專利名稱：防眩膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及低濁度且防眩特性優(yōu)異的防眩(antiglare)膜。
背景技術(shù)：
液晶顯示器和等離子顯示器面板、布勞恩管(陰極射線管CRT)顯示器、有機電致 發(fā)光(EL)顯示器等圖像顯示裝置，如果外部光映入其顯示面，則顯著損害辨識性。為了防 止這樣的外部光的映入，在重視畫質(zhì)的電視機和個人電腦、在外部光強的室外使用的攝像 機和數(shù)碼相機、利用反射光進(jìn)行顯示的移動電話等中，目前為止在圖像顯示裝置的表面設(shè) 置有防止外光的映入的膜層。該膜層大致分為由實施了利用光學(xué)多層膜所致的干涉的無反 射處理的膜形成的膜層和由實施了通過在表面形成微細(xì)的凹凸而使入射光散射并使映入 像模糊的防眩處理的膜形成的膜層。其中，前者的無反射膜，由于有必要形成光學(xué)膜厚均勻 的多層膜，因此成本升高。與其相對，后者的防眩膜能夠比較低價地制造，因此已廣泛用于 大型的個人電腦、監(jiān)視器等用途。這樣的防眩膜，目前為止，通過例如在基材片材上涂布分散有微粒的樹脂溶液，調(diào) 節(jié)涂布膜厚而使微粒在涂布膜表面露出，從而在片材上形成無規(guī)的凹凸的方法等來制造。 但是，通過使這樣的微粒分散而制造的防眩膜，凹凸的配置、形狀由樹脂溶液中的微粒的分 散狀態(tài)、涂布狀態(tài)等控制，因此難以獲得意向的凹凸，對于濁度低的防眩膜，存在不能獲得 充分的防眩效果的問題。此外，將這樣的現(xiàn)有的防眩膜配置于圖像顯示裝置的表面時，存在 容易產(chǎn)生整個顯示面因散射光而變得發(fā)白、成為顯示渾濁的顏色的所謂“泛白”的問題。此 夕卜，伴隨著最近的圖像顯示裝置的高清晰化，還具有容易產(chǎn)生圖像顯示裝置的像素和防眩 膜的表面凹凸形狀發(fā)生干涉、結(jié)果產(chǎn)生亮度分布而難以看清的所謂“晃眼”現(xiàn)象的問題。為 了消除晃眼，也嘗試了在粘結(jié)劑樹脂和分散微粒之間設(shè)置折射率差來使光散射，但將這樣 的防眩膜配置在圖像顯示裝置的表面時，由于微粒和粘結(jié)劑樹脂界面的光的散射，還存在 對比度容易降低的問題。另一方面，也嘗試了在不含有微粒的情況下僅通過在透明樹脂層的表面形成的微 細(xì)的凹凸來顯現(xiàn)防眩性。例如，特開2002-189106號公報(專利文獻(xiàn)1)中公開了通過在壓 花鑄型和透明樹脂膜之間夾有電離放射線固化性樹脂的狀態(tài)下使該電離放射線固化性樹 脂固化，從而形成三維10點平均粗糙度和三維粗糙度基準(zhǔn)面上的鄰接凸部之間的平均距 離分別滿足規(guī)定值的微細(xì)的凹凸，在上述透明樹脂膜上設(shè)置了形成有該凹凸的電離放射線 固化性樹脂層的形式的防眩膜。但是，即使利用專利文獻(xiàn)1中公開的防眩膜也難以實現(xiàn)足 夠的防眩效果、泛白的抑制、高對比度和晃眼的抑制。此外，作為不是在顯示裝置的顯示面配置的防眩膜而是在液晶顯示裝置的背面?zhèn)?配置的光擴散層，使用表面形成了微細(xì)凹凸的膜也公開于例如特開平6-34961號公報(專 利文獻(xiàn)2)、特開2004-45471號公報(專利文獻(xiàn)3)、特開2004-45472號公報(專利文獻(xiàn)4) 等中。其中，在專利文獻(xiàn)3、4中，作為在膜的表面形成凹凸的手法，公開了如下方法將電離 放射線固化性樹脂液填充到具有使凹凸反轉(zhuǎn)的形狀的壓花輥，使填充的樹脂接觸在輥凹版的旋轉(zhuǎn)方向同步移動的透明基材，透明基材與輥凹版接觸時，使輥凹版和透明基材之間的 樹脂固化，固化的同時使固化樹脂與透明基材密合后，從輥凹版將固化后的樹脂和透明基 材的層合體剝離。但是，對于這樣的專利文獻(xiàn)3、4中公開的方法，能夠使用的電離放射線固化性樹脂液的組成受到限制，而且不能期待用溶劑稀釋而涂布時的流平性，因此預(yù)測膜厚的均勻 性存在問題。此外，對于專利文獻(xiàn)3、4中公開的方法，由于必須直接將樹脂液填充到壓花輥 凹版，為了確保凹凸面的均一性，對壓花輥凹版要求高機械精度，存在壓花輥的制作難的問題。其次，作為表面具有凹凸的膜的制作中使用的輥的制作方法，例如，上述專利文獻(xiàn) 2中公開了如下方法使用金屬等制作圓筒體，采用電子雕刻、蝕刻、噴砂等方法在其表面 形成凹凸。此外，特開2004-29240號公報(專利文獻(xiàn)5)中公開了采用噴珠粒(beads shot) 法制作壓花輥的方法，特開2004-90187號公報(專利文獻(xiàn)6)中公開了經(jīng)過在壓花輥的表 面形成金屬鍍層的工序、對金屬鍍層的表面進(jìn)行鏡面研磨的工序以及根據(jù)需要進(jìn)行噴丸處 理的工序，制作壓花輥的方法。但是，這樣在壓花輥的表面實施了噴射處理的狀態(tài)下，產(chǎn)生由噴射粒子的粒徑分 布引起的凹凸徑的分布，同時難以控制由噴射得到的凹穴的深度，在再現(xiàn)性良好地得到防 眩功能優(yōu)異的凹凸形狀方面存在問題。此外，上述的專利文獻(xiàn)1中，記載了優(yōu)選使用在鐵的表面鍍鉻得到的輥，采用噴砂 法、噴珠粒法形成凹凸模面。還記載為了改善使用時的耐久性，優(yōu)選對如此形成了凹凸的模 面實施鍍鉻等后使用，由此能夠?qū)崿F(xiàn)硬膜化和防腐蝕。另一方面，上述專利文獻(xiàn)3、4各自的 實施例中記載了對鐵芯表面鍍鉻，進(jìn)行#250的液體砂噴射處理后，再次進(jìn)行鍍鉻處理，在 表面形成微細(xì)的凹凸形狀。但是，對于這樣的壓花輥的制作法，由于在硬度高的鉻鍍層上進(jìn)行噴砂、噴珠粒， 所以難以形成凹凸，并且難以精密地控制形成的凹凸的形狀。此外，如特開2004-29672號 公報(專利文獻(xiàn)7)中也記載的那樣，鉻鍍層依賴于成為基底的材質(zhì)及其形狀，常常表面粗 糙，在通過噴射形成的凹凸上形成由鉻鍍層產(chǎn)生的細(xì)小裂紋，因此存在難以對能夠形成什 么樣的凹凸進(jìn)行設(shè)計的課題。此外，由于存在由鉻鍍層產(chǎn)生的細(xì)小裂紋，因此還存在最終得 到的防眩膜的散射特性向不優(yōu)選的方向變化的問題。此外，通過壓花輥母材表面的材質(zhì)和 鍍種的組合，精加工的輥表面有多種多樣的變化，因此為了高精度地得到需要的表面凹凸 形狀，還存在必須選擇適當(dāng)?shù)妮伇砻娴牟馁|(zhì)和適當(dāng)?shù)腻兎N的問題。此外，即使得到了所希望 的表面凹凸形狀，因鍍種的不同，也有使用時的耐久性變得不足的情況。特開2000-284106號公報(專利文獻(xiàn)8)中記載了對基材實施噴砂加工后，實施蝕 刻工序和/或薄膜的層合工序，但對于噴砂工序前設(shè)置金屬鍍層既沒有記載也沒有暗示。 此外，特開2006-53371號公報(專利文獻(xiàn)9)中記載了研磨基材，實施噴砂加工后，實施非 電解鍍鎳。此外，特開2007-187952號公報(專利文獻(xiàn)10)中記載了對基材實施鍍銅或鍍鎳 后，進(jìn)行研磨，實施噴砂加工后，實施鍍鉻，制作壓花版，此外，特開2007-237541號公報(專 利文獻(xiàn)11)中記載了實施鍍銅或鍍鎳后，進(jìn)行研磨，實施噴砂加工后，實施蝕刻工序或鍍銅 工序后實施鍍鉻，制作壓花版。對于這些使用噴砂加工的制法，難以在精密控制的狀態(tài)下形 成表面凹凸形狀，因此制作表面凹凸形狀具有50 μ m以上的周期的比較大的凹凸形狀。結(jié)果存在如下問題這些大的凹凸形狀和圖像顯示裝置的像素干涉，容易發(fā)生產(chǎn)生亮度分布 而難以看清的所謂晃眼。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供顯示優(yōu)異的防眩性能、同時防止泛白所致的辨識性的降 低、配置在高清晰的圖像顯示裝置的表面時不產(chǎn)生晃眼而顯現(xiàn)高對比度的防眩膜。
本發(fā)明的防眩膜，其為在透明支承體上形成具有微細(xì)的凹凸表面的防眩層而成的 防眩膜，上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0. 01 μ πΓ1處的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1 處的能譜H22之比H12Al22為3 15的范圍內(nèi)。本發(fā)明的防眩膜，優(yōu)選上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0. 1 μ πΓ1處的能譜H32 與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22之比Η32/Η22為0. 01以下。本發(fā)明的防眩膜，優(yōu)選微細(xì)凹凸表面的傾斜角度為5°以下的面的比例為95%以上。此外，本發(fā)明的防眩膜，優(yōu)選防眩層不包含0. 4μ m以上的微粒。由與附圖關(guān)聯(lián)理解的與本發(fā)明有關(guān)的以下詳細(xì)說明，本方法的上述和其他目的、 特征、局面和優(yōu)點變得清晰。


圖1為示意地表示本發(fā)明的防眩膜的表面的立體圖。圖2為表示離散地得到表示標(biāo)高的函數(shù)h(x，y)的狀態(tài)的示意圖。圖3為用二元的離散函數(shù)h(x，y)表示本發(fā)明的防眩膜的微細(xì)凹凸表面形狀的標(biāo) 高的圖。圖4為用白和黑的層次(gradation)表示對圖3所示的二元函數(shù)h (x，y)進(jìn)行離 散傅立葉變換而得到的能譜H2(fx，fy)的圖。圖5為表示圖4所示的能譜H2(fx，fy)的仁=0的截面的圖。圖6為用于說明微細(xì)凹凸表面的傾斜角度的測定方法的示意圖。圖7為表示防眩膜的微細(xì)凹凸表面的傾斜角度分布的柱狀圖的一例的圖。圖8為用灰度等級的二元離散函數(shù)g(x，y)表示作為用于制作本發(fā)明的防眩膜的 圖形的圖像數(shù)據(jù)的一部分的圖。圖9為用白和黑的層次表示將圖8所示的灰度等級的二元離散函數(shù)g(x，y)進(jìn)行 離散傅立葉變換而得到的能譜G2 (fx，fy)的圖。圖10為表示圖9所示的能譜G2(fx，fy)的fx = 0的截面的圖。圖11為示意地表示模具的制造方法的前半部分的優(yōu)選的一例的圖。圖12為示意地表示模具的制造方法的后半部分的優(yōu)選的一例的圖。圖13為示意地表示第1蝕刻工序中側(cè)向蝕刻進(jìn)行的狀態(tài)的圖。圖14為示意地表示由第1蝕刻工序形成的凹凸面通過第2蝕刻工序鈍化的狀態(tài) 的圖。圖15為用二元函數(shù)表示從實施例2的模具制作時使用的圖形得到的圖像數(shù)據(jù)的 灰度等級的圖。
圖16為用二元函數(shù)表示從比較例1的模具制作時使用的圖形得到的圖像數(shù)據(jù)的 灰度等級的圖。圖17為用二元函數(shù)表示從比較例2的模具制作時使用的圖形得到的圖像數(shù)據(jù)的 灰度等級的圖。圖18為表示從防眩膜B F的微細(xì)凹凸表面形狀的標(biāo)高的二次函數(shù)得到的能譜 的仁=0的截面的圖。圖19為表示實施例2、比較例1和比較例2中使用的圖形的能譜的fx = 0的截面 的圖。
具體實施例方式<防眩膜> 以下對本發(fā)明優(yōu)選的實施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。本發(fā)明的防眩膜為在透明支承體上形成了具有微細(xì)的凹凸表面形狀(微細(xì)凹凸 表面)的防眩層的防眩膜，其特征在于，上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0. 01 μ πΓ1處 的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22之比H12Al22為3 15的范圍內(nèi)。目前為止， 對于防眩膜的微細(xì)凹凸表面的周期，用JIS B 0601中記載的粗糙度曲線要素的平均長度 RSm、截面曲線要素的平均長度PSm和起伏曲線要素的平均長度WSm等進(jìn)行評價。但是，對 于這樣的現(xiàn)有的評價方法，不能正確地評價微細(xì)凹凸表面含有的多個周期。因此，對于晃眼 與微細(xì)凹凸表面的相關(guān)性和防眩性與微細(xì)凹凸表面的相關(guān)性也不能正確地評價，難以制作 兼具晃眼的抑制和足夠的防眩性能的防眩膜。本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，在透明支承體上形成了具有微細(xì)凹凸表面的防眩層而成的防眩 膜中，如果使微細(xì)凹凸表面表示特定的空間頻率分布，在顯現(xiàn)足夠的防眩效果的同時，充分 地防止晃眼。即，根據(jù)本發(fā)明，通過使微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0.01 μ πΓ1處的能譜 H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22之比H12Al22為特定的范圍內(nèi)，提供在顯示優(yōu)異的防眩 性能的同時防止泛白所致的辨識性的降低、而且當(dāng)配置在高清晰的圖像顯示裝置的表面時 不產(chǎn)生晃眼而顯現(xiàn)高對比度的防眩膜。首先，對防眩膜的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜進(jìn)行說明。圖1為示意地表示本發(fā) 明的防眩膜的表面的立體圖。如圖1所示，本發(fā)明的防眩膜1具有在其表面形成了微細(xì)的 凹凸2的防眩層。其中，本發(fā)明中所說的“微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高”，意味著膜1表面的任意的 點P處距離微細(xì)凹凸表面的最低點的高度中具有該高度的假想的平面(作為基準(zhǔn)，標(biāo)高為 Oym)的膜的主法線方向5 (上述假想的平面的法線方向)上的直線距離。如圖1所示，用 (χ，y)表示膜面內(nèi)的正交坐標(biāo)時，微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高可以表示為坐標(biāo)(χ，y)的二元函數(shù) h(x，y)。圖1中用投影面3表示膜整體的面。微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高可以從采用共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子間力顯微 鏡(AFM)等裝置測定的表面形狀的三維信息求出。對于測定機要求的水平分辨能力 至少為5μπι以下，優(yōu)選為2μπι以下，此外，垂直分辨能力至少為0. Ιμπι以下，優(yōu)選為 0. 01 μ m以下。作為適合該測定的非接觸三維表面形狀/粗糙度測定機，可以列舉New View 5000系列(ZygoCorporation公司制，在日本可由ZygoKK(株)購得)、三維顯微鏡 PL μ 2300 (Sensofar公司制)等。由于標(biāo)高的能譜的分辨能力必須為0. 01 μ πΓ1以下，因此測定面積優(yōu)選至少為200 μ mX 200 μ m以上，更優(yōu)選為500 μ mX 500 μ m以上。其次，對由二元函數(shù)h(x，y)求出標(biāo)高的能譜的方法進(jìn)行說明。首先，由二元函數(shù) h(x，y)，通過式(1)定義的二元傅立葉變換求出二元函數(shù)H(fx，p。

其中，仁和仁分別為χ方向和y方向的頻率，具有長度的倒數(shù)的因次。此外，式 (1)中的η為圓周率，i為虛數(shù)單位。通過將得到的二元函數(shù)H(fx，fy)平方，能夠求出能 譜H2(fx，fy)。該能譜H2(fx，fy)表示防眩膜的微細(xì)凹凸表面的空間頻率分布。以下進(jìn)一步具體說明求取防眩膜的微細(xì)凹凸表面的能譜的方法。采用上述的共焦 顯微鏡、干涉顯微鏡、原子間力顯微鏡等實測測定的表面形狀的三維信息一般作為離散的 值、即對應(yīng)多個測定點的標(biāo)高而得到。圖2是表示離散地得到表示標(biāo)高的函數(shù)h(x，y)的狀 態(tài)的示意圖。如圖2所示，用(x，y)表示膜面內(nèi)的正交坐標(biāo)，在膜投影面3上用虛線表示χ 軸方向上每Δχ分割的線和y軸方向上每Ay分割的線，在實際的測定中，微細(xì)凹凸表面的 標(biāo)高作為膜投影面3上的各虛線的每個交點的離散的標(biāo)高值而得到。得到的標(biāo)高值的數(shù)由測定范圍和Δχ及Ay決定，如圖2所示，將χ軸方向的測 定范圍記為X = ΜΔχ，將y軸方向的測定范圍記為Y = NAy時，則得到的標(biāo)高值的數(shù)為 (M+l) X (N+1)個。如圖2所示，將膜投影面3上的著眼點A的坐標(biāo)記為(j Δ χ，k Δ y)(其中，j為 M，k為O N。)時，則對應(yīng)于著眼點A的膜面上的點P的標(biāo)高可以表示為h(j ΔΧ，kAy)。在這里，測定間隔Δχ和Ay依賴于測定機器的水平分辨能力，為了高精度地評價 微細(xì)凹凸表面，如上所述優(yōu)選Δχ和Ay均為5μπι以下，更優(yōu)選為2μπι以下。此外，測定 范圍X和Y，如上所述，均優(yōu)選200 μ m以上，均更優(yōu)選500 μ m以上。這樣，在實際的測定中，表示微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的函數(shù)作為具有(M+l) X (N+1) 個值的離散函數(shù)h(x，y)而得到。由通過測定得到的離散函數(shù)h(x，y)和由式⑵定義的 離散傅立葉變換求出離散函數(shù)H(fx，fy)，通過將離散函數(shù)H(fx，fy)平方，求出能譜的離散函 數(shù) H2(fx，p。式(2)中的 1 為-(M+l)/2 (M+l)/2 的整數(shù)，m 為-(N+l)/2 (N+l)/2 的 整數(shù)。此外，Afx和Afy分別為χ方向和y方向的頻率間隔，由式⑶和式⑷定義。
圖3為用二元的離散函數(shù)h(x，y)表示本發(fā)明的防眩膜的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的 圖。圖3中標(biāo)高用白和黑的層次表示。圖3所示的離散函數(shù)h(x，y)具有512X512個值， 水平分辨能力Δ χ和Δ y為1. 66 μ m。此外，圖4為用白和黑的層次表示將圖3所示的二元函數(shù)h(x，y)進(jìn)行離散傅立葉 變換而得到的能譜H2 (fx，fy)的圖。圖4所示的能譜H2(fx，fy)也是具有512X512個值的 離散函數(shù)，水平分辨能力Afx和AfySO.OOUynT1。如圖3所示，本發(fā)明的防眩膜的微細(xì)凹凸表面的凹凸無規(guī)地形成，因此圖4的能譜以原點為中心而對稱。因此，空間頻率0. Ol μ πΓ1處的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能 譜H22,可以由通過作為二元函數(shù)的能譜H2(fx，fy)的原點的截面而求得。圖5示出圖4所 示的能譜H2 (fx，fy)的fx = 0的截面。由此可知空間頻率0. 01 μ πΓ1處的能譜H12為4. 8，空 間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22為0. 35，比H12Al22為14。如上所述，本發(fā)明的防眩膜，其特征在于，上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率 0. 01 μ πΓ1處的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22之比H12Al22為3 15。能譜之 比H12Al22小于3，表示防眩膜的微細(xì)凹凸表面所含的100 μ m以上的長周期的凹凸形狀少， 小于25μπι的短周期的凹凸形狀多。在這種情況下，不能有效地防止外部光的映入，無法 得到足夠的防眩性能。此外，與其相對，能譜之比H12Al22大于15，表示微細(xì)凹凸表面所含的 100 μ m以上的長周期的凹凸形狀多，小于25 μ m的短周期的凹凸形狀少。在這種情況下， 將防眩膜配置在高清晰的圖像顯示裝置時，有產(chǎn)生晃眼的傾向。此外，微細(xì)凹凸表面所含 的小于10 μ m的短周期成分，對防眩性無效果，使入射到微細(xì)凹凸表面的光散射而成為泛 白的原因，因此優(yōu)選該短周期成分少。具體地，如果將空間頻率0. 1 μ πΓ1處的能譜記為H32, 則能譜之比Η32/Η22優(yōu)選為0. 1以下，更優(yōu)選為0. 01以下。對于圖5所示的能譜，空間頻率 0. 1 μ πΓ1處的能譜H32為0. 00076。由其可知比Η32/Η22為0. 0022。 本發(fā)明人等還發(fā)現(xiàn)，在防眩膜中，如果使微細(xì)凹凸表面表示特定的傾斜角度分布， 在顯示優(yōu)異的防眩性能并有效地防止泛白方面更為有效。即，本發(fā)明的防眩膜，優(yōu)選微細(xì)凹 凸表面的傾斜角度為5°以下的面的比例為95%以上。如果微細(xì)凹凸表面的傾斜角度為 5°以下的面的比例小于95%，則凹凸表面的傾斜角度變得急陡，將來自周圍的光集光，容 易產(chǎn)生顯示面全體變白的泛白。為了抑制這樣的集光效果，防止泛白，微細(xì)凹凸表面的傾斜 角度為5°以下的面的比例越高越好，優(yōu)選為97%以上，更優(yōu)選為99%以上。在這里，本發(fā)明所說的“微細(xì)凹凸表面的傾斜角度”，意味著圖1所示的防眩膜1表 面的任意點P處，在此處的增加了凹凸的局部法線6相對于膜的主法線方向5所成的角度 Ψ。對于微細(xì)凹凸表面的傾斜角度，也與標(biāo)高一樣，可由采用共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子 間力顯微鏡(AFM)等裝置測定的表面形狀的三維信息求出。在這里，圖6為用于說明微細(xì)凹凸表面的傾斜角度的測定方法的示意圖。對具體 的傾斜角度的確定方法進(jìn)行說明時，如圖6所示，確定點線表示的假想的平面FGHI上的著 眼點Α，在通過其的χ軸上的著眼點A的附近取相對于點A大致對稱的點B和D，而且在通 過點A的y軸上的著眼點A的附近取相對于點A大致對稱的點C和E，確定與這些點B、C、 D、E對應(yīng)的膜面上的點Q、R、S、T。再有，圖6中，用(x，y)表示膜面內(nèi)的正交坐標(biāo)，用ζ表 示膜厚度方向的坐標(biāo)。平面FGHI是由通過y軸上的點C的與χ軸平行的直線和同樣通過y 軸上的點E的與χ軸平行的直線、通過χ軸上的點B的與y軸平行的直線和同樣通過χ軸 上的點D的與y軸平行的直線的各個交點F、G、H、I形成的面。此外，圖6中，相對于平面 FGHI，以實際的膜面的位置在上方的方式進(jìn)行繪制，但因著眼點A的所取位置的不同而不 同，當(dāng)然有時實際的膜面的位置在平面FGHI的上方，也有時在下方。于是，得到的表面形狀數(shù)據(jù)的傾斜角度可如下求得將對應(yīng)于著眼點A的實際的 膜面上的點P、與在其附近所取的4點B、C、D、E對應(yīng)的實際的膜面上的點Q、R、S、T的合計 5點形成的多邊4平面，即4個三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法線矢量6a、6b、6c、6d平均， 求出得到的平均法線矢量6的極角，由此可以得到。對于各測定點求取傾斜角度后，計算柱狀圖。圖7為表示防眩膜的微細(xì)凹凸表面的傾斜角度分布的柱狀圖的一例的圖。圖7所 示的圖中，橫軸為傾斜角度，以0. 5°的刻度分割。例如，最左邊的縱柱表示傾斜角度在0 0.5°的范圍的集合的分布，以下隨著向右，角度每次增大0.5°。圖中，橫軸的每2個刻度 表示值的下限值，例如，橫軸中“1”的部分表示傾斜角度在1 1. 5°的范圍的集合的分布。 此外，縱軸表示傾斜角度的分布，是合計為1的值。在該例中，傾斜角度為5°以下的面的比 例大致為100%。本發(fā)明的防眩膜，從配置在圖像顯示裝置的表面時能有效地顯現(xiàn)高對比度的觀點 出發(fā)，優(yōu)選防眩層中不含0. 4μ m以上的微?！，F(xiàn)有的防眩膜采用如下方法等制造通過將 分散有微粒的樹脂溶液涂布于基材片材上，調(diào)節(jié)涂布膜厚，使微粒在涂布膜表面露出，從而 在片材上形成無規(guī)的凹凸。這樣的通過使微粒分散而制造的防眩膜，為了消除晃眼，常常在 粘結(jié)劑樹脂和微粒之間設(shè)置折射率差，使光散射。將這樣的防眩膜配置于圖像顯示裝置的 表面時，由于微粒和粘結(jié)劑樹脂界面的光的散射，對比度降低。在本發(fā)明的防眩膜中，由于 適當(dāng)?shù)卦O(shè)計微細(xì)凹凸表面的頻率分布，因此不必使光散射而消除晃眼。因此，優(yōu)選不含成為 對比度降低的原因的0. 4 μ m以上的微粒。〈防眩膜的制造方法〉
本發(fā)明的防眩膜，為了高精度地形成具有上述頻率分布的微細(xì)凹凸表面，優(yōu)選使 用在能譜大于O μ πΓ1且小于等于0. 04 μ πΓ1中不具有最大值的圖形來制作。其中，所謂“圖 形”，意味著用于形成本發(fā)明的防眩膜的微細(xì)凹凸表面的圖像數(shù)據(jù)、具有透光部和遮光部的 掩模等。圖形的能譜，例如如果為圖像數(shù)據(jù)，則在將圖像數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為256灰度等級的灰色 標(biāo)度后，用二元函數(shù)g(x，y)表示圖像數(shù)據(jù)的灰度等級，將得到的二元函數(shù)g(X，y)進(jìn)行傅 立葉變換而計算二元函數(shù)G(fx，fy)，將得到的二元函數(shù)G(fx，fy)平方而求得。此外，如果是 具有透光部和遮光部的掩模，則用二元函數(shù)t (x, y)表示透射率，將得到的二元函數(shù)t (x, y) 進(jìn)行傅立葉變換而計算二元函數(shù)T(fx，fy)，將得到的二元函數(shù)T(fx，fy)平方而求得。其中， X和y表示圖像數(shù)據(jù)面內(nèi)或掩模面內(nèi)的正交坐標(biāo)，fx和fy表示X方向的頻率和ι方向的頻 率。與求取微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜的情形一樣，對于求取圖形的能譜的情形，一 般是灰度等級的二元函數(shù)g(x，y)、透射率的二元函數(shù)t(x，y)作為離散函數(shù)而得到的情形。 在這種情況下，與求取微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜的情形一樣，通過離散傅立葉變換計算 能譜即可。圖8為用灰度等級的二元離散函數(shù)g(x，y)表示作為用于制作本發(fā)明的防眩膜的 圖形(后述的實施例1的模具制作時使用的圖形)的圖像數(shù)據(jù)的一部分的圖。圖8所示的 二元離散函數(shù)g(x，y)具有512X512個值，水平分辨能力Δχ和Ay為2μπι。此外，作為 圖8所示的圖形的圖像數(shù)據(jù)為2mmX2mm的大小，以12800dpi制作。圖9為用白和黑的層次表示將圖8所示的灰度等級的二元離散函數(shù)g(x，y)進(jìn) 行離散傅立葉變換而得到的能譜G2(fx，fy)的圖。圖8所示的離散函數(shù)G2 (fx，fy)也具有 512X512個值，水平分辨能力Afx和AfVSO.OOlOynT1。如圖8所示為了制造本發(fā)明的 防眩膜而制作的圖形是無規(guī)的，因此圖9的能譜成為以原點為中心而對稱。因此，圖形的能譜的最大值可以由通過能譜的原點的截面求得。圖10為表示圖9所示的能譜G2(fx，fy)的 fx = 0的截面的圖。由此可知，圖8所示的圖形在空間頻率0. 045 μ πΓ1處具有最大值，但在 大于0 μ πΓ1且小于等于0. 04 μ πΓ1中不具有最大值。在用于制作防眩膜的圖形的能譜在大于0 μ HT1且小于等于0. 04 μ πΓ1中具有最大值的情況下，結(jié)果得到的防眩膜的微細(xì)凹凸表面的頻率分布不滿足本發(fā)明的技術(shù)特征，因 此不能兼?zhèn)浠窝鄣南妥銐虻姆姥Ｐ浴榱酥谱髂茏V在大于ΟμπΓ1且小于等于Ο. ΜμπΓ1中不具有最大值的圖形，無規(guī)且 均勻地配置小于20 μ m的點徑即可。無規(guī)配置的點徑可以是1種，也可以是多種。具有使用了上述圖形的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，可以采用印刷法、圖形曝光法、壓 花法等制造。例如，對于印刷法，可以通過使用了光固化性樹脂或熱固化性樹脂的苯胺印 刷、絲網(wǎng)印刷、噴墨印刷等，在透明支承體上印刷上述圖形而制作后，進(jìn)行干燥，或者通過活 性光線或加熱使其固化，從而制造本發(fā)明的防眩膜。例如，在苯胺印刷中，制作基于上述圖形的凸版即柔性版，在柔性版的凸部涂布光 固化性樹脂，將涂布的光固化性樹脂轉(zhuǎn)印到透明支承體上后，通過活性光線進(jìn)行固化，從而 可以在透明支承體上形成基于上述圖形的微細(xì)凹凸。如果是絲網(wǎng)印刷，可以制作基于上述 圖形的孔版即絲網(wǎng)，使用該絲網(wǎng)和光固化性樹脂，在透明支承體上印刷上述圖形后，利用活 性光線將光固化性樹脂固化，從而可以在透明支承體上形成微細(xì)凹凸。如果是噴墨印刷，直 接使用光固化性樹脂在透明支承體上印刷上述圖形，然后利用活性光線將光固化性樹脂固 化，從而可以在透明支承體上形成微細(xì)凹凸。采用這樣的印刷法形成的微細(xì)凹凸一般傾斜 角度急陡，存在在透明支承體上沒有形成樹脂層的部位，因此優(yōu)選在采用印刷法形成的微 細(xì)凹凸上進(jìn)一步涂布光固化性樹脂，使傾斜角度平滑，同時在透明支承體上全面形成樹脂 層。對于圖形曝光法，在透明支承體上涂布了光固化性樹脂后，通過使用了上述圖形 的利用激光進(jìn)行的直描曝光、介由具有上述圖形的掩模的全面曝光，進(jìn)行圖形曝光，根據(jù)需 要顯影后，通過活性光線或加熱使其固化，從而可以制造本發(fā)明的防眩膜。對于利用激光進(jìn) 行的直描曝光，在透明支承體上涂布光固化性樹脂后，利用激光光將上述圖形直描曝光，通 過顯影使曝光的部位殘存或溶解，進(jìn)而對殘存的光固化性樹脂照射活性光線而使其完全固 化，由此可以在透明支承體上形成基于上述圖形的微細(xì)凹凸。通過這樣的利用激光進(jìn)行的 直描曝光形成的微細(xì)凹凸，一般傾斜角度急陡，因此優(yōu)選在通過利用激光進(jìn)行的直描曝光 形成的微細(xì)凹凸上進(jìn)一步涂布光固化性樹脂，使傾斜角度平滑。在介由掩模的全面曝光中， 制作具有上述圖形的掩模，在透明支承體上涂布光固化性樹脂后，介由該掩模將光固化性 樹脂曝光，在顯影工序中使曝光的部位殘存或溶解，進(jìn)而對殘存的光固化性樹脂照射活性 光線而使其完全固化，從而可以在透明支承體上形成基于上述圖形的微細(xì)凹凸。在介由掩 模的全面曝光中，也可以通過適當(dāng)控制接近間隙來控制微細(xì)凹凸的傾斜角度，也可以通過 將掩模制作成灰度等級掩模來控制曝光的程度，從而控制微細(xì)凹凸的傾斜角度。對于壓花法，使用上述的圖形制造具有微細(xì)凹凸表面的模具，將制造的模具的凹 凸面轉(zhuǎn)印到透明支承體上，其次從模具剝離轉(zhuǎn)印了凹凸面的透明支承體，從而制造本發(fā)明 的防眩膜。在這里，從高精度并且再現(xiàn)性良好地制造微細(xì)凹凸表面的觀點出發(fā)，本發(fā)明的防 眩膜優(yōu)選采用壓花法制造。
在這里，作為壓花法，可以例示使用光固化性樹脂的UV壓花法、使用熱塑性樹脂 的熱壓花法，其中，從生產(chǎn)率的觀點出發(fā)，優(yōu)選UV壓花法。UV壓花法是通過在透明支承體的表面形成光固化性樹脂層，邊將該光固化性樹脂 層壓到模具的凹凸面邊使其固化，從而將模具的凹凸面轉(zhuǎn)印到光固化性樹脂層的方法。具 體地，將紫外線固化型樹脂涂布到透明支承體上，在使涂布的紫外線固化型樹脂與模具的 凹凸面密合的狀態(tài)下從透明支承體側(cè)照射紫外線，使紫外線固化型樹脂固化，然后從模具 剝離形成了固化后的紫外線固化型樹脂層的透明支承體，從而將模具的形狀轉(zhuǎn)印于紫外線 固化型樹脂。使用UV壓花法時，作為透明支承體，只要是基本上光學(xué)上透明的膜即可，可以列 舉例如三乙酰纖維素膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以 降冰片烯系化合物為單體的非晶性環(huán)狀聚烯烴等熱塑性樹脂的溶劑流延膜、擠出膜等樹脂膜。此外，對使用UV壓花法時的紫外線固化型樹脂的種類并無特別限定，可以使用市 售的適宜產(chǎn)品。此外，也可以使用在紫外線固化型樹脂中組合適當(dāng)選擇的光引發(fā)劑、即使是 波長比紫外線長的可見光也可固化的樹脂。具體地，可以分別單獨使用三羥甲基丙烷三丙 烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯，或?qū)⑺鼈兊?種以上混合使用，優(yōu)選使用 將它們與Irgacure 907 (汽巴特種化學(xué)品公司制)、I rgacure 184 (汽巴特種化學(xué)品公司 制)、Lucirin TPO (BASF公司制)等光聚合引發(fā)劑混合的產(chǎn)物。另一方面，熱壓花法是在加熱狀態(tài)下將由熱塑性樹脂形成的透明支承體壓于模 具，將模具的表面形狀轉(zhuǎn)印于透明支承體的方法。作為熱壓花法中使用的透明支承體，只要 是基本上透明的支承體，可以是任何支承體，可以使用例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、 聚對苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰纖維素、以降冰片烯系化合物為單體的非晶性環(huán)狀聚烯烴 等熱塑性樹脂的溶劑流延膜、擠出膜等。這些透明樹脂膜也適合用作上述說明的UV壓花法 中用于涂布紫外線固化型樹脂的透明支承體。<防眩膜制作用的模具的制造方法>以下對本發(fā)明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法進(jìn)行說明。對于本發(fā)明的 防眩膜的制造中使用的模具的制造方法，只要是能得到使用了上述圖形的規(guī)定的表面形狀 的方法，并無特別限制，但為了高精度且再現(xiàn)性良好地制造微細(xì)凹凸表面，優(yōu)選基本上包含 [1]第1鍍敷工序、[2]研磨工序、[3]感光性樹脂膜涂布工序、[4]曝光工序、[5]顯影工 序、[6]第1蝕刻工序、[7]感光性樹脂膜剝離工序和[8]第2鍍敷工序。圖11為示意地表 示模具的制造方法的前半部分的優(yōu)選一例的圖。圖11中示意地表示各工序中模具的截面。 邊參照圖11邊對本模具的制造方法的各工序進(jìn)行詳細(xì)說明。[1]第1鍍敷工序在本模具的制造方法中，首先，對用于模具的基材的表面實施鍍銅或鍍鎳。這樣， 通過對模具用基材的表面實施鍍銅或鍍鎳，能夠改善后面的第2鍍敷工序中鍍鉻的密合 性、光澤性。即，作為背景技術(shù)，如上所述，在對鐵等的表面實施鍍鉻時，或者采用噴砂法、噴 珠粒法等在鍍鉻表面形成凹凸后再次實施鍍鉻時，表面容易粗糙，產(chǎn)生細(xì)小的裂紋，模具的 表面的凹凸形狀變得難以控制。對此，首先，通過對基材表面實施鍍銅或鍍鎳，能夠消除這 樣的不利情況。這是因為，鍍銅或鍍鎳的被覆性高，而且平滑化作用強，因此將模具用基材的微小的凹凸、空洞(cavity)等添埋而形成平坦且具有光澤的表面。由于這些鍍銅或鍍鎳 的特性，即使在后述的第2鍍敷工序中實施鍍鉻，認(rèn)為起因于基材上存在的微小凹凸、空穴 的鍍鉻表面的粗糙得以消除，而且由于鍍銅或鍍鎳的高被覆性，因此使細(xì)小的裂紋的產(chǎn)生 減少。作為第1鍍敷工序中使用的銅或鎳，除了可以是各自的純金屬外，也可以是以銅 為主體的合金或者以鎳為主體的合金，因此，本說明書中所說的“銅”是包括銅和銅合金的 含義，而“鎳”是包括鎳和鎳合金的含義。鍍銅和鍍鎳可以分別用電解鍍進(jìn)行，也可以用非電解鍍進(jìn)行，但通常采用電解鍍。實施鍍銅或鍍鎳時，如果鍍層太薄，不能徹底排除基底表面的影響，因此其厚度優(yōu) 選為50 μ m以上。鍍層厚度的上限不是臨界值，從與成本的關(guān)系出發(fā)，一般至多500 μ m左 右則足夠。再有，本模具的制造方法中，作為基材的形成中適合使用的金屬材料，從成本的觀 點出發(fā)，可以列舉鋁、鐵等。此外，從處理的便利性出發(fā)，更優(yōu)選輕質(zhì)的鋁。其中所說的鋁、 鐵，除了可以各自是純金屬外，也可以是以鋁或鐵為主體的合金。此外，就基材的形狀而言，只要是本領(lǐng)域中以往采用的適當(dāng)?shù)男螤睿瑒t并無特別限 制，可以是平板狀，也可以是圓柱狀或圓筒狀的卷材。如果使用卷狀的基材制作模具，具有 能夠以連續(xù)的卷狀制造防眩膜的優(yōu)點。[2]研磨工序在接下來的研磨工序中，對在上述第1鍍敷工序中實施了鍍銅或鍍鎳的基材表面 進(jìn)行研磨。本模具的制造方法中，優(yōu)選經(jīng)過該工序?qū)⒒谋砻嫜心サ浇咏R面的狀態(tài)。這 是因為，為了達(dá)到所需的精度，大多數(shù)情況下是對成為基材的金屬板、金屬卷實施切削、磨 削等機械加工，由此在基材表面殘留加工孔眼，在實施了鍍銅或鍍鎳的狀態(tài)下，有時也殘留 這些加工孔眼，而且在鍍敷完的狀態(tài)下并不一定表面變得完全平滑。即，即使對殘留有這樣 深的加工孔眼等的表面實施了后述的工序，有時加工孔眼等的凹凸比實施了各工序后形成 的凹凸還深，有可能殘留加工孔眼等的影響，使用這樣的模具制造防眩膜時，有時對光學(xué)特 性產(chǎn)生不能預(yù)期的影響。圖11 (a)示意地表示平板狀的模具用基材7具有在第1鍍敷工序 中對其表面實施鍍銅或鍍鎳(對該工序中形成的鍍銅或鍍鎳的層沒有圖示)、進(jìn)而通過研 磨工序進(jìn)行了鏡面研磨的表面8的狀態(tài)。對于對實施了鍍銅或鍍鎳的基材表面進(jìn)行研磨的方法，并無特別限制，可以使用 機械研磨法、電解研磨法、化學(xué)研磨法的任何方法。作為機械研磨法，可以例示超精加工法、 研磨法、流體研磨法、拋光(buff)研磨法等。研磨后的表面粗糙度，優(yōu)選按照J(rèn)IS B 0601 的規(guī)定的中心線平均粗糙度Ra為0. 1 μ m以下，更優(yōu)選為0. 05 μ m以下。如果研磨后的中 心線平均粗糙度Ra大于0. 1 μ m,有可能對最終的模具表面的凹凸形狀殘留研磨后的表面 粗糙度的影響。此外，對于中心線平均粗糙度Ra的下限并無特別限制，從加工時間、加工成 本的觀點出發(fā)，自然存在限度，無特別指定的必要性。[3]感光性樹脂膜涂布工序在接下來的感光性樹脂膜涂布工序中，將感光性樹脂溶解于溶劑得到的溶液涂布 到通過上述研磨工序?qū)嵤┝绥R面研磨的基材7的表面8，進(jìn)行加熱、干燥，從而形成感光性 樹脂膜。圖11 (b)示意地表示在基材7的表面8形成了感光性樹脂膜9的狀態(tài)。
作為感光性樹脂，可以使用以往公知的感光性樹脂。例如，作為具有感光部分固化 的性質(zhì)的負(fù)型的感光性樹脂，可以使用分子中具有丙烯?；蚣谆；谋┧狨サ?單體、預(yù)聚物，雙疊氮化物(bisazide)和二烯橡膠的混合物，聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。 此外，作為具有通過顯影使感光部分洗脫、只殘留未感光部分的性質(zhì)的正型的感光性樹脂， 可以使用酚醛樹脂系、酚醛清漆樹脂系等。此外，感光性樹脂中根據(jù)需要可以配合增感劑、 顯影促進(jìn)劑、密合性改進(jìn)劑、涂布性改進(jìn)劑等各種添加劑。將這些感光性樹脂涂布于基材7的表面8時，為了形成良好的涂膜，優(yōu)選在適當(dāng) 的溶劑中稀釋而涂布，可以使用溶纖劑系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶 齊U、高極性溶劑等。作為涂布感光性樹脂溶液的方法，可以使用凸液涂布(meniscus coat)、噴泉式涂 布、浸涂、旋轉(zhuǎn)涂布、輥式涂布、繞線棒涂布、氣刀涂布、刮刀涂布、簾式涂布等公知的方法。 涂布膜的厚度優(yōu)選在干燥后為1 6 μ m的范圍。[4]曝光工序
在接下來的曝光工序中，將上述能譜在大于0 μ ΠΓ1且小于等于0. 04 μ πΓ1中不具有 最大值的圖形在上述感光性樹脂膜涂布工序中形成的感光性樹脂膜9上曝光。曝光工序中 使用的光源可以按照涂布的感光性樹脂的感光波長、感度等適當(dāng)選擇，可以使用例如高壓 水銀燈的g線(波長436nm)、高壓水銀燈的h線(波長405nm)、高壓水銀燈的i線(波長 365nm)、半導(dǎo)體激光(波長830nm、532nm、488nm、405nm 等)、YAG 激光(波長1064nm)、KrF 準(zhǔn)分子激光(波長248nm) ,ArF準(zhǔn)分子激光(波長193nm)、F2準(zhǔn)分子激光(波長157nm)寸。本模具的制造方法中為了高精度地形成表面凹凸形狀，優(yōu)選在曝光工序中在精密 控制的狀態(tài)下將上述圖形在感光性樹脂膜上曝光。本發(fā)明的模具的制造方法中，為了高精 度地將上述圖形在感光性樹脂膜上曝光，優(yōu)選在計算機上將圖形作成圖像數(shù)據(jù)，利用從計 算機控制的激光頭發(fā)出的激光光描畫基于該圖像數(shù)據(jù)的圖形。進(jìn)行激光描畫時，可使用 印刷版制作用的激光描畫裝置。作為這樣的激光描畫裝置，可以舉出例如Laser Stream FX((株)Think Laboratory 制)等。圖11 (C)示意地表示將圖形曝光于感光性樹脂膜9的狀態(tài)。用負(fù)型的感光性樹脂 形成感光性樹脂膜時，曝光的區(qū)域10通過曝光進(jìn)行樹脂的交聯(lián)反應(yīng)，相對于后述的顯影液 的溶解性下降。因此，顯影工序中沒有曝光的區(qū)域11被顯影液溶解，只有曝光的區(qū)域10殘 留在基材表面上而成為掩模。另一方面，用正型的感光性樹脂形成感光性樹脂膜時，曝光的 區(qū)域10通過曝光，將樹脂的結(jié)合切斷，相對于后述的顯影液的溶解性增加。由此，顯影工序 中曝光的區(qū)域10被顯影液溶解，只有未曝光的區(qū)域11殘留在基材表面上而成為掩模。[5]顯影工序在接下來的顯影工序中，將負(fù)型的感光性樹脂用于感光性樹脂膜9時，未曝光的 區(qū)域11被顯影液溶解，只有已曝光的區(qū)域10殘存在模具用基材上，在接下來的第1蝕刻工 序中作為掩模發(fā)揮作用。另一方面，將正型的感光性樹脂用于感光性樹脂膜9時，只有已曝 光的區(qū)域10被顯影液溶解，未曝光的區(qū)域11殘存在模具用基材上，作為接下來的第1蝕刻 工序中的掩模發(fā)揮作用。對于顯影工序中使用的顯影液，可以使用以往公知的顯影液?？梢粤信e例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、硅酸鈉、正硅酸鈉、氨水等無機堿類，乙胺、正丙胺等伯胺類，二 乙胺、二正丁胺等仲胺類，三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺類，二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺 類，四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、三甲基羥乙基氫氧化銨等季銨鹽，吡咯、哌啶等環(huán)狀 胺類等堿性水溶液，二甲苯、甲苯等有機溶劑等。對于顯影工序中的顯影方法并無特別限制，可以使用浸漬顯影、噴射顯影、刷涂顯 影、超聲波顯影等方法。圖11 (d)示意地表示將負(fù)型的感光性樹脂用于感光性樹脂膜9進(jìn)行了顯影處理的 狀態(tài)。圖11(c)中未曝光的區(qū)域11被顯影液溶解，只有已曝光的區(qū)域10殘留在基材表面 上而成為掩模12。圖11(e)示意地表示將正型的感光性樹脂用于感光性樹脂膜9進(jìn)行了顯 影處理的狀態(tài)。圖11(c)中曝光的區(qū)域10被顯影液溶解，只有未曝光的區(qū)域11殘留在基 材表面上而成為掩模12。[6]第1蝕刻工序在接下來的第1蝕刻工序中，使用上述顯影工序后在模具用基材表面上殘存的感 光性樹脂膜作為掩模，主要將無掩模的部位的模具用基材蝕刻。圖12為示意地表示本模具 的制造方法的后半部分的優(yōu)選一例的圖。圖12(a)示意地表示通過第1蝕刻工序 主要將無 掩模的部位13的模具用基材7蝕刻的狀態(tài)。掩模12的下部的模具用基材7沒有從模具用 基材表面被蝕刻，但隨著蝕刻的進(jìn)行，進(jìn)行從無掩模的區(qū)域13的蝕刻。因此，在掩模12和 無掩模的區(qū)域13的邊界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蝕刻。在這樣的掩模12 和無掩模的區(qū)域13的邊界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蝕刻，以下將此稱為側(cè) 向蝕刻。圖13中示意地示出側(cè)向蝕刻的進(jìn)行。圖13的點線14階段性地表示隨蝕刻的進(jìn) 行而變化的模具用基材的表面。第1蝕刻工序中的蝕刻處理，通常通過使用氯化鐵(FeCl3)液、氯化銅(CuCl2)液、 堿蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，將金屬表面腐蝕而進(jìn)行，但也可以使用鹽酸、硫酸等強酸，也可 以使用通過施加與電解鍍時相反的電位的反電解蝕刻。在實施了蝕刻處理時的模具用基材 上形成的凹形狀，因基底金屬的種類、感光性樹脂膜的種類和蝕刻手法等而異，因此不能一 概而論，蝕刻量為IOym以下時，從與蝕刻液接觸的金屬表面大致各向同性地被蝕刻。這里 所說的蝕刻量，是由蝕刻削減的基材的厚度。第1蝕刻工序中的蝕刻量優(yōu)選為1 50 μ m。蝕刻量小于1 μ m時，金屬表面幾乎 無法形成凹凸形狀，成為大致平坦的模具，因此不顯示防眩性。此外，蝕刻量超過50 μ m時， 金屬表面形成的凹凸形狀的高低差增大，使用得到的模具制作的防眩膜泛白，因此不優(yōu)選。 第1蝕刻工序中的蝕刻處理可以采用1次的蝕刻處理來進(jìn)行，也可以分2次以上來進(jìn)行蝕 刻處理。在這里，分2次以上進(jìn)行蝕刻處理時，2次以上的蝕刻處理中的蝕刻量的合計優(yōu)選 為1 50 μ m。[7]感光性樹脂膜剝離工序在接下來的感光性樹脂膜剝離工序中，將第1蝕刻工序中作為掩模使用的殘存的 感光性樹脂膜完全溶解除去。在感光性樹脂膜剝離工序中使用剝離液將感光性樹脂膜溶 解。作為剝離液，可以使用與上述的顯影液同樣的液體，通過改變pH、溫度、濃度和浸漬時 間等，將使用了負(fù)型的感光性樹脂膜時的曝光部的感光性樹脂膜、使用了正型的感光性樹 脂膜時的非曝光部的感光性樹脂膜完全溶解除去。對于感光性樹脂膜剝離工序中的剝離方法，也無特別限制，可以使用浸漬顯影、噴射顯影、刷涂顯影、超聲波顯影等方法。圖12(b)示意地表示通過感光性樹脂膜剝離工序?qū)⒌?蝕刻工序中作為掩模使用 的感光性樹脂膜完全溶解除去的狀態(tài)。通過感光性樹脂膜形成的掩模12和蝕刻，在模具用 基材表面形成第1表面凹凸形狀15。[2]第2鍍敷工序
接著，通過實施鍍鉻，使表面的凹凸形狀鈍化。圖12(c)中示出在如上所述通過第 1蝕刻工序的蝕刻處理形成的表面凹凸形狀上形成鉻鍍層16，使表面17鈍化的狀態(tài)。本模具的制造方法中，在平板、卷材等的表面采用有光澤、硬度高、摩擦系數(shù)小、能 賦予良好的脫模性的鍍鉻。鍍鉻的種類并無特別限制，優(yōu)選使用稱為所謂光澤鍍鉻、裝飾 用鍍鉻等的顯現(xiàn)良好光澤的鍍鉻。通常通過電解進(jìn)行鍍鉻，作為其鍍浴，使用含有鉻酸酐 (CrO3)和少量硫酸的水溶液?？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)電流密度和電解時間來控制鍍鉻的厚度。上述的特開2002-189106號公報、特開2004-45472號公報、特開2004-90187號公 報等中公開了采用鍍鉻，但因模具的鍍敷前的基底和鍍鉻的種類，常常在鍍敷后表面粗糙， 或產(chǎn)生大量由鍍鉻引起的微小的裂紋，其結(jié)果，制作的防眩膜的光學(xué)特性向不優(yōu)選的方向 發(fā)展。鍍敷表面粗糙的狀態(tài)的模具，不適合用于制造防眩膜。原因在于，一般為了消除不光 滑，在鍍鉻后對鍍敷表面進(jìn)行研磨，如后所述，本發(fā)明中不優(yōu)選鍍敷后的表面的研磨。本模 具的制造方法中，通過對基底金屬實施鍍銅或鍍鎳，將容易因鍍鉻產(chǎn)生的這樣的不利情況 消除。再有，在第2鍍敷工序中，不優(yōu)選實施鍍鉻以外的鍍敷。原因在于，對于鉻以外的 鍍敷，硬度、耐磨損性降低，因此作為模具的耐久性降低，使用中凹凸磨損，或者模具損傷。 由這樣的模具得到的防眩膜，難以獲得足夠的防眩功能的可能性高，此外，在膜上產(chǎn)生缺陷 的可能性也升高。此外，如上述的特開2004-90187號公報等中公開的那樣研磨鍍敷后的表面，對于 本模具的制造方法也不優(yōu)選。其基于以下等理由通過研磨，最外表面產(chǎn)生平坦的部分，因 此有可能導(dǎo)致光學(xué)特性的惡化，而且形狀的控制因素增加，因此再現(xiàn)性好的形狀控制變得 困難。這樣，對于本模具的制造方法，優(yōu)選實施鍍鉻后，不研磨表面而將鍍鉻面直接地用 作模具的凹凸面。原因在于，通過對形成了微細(xì)表面凹凸形狀的表面實施鍍鉻，使凹凸形狀 鈍化，同時獲得其表面硬度提高的模具。此時的凹凸的鈍化情況，因基底金屬的種類、由第 1蝕刻工序得到的凹凸的尺寸和深度、以及鍍敷的種類、厚度等而異，因此不能一概而論，在 控制鈍化情況方面最大的因素仍是鍍敷厚度。如果鍍鉻的厚度薄，使鍍鉻加工前得到的凹 凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉(zhuǎn)印到透明膜而得到的防眩膜的光學(xué)特性不 會太好。另一方面，如果鍍敷厚度過厚，則生產(chǎn)率變差，此外，產(chǎn)生稱為結(jié)狀物的突起狀的鍍 敷缺陷，因此不優(yōu)選。因此，鍍鉻的厚度優(yōu)選為1 10 μ m的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為3 6 μ m的 范圍內(nèi)。該第2鍍敷工序中形成的鉻鍍層，優(yōu)選以維氏硬度達(dá)到800以上的方式形成，更優(yōu) 選以達(dá)到1000以上的方式形成。鉻鍍層的維氏硬度小于800時，模具使用時的耐久性降 低，而且因鍍鉻而使硬度降低，這是因為鍍敷處理時鍍浴組成、電解條件等產(chǎn)生異常的可能 性高，對缺陷的發(fā)生狀況也造成不優(yōu)選的影響的可能性高。
此外，用于制作本發(fā)明的防眩膜的模具的制造方法中，優(yōu)選上述[7]感光性樹脂膜剝離工序和[8]第2鍍敷工序之間包含通過蝕刻處理使由第1蝕刻工序形成的凹凸面鈍 化的第2蝕刻工序。第2蝕刻工序中，通過蝕刻處理使由將感光性樹脂膜用作掩模的第1 蝕刻工序形成的第1表面凹凸形狀15鈍化。通過該第2蝕刻處理，由第1蝕刻處理形成的 第1表面凹凸形狀15中的表面傾斜急陡的部分消失，使用得到的模具制造的防眩膜的光學(xué) 特性向優(yōu)選的方向變化。圖14中示出了通過第2蝕刻工序，基材7的第1表面凹凸形狀15 鈍化，使表面傾斜急陡的部分鈍化，形成具有緩和的表面傾斜的第2表面凹凸形狀18的狀 態(tài)。第2蝕刻工序的蝕刻處理也與第1蝕刻工序一樣，通常通過使用氯化鐵(FeCl3) 液、氯化銅(CuCl2)液、堿蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，將表面腐蝕而進(jìn)行，但也可以使用鹽酸、 硫酸等強酸，也可以使用通過施加與電解鍍時相反的電位的反電解蝕刻。實施了蝕刻處理 后的凹凸的鈍化情況，因基底金屬的種類、蝕刻手法和由第1蝕刻工序得到的凹凸的尺寸 和深度等而異，因此不能一概而論，控制鈍化情況方面最大的因素是蝕刻量。這里所說的蝕 刻量，也與第1蝕刻工序一樣是被蝕刻削減的基材的厚度。如果蝕刻量小，使由第1蝕刻工 序得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉(zhuǎn)印到透明膜而得到的防眩膜的 光學(xué)特性不會太好。另一方面，如果蝕刻量過大，幾乎不會成為凹凸形狀，成為大致平坦的 模具，因此無法顯示防眩性。因此，蝕刻量優(yōu)選為1 50 μ m的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為4 20 μ m 的范圍內(nèi)。對于第2蝕刻工序中的蝕刻處理，也與第1蝕刻工序一樣，可以采用1次的蝕刻 處理來進(jìn)行，也可以分2次以上來進(jìn)行蝕刻處理。在這里，分2次以上進(jìn)行蝕刻處理時，2次 以上的蝕刻處理中的蝕刻量的合計優(yōu)選為1 50 μ m。以下舉出實施例對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不限于這些實施例。例中， 表示含量乃至使用量的％和份如無特別說明則為重量基準(zhǔn)。此外，以下的例中模具或防眩 膜的評價方法如下所述。[1]防眩膜的表面形狀的測定使用三維顯微鏡PL μ 2300 (Sensofar公司制)，測定防眩膜的表面形狀。為了防止 樣品的翹曲，使用光學(xué)上透明的膠粘劑貼合到玻璃基板上以使凹凸面成為表面后，供于測 定。測定時，物鏡的倍率為10倍進(jìn)行測定。水平分辨能力ΔΧ和Ay均為1. 66 μ m，測定面 禾只力 850μπιΧ850μπι。(能譜之比H1VH22 和 Η32/Η22)由以上得到的測定數(shù)據(jù)，將防眩膜的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高作為二元函數(shù)h(x，y) 求出，將得到的二元函數(shù)h(x，y)進(jìn)行離散傅立葉變換求出二元函數(shù)H(fx，fy)。將二元函數(shù) H(fx，fy)平方，計算能譜的二元函數(shù)H2(fx，fy)，由fx = 0的截面曲線即H2(0，fy)求出空間 頻率0. 01 μ πΓ1處的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22,計算能譜之比Η/ΜΛ此 夕卜，求出空間頻率0. 1 μ πΓ1處的能譜H32,對能譜之比Η32/Η22進(jìn)行計算。(微細(xì)凹凸表面的傾斜角度)以上述得到的測定數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，基于上述的算法進(jìn)行計算，制作凹凸面的傾斜角 度的柱狀圖，由其求出每個傾斜角度的分布，計算傾斜角度為5°以下的面的比例。[2]防眩膜的光學(xué)特性的測定(濁度)
防眩膜的濁度采用JIS K 7136中規(guī)定的方法進(jìn)行測定。具體地，使用按照該規(guī)格 的濁度計HM-150型(村上色彩技術(shù)研究所制)測定濁度。為了防止防眩膜的翹曲，使用光 學(xué)上透明的膠粘劑貼合到玻璃基板上以使凹凸面成為表面后，供于測定。一般地濁度越大， 應(yīng)用于圖像顯示裝置時圖像越暗，其結(jié)果，正面對比度容易降低。因此，優(yōu)選濁度低。[3]防眩膜的防眩性能的評價(映入、泛白的目視評價)為了防止來自防眩膜的背面的反射，將防眩膜貼合于黑色丙烯酸樹脂板以使凹凸 面成為表面，在帶有熒光燈的明亮的室內(nèi)從凹凸面?zhèn)饶恳曈^察，目視評價有無熒光燈的映 入、泛白的程度。映入、泛白和質(zhì)感分別用1到3的3等級按以下基準(zhǔn)進(jìn)行評價。映入1 沒有觀察到映入。2:觀察到少量映入。3:清楚地觀察到映入。泛白1 沒有觀察到泛白。2:觀察到少量泛白。3:清楚地觀察到泛白。(晃眼的評價)采用以下的方法評價晃眼。即，從市售的液晶電視(LC_32GH3(夏普(株)制)剝 離表背兩面的偏振板。代替這些原始偏振板，背面?zhèn)群惋@示面?zhèn)染ㄟ^膠粘劑貼合偏振板 SUMIKARAN SRDB31E(住友化學(xué)(株)制)以使各自的吸收軸與原始的偏振板的吸收軸一 致，進(jìn)而在顯示面?zhèn)绕癜迳贤ㄟ^膠粘劑貼合以下的各例中所示的防眩膜以使凹凸面成為 表面。在該狀態(tài)下，從距離樣品約30cm的位置進(jìn)行目視觀察，由此用7等級對晃眼的程度 進(jìn)行官能評價。水平1是完全沒有發(fā)現(xiàn)晃眼的狀態(tài)，水平7相當(dāng)于觀察時嚴(yán)重晃眼的狀態(tài)， 水平3是相當(dāng)少地觀察到晃眼的狀態(tài)。[4]防眩膜制造用的圖形的評價使制作的圖形數(shù)據(jù)為256灰度等級的灰色標(biāo)度的圖像數(shù)據(jù)，用二元的離散函數(shù) g(x,y)表示灰度等級。離散函數(shù)g(x，y)的水平分辨能力ΔΧ和Ay均為2μπ 。將得到的 二元函數(shù)g (X，y)進(jìn)行離散傅立葉變換，求出二元函數(shù)G (fx，fy)。將二元函數(shù)G (fx，fy)平方， 計算能譜的二元函數(shù)G2 (fx，仁)，由仁=0的截面曲線62(0，fy)，求出空間頻率大于ΟμπΓ1 并且絕對值最小的空間頻率下的最大值?！磳嵤├?>準(zhǔn)備其表面實施了銅巴拉德鍍敷(銅^，一 K^i t )的直徑200mm的鋁卷(根 據(jù)JIS的A5056)。銅巴拉德鍍層由銅鍍層/薄銀鍍層/表面銅鍍層組成，鍍層整體的厚度 設(shè)定為約200 μ m。對其鍍銅表面進(jìn)行鏡面研磨，在經(jīng)研磨的鍍銅表面涂布感光性樹脂，進(jìn) 行干燥而形成感光性樹脂膜。接著，用激光光將圖8所示的圖形反復(fù)并列而成的圖形曝光 于感光性樹脂膜上，進(jìn)行顯影。采用激光光的曝光、和顯影，使用Laser Stream FX((株) Think Laboratory制)進(jìn)行。將正型的感光性樹脂用于感光性樹脂膜。然后，用氯化銅液進(jìn)行第1蝕刻處理。此時的蝕刻量設(shè)定為7 μ m。從第1蝕刻處理后的卷材除去感光性樹脂膜，再次用氯化銅液進(jìn)行第2蝕刻處理。此時的蝕刻量設(shè)定為 ISum0然后，進(jìn)行鍍鉻加工，制作模具A。此時，鍍鉻厚度設(shè)定為4 μ m。
用醋酸乙酯溶解光固化性樹脂組合物GRANDIC 806T(大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株) 制)，成為50重量％濃度的溶液，進(jìn)而相對于100重量份固化性樹脂成分添加5重量份光聚 合引發(fā)劑Lucirin TPO(BASF公司制，化學(xué)名2，4，6_三甲基苯甲?；交⒒?，調(diào)制 涂布液。將該涂布液涂布到厚度80 μ m的三乙酰纖維素(TAC)膜上，使干燥后的涂布厚度 為10 μ m，在設(shè)定為60°C的干燥機中干燥3分鐘。用橡膠輥將干燥后的膜壓到先前得到的 模具A的凹凸面以使光固化性樹脂組合物層成為模具側(cè)而使它們密合。在該狀態(tài)下從TAC 膜側(cè)照射強度20mW/cm2的來自高壓水銀燈的光以使以h線換算光量計達(dá)到200mJ/cm2，使 光固化性樹脂組合物層固化。然后，從模具與固化樹脂一起剝離TAC膜，制作由表面具有凹 凸的固化樹脂和TAC膜的層合體構(gòu)成的透明的防眩膜A?！磳嵤├?> 除了使用圖15所示的圖形作為利用激光進(jìn)行曝光的圖形以外，與實施例1同樣地 得到模具B。作為圖15所示圖形的圖像數(shù)據(jù)為ImmX Imm的大小，以6400dpi制作。除了使 用得到的模具B以外，與實施例1同樣地制作防眩膜B。<比較例1>除了使用圖16所示的圖形作為利用激光進(jìn)行曝光的圖形以外，與實施例1同樣地 得到模具C。作為圖16所示圖形的圖像數(shù)據(jù)為2mmX2mm的大小，以12800dpi制作。除了 使用得到的模具C以外，與實施例1同樣地制作防眩膜C?！幢容^例2>除了使用圖17所示的圖形作為利用激光進(jìn)行曝光的圖形，將第1蝕刻處理的蝕刻 量設(shè)定為 ο μ m,將第2蝕刻處理的蝕刻量設(shè)定為30 μ m,除此以外，與實施例1同樣地得到 模具D。作為圖17所示圖形的圖像數(shù)據(jù)為20mmX20mm的大小，以3200dpi制作。除了使用 得到的模具D以外，與實施例1同樣地制作防眩膜D?！幢容^例3>準(zhǔn)備其表面實施了銅巴拉德鍍敷的直徑200mm的鋁卷(根據(jù)JIS的A5056)。銅巴 拉德鍍層由銅鍍層/薄銀鍍層/表面銅鍍層組成，鍍層整體的厚度設(shè)定為約200 μ m。對其 鍍銅表面進(jìn)行鏡面研磨，在經(jīng)研磨的鍍銅面，使用噴射裝置((株)不二制作所制)，以噴射 壓力0. 05MPa (表壓，下同)、珠粒使用量8g/cm2 (每Icm2卷的表面積的使用量，下同)噴射 氧化鋯珠粒TZ-SX-17(東曹(株)制，平均粒徑20 μ m)，使表面產(chǎn)生凹凸。對得到的帶凹 凸的鍍銅鋁卷進(jìn)行鍍鉻加工，制作金屬模具E。此時，鍍鉻厚度設(shè)定為6 μ m。除了使用得到 的模具E以外，與實施例1同樣地制作防眩膜E。〈比較仿Ij4>對直徑300mm的鋁卷(根據(jù)JIS的A5056)的表面進(jìn)行鏡面研磨，在經(jīng)研磨的鋁面， 使用噴射裝置((株)不二制作所制)，以噴射壓力0. IMPa(表壓，下同)、珠粒使用量Sg/ cm2(每Icm2輥的表面積的使用量，下同)噴射氧化鋯珠粒TZ-SX-17(東曹(株)制，平均 粒徑20μπι)，使表面產(chǎn)生凹凸。對得到的帶凹凸的鋁卷進(jìn)行非電解鍍鎳加工，制作模具F。 此時，非電解鍍鎳厚度設(shè)定為15 μ m。除了使用得到的模具F以外，與實施例1同樣地制作 防眩膜F。將結(jié)果示于表1。此外，圖18中示出由表示防眩膜B F的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高 的二次函數(shù)得到的能譜的fx = 0的截面。此外，圖19中示出由防眩膜B D的制作中使用的圖形得到能譜的fx = O的截面。由圖19可知，防眩膜B的制作中使用的圖形的能譜 在空間頻率大于O μ πΓ1且小于等于0. 04 μ πΓ1中不具有最大值。此外，可知防眩膜C和D的 制作中使用的圖形的能譜在空間頻率大于0 μ πΓ1且小于等于0. 04 μ πΓ1中具有最大值。表1 由表1所示的結(jié)果可知，全部滿足本發(fā)明的要件的防眩膜A和B，沒有發(fā)生晃眼，顯 示足夠的防眩性，也沒有產(chǎn)生泛白。此外，濁度也低，因此配置于圖像顯示裝置時也不引起 對比度的降低。由能譜在大于0 μ πΓ1且小于等于0.04 μ πΓ1中具有最大值的圖形制作的防 眩膜C和D，由于能譜之比H12Al22不滿足本發(fā)明的要件，因此顯示足夠的防眩性，也沒有發(fā) 生泛白，但產(chǎn)生了晃眼。此外，沒有使用規(guī)定的圖形制作的防眩膜E和F，由于能譜之比H12/ H22不滿足本發(fā)明的要件，因此不能兼具足夠的防眩性和晃眼的抑制。
權(quán)利要求
防眩膜，其為在透明支承體上形成了具有微細(xì)的凹凸表面的防眩層而成的防眩膜，上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0.01μm-1處的能譜H12與空間頻率0.04μm-1處的能譜H22之比H12/H22為3～15的范圍內(nèi)。
2.權(quán)利要求1所述的防眩膜，其中，上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0.1 μ πΓ1處 的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22之比Η32/Η22為0. 01以下。
3.權(quán)利要求1或2所述的防眩膜，其中，上述微細(xì)凹凸表面的傾斜角度為5°以下的面 的比例為95%以上。
4.權(quán)利要求1所述的防眩膜，其中，上述防眩層不含0.4μπι以上的微粒。
全文摘要
本發(fā)明能夠提供防眩膜，其為在透明支承體上形成了具有微細(xì)的凹凸表面的防眩層而成的防眩膜，上述微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的空間頻率0.01μm-1處的能譜H12與空間頻率0.04μm-1處的能譜H22之比H12/H22為3～15的范圍內(nèi)，通過該防眩膜，在顯示優(yōu)異的防眩性能的同時，防止泛白引起的辨識性的降低，配置于高清晰的圖像顯示裝置的表面時，不產(chǎn)生晃眼而顯現(xiàn)高對比度。
文檔編號G02B1/11GK101846754SQ20101014465
公開日2010年9月29日 申請日期2010年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月25日
發(fā)明者古谷勉, 宮本浩史, 神野亨 申請人:住友化學(xué)株式會社