專利名稱：制造圖案化雙折射產(chǎn)品的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造圖案化雙折射產(chǎn)品的方法和通過(guò)所述方法制造的圖案化雙 折射產(chǎn)品。
背景技術(shù)：
已經(jīng)提出了幾種制作雙折射圖案的方法。JP-A-3-141320(〃 JP-A“指未審查公開(kāi) 的日本專利申請(qǐng))公開(kāi)了一種在圖像記錄方法中夾在兩塊偏振片之間時(shí)可以看到的圖案 化雙折射產(chǎn)品。在JP-A-3-141320中，使用的技術(shù)是利用加熱方式激光或熱頭以加熱各向 異性膜的圖像形成部，從而完全或部分地降低各向異性。然而，通過(guò)其中上述利用熱降低雙折射性的技術(shù)制作的圖案均具有耐熱性差的缺 點(diǎn)。也就是說(shuō)，存在當(dāng)加熱到殘留雙折射性的部分時(shí)，該部分的雙折射性將結(jié)束下降的風(fēng) 險(xiǎn)。此外，在使用熱頭等的技術(shù)中，因?yàn)樵诤穸确较虻膫鳠嵝院兔鎯?nèi)方向的傳熱性之間難于 產(chǎn)生差異，所以極難在低于膜厚的分辨率下產(chǎn)生圖案。用激光加熱允許產(chǎn)生高分辨率圖案， 但其問(wèn)題在于利用激光掃描繪制微細(xì)圖案很費(fèi)時(shí)。JP-A-3-141320也提出了使用光分解性光聚合物或光異構(gòu)化聚合物用光來(lái)降低雙 折射性的技術(shù)。然而，通過(guò)該技術(shù)制作的圖案的耐光性很低，特別地，使得圖案不適于作為 光學(xué)元件中使用的雙折射圖案。已經(jīng)提出了制作雙折射圖案的另一種技術(shù)，其是一種方法，包括在具有取向膜的 支持體上涂布含有聚合性液晶和聚合引發(fā)劑的涂布液，通過(guò)光掩模對(duì)其中液晶處于取向態(tài) 的涂布液進(jìn)行圖案化曝光，通過(guò)聚合固定曝光區(qū)域的取向，加熱在未曝光的區(qū)域中產(chǎn)生各 向同性相，以及進(jìn)行第二次曝光，從而使第一次曝光的區(qū)域周圍表現(xiàn)出光學(xué)各向異性(參 見(jiàn)，英國(guó)專利No. 2，394，718A，和“Advanced Function Materials”，pp. 791-798，16,2006)。 然而，在該方法中，在固定之前控制液晶取向態(tài)要求在小心控制整個(gè)體系溫度的同時(shí)進(jìn)行 多次曝光，從而造成了制造過(guò)程苛刻的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于容易制備高分辨率和高耐熱性的圖案化雙折射產(chǎn) 品的方法，即，具有圖案化雙折射且分辨率和耐熱性高的物品。根據(jù)本發(fā)明，提供以下手段(1) 一種制造圖案化雙折射產(chǎn)品的方法，依序包括至少步驟⑴ (III)(I)提供具有含有聚合物的光學(xué)各向異性層的雙折射圖案構(gòu)造體；(II)對(duì)所述雙折射圖案構(gòu)造體的兩個(gè)以上區(qū)域在彼此不同的曝光條件下進(jìn)行曝 光；和(III)在50°C以上和400°C以下的溫度下加熱所述步驟(II)后得到的疊置結(jié)構(gòu)。(2)如上項(xiàng)(1)所述的方法，其中所述曝光條件在選自曝光強(qiáng)度、曝光量、曝光時(shí) 間和曝光峰值波長(zhǎng)的至少一個(gè)曝光參數(shù)方面不同。
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(3)如上項(xiàng)(1)或(2)所述的方法，其中使用具有彼此不同圖案的曝光掩模進(jìn)行所 述兩個(gè)以上區(qū)域的曝光。(4)如上項(xiàng)(1)所述的方法，其中使用具有表現(xiàn)出彼此不同的透射光譜的兩個(gè)以 上區(qū)域的曝光掩模通過(guò)一次曝光進(jìn)行所述步驟(II)。(5)如上項(xiàng)(1) (4)中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)各向異性層在20°C下 的面內(nèi)延遲為IOnm以上。(6)如上項(xiàng)(1) (5)中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述聚合物具有未反應(yīng)的反應(yīng)性基團(tuán)。(7)如上項(xiàng)(1) (6)中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)各向異性層是通過(guò)以下 步驟形成的層用含有具有至少一個(gè)反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性化合物的溶液涂布，干燥涂布上 的溶液形成液晶相，然后加熱或用電離輻射照射所述液晶相，從而導(dǎo)致聚合和固定。(8)如上項(xiàng)(7)所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合條件不同的兩種以 上的反應(yīng)性基團(tuán)。(9)如上項(xiàng)⑶所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反應(yīng)性基團(tuán) 和陽(yáng)離子反應(yīng)性基團(tuán)。(10)如上項(xiàng)(9)所述的方法，其中所述自由基反應(yīng)性基團(tuán)是丙烯酸系基團(tuán)和/或 甲基丙烯酸系基團(tuán)，所述陽(yáng)離子反應(yīng)性基團(tuán)是乙烯基醚基團(tuán)、氧雜環(huán)丁烷基團(tuán)和/或環(huán)氧 基團(tuán)。(11)如上項(xiàng)⑴ (6)中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)各向異性層是拉伸膜。(12)如上項(xiàng)(1) (11)中任一項(xiàng)所述的方法，其中通過(guò)將具有所述光學(xué)各向異性 層的轉(zhuǎn)移材料(該材料下面簡(jiǎn)稱作"轉(zhuǎn)移材料")轉(zhuǎn)移到目標(biāo)轉(zhuǎn)移材料(其是在其上將要 轉(zhuǎn)移所述轉(zhuǎn)移材料的目標(biāo)材料)上進(jìn)行所述步驟(I)。(13) 一種通過(guò)上項(xiàng)(1) (12)中任一項(xiàng)所述方法得到的產(chǎn)品，其中200°C下焙燒 30分鐘后的延遲(相差)變化為10%以下。(14) 一種通過(guò)上項(xiàng)⑴ (12)中任一項(xiàng)所述方法得到的用作防止偽造手段的產(chǎn)
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ΡΠ O(15) 一種通過(guò)上項(xiàng)(1) (12)中任一項(xiàng)所述方法得到的用作光學(xué)元件的產(chǎn)品。有益效果通過(guò)本發(fā)明的方法和根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)造體，可以得到高分辨率和高耐熱性的圖案 化雙折射產(chǎn)品。當(dāng)通過(guò)偏振片觀察時(shí)，雙折射圖案是容易識(shí)別圖案的，而當(dāng)未通過(guò)偏振片觀 察時(shí)，其幾乎是無(wú)色透明的，并且雙折射圖案對(duì)于防止偽造和賦予視覺(jué)效果是有效的。特別 地，如果使用轉(zhuǎn)移材料，可以減少制造步驟數(shù)，因此降低制造成本。
具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選方式的一些例子。在本說(shuō)明書中，用" "表示的范圍指包括" "之前和之后的數(shù)值作為最小值 和最大值的范圍。在本說(shuō)明書中，術(shù)語(yǔ)“延遲”或Re指面內(nèi)延遲，術(shù)語(yǔ)ReU)指波長(zhǎng)λ (nm)的面內(nèi) 延遲。可以通過(guò)在薄膜法線方向上入射波長(zhǎng)λ nm的光，使用K0BRA21ADH或WR(商品名，OjiScientific Instruments制)測(cè)量面內(nèi)延遲(ReU))。在本說(shuō)明書中，延遲或Re指對(duì)于 R、G和B，波長(zhǎng)λ分別是611 士5nm、545士5nm和435士5nm下測(cè)量的，并且如果對(duì)顏色沒(méi)有 具體說(shuō)明，那么指波長(zhǎng)λ 545士5nm或590士5nm下測(cè)量的。應(yīng)注意到，關(guān)于角度，在本說(shuō)明書中術(shù)語(yǔ)"基本上"指相對(duì)于精確角度允許誤差 小于士5°。距精確角度的誤差優(yōu)選小于4°，更優(yōu)選小于3°。還應(yīng)注意到，關(guān)于延遲值， 在本說(shuō)明書中術(shù)語(yǔ)"基本上"指相對(duì)于精確值誤差允許小于士5%。還應(yīng)注意到，在本說(shuō)明 書中術(shù)語(yǔ)"Re值基本上不為0〃指Re值不小于5nm。除非另有說(shuō)明，折射率的測(cè)量波長(zhǎng)是 可見(jiàn)光波長(zhǎng)。還應(yīng)注意到，在本說(shuō)明書中術(shù)語(yǔ)"可見(jiàn)光"指400 700nm的波長(zhǎng)的光。(雙折射圖案構(gòu)造體)

圖1 (a) 1⑴是雙折射圖案構(gòu)造體的幾個(gè)例子的示意性截面圖。雙折射圖案構(gòu) 造體是制作雙折射圖案的材料和通過(guò)進(jìn)行預(yù)定步驟從其制備圖案化雙折射產(chǎn)品的材料。圖 1(a)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在支持體(基板)11上具有光學(xué)各向異性層12的例子。 圖1 (b)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是具有取向?qū)?3的例子。當(dāng)使用通過(guò)含有液晶性化合物 的溶液涂布基板，干燥溶液形成液晶相，然后加熱或用電離輻射照射液晶相從而聚合和固 定化合物而形成的層作為光學(xué)各向異性層12時(shí)，取向?qū)?3用作支持液晶性化合物的取向 /排列的層。圖1 (c)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在支持體11上還具有反射層35的例子。圖 1 (d)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在支持體11下還具有反射層35的例子。圖1 (e)所示的 雙折射圖案構(gòu)造體是在支持體11下具有后粘合層16 (其是當(dāng)從疊置結(jié)構(gòu)剝離下述剝離層 后與'另一產(chǎn)品'貼附時(shí)用作粘合層的層)和剝離層(其是可以從疊置結(jié)構(gòu)分離或剝離的 層)17，從而在形成雙折射圖案后與另一產(chǎn)品貼附。圖1(f)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是具 有由于使用轉(zhuǎn)移材料制備而可在支持體11和光學(xué)各向異性層12之間轉(zhuǎn)移的粘合層14的 例子。圖1(g)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是具有多個(gè)光學(xué)各向異性層(12F，12S)的例子。 圖1 (h)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在自支持光學(xué)各向異性層12下具有反射層35的例子。 圖1 (i)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在反射層35下具有后粘合層16和剝離層17的例子， 從而在形成雙折射圖案后與另一產(chǎn)品貼附。(將要用作轉(zhuǎn)移材料的雙折射圖案構(gòu)造體)圖2(a) 2(f)是在本發(fā)明中可以用作轉(zhuǎn)移材料的雙折射圖案構(gòu)造體的幾個(gè)例子 的示意性截面圖。通過(guò)使用雙折射圖案構(gòu)造體作為轉(zhuǎn)移材料，可以在所需支持體上容易地 形成具有光學(xué)各向異性層的雙折射圖案構(gòu)造體、具有多個(gè)光學(xué)各向異性層的雙折射圖案構(gòu) 造體或包括具有雙折射圖案的多層的產(chǎn)品。圖2(a)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在臨時(shí)支持體21上具有光學(xué)各向異性層12 的例子。圖2(b)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在光學(xué)各向異性層12上還具有用于轉(zhuǎn)移的粘 合層14的例子。圖2(c)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在用于轉(zhuǎn)移的粘合層14上還具有表 面保護(hù)層18的例子。圖2(d)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是在臨時(shí)支持體上在臨時(shí)支持體21 和光學(xué)各向異性層12之間還具有取向?qū)?2的例子。圖2(e)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是 在臨時(shí)支持體上在臨時(shí)支持體21和取向?qū)?2之間還具有力學(xué)特性控制層23的例子。圖 2(f)所示的雙折射圖案構(gòu)造體是具有多個(gè)光學(xué)各向異性層(12F，12S)的例子。(圖案化雙折射產(chǎn)品)
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在本說(shuō)明書中，術(shù)語(yǔ)"圖案化雙折射產(chǎn)品"指具有雙折射性不同的兩個(gè)以上區(qū)域 的產(chǎn)品。圖案化雙折射產(chǎn)品更優(yōu)選具有雙折射性不同的三個(gè)以上區(qū)域。具有彼此相等雙折 射性的區(qū)域可以呈連續(xù)或不連續(xù)的狀態(tài)或形狀。圖3(a) (e)是通過(guò)本發(fā)明制造方法使用雙折射圖案構(gòu)造體得到的圖案化雙折 射產(chǎn)品的幾個(gè)例子的示意性截面圖。通過(guò)本發(fā)明方法得到的圖案化雙折射產(chǎn)品具有至少一 個(gè)圖案化光學(xué)各向異性層112。在本說(shuō)明書中，術(shù)語(yǔ)"圖案化光學(xué)各向異性層"指"具有圖 案化形式的雙折射性彼此不同的區(qū)域的光學(xué)各向異性層"。圖3(a)所示的圖案化雙折射產(chǎn)品是僅由一個(gè)圖案化光學(xué)各向異性層112構(gòu)成的 例子。通過(guò)本發(fā)明方法制作的圖案化雙折射產(chǎn)品具有在彼此不同的曝光條件下曝光的多個(gè) 曝光區(qū)域(圖3(a)中的第一曝光區(qū)域112-A和第二曝光區(qū)域112-B)，并且"在彼此不同的 曝光條件下曝光的多個(gè)曝光區(qū)域"具有彼此不同的雙折射性。圖3(b)所示的圖案化雙折 射產(chǎn)品是具有在不同曝光條件下曝光的多個(gè)曝光區(qū)域的產(chǎn)品的例子(第一曝光區(qū)域112-A 和第二曝光區(qū)域112-B)以及未曝光的區(qū)域112-N。在這種情況下，未曝光的區(qū)域112-N表 現(xiàn)出與任何曝光區(qū)域不同的雙折射性。圖3(c)所示的圖案化雙折射產(chǎn)品是在支持體上從 支持體開(kāi)始順序具有支持體11和反射層35、用于轉(zhuǎn)移的粘合層14和圖案化光學(xué)各向異性 層112的例子。圖案化雙折射產(chǎn)品可以具有多個(gè)圖案化光學(xué)各向異性層，因此，可以表現(xiàn)出多個(gè) 光學(xué)各向異性層帶來(lái)的多種額外功能。圖3(d)所示的圖案化雙折射產(chǎn)品是通過(guò)疊置多個(gè) 光學(xué)各向異性層，然后進(jìn)行圖案曝光形成的產(chǎn)品的例子。這種產(chǎn)品例如用于制作含有僅使 用一個(gè)光學(xué)各向異性層不能得到的大延遲的區(qū)域的圖案。圖3(e)所示的圖案化雙折射產(chǎn) 品是具有通過(guò)多次重復(fù)"制備光學(xué)各向異性層(包括轉(zhuǎn)移)、圖案曝光和焙燒"制作的獨(dú) 立形成的多個(gè)光學(xué)各向異性層的圖案的例子。例如，如果在延遲不同或慢軸方向彼此不同 的兩層以上光學(xué)各向異性層上優(yōu)選形成彼此獨(dú)立的圖案，則這種構(gòu)造是有用的。然后可以 進(jìn)行不同曝光條件下的圖案曝光，如圖所示，與單一曝光條件下的圖案曝光組合或與整個(gè) 表面上的平坦曝光組合。下面，詳細(xì)說(shuō)明雙折射圖案構(gòu)造體、使用它制作圖案化雙折射產(chǎn)品的方法、圖案化 雙折射產(chǎn)品的材料及其制備方法。然而，應(yīng)注意到，本發(fā)明不限于以下實(shí)施方案。參考以下 說(shuō)明和已知的方法，還可以實(shí)施任何其他實(shí)施方案。(光學(xué)各向異性層)雙折射圖案構(gòu)造體中的光學(xué)各向異性層是具有至少一個(gè)入射方向的層，當(dāng)測(cè)量相 差時(shí)，其延遲(Re)基本不為0。換句話說(shuō)，光學(xué)各向異性層是具有非各向同性的光學(xué)特性的層。雙折射圖案構(gòu)造體中的光學(xué)各向異性層含有聚合物。通過(guò)含有聚合物，光學(xué)各向 異性層可以滿足各種要求，如雙折射性、透明度、耐溶劑性、韌性和柔軟性。光學(xué)各向異性層 中的聚合物優(yōu)選具有未反應(yīng)的反應(yīng)性基團(tuán)。這是因?yàn)?，盡管曝光導(dǎo)致在未反應(yīng)的反應(yīng)性基 團(tuán)的反應(yīng)中聚合物鏈的交聯(lián)，但是聚合物鏈的交聯(lián)度隨不同曝光條件下的曝光變化，因此 導(dǎo)致延遲波動(dòng)，從而更容易地制作這種圖案化雙折射產(chǎn)品。光學(xué)各向異性層在20°C下、優(yōu)選在30°C下、更優(yōu)選在40°C下可以為固體，因?yàn)樵?20°C下為固體的光學(xué)各向異性層可以容易地涂布到另一功能層上，或轉(zhuǎn)移到或貼附到支持
6體上。為了用另一功能層涂布，光學(xué)各向異性層優(yōu)選具有耐溶劑性。在本說(shuō)明書中，“具 有耐溶劑性"是指在對(duì)象溶劑中浸漬2分鐘后層的延遲為浸漬前層的延遲的30 170%， 更優(yōu)選50 150 %，最優(yōu)選80 120 %。作為對(duì)象溶劑，其例子包括水、甲醇、乙醇、異丙醇、 丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲基醚乙酸酯、N-甲基吡咯烷酮、己烷、氯仿和乙酸乙 酯。其中，丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲基醚乙酸酯和N-甲基吡咯烷酮是優(yōu)選的， 甲基乙基酮、環(huán)己酮和丙二醇單甲基醚乙酸酯及其混合物是最優(yōu)選的。光學(xué)各向異性層在20°C下的延遲可以為5nm以上，優(yōu)選IOnm以上和10，OOOnm以 下，更優(yōu)選20nm以上和2，OOOnm以下。當(dāng)延遲過(guò)小時(shí)，形成雙折射圖案變得困難。當(dāng)延遲 過(guò)大時(shí)，誤差變大，并且難以實(shí)現(xiàn)實(shí)際需要的精度。光學(xué)各向異性層的制造方法沒(méi)有特別限制。其例子包括以下方法用含有具有至 少一個(gè)反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性化合物的溶液涂布，干燥溶液形成液晶相，然后加熱或用電離 輻射照射從而聚合和固定的方法；拉伸通過(guò)聚合和固定具有兩個(gè)以上反應(yīng)性基團(tuán)的單體形 成的層的方法；在使用偶聯(lián)劑將反應(yīng)性基團(tuán)導(dǎo)入層中后拉伸由聚合物構(gòu)成的層的方法；以 及拉伸由聚合物構(gòu)成的層，然后使用偶聯(lián)劑將反應(yīng)性基團(tuán)導(dǎo)入層中的方法。 此外，如下面所述的，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)各向異性層可以通過(guò)轉(zhuǎn)移形成。光學(xué)各向異性層的厚度優(yōu)選為0. 1 20 μ m，更優(yōu)選0.5 10 μ m。(通過(guò)聚合和 固定含有液晶性化合物的組合物形成的光學(xué)各向異性層)下面說(shuō)明光學(xué)各向異性層的制作方法，其中用含有具有至少一個(gè)反應(yīng)性基團(tuán)的液 晶性化合物的溶液涂布，干燥溶液形成液晶相，然后加熱或用電離輻射照射從而聚合和固 定液晶相。在該方法中，可以獲得具有相等延遲的光學(xué)各向異性層，其比通過(guò)拉伸聚合物的 上述方法得到的層更薄。(液晶性化合物)液晶性化合物通常根據(jù)分子形狀可以分成棒狀化合物和圓盤狀化合物。每一 類別還包括低分子型和高分子型。高分子型通常指聚合度為100以上(“Kobunshi Butsuri-Soten' i Dainamikusu(Polymer Physics-PhaseTransition Dynamics), Masao Doi著，p. 2，Iwanami Shoten, Publishers出版，1992)。任一類型的液晶性分子均可以用 在本發(fā)明中，其中優(yōu)選使用棒狀液晶性化合物或圓盤狀液晶性化合物。還可以使用兩種或 多種棒狀液晶性化合物的混合物、兩種或多種圓盤狀液晶性化合物的混合物、或棒狀液晶 性化合物和圓盤狀液晶性化合物的混合物。更優(yōu)選的是，使用包括具有反應(yīng)性基團(tuán)的棒狀 液晶性化合物或圓盤狀液晶性化合物的組合物形成光學(xué)各向異性層，因?yàn)檫@種化合物可以 減小溫度或濕度依賴性變化，再更優(yōu)選的是，混合物中的至少一種化合物在一個(gè)液晶分子 中具有兩個(gè)或多個(gè)反應(yīng)性基團(tuán)。液晶組合物可以是兩種或多種化合物的混合物，其中至少 一種化合物優(yōu)選具有兩個(gè)或多個(gè)反應(yīng)性基團(tuán)。還優(yōu)選的是，液晶性化合物具有聚合條件彼此不同的兩種或多種反應(yīng)性基團(tuán)。在 這種情況下，通過(guò)選擇聚合條件而僅聚合多種反應(yīng)性基團(tuán)中的一種反應(yīng)性基團(tuán)，可以制作 包括具有未反應(yīng)的反應(yīng)性基團(tuán)的聚合物的光學(xué)各向異性層。聚合條件可以是電離輻射的照 射波長(zhǎng)范圍或聚合機(jī)理。優(yōu)選地，該條件可以是可以控制具有自由基聚合性基團(tuán)和陽(yáng)離子 聚合性基團(tuán)組合的化合物聚合的聚合引發(fā)劑。作為自由基聚合性基團(tuán)的丙烯酸系基和/或
7甲基丙烯酸系基和作為陽(yáng)離子聚合性基團(tuán)的乙烯基醚基團(tuán)、氧雜環(huán)丁烷基和/或環(huán)氧基的 組合是特別優(yōu)選的，因?yàn)榭梢匀菀椎乜刂品磻?yīng)性。棒狀液晶性化合物的例子包括偶氮甲堿化合物、氧化偶氮化合物、氰基聯(lián)苯化合 物、氰基苯酯、苯甲酸酯、環(huán)己烷羧酸苯酯、氰基苯基環(huán)己烷化合物、氰基-取代的苯基嘧啶 化合物、烷氧基_取代的苯基嘧啶化合物、苯基二氧六環(huán)化合物、二苯乙炔化合物和烯基環(huán) 己基苯甲腈化合物。還可以使用上述低分子量液晶性化合物和高分子量液晶性化合物。可 以通過(guò)聚合具有至少一種反應(yīng)性基團(tuán)的低分子量液晶性化合物得到高分子量液晶性化合 物。在低分子量液晶性化合物中，式(I)代表的液晶性化合物是優(yōu)選的。式(I)Q1-L1-A1-L3-M-L4-A2-L2-Q2在式(I)中，Q1和Q2每一個(gè)獨(dú)立地代表反應(yīng)性基團(tuán)；L1、L2、L3和L4每一個(gè)獨(dú)立地 代表單鍵或二價(jià)連接基團(tuán)；A1和A2每一個(gè)獨(dú)立地代表具有2 20個(gè)碳原子的間隔基團(tuán)。M 代表介晶基團(tuán)。下面，詳細(xì)說(shuō)明式(I)代表的具有反應(yīng)性基團(tuán)的棒狀液晶性化合物。在式(I)中， Q1和Q2每一個(gè)獨(dú)立地代表反應(yīng)性基團(tuán)。反應(yīng)性基團(tuán)的聚合反應(yīng)優(yōu)選是加成聚合(包括開(kāi) 環(huán)聚合)或縮合聚合。換句話說(shuō)，反應(yīng)性基團(tuán)優(yōu)選是能夠發(fā)生加成聚合反應(yīng)或縮合聚合反 應(yīng)的官能團(tuán)。反應(yīng)性基團(tuán)的例子如下所示。
權(quán)利要求
一種制造圖案化雙折射產(chǎn)品的方法，依序包括至少步驟(I)～(III)(I)提供具有含有聚合物的光學(xué)各向異性層的雙折射圖案構(gòu)造體；(II)對(duì)所述雙折射圖案構(gòu)造體的兩個(gè)以上區(qū)域在彼此不同的曝光條件下進(jìn)行曝光；和(III)在50℃以上和400℃以下的溫度下加熱所述步驟(II)后得到的疊置結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述曝光條件在選自曝光強(qiáng)度、曝光量、曝光時(shí)間和 曝光峰值波長(zhǎng)的至少一個(gè)曝光參數(shù)方面不同。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中使用具有彼此不同圖案的曝光掩模進(jìn)行所述兩 個(gè)以上區(qū)域的曝光。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中使用具有表現(xiàn)出彼此不同的透射光譜的兩個(gè)以上區(qū) 域的曝光掩模通過(guò)一次曝光進(jìn)行所述步驟(II)。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)各向異性層在20°C下的面內(nèi) 延遲為IOnm以上。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述聚合物具有未反應(yīng)的反應(yīng)性基團(tuán)。
7.如權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)各向異性層是通過(guò)以下步驟 形成的層用含有具有至少一個(gè)反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性化合物的溶液涂布，干燥涂布上的溶 液形成液晶相，然后加熱或用電離輻射照射所述液晶相，從而導(dǎo)致聚合和固定。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合條件不同的兩種以上的 反應(yīng)性基團(tuán)。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反應(yīng)性基團(tuán)和陽(yáng) 離子反應(yīng)性基團(tuán)。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中所述自由基反應(yīng)性基團(tuán)是丙烯酸系基團(tuán)和/或甲基 丙烯酸系基團(tuán)，所述陽(yáng)離子反應(yīng)性基團(tuán)是乙烯基醚基團(tuán)、氧雜環(huán)丁烷基團(tuán)和/或環(huán)氧基團(tuán)。
11.如權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)各向異性層是拉伸膜。
12.如權(quán)利要求1 11中任一項(xiàng)所述的方法，其中通過(guò)將具有所述光學(xué)各向異性層的 轉(zhuǎn)移材料轉(zhuǎn)移到目標(biāo)轉(zhuǎn)移材料上進(jìn)行所述步驟(I)。
13.一種通過(guò)權(quán)利要求1 12中任一項(xiàng)所述方法得到的產(chǎn)品，其在200°C下焙燒30分 鐘后的延遲(相差)變化為10%以下。
14.一種通過(guò)權(quán)利要求1 12中任一項(xiàng)所述方法得到的用作防止偽造手段的產(chǎn)品。
15.一種通過(guò)權(quán)利要求1 12中任一項(xiàng)所述方法得到的用作光學(xué)元件的產(chǎn)品。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種制造圖案化雙折射產(chǎn)品的方法，該方法依序包括至少步驟(I)～(III)(I)提供具有含有聚合物的光學(xué)各向異性層的雙折射圖案構(gòu)造體；(II)對(duì)所述雙折射圖案構(gòu)造體的兩個(gè)以上區(qū)域在彼此不同的曝光條件下進(jìn)行曝光；和(III)在50℃以上和400℃以下的溫度下加熱所述步驟(II)后得到的疊置結(jié)構(gòu)。
文檔編號(hào)G02F1/13363GK101978296SQ200980110128
公開(kāi)日2011年2月16日 申請(qǐng)日期2009年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月22日
發(fā)明者兼巖秀樹(shù), 網(wǎng)盛一郎 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社