專利名稱：光刻設(shè)備和器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光刻設(shè)備和一種定位組件。
背景技術(shù)：
光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上(通常應(yīng)用到所述襯底的目標(biāo)部分上) 的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選 地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案?？?以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個或多 個管芯)上。通常，經(jīng)由成像將所述圖案轉(zhuǎn)移到在所述襯底上設(shè)置的輻射敏感材料(抗蝕 齊IJ)層上。通常，單個襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備 包括所謂步進(jìn)機(jī)，在所述步進(jìn)機(jī)中，通過將整個圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來輻射每 一個目標(biāo)部分；以及所謂掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向) 掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標(biāo)部 分。還可以通過將所述圖案壓印到所述襯底上，而將所述圖案從所述圖案形成裝置轉(zhuǎn)移到 所述襯底上。為了確保圖案形成裝置的目標(biāo)部分在圖案的掃描過程中被投影到襯底上的合適 位置處，希望相對于圖案形成裝置精確定位襯底。圖案形成裝置和襯底的精確定位通常通 過應(yīng)用多個電磁致動器和電動機(jī)來實(shí)現(xiàn)。同時，期望對于光刻設(shè)備能實(shí)現(xiàn)高的產(chǎn)量，即在給 定時間段上處理的晶片的數(shù)量應(yīng)該盡可能的高。為了實(shí)現(xiàn)高的產(chǎn)量，高的掃描速度是優(yōu)選 的。實(shí)現(xiàn)高的掃描速度需要使用高的加速和減速力。光刻設(shè)備的已知的定位裝置包括用以 提供襯底臺的精確定位的致動器組件。這種致動器組件通常布置在襯底臺的下面。已經(jīng)發(fā) 現(xiàn)致動器組件的布置在定位裝置的運(yùn)行過程中會導(dǎo)致襯底臺的不想要的變形或位移，由此 對襯底臺的精確定位產(chǎn)生負(fù)面的影響。為了避免這種不想要的變形或位移，需要復(fù)雜的控 制策略或附加的致動器。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種用于光刻設(shè)備的定位裝置，其能夠更加精確地定位光刻設(shè)備 處理的襯底。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種光刻設(shè)備，其包括配置用以調(diào)節(jié)輻射束的照射系 統(tǒng)；支撐結(jié)構(gòu)，其構(gòu)造用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面上 將圖案賦予輻射束以形成圖案化的輻射束；襯底臺，其構(gòu)造用以在中心區(qū)域保持襯底；投 影系統(tǒng)，其配置成將所述圖案化的輻射束沿第一方向投影到所述襯底的目標(biāo)部分上；和定 位裝置，其用以定位所述襯底臺，其中定位裝置包括布置用以在使用時施加力以定位所述 襯底臺的多個致動器，所述力的方向基本上在大致垂直于所述第一方向的平面中，并且其 中所述多個致動器布置在所述襯底臺的中心容積的外側(cè)，所述中心容積通過沿所述第一方 向投影所述中心區(qū)域獲得。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備包括多個致動器，也稱為致動器組件，所述多個致 動器布置成施加力以定位襯底臺。由致動器組件產(chǎn)生的致動器力具有可以由基本上垂直于 第一方向的平面描述的取向或方向，所述第一方向與所述圖案化輻射束投影到襯底上的投 影方向?qū)?yīng)。致動器組件的所述多個致動器還布置在所述襯底臺的中心容積的外側(cè)，中心 容積通過沿所述第一方向投影想要或打算用于保持襯底的襯底臺的中心區(qū)域而獲得。本發(fā) 明的發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這種布置能夠提高襯底臺的定位精確性。用于定位襯底臺的包括致動器組件的定位裝置是已知的，其中致動器組件設(shè)置在 襯底和襯底臺的下面。然而，這種布置在可以獲得的定位精確性或精確度方面表現(xiàn)出缺點(diǎn) 或不足。通過將致動器組件布置在襯底臺的下面，沿基本上垂直于投影方向的方向施加致 動器力到襯底臺將不僅導(dǎo)致線性位移，而且導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)，因?yàn)橹聞悠鞫ㄎ辉谝r底臺的重心的 下面。通常，在光刻設(shè)備的襯底臺的位移情形中，這種旋轉(zhuǎn)是不想要的。因而，為了避免這 種旋轉(zhuǎn)，將需要產(chǎn)生抵消旋轉(zhuǎn)的補(bǔ)償扭矩的附加致動器。應(yīng)用附加的致動器以抵消襯底臺 的旋轉(zhuǎn)可以激勵或激起襯底臺的某種振動模式，這是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的。為了減小所 需的補(bǔ)償扭矩，在US 2006/0119829中已經(jīng)提出將致動器組件至少部分地布置在襯底下面 的襯底臺的腔的內(nèi)部，以便更靠近襯底臺的重心安裝致動器組件。通過將致動器組件部分 地設(shè)置在襯底臺的內(nèi)部，由致動器力的方向限定的平面被帶到更靠近包括襯底臺的重心的 平面。同樣，所需的補(bǔ)償扭矩(如上面所述)可以減小。然而，將致動器組件部分地安裝在 襯底臺的內(nèi)部會影響襯底臺的結(jié)構(gòu)剛性或剛度。通過將致動器組件部分地設(shè)置在反射鏡塊 的內(nèi)部，會損害襯底臺的結(jié)構(gòu)剛性或剛度。由于致動器組件部分地位于襯底臺的內(nèi)部，提高 剛度或剛性的可能性受到限制。同樣，襯底臺的不想要的變形或位移仍然存在。因此，通過 將致動器組件布置在所限定的中心容積外側(cè)，襯底臺的結(jié)構(gòu)剛性或剛度不再受損害，因此 能夠提高位 置精確度。通過將致動器組件布置在襯底臺的中心容積的外側(cè)而不是襯底的下 面(或襯底臺的外側(cè)或部分地位于襯底臺的內(nèi)部)，有利于設(shè)計(jì)具有更優(yōu)的機(jī)械特性(剛性 或剛度，本征頻率等)的襯底臺。在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備中，襯底臺的中心容積設(shè)置有一個或更多個加強(qiáng) 肋，由此改善襯底臺的剛性或剛度，從而提高所述臺的本征頻率。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員已知 的，提高剛度或剛性或本征頻率有利于所述臺的更精確的定位。由于提高的本征頻率，在所 述臺的本征頻率被提高的情況下，控制定位襯底臺的致動器的控制器可以例如以更高的帶 寬運(yùn)行。在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備中，通過布置致動器以在包括襯底臺的重心的平 面中施加力，可以獲得進(jìn)一步的改進(jìn)。通過這樣的設(shè)置或配置，可以在襯底臺的變形最小的 情況下實(shí)現(xiàn)襯底臺沿基本上平行于所述平面的方向的位移(即，在垂直于投影方向的方向 上的位移)。通過以這種方式布置致動器，使得致動器力不會或很難引起襯底臺的旋轉(zhuǎn)，可 以實(shí)現(xiàn)襯底臺的更精確的定位，因?yàn)椴恍枰a(chǎn)生補(bǔ)償扭矩，所述補(bǔ)償扭矩潛在地影響位置 精確度。因此，致動器力的擾動將導(dǎo)致襯底臺的較小的不想要的旋轉(zhuǎn)。在一實(shí)施例中，致動器組件包括沿襯底臺的四個邊布置的四個致動器。通常，襯底 臺具有基本上矩形形狀。這種襯底臺具有基本上矩形的上表面，包括布置用以容納或接收 晶片或襯底的中心區(qū)域。中心區(qū)域可以例如設(shè)置有突節(jié)臺。在襯底臺的上表面，沿中心區(qū) 域的周邊，傳感器可以定位成例如以便有利于安裝到所述臺的襯底的位置測量。
通常，通過應(yīng)用包括線圈(包括一個或更多個銅或鋁繞組)和磁體構(gòu)件(例如包 括永磁體和可選的磁性軛(例如包括鐵或CoFe))的電磁致動器實(shí)現(xiàn)光刻設(shè)備中的襯底臺 的定位。然而，值得注意的是，也可以應(yīng)用其他類型的致動器。這種致動器包括但不限于磁 阻致動器和壓電致動器。為了在相當(dāng)大的距離(>0.5米)上提供襯底臺的精確定位，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例 的光刻設(shè)備的定位裝置還包括電磁電動機(jī)，電磁電動機(jī)配置成提供襯底臺和致動器組件的 長行程定位。這種電磁電動機(jī)的示例包括但不限于平面電動機(jī)以及線性電動機(jī)的級聯(lián)布 置，也稱為H-驅(qū)動。在這種布置中，致動器組件可以安裝到電磁電動機(jī)。在一實(shí)施例中，致動器組件的致動器包括線圈構(gòu)件和磁體構(gòu)件，磁體構(gòu)件在使用 時與線圈構(gòu)件協(xié)同運(yùn)行以在使用時施加力以便定位襯底臺。優(yōu)選地，致動器的磁體構(gòu)件 被安裝到襯底臺，同時線圈構(gòu)件被例如安裝到能夠?qū)崿F(xiàn)長行程定位的定位裝置的電磁電動 機(jī)。通過這樣的設(shè)置或配置，致動器的配線(例如用于給線圈構(gòu)件提供電力)不必連接到 襯底臺，由此基本上避免了對襯底臺的擾動。在一實(shí)施例中，安裝到襯底臺的磁體構(gòu)件包括多個基本上獨(dú)立的磁體子構(gòu)件，磁 體子構(gòu)件在使用時與線圈構(gòu)件的線圈協(xié)同運(yùn)行。本發(fā)明的發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過將電磁致 動器的磁體構(gòu)件細(xì)分成多個子構(gòu)件并將子構(gòu)件獨(dú)立地安裝到所述臺，由磁體 構(gòu)件引入到襯 底臺中的熱應(yīng)力可以被減輕。上述的定位系統(tǒng)或組件(包括襯底臺和定位裝置)還可以應(yīng)用于希望精確地定位 物體的其他領(lǐng)域。因此，根據(jù)本發(fā)明的其他方面，提供一種用于定位物體的定位組件，所述 定位組件包括構(gòu)造用以在中心區(qū)域上保持物體的物體臺；多個致動器，布置成在使用時施 加力以定位物體臺，所述力的方向基本上在與包括中心區(qū)域的平面大致平行的平面中，并 且其中多個致動器布置在物體臺的中心容積的外側(cè)，中心容積通過沿基本上垂直于所述平 面的方向投影中心區(qū)域而獲得。


下面僅通過示例的方式，參考附圖對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行描述，其中示意性附圖 中相應(yīng)的標(biāo)記表示相應(yīng)的部件，在附圖中圖1示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備；圖2示意地示出本領(lǐng)域中已知的定位組件的橫截面視圖；圖3示意地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件；圖4示意地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的兩個定位組件；圖5示意地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件的XY視圖；圖6示意地示出可以用于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備中或用于根據(jù)本發(fā)明實(shí) 施例的定位組件中的致動器。
具體實(shí)施例方式圖1示意地示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例的光刻設(shè)備。所述光刻設(shè)備包括照 射系統(tǒng)(照射器)IL，其配置用于調(diào)節(jié)輻射束B(例如，紫外(UV)輻射或任何其他合適的 輻射)；圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)或支持結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT，其構(gòu)造成支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位圖案形成裝置的第一定位裝置PM 相連。所述設(shè)備還包括襯底臺(例如晶片臺)WT或“襯底支撐結(jié)構(gòu)”，其構(gòu)造成保持襯底(例 如涂敷有抗蝕劑的晶片)W并與配置成根據(jù)特定參數(shù)精確地定位襯底的第二定位裝置PW連 接。所述設(shè)備還包括投影系統(tǒng)(例如折射式投影透鏡系統(tǒng))PS，其配置用于將由圖案形成裝 置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包括一根或多根管芯)上。照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學(xué)部件，例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜 電型或其它類型的光學(xué)部件、或其任意組合，以引導(dǎo)、成形、或控制輻射。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)MT以依賴于圖案形成裝置MA的方向、光刻設(shè)備的設(shè) 計(jì)以及諸如圖案形成裝置MA是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置 MA。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)MT可以采用機(jī)械的、真空的、靜電的或其它夾持技術(shù)來保 持圖案形成裝置MA。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)MT可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需 要成為固定的或可移動的。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)MT可以確保圖案形成裝置MA位于 所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術(shù)語“掩模版”或“掩?！倍伎?以認(rèn)為與更上位的術(shù)語“圖案形成裝置”同義。這里所使用的術(shù)語“圖案形成裝置”應(yīng)該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在 輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標(biāo)部分上形成圖案的任何裝置。應(yīng)當(dāng)注意， 被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底的目標(biāo)部分上的所需圖案完全相符(例如如果該圖 案包括相移特征或所謂的輔助特征)。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標(biāo)部分上形成的 器件中的特定的功能層相對應(yīng)，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編 程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術(shù)中是公知的，并且包括諸如 二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩 模類型?？删幊谭瓷溏R陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置，每一個小反射鏡可以獨(dú)立地 傾斜，以便沿不同方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡 矩陣反射的輻射束。這里使用的術(shù)語“投影系統(tǒng)”應(yīng)該廣義地解釋為包括任意類型的投影系統(tǒng)，包括折 射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電型光學(xué)系統(tǒng)、或其任意組合，如對于所使 用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這 里使用的術(shù)語“投影透鏡”可以認(rèn)為是與更上位的術(shù)語“投影系統(tǒng)”同義。如這里所示的，所述設(shè)備是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述設(shè)備 可以是反射型的(例如，采用如上所述類型的可編程反射鏡陣列，或采用反射式掩模)。所述光刻設(shè)備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺或“襯底支撐結(jié)構(gòu)”(和/或 兩個或更多的掩模臺或“掩模支撐結(jié)構(gòu)”)的類型。在這種“多臺”機(jī)器中，可以并行地使用 附加的臺或支撐結(jié)構(gòu)，或可以在一個或更多個臺上執(zhí)行預(yù)備步驟的同時，將一個或更多個 其它臺或支撐結(jié)構(gòu)用于曝光。光刻設(shè)備也可以是這種類型，其中襯底的至少一部分可以由具有相對高的折射率 的液體(例如水)覆蓋，以便充滿投影系統(tǒng)和襯底之間的空間。浸沒液體也可以應(yīng)用到光 刻設(shè)備的其他空間，例如圖案形成裝置(掩模)和投影系統(tǒng)之間的空間。浸沒技術(shù)可以用 于增大投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑NA。這里所用的術(shù)語“浸沒”并不意味著例如襯底等結(jié)構(gòu)必須浸入到液體中，而只意味著在曝光過程中液體位于投影系統(tǒng)和襯底之間。參照圖1，照射器IL接收來自輻射源SO的輻射束。該源和光刻設(shè)備可以是分離的 實(shí)體(例如當(dāng)該源是受激準(zhǔn)分子激光器時)。在這種情況下，不會將該源SO考慮成形成光 刻設(shè)備的一部分，并且通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴(kuò)束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫 助，將所述輻射束從所述源SO傳到所述照射器IL。在其它情況下，所述源SO可以是所述光 刻設(shè)備的組成部分(例如當(dāng)所述源是汞燈時)?？梢詫⑺鲈碨O和所述照射器IL、以及如 果需要時設(shè)置的所述束傳遞系統(tǒng)BD —起稱作輻射系統(tǒng)。
所述照射器IL可以包括配置用于調(diào)整所述輻射束的角強(qiáng)度分布的調(diào)整器AD。通 常，可以對所述照射器IL的光瞳平面中的強(qiáng)度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍 (一般分別稱為σ-外部和ο-內(nèi)部)進(jìn)行調(diào)整。此外，所述照射器IL可以包括各種其它 部件，例如積分器IN和聚光器CO?？梢詫⑺稣丈淦鱅L用于調(diào)節(jié)所述輻射束B，以在其橫 截面中具有所需的均勻性和強(qiáng)度分布。所述輻射束B入射到保持在圖案形成裝置支撐件或支撐結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺MT) 上的所述圖案形成裝置(例如，掩模)MA上，并且通過所述圖案形成裝置MA來形成圖案。 已經(jīng)穿過圖案形成裝置(例如掩模)MA之后，所述輻射束B通過投影系統(tǒng)PS，所述投影系 統(tǒng)PS將輻射束B聚焦到所述襯底W的目標(biāo)部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器 IF(例如，干涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT， 例如以便將不同的目標(biāo)部分C定位于所述輻射束B的路徑中。類似地，例如在從掩模庫的 機(jī)械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一個位置傳感器IF(圖1 中未明確示出)用于相對于所述輻射束B的路徑精確地定位圖案形成裝置(例如掩模)MA。 通常，可以通過形成所述第一定位裝置PM的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊 (精定位)的幫助來實(shí)現(xiàn)圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT的移動。類似地，可以采 用形成第二定位裝置PW的一部分的長行程模塊和短行程模塊來實(shí)現(xiàn)襯底臺WT或“襯底支 撐結(jié)構(gòu)”的移動。與襯底臺WT結(jié)合的第二定位裝置PW可以例如與根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定 位組件相對應(yīng)，從而物體臺與襯底臺WT相對應(yīng)并且將要被定位的物體與襯底相對應(yīng)。定位 組件的多個致動器扮演短行程模塊的角色并且提供襯底臺WT的精確的定位。在根據(jù)本發(fā) 明實(shí)施例的光刻設(shè)備中，襯底臺構(gòu)造成將襯底或晶片保持在中心區(qū)域上。定位組件的多個 致動器布置用以在使用時施加力以定位襯底臺，所述力基本上在與包括中心區(qū)域的平面大 致平行的平面中取向，并且其中所述多個致動器布置在襯底臺的中心容積的外側(cè)，中心容 積通過沿基本上垂直于所述平面的方向投影所述中心區(qū)域來獲得，所述方向基本上與其中 圖案化輻射束被投影到襯底的目標(biāo)部分上的方向相對應(yīng)。通過將多個致動器布置在襯底臺 的外側(cè)而不是例如襯底的下面(襯底臺的外側(cè)或部分地處于內(nèi)側(cè))，有利于設(shè)計(jì)具有優(yōu)選 的機(jī)械特性(剛度、本征頻率等)的襯底臺。作為示例，襯底臺的中心容積可以設(shè)置有一個或更多個加強(qiáng)肋，由此可以提高襯 底臺的剛性，這提高襯底臺的本征頻率。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知道的，提高剛性或本征頻 率有利于所述臺的更精確的定位。由于提高的本征頻率，控制定位襯底臺的致動器的控制 器可以例如在所述臺的本征頻率提高的情況下以更高帶寬運(yùn)行。在步進(jìn)機(jī)的情況下(與掃描器相反)，圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT可 以僅與短行程致動器相連，或者可以是固定的?？梢允褂脠D案形成裝置對準(zhǔn)標(biāo)記Ml、M2和襯底對準(zhǔn)標(biāo)記P1、P2來對準(zhǔn)圖案形成裝置(例如掩模)MA和襯底W。盡管所示的襯底對準(zhǔn) 標(biāo)記占據(jù)了專用目標(biāo)部分，但是它們可以位于目標(biāo)部分之間的空間(這些公知為劃線對齊 標(biāo)記)中。類似地，在將多于一個的管芯設(shè)置在圖案形成裝置(例如掩模)MA上的情況下， 所述圖案形成裝置對準(zhǔn)標(biāo)記可以位于所述管芯之間。所示的設(shè)備可以用于以下模式中的至少一種中1.在步進(jìn)模式中，在將圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT或“掩模支撐結(jié) 構(gòu)”和襯底臺WT或“襯底支撐結(jié)構(gòu)”保持為基本靜止的同時，將賦予所述輻射束B的整個圖 案一次投影到目標(biāo)部分C上(即，單一的靜態(tài)曝光)。然后，將所述襯底臺WT或“襯底支撐 結(jié)構(gòu)”沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標(biāo)部分C曝光。在步進(jìn)模式中，曝光場的 最大尺寸限制了在單一的靜態(tài)曝光中成像的所述目標(biāo)部分C的尺寸。2.在掃描模式中，在對圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT或“掩模支撐結(jié) 構(gòu)”和襯底臺WT或“襯底支撐結(jié)構(gòu)”同步地進(jìn)行掃描的同時，將賦予所述輻射束B的圖案投 影到目標(biāo)部分C上(即，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT或“襯底支撐結(jié)構(gòu)”相對于圖案形成 裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT或“掩模支撐結(jié)構(gòu)”的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng) PS的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了單 一動態(tài)曝光中所述目標(biāo)部分C的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描運(yùn)動的長度確定了所述 目標(biāo)部分C的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個模式中，將保持可編程圖案形成裝置的圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如 掩模臺)MT或“掩模支撐結(jié)構(gòu)”保持為基本靜止，并且在對所述襯底臺WT或“襯底支撐結(jié)構(gòu)” 進(jìn)行移動或掃描的同時，將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上。在這種模式中，通 常采用脈沖輻射源，并且在所述襯底臺WT或“襯底支撐結(jié)構(gòu)”的每一次移動之后、或在掃描 期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于 應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光 刻術(shù)中。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。圖2示意地示出了可以應(yīng)用于光刻設(shè)備中的已知的定位組件100的一部分。圖2 示意地示出了定位組件的XZ橫截面視圖，所述組件包括襯底臺110(—般來說是物體臺) 和定位裝置，定位裝置包括致動器組件120，致動器組件120包括多個致動器(未示出)。襯 底臺或物體臺110布置成在臺的中心區(qū)域140上容納襯底130( —般來說是物體)。如圖所 示，致動器組件120基本上被布置在襯底臺110的中心區(qū)域140的下面；并且部分地布置在 襯底臺110的腔150的內(nèi)部。致動器組件120例如采用片簧160安裝在襯底臺。這樣的片 簧可以幫助避免由致動器引入到襯底臺中的熱應(yīng)力。然而，這種片簧160的應(yīng)用會導(dǎo)致致 動器組件120和襯底臺110在特定頻率之上去耦合。同樣，這種片簧160的應(yīng)用會影響控 制襯底臺的定位的力的可實(shí)現(xiàn)帶寬。正如從圖2中所看到的，致動器組件120至少部分地布置在定位組件100的中心 容積中，所述容積通過沿Z方向(Z方向例如與將圖案化的輻射束投影到襯底130的目標(biāo)部 分上的方向相對應(yīng))投影襯底臺的中心區(qū)域140來獲得，在圖2中用虛線170來表示。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，用于例如在光刻設(shè)備內(nèi)定位襯底的定位組件包括定位裝 置，定位裝置包括布置在如圖2所示的中心容積外側(cè)的多個致動器(也稱為致動器組件)。圖3示意地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件中的這種多個致動器的可能布置。圖3示意地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的可以用于光刻設(shè)備中的定位組件的XZ橫截 面視圖，多個致動器布置用以施加力到襯底臺，所述力的方向在XY平面(Y方向基本上垂直 于XZ平面)中取向。定位組件200包括襯底臺210，襯底臺210布置成在襯底臺210的中 心區(qū)域230上容納或接收襯底200。中心區(qū)域230可以例如對應(yīng)于襯底安裝或放置到襯底 臺時被襯底覆蓋的區(qū)域。為了定位襯底臺，定位組件還包括定位裝置，定位裝置包括布置 在通過沿Z方向(Z方向例如與將圖案化輻射束投影到襯底220的目標(biāo)部分上的方向相對 應(yīng))投影中心區(qū)域230來限定的、定位組件200的中心容積外側(cè)的多個致動器240，中心容 積由虛線270表示。如圖所示的致動器布置成通過沿平面方向施加力來在XY平面內(nèi)定位 襯底。通過將多個致動器布置在中心容積的外側(cè)而不是襯底的下面(例如部分地位于襯底 臺的內(nèi)部)，有利于設(shè)計(jì)具有優(yōu)選的機(jī)械特性(剛性、本征頻率等)的定位組件。正如本領(lǐng) 域技術(shù)人員已知的，將致動器組件部分地布置在襯底臺的內(nèi)側(cè)(例如如圖2所示)會減小 襯底臺的剛性或剛度。通過將致動器布置在中心容積的外側(cè)，設(shè)計(jì)者具有更多的自由度來 設(shè)置或發(fā)展具有所需剛性或剛度的襯底臺(一般來說，物體臺)。作為示例，襯底臺的中心容積可以設(shè)置有一個或更多個加強(qiáng)肋，由此可以提高襯 底臺的剛性，這提高襯底臺的本征頻率。關(guān)于加強(qiáng)肋的應(yīng)用，下面幾點(diǎn)是值得注意的為了 提供足夠的剛性給襯底臺，已經(jīng)提出在襯底臺的底部使用蓋，由此所述蓋可以用于安裝致 動器組件。所述蓋可以例如通過膠合或通過粘合劑被用于襯底臺。發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這種 布置會容易蠕變，這會不利于襯底臺的精確定位。同 樣，發(fā)明人認(rèn)為或設(shè)計(jì)，相對于使用蓋 關(guān)閉襯底臺的底部表面，應(yīng)用加強(qiáng)肋是優(yōu)選的或更好的。如本發(fā)明的實(shí)施例所提出的多個 致動器的布置有利于這種肋的應(yīng)用。作為示例，三角肋結(jié)構(gòu)可以用于定位組件的中心容積 270內(nèi)部以提高剛性或剛度。此外，要注意的是，在所限定的中心容積外側(cè)布置多個致動器 會導(dǎo)致增大襯底臺和安裝到襯底臺的致動器部件的旋轉(zhuǎn)慣性。增大旋轉(zhuǎn)慣性有利于提高定 位組件的定位精確度。由于增大的旋轉(zhuǎn)慣性，例如高頻擾動力等擾動會導(dǎo)致減小不想要的 襯底臺的旋轉(zhuǎn)位移。應(yīng)該注意的是，通過在中心容積的外側(cè)定位多個致動器，在使用相同致 動器時可以保持平移慣性基本上不受影響。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的，增大剛性或本征 頻率可以有利于所述臺的更精確的定位。由于本征頻率的增大，控制定位襯底臺的致動器 的控制器可以例如在所述臺的本征頻率被提高的情況下以更高帶寬運(yùn)行。圖4示意地示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件的多個致動器的兩個可選的布置， 致動器被布置成沿XY平面施加力。在如圖4的上部所示的布置中，定位組件410的多個致 動器400沿所述組件410的襯底臺430的外表面420布置。所述致動器400布置在定位組 件410的中心容積(用虛線460表示)的外側(cè)。在圖4的下面部分所示的布置中，襯底臺例 如可以通過將蓋板440安裝到盒形容積450而被組裝或裝配。盒形容積450的外表面420 可以例如布置在定位組件的中心容積(用虛線460表示)的外側(cè)并且布置用以容納或接收 致動器400。因?yàn)橹聞悠鞅徊贾迷谒鋈莘e450的外側(cè)，所述容積可以設(shè)置有一個或更多個 加強(qiáng)肋，以便提供具有所需結(jié)構(gòu)剛性襯底臺，所述襯底臺對應(yīng)地具有對應(yīng)襯底臺的本征頻 率的所需值。作為示例，三角肋結(jié)構(gòu)可以用于定位組件的中心容積460中以提高剛性。優(yōu)選地，應(yīng)用于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件中的襯底臺由低熱膨脹材料(例如 微晶玻璃)形成或包括低熱膨脹材料(例如微晶玻璃)。在如圖4所示的布置中，多個致動器以這種方式布置，使得致動器力沿包括襯底臺430的重心480的XY平面施加。通過這 樣布置，可以在襯底臺430發(fā)生最小的變形的情況下實(shí)現(xiàn)襯底臺沿平行于所述平面的位移 (即沿與投影方向垂直的方向的位移)。這可以由下文解釋通過將致動器組件布置在襯底 臺下面(例如在如圖2所示的已知的定位組件中示出的)，沿XY平面施加致動器力(S卩，基 本上垂直于Z方向(例如在定位組件被用于光刻設(shè)備中的情況下的投影方向)的方向)給 襯底將不僅導(dǎo)致線性位移而且導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)，因?yàn)橹聞悠鞯亩ㄎ坏陀谝r底臺的重心。通常，在光 刻設(shè)備的襯底臺的位移的情況下，這種旋轉(zhuǎn)是不想要的。因此，為了避免這種旋轉(zhuǎn)，將需要 產(chǎn)生抵消旋轉(zhuǎn)的補(bǔ)償扭矩的附加致動器。應(yīng)用附加的致動器抵消襯底臺的旋轉(zhuǎn)可以激勵襯 底臺的某些振動模式，這是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的。通過以這種方式布置致動器，使得致動 器力不會或很難引起襯底臺的旋轉(zhuǎn)，可以實(shí)現(xiàn)襯底臺的更加精確的定位，因?yàn)椴恍枰a(chǎn)生 補(bǔ)償扭矩，補(bǔ)償扭矩潛在地影響定位精確度。圖5示意地示出可以應(yīng)用于光刻設(shè)備的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件500的XY 面視圖。如圖所示，定位組件500包括布置成在襯底臺的中心區(qū)域515上容納或接收襯底的 襯底臺510。所述組件500還包括定位裝置，定位裝置包括沿襯底臺的四個邊布置的四個致 動器520. 1、520. 2、520. 3、520.4。致動器布置在通過沿Z方向(垂直于包括中心區(qū)域515 的XY平面)投影中心區(qū)域515而獲得的中心容積的外側(cè)。成對致動器520. 1和520. 2布置 用以產(chǎn)生基本上沿X方向取向的力，而成對致動器520. 3和520. 4布置用以產(chǎn)生基本上沿Y 方向取向的力，X和Y方向形成基本上平行于中心區(qū)域515的平面。正從如圖5中看到的， 正如表示由致動器產(chǎn)生的力的方向的箭頭530所示的，致動器力可以被引導(dǎo)通過襯底臺的 重心540，或不被引導(dǎo)通過所述重心。由致動器520. 3和520. 4產(chǎn)生的力的方向例如不被引 導(dǎo)通過重心540。通過這樣布置或設(shè)置，可以在致動器520. 3和520. 4產(chǎn)生不同大小的力的 情況下實(shí)現(xiàn)襯底臺圍繞Z-軸線(Z-軸線垂直于XY平面)的旋轉(zhuǎn)。值得注意的是，布置在 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件中或布置在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光刻設(shè)備中(即布置在襯 底臺的中心容積的外側(cè)，例如沿襯底臺的外表面)的多個致動器還改善了致動器的可到達(dá) 性(accessibility)并且可以有利于將致動器裝配到襯底臺。與包括例如用于在XY平面中 產(chǎn)生力的三個致動器的致動器組件相比，所述致動器力基本上以120度分開取向，而如圖5 所示的布置，其致動器520. 1和520. 2的力基本上垂直于致動器520. 3和520. 4的力，將導(dǎo) 致致動器之間的串?dāng)_減小。圖5還示出布置在襯底臺的角部附近的四個附加的致動器550， 致動器布置成基本上沿Z方向產(chǎn)生力。這種致動器可以例如用于沿Z方向定位襯底臺和/ 或關(guān)于X或Y方向傾斜襯底臺。這種致動器可以例如是所謂的音圈(voice-coil)電動機(jī)。在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件應(yīng)用于光刻設(shè)備中用于定位襯底的情況中，襯底 臺的精確定位是期望的。在本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施例中，光刻設(shè)備包括基于2D(二維)編碼 器的測量系統(tǒng)，用以確定襯底臺的位置。這種基于編碼器的測量系統(tǒng)可以例如包括與2維 格柵協(xié)同運(yùn)行的多個傳感器。優(yōu)選地，傳感器安裝或裝配到襯底臺。在圖5中，示意地示出 布置在襯底臺510的角部附近的四個傳感器560。應(yīng)該知道，傳感器的其他位置或不同的 傳感器結(jié)構(gòu)也是可以的。二維格柵可以例如安裝到光刻設(shè)備的動態(tài)分離或隔離的框架或部 件。作為示例，格柵可以安裝到光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)。正如在光刻設(shè)備中，襯底臺的所需的 位移可以是相當(dāng)大的(substantial)(襯底臺可以例如被要求覆蓋0. 5x 1.5米的區(qū)域)，其 可以有利于將二維格柵分成不同的較小的彼此相鄰或鄰接布置的格柵。
應(yīng)用于根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件中的多個致動器可以例如是電磁致動器，其 包括線圈構(gòu)件和布置成與線圈構(gòu)件協(xié)同運(yùn)行以產(chǎn)生沿預(yù)定方向的力的磁體構(gòu)件。這種致動 器通常應(yīng)用于在相當(dāng)小的距離上提供精確的定位。為了在相當(dāng)大的距離(>0.5米)上提 供襯底臺的精確的定位，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的定位組件的定位裝置還包括電磁電動機(jī)，用 以提供襯底臺和多個致動器的長行程定位。這種電磁電動機(jī)的示例包括但不限于平面電動 機(jī)和線性電動機(jī)的級聯(lián)布置，也已知為H驅(qū)動(H-drive)。在這種布置中，多個致動器可以 安裝到電磁電動機(jī)。
在一實(shí)施例中，電磁致動器的磁體構(gòu)件安裝到定位組件的襯底臺，而線圈構(gòu)件被 例如安裝到定位裝置的電磁電動機(jī)。通過這樣布置或設(shè)置，不需要向襯底臺提供用于供給 電力給線圈構(gòu)件的電線。由于這種電線帶來的擾動因而可以避免。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，安裝到襯底臺的磁體構(gòu)件包括多個基本上獨(dú)立的磁體子 構(gòu)件，磁體子構(gòu)件在使用時與線圈構(gòu)件的線圈協(xié)同運(yùn)行。本發(fā)明的發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過將 電磁致動器的磁體構(gòu)件分成多個子構(gòu)件并且將所述子構(gòu)件獨(dú)立地安裝到所述臺，可以減輕 或減小由磁體構(gòu)件帶來或引入到襯底臺中的熱應(yīng)力。圖6示意地示出了這種致動器的三個 橫截面視圖。致動器600包括線圈構(gòu)件610和包括三個子構(gòu)件620. 1,620. 2以及620. 3的 磁體構(gòu)件620。每個子構(gòu)件設(shè)置有非磁性框架630、背鐵635和一對永磁體640。背鐵635 可以例如由鐵磁性鋼或CoFe形成或包括鐵磁性鋼或CoFe。磁體子構(gòu)件布置成與線圈構(gòu)件 610協(xié)同運(yùn)行以產(chǎn)生沿由箭頭650所示的方向的力。磁體子構(gòu)件可以基本上彼此獨(dú)立地安 裝到襯底臺660或物體臺。同樣，引入到襯底臺660中的熱應(yīng)力可以被減輕。在這種布置 中，可以避免應(yīng)用片簧(如在圖2中示出的已知的結(jié)構(gòu)中應(yīng)用的那樣)，由此實(shí)現(xiàn)具有提高 的剛度或剛性的組件。作為示例，磁性子構(gòu)件可以膠合到襯底臺，例如襯底臺的外表面。線 圈構(gòu)件610可以例如包括單個銅(Cu)或鋁(Al)繞組線圈，其布置成與不同的磁性子構(gòu)件 協(xié)同運(yùn)行以產(chǎn)生如箭頭650所示的最終的力。盡管在本文中可以做出具體的參考，將所述光刻設(shè)備用于制造ICs，但應(yīng)當(dāng)理解這 里所述的光刻設(shè)備可以有制造具有微米尺度、甚至納米尺度的特征的部件的其他應(yīng)用，例 如，集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCDs)、薄膜磁 頭等的制造。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在這種替代應(yīng)用的情況中，可以將其中使用的 任意術(shù)語“晶片”或“管芯”分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語“襯底”或“目標(biāo)部分”同義。這里 所指的襯底可以在曝光之前或之后進(jìn)行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層涂到襯 底上，并且對已曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影的工具)、量測工具和/或檢驗(yàn)工具中。在可應(yīng)用的 情況下，可以將所述公開內(nèi)容應(yīng)用于這種和其它襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理 一次以上，例如以便產(chǎn)生多層IC，使得這里使用的所述術(shù)語“襯底”也可以表示已經(jīng)包含多 個已處理層的襯底。盡管以上已經(jīng)做出了具體的參考，在光學(xué)光刻術(shù)的情況中使用本發(fā)明的實(shí)施例， 但應(yīng)該理解的是，本發(fā)明可以用于其它應(yīng)用中，例如壓印光刻術(shù)，并且只要情況允許，不局 限于光學(xué)光刻術(shù)。在壓印光刻術(shù)中，圖案形成裝置中的拓?fù)湎薅嗽谝r底上產(chǎn)生的圖案?？?以將所述圖案形成裝置的拓?fù)溆∷⒌教峁┙o所述襯底的抗蝕劑層中，在其上通過施加電磁 輻射、熱、壓力或其組合來使所述抗蝕劑固化。在所述抗蝕劑固化之后，所述圖案形成裝置 從所述抗蝕劑上移走，并在抗蝕劑中留下圖案。
這里使用的術(shù)語“輻射”和“束”包含全部類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射 (例如具有約365、248、193、157或126nm的波長)和極紫外(EUV)輻射(例如具有5_20nm 范圍內(nèi)的波長)，以及粒子束，例如離子束或電子束。在上下文允許的情況下，所述術(shù)語“透鏡”可以表示各種類 型的光學(xué)部件中的任何 一種或它們的組合，包括折射式、反射式、磁性式、電磁式和靜電式的光學(xué)部件。盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的特定的實(shí)施例，但是應(yīng)該理解的是本發(fā)明可以以與 上述不同的形式實(shí)現(xiàn)。以上的描述是說明性的，而不是限制性的。因此，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在 不背離所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍的條件下，可以對本發(fā)明進(jìn)行修改。
權(quán)利要求
一種光刻設(shè)備，包括支撐結(jié)構(gòu)，其構(gòu)造用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面上將圖案賦予輻射束以形成圖案化的輻射束；襯底臺，其構(gòu)造用以在所述襯底臺的中心區(qū)域保持襯底；投影系統(tǒng)，其配置成將所述圖案化的輻射束沿第一方向投影到所述襯底的目標(biāo)部分上；和定位裝置，其配置用以定位所述襯底臺，所述定位裝置包括布置用以施加力以定位所述襯底臺的多個致動器，所述力的方向基本上沿大致垂直于所述第一方向的平面，并且其中所述多個致動器布置在所述襯底臺的中心容積的外側(cè)，所述中心容積通過沿所述第一方向投影所述中心區(qū)域獲得。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述中心容積不包含致動器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述中心區(qū)域在使用時基本上對應(yīng)于由襯 底覆蓋的區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述平面包括所述襯底臺的重心。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述定位裝置還包括電磁電動機(jī)，所述電磁 電動機(jī)配置成提供所述襯底臺和所述多個致動器的長行程定位。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述多個致動器包括沿所述襯底臺的四個 邊布置的四個電磁致動器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻設(shè)備，其中，所述四個電磁致動器包括配置成沿第二方 向?qū)⒘κ┘拥揭r底臺上的兩個致動器，所述第二方向基本上垂直于所述第一方向，所述兩 個致動器布置在所述襯底臺的相對的邊上；和兩個另外的致動器，其配置成沿基本上垂直 于所述第一和第二方向的第三方向施加力，所述兩個另外的致動器布置在所述襯底臺的相 對的邊上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述多個致動器還包括另外的多個致動器， 所述另外的多個致動器布置成在使用時施加力以定位襯底臺，由所述另外的多個致動器施 加的力的方向基本上垂直于所述平面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述襯底臺由低熱膨脹材料形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述多個致動器中的每個致動器包括線圈 構(gòu)件和磁體構(gòu)件，磁體構(gòu)件在使用時與所述線圈構(gòu)件協(xié)作以施加力、從而定位所述襯底臺。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中，所述多個致動器的磁體構(gòu)件安裝至襯底臺。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中，所述磁體構(gòu)件包括多個基本獨(dú)立的磁體 子構(gòu)件，所述磁體子構(gòu)件配置成在使用時與所述線圈構(gòu)件的線圈協(xié)作。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述襯底臺的所述中心容積包括一個或更 多個加強(qiáng)肋。
14.一種配置用以定位物體的定位組件，所述定位組件包括物體臺，其構(gòu)造成將物體保持在所述物體臺的中心區(qū)域上；定位裝置，其包括布置成在使用時施加力以定位所述物體臺的多個致動器，所述力的 方向基本上沿第一平面，所述第一平面基本上平行于包括所述中心區(qū)域的第二平面，并且其中所述多個致動器布置在所述定位組件的中心容積的外側(cè)，所述中心容積通過沿基本上 垂直于所述第二平面的方向投影所述中心區(qū)域而獲得。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的定位組件，其中，所述中心容積不包含致動器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光刻設(shè)備和器件制造方法。所述光刻設(shè)備包括支撐結(jié)構(gòu)，其構(gòu)造用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面上將圖案賦予輻射束以形成圖案化的輻射束；襯底臺，其構(gòu)造用以在中心區(qū)域保持襯底；和投影系統(tǒng)，其配置成沿第一方向?qū)⑺鰣D案化的輻射束投影到所述襯底的目標(biāo)部分上。所述設(shè)備還包括定位裝置用以定位所述襯底臺，其中定位裝置包括布置用以在使用時施加力以定位所述襯底臺的多個致動器，所述力的方向基本上沿大致垂直于所述第一方向的平面，并且其中多個致動器布置在所述襯底臺的中心容積的外側(cè)，所述中心容積通過沿所述第一方向投影所述中心區(qū)域獲得。
文檔編號G03F7/20GK101840159SQ20101012002
公開日2010年9月22日 申請日期2010年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月24日
發(fā)明者J·H·A·范德瑞吉德特, M·J·沃奧爾戴爾冬克, R·C·昆斯特, R·J·T·范克姆彭, Y·K·M·德沃斯 申請人:Asml荷蘭有限公司