劣化率而簡單求解，因此，所述發(fā)光元件溫度變動量受到劣化率影響，存 在無法準(zhǔn)確求出劣化率的情況。即，如下式所表示的那樣(檢測光量Pb)/ (檢測光量Pa)=(劣化率)X (發(fā)光元件溫度變動量)…式3檢測光量比是劣化率乘以發(fā)光元件溫度變動量而得到的值，無法準(zhǔn)確地表示劣化率。與此相對，在本實(shí)施方式中，根據(jù)出廠前后的參考元件Erf的檢測光量求出溫度 補(bǔ)正系數(shù)a。即，該參考元件Erf設(shè)置在每個發(fā)光元件組295中，處于與發(fā)光元件組295大 致相同的溫度。并且，由于該參考元件Erf在曝光動作中熄滅，因此，不存在因曝光動作而 引起的劣化。由此，出廠前后各自的參考元件Erf的檢測光量Pa-rf、Pb-rf的比變?yōu)橄率?檢測光量Pb-rf)/ (檢測光量Pa-rf)=(發(fā)光元件溫度變動量)=a…式 4因此，在本實(shí)施方式中，將式3除以溫度補(bǔ)正系數(shù)a而表示為下式(劣化率)=(檢測光量Pb)/(檢測光量Pa)/a…式5根據(jù)式5求出各發(fā)光元件2951的劣化率。由此，能夠抑制溫度的影響而準(zhǔn)確地求
解劣化率。在步驟S208中，判斷是否對全部發(fā)光元件組295都完成了執(zhí)行步驟S202 S207 而對各發(fā)光元件2951的劣化率進(jìn)行鑒定的處理。然后，在沒有對全部發(fā)光元件組295都完 成劣化率鑒定(在步驟S208中為“否”)的情況下，進(jìn)入步驟S209，將變量N增加1后返回 到步驟S202。另一方面，在對全部發(fā)光元件組295都完成了光量獲取(在步驟S208中為 “是”)的情況下，結(jié)束劣化率鑒定。此外，如圖5所示，對各發(fā)光元件組295都設(shè)有兩個參考元件Erf_l、Erf_2。因此， 發(fā)光元件行2951R_1的發(fā)光元件2951的劣化率根據(jù)溫度補(bǔ)正系數(shù)a求解，其中，所述溫度 補(bǔ)正系數(shù)a從參考元件Erf_l與Erf_2的平均值求出。發(fā)光元件伴隨著發(fā)光而發(fā)熱，使其 附近的溫度上升。由于將參考元件Erf設(shè)置在主掃描方向兩端部，因此能夠捕捉到主掃描 方向的溫度變化，通過使用從設(shè)置在主掃描方向兩端部的參考元件Erf求出的溫度補(bǔ)正系 數(shù)a，從而能夠更加準(zhǔn)確地求解各發(fā)光元件2951的劣化率。并且，在上述實(shí)施方式中，發(fā)光元件組295構(gòu)成為點(diǎn)對稱，參考元件Erf相對于發(fā) 光元件組295的點(diǎn)對稱中心而配置成點(diǎn)對稱。這樣的結(jié)構(gòu)尤其有利于使參考元件Erf與發(fā) 光元件組為大致相同溫度，能夠更高精度地求解發(fā)光元件2951的劣化率。其結(jié)果是，行式 頭29能夠執(zhí)行良好的曝光動作。這樣，在本實(shí)施方式中，根據(jù)參考元件Erf與發(fā)光元件2951的光量求出發(fā)光元件 2951的劣化率(劣化程度)。該參考元件Erf設(shè)置在每個發(fā)光元件組295中，處于與發(fā)光
13元件組295大致相同的溫度。并且，由于該參考元件Erf在曝光動作中熄滅，因此，不存在 因曝光動作而引起的劣化。即，在本實(shí)施方式中，通過使用與發(fā)光元件組295大致相同溫度 且不存在劣化的參考元件Erf的光量，從而能夠抑制溫度的影響并同時高精度地求解發(fā)光 元件組295的各發(fā)光元件2951各自的劣化率。因此，根據(jù)該劣化率控制各發(fā)光元件2951 的光量，從而能夠使行式頭29(曝光頭)抑制因劣化而引起的發(fā)光元件2951的光量變動， 執(zhí)行良好的曝光。另外，通過使用這種行式頭29，圖像形成裝置能夠形成良好的圖像。另外，在本實(shí)施方式中，多個參考元件Erf是與對應(yīng)的多個發(fā)光元件2951內(nèi)主掃 描方向MD的上游端部的發(fā)光元件最接近的參考元件Erf，或者與主掃描方向的下游端部的 發(fā)光元件最接近的參考元件Erf，根據(jù)上述參考元件Erf求出各發(fā)光元件2951的劣化率。 由此，起到如下的效果。在發(fā)光的作用下發(fā)光元件2951發(fā)熱且溫度上升，若在發(fā)光元件組 295內(nèi)發(fā)光、熄滅不均衡，則可能在發(fā)光元件組295內(nèi)產(chǎn)生溫度差。舉出一例，圖5(b)表示 發(fā)光元件組中的溫度分布。在該圖所示的例子中，發(fā)光元件組295中左半部份的發(fā)光元件 2951發(fā)光，右半部分的發(fā)光元件2951熄滅，因此，在發(fā)光元件組295內(nèi)呈向右下降的溫度分 布。如圖5(a)所示，參考元件Erf_l位于發(fā)光元件組295的發(fā)光元件行2951R_1的長度方 向LGD上的一側(cè)(圖5 (a)的左側(cè))端部。另外，參考元件Erf_2位于發(fā)光元件組295的發(fā) 光元件行2951R_2的長度方向LGD上的相反側(cè)(圖5 (a)的右側(cè))端部。圖5 (b)中〇標(biāo)記 表示參考元件Erf_l或參考元件Erf_2的位置。圖5 (b)的虛線Tave表示參考元件Erf_l 與參考元件Erf_2的平均溫度。若從參考元件Erf_l與參考元件Erf_2求解發(fā)光元件組 295內(nèi)的發(fā)光元件2951的劣化率，則平均溫度Tave更接近各發(fā)光元件2951的溫度，因此， 能夠準(zhǔn)確地控制光量，執(zhí)行良好的曝光。另外，本實(shí)施方式優(yōu)選適用于發(fā)光元件2951及參考元件Erf為有機(jī)EL元件的行 式頭29。這是因?yàn)?，有機(jī)EL元件在劣化及溫度變化的作用下光量發(fā)生變動，因此，根據(jù)本實(shí) 施方式，能夠高精度地求解發(fā)光元件2951的劣化程度而實(shí)現(xiàn)良好的曝光動作，從而優(yōu)選。這樣，在本實(shí)施方式中，行式頭29相當(dāng)于“曝光頭”，發(fā)光元件組295相當(dāng)于“多個 發(fā)光元件”，發(fā)光控制模塊LEC相當(dāng)于“控制機(jī)構(gòu)”，劣化率相當(dāng)于“劣化程度”，感光體鼓21 相當(dāng)于“潛像擔(dān)載體”。另外，存儲器56相當(dāng)于“存儲機(jī)構(gòu)”。此外，本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，只要不脫離其主旨的范圍，就可以對上述 結(jié)構(gòu)進(jìn)行各種變更。例如，在上述實(shí)施方式中，以傳感器輸出的溫度變動比較小的光量傳感 器SC為前提。然而，使用了傳感器輸出的溫度變動大的光量傳感器SC的情況也能夠高精 度地求解劣化率。具體而言，可以如下所述地求解劣化率。在傳感器輸出的溫度變動大的情況下，劣化率鑒定中的發(fā)光元件2951的檢測光 量Pb由下式表示(檢測光量Pb)=(光量基本值)X(劣化率)X (入射距離系數(shù))X (發(fā)光元件溫 度變動量)x (傳感器增益)X (傳感器溫度變動量)…式6這里，傳感器溫度變動量是基于出廠前光量測定時與劣化率鑒定時之間的溫度差 的、光量傳感器SC的輸出值的變動量。在這種情況下，檢測光量Pa、Pb的比由下式表示(檢測光量Pb)/ (檢測光量Pa)=(劣化率)X (發(fā)光元件溫度變動量)X (傳感 器溫度變動量)…式7如上式所示，檢測光量比是劣化率乘以發(fā)光元件溫度變動量及傳感器溫度變動量而得到的值。因此，根據(jù)出廠前后的參考元件Erf的檢測光量求解溫度補(bǔ)正系數(shù)a。即，該 參考元件Erf設(shè)置在每個發(fā)光元件組295中，處于與發(fā)光元件組295大致相同的溫度。并 且，該參考元件在曝光動作中熄滅，因此，不存在曝光動作所引起的劣化。由此，出廠前后各 自的參考元件Erf的檢測光量Pa-rf、Pb-rf的比變?yōu)橄率?檢測光量Pb-rf) / (檢測光量Pa-rf)=(發(fā)光元件溫度變動量)X (傳感器溫度 變動量)=a …式8因此，將式7除以溫度補(bǔ)正系數(shù)a而表示為下式(劣化率)=(檢測光量Pb)/(檢測光量Pa)/a…式9根據(jù)式9求出各發(fā)光元件2951的劣化率，由此，能夠抑制溫度的影響而準(zhǔn)確地求
解劣化率。另外，在本實(shí)施方式中，如圖15所示，也可以構(gòu)成為參考元件Erf_l位于發(fā)光元件 組295的發(fā)光元件行2951R_1的長度方向LGD上的一側(cè)(圖15的左側(cè))端部，另外，參考 元件Erf_2位于發(fā)光元件組295的發(fā)光元件行2951R_1的長度方向LGD上的相反側(cè)(圖15 的右側(cè))端部。另外，在上述實(shí)施方式中，設(shè)有三行發(fā)光元件組行295R，但發(fā)光元件組行295R的 行數(shù)并不局限于此。另外，在上述實(shí)施方式中，由兩行發(fā)光元件行2951R構(gòu)成各發(fā)光元件組295，但構(gòu) 成發(fā)光元件組295的發(fā)光元件行2951R的行數(shù)并不局限于此。另外，在上述實(shí)施方式中，由七個發(fā)光元件2951構(gòu)成發(fā)光元件行2951R，但構(gòu)成發(fā) 光元件行2951R的發(fā)光元件2951的個數(shù)并不局限于此。另外，在上述實(shí)施方式中，各發(fā)光元件行2951R的發(fā)光元件2951的個數(shù)相互相等， 但也可以改變每個發(fā)光元件行2951R中的發(fā)光元件2951的個數(shù)。另外，在上述實(shí)施方式中，使用了下發(fā)射型的有機(jī)EL元件作為發(fā)光元件2951及參 考元件Erf，但也可以使用上發(fā)射型的有機(jī)EL元件或LED(Light Emitting Diode發(fā)光二極管)。
權(quán)利要求
一種曝光頭，其特征在于，具備發(fā)光元件；將來自所述發(fā)光元件的光成像的成像光學(xué)系統(tǒng)；相對于所述發(fā)光元件配置的多個參考元件；控制所述發(fā)光元件的發(fā)光并且在潛像形成動作中熄滅所述參考元件的控制機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)在不進(jìn)行所述潛像形成動作的時刻根據(jù)發(fā)光的所述發(fā)光元件及所述多個參考元件的光量求解所述發(fā)光元件的劣化程度，并且，根據(jù)所述劣化程度控制所述潛像形成動作中的所述發(fā)光元件的光量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光頭，其特征在于，具有多個所述發(fā)光元件，所述多個發(fā)光元件配置為第一方向上的距離比第二方向上的 距離長，且配置成點(diǎn)對稱，所述多個參考元件配置在對應(yīng)的所述多個發(fā)光元件的第一方向外側(cè)，且相對于所述多 個發(fā)光元件的點(diǎn)對稱中心而配置成點(diǎn)對稱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光頭，其特征在于， 所述發(fā)光元件及所述參考元件是有機(jī)EL元件。
4.一種曝光頭的控制方法，其特征在于，包括第一工序，其中，使配置在曝光頭的發(fā)光元件及多個參考元件發(fā)光，從而根據(jù)所述發(fā)光 元件及所述多個參考元件的光量求解所述發(fā)光元件的劣化程度；第二工序，其中，根據(jù)所述劣化程度控制所述發(fā)光元件的光量，同時通過配置在所述曝 光頭的成像光學(xué)系統(tǒng)將來自所述發(fā)光元件的光成像而執(zhí)行在潛像擔(dān)載體上形成潛像的潛 像形成動作，并且，在所述潛像形成動作中使所述多個參考元件不發(fā)光。
5.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備 潛像擔(dān)載體；曝光頭，其具有發(fā)光元件、將來自所述發(fā)光元件的光成像而將所述潛像擔(dān)載體曝光的 成像光學(xué)系統(tǒng)、相對于所述發(fā)光元件配置的多個參考元件；控制機(jī)構(gòu)，其在將潛像形成在所述潛像擔(dān)載體上的潛像形成動作中控制所述發(fā)光元件 的發(fā)光，并且，在所述潛像形成動作中熄滅所述多個參考元件，所述控制機(jī)構(gòu)在不進(jìn)行所述潛像形成動作的時刻根據(jù)發(fā)光的所述發(fā)光元件及所述多 個參考元件的光量求解所述發(fā)光元件的劣化程度，并且，根據(jù)所述劣化程度控制所述潛像 形成動作中的所述發(fā)光元件的光量。
全文摘要
本發(fā)明提供一種抑制劣化所引起的發(fā)光元件的光量變動，從而能夠?qū)崿F(xiàn)良好的曝光動作的曝光頭、曝光頭的控制方法及圖像形成裝置。所述曝光頭具備發(fā)光元件(2951)；將來自發(fā)光元件(2951)的光成像的成像光學(xué)系統(tǒng)；相對于發(fā)光元件(2951)配置的多個參考元件(Erf)；控制發(fā)光元件(2951)的發(fā)光并且在潛像形成動作中熄滅多個參考元件的控制機(jī)構(gòu)，其中，控制機(jī)構(gòu)在不進(jìn)行潛像形成動作的時刻根據(jù)發(fā)光的發(fā)光元件(2951)及多個參考元件(Erf)的光量求解發(fā)光元件(2951)的劣化程度，并且，根據(jù)劣化程度控制潛像形成動作中的發(fā)光元件的光量。
文檔編號G03G15/043GK101859085SQ20101015642
公開日2010年10月13日 申請日期2010年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月1日
發(fā)明者田中博 申請人:精工愛普生株式會社