專(zhuān)利名稱(chēng)：微光刻的投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的操作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及諸如用于大規(guī)模制造集成電路和其它微結(jié)構(gòu)構(gòu)件的微光刻投射曝光 設(shè)備。本發(fā)明具體涉及這樣的一個(gè)微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的操作方法。
背景技術(shù)：
通過(guò)將多個(gè)結(jié)構(gòu)層施加到合適的基板上傳統(tǒng)地制造集成電路和其它微結(jié)構(gòu)構(gòu)件， 基板可以例如可以是硅晶片。為了構(gòu)建層，它們首先被光致抗蝕劑覆蓋，光致抗蝕劑對(duì)特殊 的波長(zhǎng)范圍的光敏感，例如在深紫外(DUV)光譜范圍內(nèi)的光。以此方式被涂敷的晶片隨后 在投射曝光設(shè)備中被曝光。設(shè)置在掩模上的衍射結(jié)構(gòu)的圖案從而借助于投射物鏡成像到光 致抗蝕劑上。由于成像尺寸一般小于1，這樣的投射物鏡也通常被成為縮影物鏡。在將光致抗蝕劑顯影之后，晶片經(jīng)受蝕刻工藝，使得層根據(jù)掩模上的圖案變得結(jié) 構(gòu)化。然后剩余的光致抗蝕劑從層的其他部分被移除。重復(fù)此工藝直到所有的層被施加到 晶片上。所采用的投射曝光設(shè)備的性能不僅通過(guò)投射物鏡的成像屬性而且通過(guò)照明掩模 的照明系統(tǒng)被確定。為此，照明系統(tǒng)包含光源和多個(gè)光學(xué)元件，光源例如脈沖形式操作的激 光，以及多個(gè)光學(xué)元件從光源產(chǎn)生的光產(chǎn)生光束、在場(chǎng)點(diǎn)會(huì)聚到掩模上。單獨(dú)的光束必須具 有一般被適合于投射物鏡的特別屬性。這些屬性包括分別會(huì)聚到掩模平面中的點(diǎn)上的光束的照明角度分布等等。術(shù)語(yǔ)照 明角度分布描述這樣的方式，其中光束的總體光強(qiáng)在不同的方向之間分布，光束的單獨(dú)光 線在該不同的方向上照射掩模平面中的相關(guān)點(diǎn)。若照明角度分布特別適合于包含在掩模中 的圖案，則后者可以高的成像質(zhì)量被成像到覆蓋有光致抗蝕劑的晶片上。照明角度分布常常不直接在掩模平面中被描述，掩模平面中放置了將被投射的掩 模，而是描述為與掩模平面具有傅里葉關(guān)系的廣義光瞳或真實(shí)光瞳表面中的強(qiáng)度分布。廣 義光瞳對(duì)應(yīng)于在無(wú)窮遠(yuǎn)處的出瞳，而真實(shí)光瞳表面的特征之處在于光線束的主光線在那里 與光軸交叉。借助于強(qiáng)度分布(位置空間)描述照明角度分布(角度空間)利用了這樣的 事實(shí)，光線穿過(guò)場(chǎng)平面的關(guān)于光軸的每個(gè)角度，可被賦與一個(gè)傅里葉轉(zhuǎn)換的光瞳表面中的 從光軸測(cè)量的徑向距離。類(lèi)似地考慮也應(yīng)用到廣義光瞳。為簡(jiǎn)單起見(jiàn)，在以下，照明角度分 布的描述將指的是真實(shí)光瞳表面中的強(qiáng)度分布，除非另有明確說(shuō)明。照明角度分布，或在光瞳表面或在理想化的出瞳中與其等價(jià)的強(qiáng)度分布，有時(shí)也 被稱(chēng)為“照明設(shè)置”。根據(jù)強(qiáng)度分布的基本形狀，可以區(qū)分所謂的傳統(tǒng)和非傳統(tǒng)照明設(shè)置。在傳統(tǒng)照明設(shè)置的情況下，光瞳表面的強(qiáng)度分布具有關(guān)于光軸同心的圓盤(pán)的形 狀。因此掩模平面中的每個(gè)點(diǎn)被在0°與圓盤(pán)半徑?jīng)Q定的最大角度之間的傾斜角度的光線 照射。在非傳統(tǒng)照明設(shè)置的情況下，其具體包括環(huán)場(chǎng)照明和多極照明，對(duì)于環(huán)場(chǎng)照明，光瞳 表面中的照明的區(qū)域具有與光軸同心的環(huán)的形狀，對(duì)于多極照明，光瞳表面中的照明的區(qū) 域具有多個(gè)單獨(dú)的區(qū)域(極)以離光軸一定距離排布的形狀。采用這樣的設(shè)置，因此將被 投射的掩模僅被傾斜地照明。例如在雙極照明的情況下，兩個(gè)極以離光軸相等的徑向距離
7排布在半徑上。將兩個(gè)雙極照明相互旋轉(zhuǎn)90°疊加則獲得了四極照明的強(qiáng)度分布。投射曝光設(shè)備的操作通常建立目標(biāo)照明角度分布，其被認(rèn)為是特別適合于最好借 助于投射物鏡將特定掩模優(yōu)化成像到光致抗蝕劑或另一光敏層上。然后，任務(wù)是調(diào)整照明 系統(tǒng)，使得以最大可能的準(zhǔn)確度在掩模平面中實(shí)現(xiàn)目標(biāo)照明分布。為此，照明系統(tǒng)通常包括 多個(gè)可調(diào)光學(xué)元件，其對(duì)照明角度分布的光學(xué)影響可根據(jù)控制指令被修改。這些光學(xué)元件 例如可以是可更換的衍射光學(xué)元件、變焦物鏡和/或軸錐體元件對(duì)。通常也提供附加措施， 通過(guò)該附加措施可以實(shí)現(xiàn)照明角度分布的精細(xì)調(diào)整或修正。就此而言，例如US6，535，274B2 提出可調(diào)的透射濾光器排布在光瞳表面中或緊靠其附近。對(duì)于照明角度分布的影響可根據(jù)控制指令被修改的光學(xué)元件的數(shù)目越多，就越難 確定控制指令，使得照明角度分布實(shí)際上盡可能地對(duì)應(yīng)于目標(biāo)照明角度分布設(shè)置。當(dāng)旨在 設(shè)置新類(lèi)型的照明角度分布首先就遇到這個(gè)問(wèn)題，因?yàn)閷?duì)于可實(shí)現(xiàn)新類(lèi)型的照明角度分布 的控制指令，還沒(méi)有任何經(jīng)驗(yàn)。到目前為止，已經(jīng)做出嘗試以借助于相對(duì)簡(jiǎn)單的模型描述用于各種照明設(shè)置的照 明角度分布。已經(jīng)定義了各種量，其可借助于特定的光學(xué)元件，例如排布在光瞳附近的濾光 器元件而被故意影響。在傳統(tǒng)的、環(huán)形或四極照明設(shè)置的情況下，例如，常采用被稱(chēng)作光瞳 橢圓率的量。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，光瞳橢圓率對(duì)應(yīng)于在曝光期間從正交方向照射到掩模上的場(chǎng)點(diǎn)的 光量的比率。光瞳橢圓率偏離1越大，照明角度分布就越不對(duì)稱(chēng)性。到目前為止用于描述照明角度分布的另一個(gè)量是遠(yuǎn)心度(telecentricity)。當(dāng)光 束的能量中心光線(其也被稱(chēng)作質(zhì)心光線)垂直穿過(guò)掩模平面時(shí)，照明被稱(chēng)為能量遠(yuǎn)心的。 類(lèi)似的考慮可應(yīng)用于幾何遠(yuǎn)心度，因?yàn)槠淇紤]的不是光束的能量中心光線而是光束的幾何 中心光線(即，主光線)。在能量非遠(yuǎn)心照明的情況下，整個(gè)光束在一定程度上傾斜地照射掩模。對(duì)于照明 角度分布，這意味著從相對(duì)的方向來(lái)的光量是不同的量值。一般地，由于投射物鏡通常在物 側(cè)同樣是遠(yuǎn)心的，所以遠(yuǎn)心照明是期望的。然而，這樣的量有時(shí)候不能被方便地用于各種照明設(shè)置。首先，這些量不允許光瞳 表面中的強(qiáng)度分布(因此掩模平面中的照明角度分布)被描述得如此準(zhǔn)確以至于強(qiáng)度分布
可基于這些量值被重建。T. Heil 等人的文章，標(biāo)題為"Predictive modeling of advanced illumination pupils used as imaging enhancements for low-kl applications (用作對(duì)于低 k應(yīng)用的 成像增強(qiáng)的先進(jìn)照明光瞳的預(yù)測(cè)模型)”，Optical Microlithography (光學(xué)微光刻)XVII， B. W. , Smith, ed. Proc SPIE 5377，第 344-356 頁(yè)，SPIE，2004 年 3 月，公開(kāi)了一種參數(shù)的光 瞳模型，用其可非常精確地描述環(huán)形照明設(shè)置。借助于相對(duì)有限數(shù)目的光瞳參數(shù)，將光瞳表 面中的環(huán)狀形狀的強(qiáng)度分布描述得如此準(zhǔn)確以使強(qiáng)度分布可僅僅基于照明參數(shù)被重建。然 而，這篇文章并沒(méi)有解決如何對(duì)可調(diào)光學(xué)元件確定控制指令，使得在掩模平面中實(shí)現(xiàn)期望 的目標(biāo)照明角度分布。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種微光刻投射曝光設(shè)備的操作方法，其使得可能對(duì)于光學(xué) 元件確定控制參數(shù)使得會(huì)聚到被照明系統(tǒng)照明的掩模上的點(diǎn)的光束盡可能遠(yuǎn)地具有由目
8標(biāo)照明角度分布規(guī)定的屬性。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)包含下面的步驟的方法實(shí)現(xiàn)此目的a)確定描述會(huì)聚到被照明系統(tǒng)照明的掩模上的點(diǎn)的光束屬性的照明參數(shù)的組，其 中光束的屬性包含光束在與該點(diǎn)關(guān)聯(lián)的出瞳中具有的強(qiáng)度分布，所述強(qiáng)度分布被描述為理 想強(qiáng)度分布的擾動(dòng)。b)確定對(duì)照明參數(shù)的光學(xué)影響可被修改為控制指令的函數(shù)的光學(xué)元件；c)對(duì)每個(gè)光源元件確定照明參數(shù)對(duì)于由各個(gè)光學(xué)元件的控制指令引發(fā)的調(diào)整反 應(yīng)的敏感度；d)規(guī)定目標(biāo)照明參數(shù)的組；e)確定控制指令，當(dāng)考慮步驟C)中確定的敏感度時(shí)，使得照明參數(shù)從目標(biāo)照明參 數(shù)的偏離滿足預(yù)定的最小化原則；f)施加步驟e)中確定的控制指令；g)照明掩模。本發(fā)明的又一目的是提供一種會(huì)聚到掩模上的點(diǎn)的光束的屬性的估算方法，該掩 模被微光刻投射曝光設(shè)備中的照明系統(tǒng)照明。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)包含下面的步驟的方法實(shí)現(xiàn)此目的a)測(cè)量照明系統(tǒng)的出瞳中的強(qiáng)度分布，其被賦值到該點(diǎn)；b)至少近似描述步驟a)中測(cè)量的強(qiáng)度分布作為理想強(qiáng)度分布的擾動(dòng)，擾動(dòng)被描述為強(qiáng)度調(diào)制和變形的結(jié)合，且其中i)強(qiáng)度調(diào)制由第一的完全的優(yōu)選正交的函數(shù)系統(tǒng)的線性疊加描述，且ii)變形由完全的優(yōu)選正交的第二函數(shù)系統(tǒng)的矢量模型的線性疊加描述。c)基于線性疊加的標(biāo)量疊加系數(shù)估算光束的屬性。這樣的估算在照明系統(tǒng)的制造中也是有幫助的。根據(jù)本發(fā)明，制造方法包含下面 的步驟-編譯照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì)；-根據(jù)上述估算方法估算光束的屬性；_確定品質(zhì)函數(shù)，步驟b)中確定的疊加系數(shù)中的至少一個(gè)對(duì)其有貢獻(xiàn)；-編譯修改的設(shè)計(jì)使得品質(zhì)函數(shù)被改善。通過(guò)制造之后傳送之前的附加調(diào)整步驟，照明系統(tǒng)可關(guān)于會(huì)聚到被照明系統(tǒng)照明 的掩模上的點(diǎn)的光束的屬性被進(jìn)一步改善。為此，提供下面的步驟-根據(jù)上述估算方法估算光束的屬性；-修改屬性使得估算被改善；本發(fā)明的又一目的是提供一種微光刻投射曝光設(shè)備，其使得可能對(duì)照明系統(tǒng)的光 學(xué)元件確定控制指令，使得會(huì)聚到被照明系統(tǒng)照明的掩模上的點(diǎn)的光束盡可能遠(yuǎn)地具有目 標(biāo)照明角度分布規(guī)定的屬性。通過(guò)具有以下內(nèi)容投射曝光設(shè)備實(shí)現(xiàn)此目的-照明系統(tǒng)，包含多個(gè)光學(xué)元件，其對(duì)照明參數(shù)的光學(xué)影響可被修改為控制指令的 函數(shù)。-測(cè)量工具，測(cè)量出瞳中的強(qiáng)度分布，其被賦值到位于被照明的掩?？膳挪荚谄渲?br> 9且光束會(huì)聚到其上的照明平面中的點(diǎn)，-計(jì)算機(jī)，其被構(gòu)造(i)以對(duì)每個(gè)光學(xué)元件確定描述光束的照明參數(shù)與各個(gè)光學(xué)元件的控制指令引起 的調(diào)整反應(yīng)的敏感度，其中光束的屬性包括在與該點(diǎn)關(guān)聯(lián)的出瞳中，光束具有的強(qiáng)度分布、 描述為理想強(qiáng)度分布的擾動(dòng)的所述強(qiáng)度分布、且其中計(jì)算機(jī)被進(jìn)一步構(gòu)造(ii)以確定控制指令，當(dāng)考慮先前確定的敏感度時(shí)，使得照明參數(shù)從目標(biāo)照明參 數(shù)的偏離滿足預(yù)定的最小化原則。-數(shù)據(jù)位移路徑，計(jì)算機(jī)確定的控制指令經(jīng)由其可被施加到光學(xué)元件。本發(fā)明還涉及掩模的構(gòu)造方法，該掩模旨在被被微光刻投射曝光設(shè)備中的照明系 統(tǒng)照明且通過(guò)投射物鏡被成像到光敏層上。根據(jù)本發(fā)明，這樣的方法包含下面的步驟a)根據(jù)上述估算估算會(huì)聚到被微光刻投射曝光設(shè)備中的照明系統(tǒng)照明的掩模上 的點(diǎn)的光束的屬性；b)當(dāng)考慮疊加系數(shù)時(shí)，確定包含在掩模上的結(jié)構(gòu)，以對(duì)由至少一個(gè)非零疊加系數(shù) 引起的掩模成像降低不期望的影響。


可在下面的參考附圖的示范性實(shí)施例的描述中找到本發(fā)明的其它特性和優(yōu)點(diǎn)，其 中圖1顯示微光刻投射曝光設(shè)備的高度簡(jiǎn)化的透視圖示；圖2顯示穿過(guò)圖1所示的投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的子午截面，根據(jù)第一示范性 實(shí)施例；圖3顯示從光瞳表面出現(xiàn)的多個(gè)光束的透視圖示；圖4顯示解釋根據(jù)本發(fā)明的方法的流程圖；圖5顯示根據(jù)第一示范性實(shí)施例的圖表，其表示圖4中所示的流程圖的方法的基 本量；圖6顯示根據(jù)第二示范性實(shí)施例對(duì)應(yīng)于圖5的圖；圖7顯示根據(jù)第三示范性實(shí)施例對(duì)應(yīng)于圖5的圖；圖8顯示闡明出瞳和像平面之間的幾何關(guān)系的圖；圖9a至9h顯示其中對(duì)1至8級(jí)數(shù)繪示了澤爾尼克(Zernike)矢量多項(xiàng)式的圖；圖IOa至IOh顯示其中對(duì)_1至_8級(jí)數(shù)繪示了澤爾尼克矢量多項(xiàng)式的圖。
具體實(shí)施例方式1.投射曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖1顯示投射曝光設(shè)備10的高度示意性的透視圖示，其適合于微結(jié)構(gòu)構(gòu)件的光刻 制造。投射曝光設(shè)備10包含照明系統(tǒng)12，其照明在掩模14上的所示示范性實(shí)施例中的矩 形的窄照明場(chǎng)16。當(dāng)然同樣可以設(shè)想其它照明場(chǎng)形狀，例如環(huán)片段。位于掩模14上的照明場(chǎng)16內(nèi)的結(jié)構(gòu)18借助于投射物鏡20被成像到光敏層22。 例如可以是光致抗蝕劑的光敏層22被施加到晶片24上或另一合適的基板上且位于投射物 鏡20的像平面中。由于投射物鏡20 —般具有I β I < 1的成像比例，所以位于照明場(chǎng)16
10內(nèi)的結(jié)構(gòu)18以縮小的方式被成像到區(qū)域16’中。在所示投射曝光設(shè)備10中，在投射期間掩模14和晶片24沿Y所示方向被位移。 位移速度的比率等于投射物鏡20的成像比例β。若投射物鏡20產(chǎn)生像的反轉(zhuǎn)(即，β < 0)，則掩模14和晶片22的位移運(yùn)動(dòng)將在相反地方向上，如圖1中箭頭Al和Α2所示。這 樣，照明場(chǎng)16在掩模14之上以掃描運(yùn)動(dòng)被引導(dǎo)，使得即使相當(dāng)大的結(jié)構(gòu)區(qū)域也可被相干投 射到光致抗蝕劑層22上。2.照明系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖2顯示簡(jiǎn)化的子午截面中的照明系統(tǒng)12的細(xì)節(jié)，其并非真實(shí)的比例。照明系統(tǒng) 12包含光源26，其產(chǎn)生投射光。在這里所述的示范性的實(shí)施例中，光源26是受激準(zhǔn)分子激 光器，用其可產(chǎn)生(深)紫外光譜范圍中的光。短波投射光的使用是有利的，因?yàn)橛纱丝蓪?shí) 現(xiàn)對(duì)于光學(xué)成像的高分辨率。具有激光介質(zhì)KrF、ArF或F2的受激準(zhǔn)分子激光器是傳統(tǒng)的， 通過(guò)其可分別產(chǎn)生248nm、193nm以及157nm的光。用作光源26的受激準(zhǔn)分子激光器產(chǎn)生的光被高度準(zhǔn)直且僅輕微分散。因此，光在 擴(kuò)束器28中初始展開(kāi)。在擴(kuò)束器28例如可以是可調(diào)的鏡布置，其加大大致矩形的光束截 面的尺寸。展開(kāi)的光束隨后穿過(guò)支撐在更換支撐器30中的衍射光學(xué)元件36以及變焦軸錐體 模塊38，其一起照明照明系統(tǒng)的第一光瞳表面42。變焦軸錐體模塊38包含由44表示的變 焦物鏡以及軸錐體組46，軸錐體組46包含兩個(gè)具有錐形且互補(bǔ)的面的軸錐體元件。借助于 軸錐體組46，徑向光分布可被修改以實(shí)現(xiàn)第一光瞳表面42的環(huán)形照明。通過(guò)調(diào)整變焦物鏡 44，可以修改第一光瞳表面42中的照明的區(qū)域的直徑。變焦軸錐體模塊38因此使得設(shè)置 各種傳統(tǒng)的和環(huán)形的照明設(shè)置成為可能。為了設(shè)置多極照明設(shè)置，在所示照明系統(tǒng)中，衍射光學(xué)元件36被插入更換支撐器 30中。排列衍射光學(xué)元件36上的結(jié)構(gòu)，使得在遠(yuǎn)場(chǎng)中產(chǎn)生期望的多極強(qiáng)度分布。例如可以是微透鏡陣列的布置的光學(xué)積分器48，被排列在第一光瞳表面42中或 緊靠其附近。光學(xué)積分器在像側(cè)的其焦平面中產(chǎn)生二次光源，每個(gè)二次光源發(fā)射出分散的 光束，光束具有通過(guò)微透鏡的幾何形狀所上述決定的角度光譜。通過(guò)聚光器50，由二次光源 產(chǎn)生的光束在中間場(chǎng)平面52中疊加，使得其被非常均勻地照明。聚光器50建立了第一光 瞳表面42與中間場(chǎng)平面52之間的傅里葉關(guān)系。因此所有來(lái)自第一光瞳表面42的光線以 相同的角度到達(dá)中間場(chǎng)平面52中的相同的點(diǎn)，而所有來(lái)自第一光瞳表面42中的特定點(diǎn)的 光線以相同的角度穿過(guò)中間場(chǎng)平面52。在所示示范性實(shí)施例中，場(chǎng)光闌54例如可包括可被彼此獨(dú)立插入光路中的多個(gè) 可調(diào)的刀片和/或多個(gè)窄的指狀光闌元件，布置在中間場(chǎng)平面52中。借助于場(chǎng)光闌物鏡 56，中間場(chǎng)平面52與掩模14設(shè)置在其中的掩模平面58光學(xué)共軛。掩模平面58既是場(chǎng)光 闌物鏡56的像平面又是后續(xù)的投射物鏡20的物平面。場(chǎng)光闌物鏡56包含照明系統(tǒng)12的第二光瞳表面60，其中為了(附加地)限制照 明系統(tǒng)12在其像側(cè)的數(shù)值孔徑，可設(shè)置孔徑光闌64。3.照明角度分布照明系統(tǒng)12允許以高精確度建立光束的屬性，所述光束分別會(huì)聚到被照明系統(tǒng) 12照明的掩模14上的點(diǎn)。另一方面，這些屬性是光束照射掩模14的總強(qiáng)度。單獨(dú)的光束的總體強(qiáng)度的非受控變化可導(dǎo)致在晶片24上產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)的寬度的不期望的變化。然而，不是總強(qiáng)度而是被稱(chēng)為照明角度分布的光束的屬性將是下文的注意中心。 術(shù)語(yǔ)“照明角度分布”描述光束的總強(qiáng)度在不同的方向之間的分布的方式，光束的單獨(dú)光線 沿該不同的方向照射掩模上的一點(diǎn)。下面參考圖3將解釋這意味著什么。圖3以透視示意圖示顯示，場(chǎng)光闌物鏡56的光瞳表面60以及掩模平面58的細(xì)節(jié)。 對(duì)于此圖示，假設(shè)照明系統(tǒng)12產(chǎn)生四極照明。如上面已經(jīng)描述的，為此可配置衍射光學(xué)元 件36使得在第一光瞳表面42中照明四極。由于照明角度分布的基本形狀不被布置在第一 光瞳表面42與第二光瞳表面60之間的光學(xué)元件改變，所以四極也在場(chǎng)光闌物鏡56的光瞳 表面60中被照明，其表示為圖3中的68a、68b、68c和68d。照明極68a至68d的子光束分 別表示為70a、70b、70c和70d且其會(huì)聚到掩模平面58中的場(chǎng)點(diǎn)72。所有的子光束70a至 70d因此貢獻(xiàn)于場(chǎng)點(diǎn)72的強(qiáng)度。在四極照明中，通常希望所有的子光束70a至70d應(yīng)該以相同的方式貢獻(xiàn)于場(chǎng)點(diǎn) 72的強(qiáng)度。只有這樣才可確保掩模14中的具有相等的寬度和不同的取向(垂直或水平) 的條狀結(jié)構(gòu)，也以相同的寬度被成像到光致抗蝕劑層22上。若子光束70a和70c的貢獻(xiàn)大 于或小于子光束70b和70d的貢獻(xiàn)，則例如可導(dǎo)致以下的情形，水平取向的結(jié)構(gòu)比垂直取向 的結(jié)構(gòu)以更大的寬度被投射到光致抗蝕劑層22上，即使在兩個(gè)情況下所述結(jié)構(gòu)在掩模14 中具有相同的寬度。為了能夠描述四極68a至68d上的強(qiáng)度分布，特別是在四極照明的情況下，光瞳表 面60 (或更準(zhǔn)確地，分配給單獨(dú)的掩模點(diǎn)的出射光瞳，以下更多描述)被分成象限V1、V2和 Hl、H2，在象限Vl、V2和Hl、H2中分別布置極68a至68d。然后，互相相對(duì)的象限Vl、V2和 HI、H2包含一對(duì)極，其光僅導(dǎo)致以特定結(jié)構(gòu)方向成像所述結(jié)構(gòu)。通過(guò)確定穿過(guò)象限VI、V2 和HI、H2的光的強(qiáng)度，因此得到關(guān)于導(dǎo)致相互正交延伸的結(jié)構(gòu)的成像的光衍射是否相等的 結(jié)論。比率被稱(chēng)為光瞳橢圓度E，且其可被用作描述照明角度分布的參數(shù)。然而，在四極照 明的情況下，為了描述照明角度分布，通常需要采用進(jìn)一步的照明參數(shù)。對(duì)于照明系統(tǒng)12的光瞳表面中的強(qiáng)度分布的其它基本形狀，例如在傳統(tǒng)、環(huán)形 或雙極照明設(shè)置，同樣需要找到可實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單但仍最完全地描述強(qiáng)度分布的照明參數(shù)。在 T. Herl等人的文章中提及了適合于環(huán)形照明設(shè)置的一組照明參數(shù)。在該文中，借助于基于 參數(shù)的光瞳模型，描述了強(qiáng)度分布，在所述光瞳模型中一些參數(shù)描述理想的環(huán)形的強(qiáng)度分 布，且其他參數(shù)涉及擾動(dòng)，即，從此理想強(qiáng)度分布的偏離。下面，在6. 2節(jié)中，還將解釋新的 光瞳模型，其允許照明角度分布的非常準(zhǔn)確的描述，而與光瞳表面中的強(qiáng)度分布的任何具 體基本形狀無(wú)關(guān)。4.影響照明角度分布為了能夠調(diào)整照明角度分布，照明系統(tǒng)12包含多個(gè)可調(diào)光學(xué)元件，其對(duì)照明角度 分布從而對(duì)用以描述照明角度分布的照明參數(shù)的影響可根據(jù)控制指令被修改。一般的，修 改的影響將是由于借助于操縱器引起的相關(guān)光學(xué)元件的位置變化，例如，位移、旋轉(zhuǎn)或傾 斜。除了位置變化以外，也可采用材料屬性，例如通過(guò)施加電壓(電光效應(yīng))的折射率。照 明角度分布可調(diào)的照明系統(tǒng)12的那些光學(xué)元件在下面將按光路中的順序被簡(jiǎn)單解釋。借助于第一操縱器Ml，如小箭頭所示，光源26可以垂直于光軸OA的平移被位移和 /或關(guān)于垂直于光軸OA延伸的傾斜軸被傾斜。傾斜改變照射衍射光學(xué)元件36的光線的方
12向。由于這種不同的照明，由衍射光學(xué)元件36產(chǎn)生的角度分布也改變?？傮w上，垂直于光 軸OA的平移的光源26的位移移動(dòng)了光瞳表面42和60中的強(qiáng)度分布。用于衍射光學(xué)元件36的更換支撐器30可借助于第二操縱器M2進(jìn)一步關(guān)于垂直 于光軸OA延伸的傾斜軸被傾斜，同樣如小箭頭所示。由于此對(duì)照明角度分布的影響不同于 傾斜光源26產(chǎn)生的影響。變焦物鏡44對(duì)于調(diào)整照明角度分布特別重要，采用該變焦物鏡44，通過(guò)修改變焦 物鏡44的焦距可改變第一光瞳表面42中的強(qiáng)度分布。為此，變焦物鏡44包含兩個(gè)一起工 作的第三操縱器M3，采用該第三操縱器M3可以修改變焦物鏡44的至少兩個(gè)透鏡的軸向位置。如已在上面的2中解釋過(guò)的，借助于軸錐體組46可在第一光瞳表面42中產(chǎn)生不 同的環(huán)形強(qiáng)度分布。軸錐體組46的兩個(gè)軸錐體元件之間的距離可通過(guò)第四操縱器M4被修 改，且對(duì)環(huán)形強(qiáng)度分布的環(huán)直徑以及環(huán)寬度具有影響。在第一光瞳表面42中或緊靠其附近，布置光瞳濾光器74，光瞳濾光器74包含可相 對(duì)彼此(見(jiàn)箭頭)旋轉(zhuǎn)的兩個(gè)濾光器元件。借助于第五操縱器M5可修改兩個(gè)濾光器元件 的相對(duì)旋轉(zhuǎn)設(shè)置。可在已在上面提到的US6，535，274B2中找到關(guān)于光瞳濾光器74的描述。 光瞳濾光器74的濾光器元件被設(shè)計(jì)為透射濾光器，在一些示范性實(shí)施例中，其包括圓形扇 區(qū)形式的灰色過(guò)濾器區(qū)域。采用這樣的濾光器，照明角度分布可被場(chǎng)獨(dú)立地修正，即，在一 定的限制內(nèi)對(duì)整個(gè)掩模14具有相同的影響。在照明系統(tǒng)12中，為了調(diào)整照明角度分布，進(jìn)一步設(shè)置第六操縱器M6，采用第六 操縱器M6，聚光器50內(nèi)部的一個(gè)或多個(gè)透鏡可以在軸向上被位移?？赏ㄟ^(guò)這樣的位移故意 引起從正弦條件的偏離，使得一方面第一光瞳表面42中的位置和另一方面后續(xù)的中間場(chǎng) 平面52中的角度之間的關(guān)系可被修改。在中間場(chǎng)平面52后，布置有同樣被設(shè)計(jì)為透射濾光器的中間濾光器76，盡管中間 濾光器76在其軸向位置上既不布置在光瞳表面中又不布置在場(chǎng)平面中。由于此布置，中間 濾光器76場(chǎng)依賴(lài)地影響照明角度分布，即，對(duì)于掩模14上的不同點(diǎn)，對(duì)照明角度分布的影 響不同。對(duì)掩模14上的強(qiáng)度分布的不期望的影響通過(guò)附加的措施可被補(bǔ)償?？稍谝艳D(zhuǎn)讓 給本申請(qǐng)人的W02008/092653中找到關(guān)于中間濾光器76的細(xì)節(jié)。這篇文章也描述多部件 中間濾光器76，其中中間濾光器76的單獨(dú)部分可借助于第七操縱器M7被位移，使得對(duì)照明 角度分布上的場(chǎng)依賴(lài)影響可在一定限度內(nèi)被修改，而此不影響強(qiáng)度部分。第七操縱器M7也 可被設(shè)計(jì)使得其可從光束路徑抽出中間濾光器76。操縱器Ml至M7經(jīng)由信號(hào)線(虛線表示的)連接到控制單元78，通過(guò)控制單元78 單獨(dú)的操縱器Ml至M7可以受控方式被驅(qū)動(dòng)。為此，控制單元78包括計(jì)算機(jī)80，計(jì)算機(jī)80 根據(jù)下面解釋的方法，確定控制指令，所述控制指令必須被施加到操縱器Ml至M7使得照明 系統(tǒng)12在掩模平面58中產(chǎn)生期望的目標(biāo)照明角度分布。5.確定控制指令的方法借助于圖4所示的流程圖和圖5的圖在下面將描述方法的第一示范性實(shí)施例，采 用該方法的第一實(shí)施例，通過(guò)適當(dāng)?shù)尿?qū)動(dòng)操縱器Ml至M7，可在掩模平面58中產(chǎn)生期望的照 明角度分布。該方法基于調(diào)整算法，在調(diào)整算法中光束的屬性，即具體地照明角度分布，可 借助于照明參數(shù)被描述。借助于最小化原則，確定用于操縱器Ml至M7的控制指令，使得實(shí)
13際的照明參數(shù)近似預(yù)定的目標(biāo)照明參數(shù)。首先將詳細(xì)描述基本的方法步驟；這種方法的其 它示范性實(shí)施例將在部分6中被進(jìn)一步解釋。(a)確定照明參數(shù)在第一步驟Sl中，確定一組照明參數(shù)，其描述匯聚到被照明系統(tǒng)12照明的掩模14 上的點(diǎn)處的光束的屬性。如已在4中提到的，為此，使用不同的光瞳模型是可能的，采用這 些光瞳模型可參數(shù)化地描述光瞳表面中的照明角度分布。照明參數(shù)不僅必須適合于描述照明角度分布的屬性，而且應(yīng)該是經(jīng)由測(cè)量(至少 間接地)可獲得的。傳統(tǒng)上通過(guò)在掩模平面58中或投射物鏡的像平面中引入分辨角度的 傳感器執(zhí)行照明角度分布的測(cè)量，分辨角度的傳感器在掩模平面58中的選定點(diǎn)處測(cè)量照 明角度分布。為此，傳感器可包含聚光器，其將選定點(diǎn)處的角度分布轉(zhuǎn)換成其中布置了分辨 位置的2D傳感器的平面中的位置分布。理想地，照明參數(shù)應(yīng)該被確定使得他們可為模擬程序的輸入量，采用這些量可計(jì) 算包含在掩模14上的結(jié)構(gòu)18的圖像的尺度。光瞳橢圓度E是這樣的量，由于知道此量和 進(jìn)一步的邊界條件(投射物鏡的成像屬性，光致抗蝕劑層22的照明閾值等等)，可以計(jì)算在 光瞳橢圓度E興1的條件下，本身是相同類(lèi)型但相互正交延伸的結(jié)構(gòu)的尺度之間彼此的不 同將有多大。在下文中，假設(shè)m個(gè)照明參數(shù)P1.....Pm被確定，其表示結(jié)合照明參數(shù)的組的矢量
多的分量。(b)確定可調(diào)光學(xué)元件在第二步驟S2中，那些可調(diào)光學(xué)元件被確定，這些可調(diào)光學(xué)元件對(duì)照明參數(shù)的光 學(xué)影響可根據(jù)控制指令被修改。在照明系統(tǒng)12中，由操縱器Ml至M7建立此選擇。分配到單獨(dú)的操縱器且分別導(dǎo)致相關(guān)的操縱器的具體調(diào)整的控制指令將表示為 X1.....Xn，其中η小于或等于操縱器的總數(shù)。該組控制指令X1.....Xn將被結(jié)合以形成矢里X。(c)確定敏感度為了確定控制指令，假設(shè)控制指令X1.....Xn近似線性地根據(jù)等式Eq. (1)作用于
照明參數(shù)P1.....Pffl
權(quán)利要求
微光刻投射曝光設(shè)備的操作方法，包括下面的步驟a)確定一組描述光束屬性的照明參數(shù)，所述光束會(huì)聚到被照明系統(tǒng)照明的掩模上的點(diǎn)，其中所述光束的屬性包括所述光束在與所述點(diǎn)關(guān)聯(lián)的出瞳中具有的強(qiáng)度分布，所述強(qiáng)度分布被描述為理想強(qiáng)度分布的擾動(dòng)；b)確定光學(xué)元件，其對(duì)照明參數(shù)的光學(xué)影響可根據(jù)控制指令被修改；c)對(duì)于每個(gè)光學(xué)元件，確定所述照明參數(shù)對(duì)調(diào)整的反應(yīng)的敏感度，所述調(diào)整由所述各個(gè)光學(xué)元件的所述控制指令引發(fā)；d)指定一組目標(biāo)照明參數(shù)；e)確定所述控制指令，而考慮步驟c)中確定的敏感度，使得所述照明參數(shù)從所述目標(biāo)照明參數(shù)的偏離滿足預(yù)定的最小化原則；f)施加步驟e)中確定的所述控制指令給所述光學(xué)元件；g)照明所述掩模。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的所述方法，其中設(shè)定所述控制指令與所述照明參數(shù)之間的線性關(guān)系。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述線性關(guān)系由@= ij給出，其中P =(灼，外，…，/^)表示所述照明參數(shù)組Pl，p2, ... , pm，且沒(méi)表示步驟c)中確定的敏感度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述強(qiáng)度分布的基本形狀被分配給所述照明參數(shù)組。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述基本形狀選自圓盤(pán)形狀、環(huán)形形狀、多個(gè)極的 排布構(gòu)成的組。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一個(gè)所述的方法，其中對(duì)于步驟c)中的所述出瞳中的所 述強(qiáng)度分布的不同的基本形狀，確定所述敏感度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述強(qiáng)度分布的基本形狀被指定，且其中在步驟 c)中確定被分配到最接近近似所述指定的基本形狀的基本形狀的敏感度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述強(qiáng)度分布的基本形狀被指定，且其中通過(guò)被 分配到至少基本相同于所述指定的基本形狀的基本形狀的敏感度的內(nèi)插法，在步驟c)中 確定所述敏感度。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一個(gè)所述的方法，其中所述敏感度在步驟c)中通過(guò)模擬或 通過(guò)測(cè)量被確定。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一個(gè)所述的方法，其中所述控制指令在步驟e)中通過(guò)迭代 方法被確定，其中所述控制指令被修改，直到測(cè)量表明所述照明參數(shù)從所述目標(biāo)照明的所 述偏離滿足預(yù)定的最小化原則。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一個(gè)所述的方法，其中所述照明參數(shù)通過(guò)乘以權(quán)重因子被 加以權(quán)重。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述權(quán)重因子取決于所述強(qiáng)度分布的所述基本 形狀。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的方法，其中所述權(quán)重因子取決于一般的掩模類(lèi)型或取決于被照明的所述掩模。
14.根據(jù)權(quán)利要求11至14中的一個(gè)所述的方法，其中所述權(quán)重因子被確定，而考慮使 所述掩模成像的投射物鏡的所述成像屬性。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14以及權(quán)利要求3中的一個(gè)所述的方法，其中表達(dá)式=( ·5-》|在步驟e)中被最小化，其中W = (W1, w2，...,Wm)是權(quán)重矢量，W1, w2, ...,wm是權(quán)重因子，且11 · 11是矢量的模。
16.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一個(gè)所述的方法，其中所述擾動(dòng)被描述為強(qiáng)度調(diào)制和變 形的結(jié)合。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述強(qiáng)度分布被描述為光瞳坐標(biāo)(J=(CTjciCTy) 的函數(shù)其通過(guò)Ρ(σ)^Μ(σ)·Ρ0{ησ))給出，其中表示所述強(qiáng)度調(diào)制，表示所述變形且巧(d)表述所述理想強(qiáng)度分布。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述強(qiáng)度調(diào)制由完全的、優(yōu)選正交的第一 函數(shù)系統(tǒng)的函數(shù)的線性疊加被給出。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述強(qiáng)度調(diào)制通過(guò)QOΜ(σ) = I^ah Uk{a)Μ被給出，其中仏(< )是澤爾尼克多項(xiàng)式，且α k是澤爾尼克系數(shù)。
20.根據(jù)權(quán)利要求17至19所述的方法，其中所述變形 (斤)通過(guò)完全的、優(yōu)選正交的第 二函數(shù)系統(tǒng)的矢量模的線性疊加被給出。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中所述矢量模的分量是澤爾尼克多項(xiàng)式。
22.根據(jù)權(quán)利要求20或21所述的方法，其中每個(gè)矢量模的僅一個(gè)分量是非零的。
23.根據(jù)權(quán)利要求20至22中的一個(gè)所述的方法，其中所述變形f(汗)通過(guò)Γ(σ) = σ.+被給出，其中屹壚)是澤爾尼克矢量多項(xiàng)式且β &是澤爾尼克矢量系數(shù)。
24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中所述澤爾尼克矢量多項(xiàng)式兩(5)通過(guò)Wk(a) = R Φ mB被給出，其中iC是kth級(jí)澤爾尼克多項(xiàng)式的徑向分量，且通過(guò)^cos(ct/2) - sin(OT/2) Y cosm^ Λ 、sin(CTi/2) cos(e7r/2) \-smmφJ(rèn)被給出，且所述級(jí)數(shù)k通過(guò)下面的表與η、m和ε關(guān)聯(lián)Φ =TfiBk1-12-23-34-45-56-6η001111222222m0011-1-10022-2-2ε010101010101寸。
25.根據(jù)權(quán)利要求19以及根據(jù)權(quán)利要求23或24所述的方法，其中為了確定所述澤爾 尼克系數(shù)α k和所述澤爾尼克矢量系數(shù)β k，所述出瞳中的強(qiáng)度分布被測(cè)量并與理想強(qiáng)度分 布比較，所述出瞳中的強(qiáng)度分布類(lèi)似于所述測(cè)量的強(qiáng)度分布，其中所述澤爾尼克系數(shù)ak以 及所述澤爾尼克矢量系數(shù)β k通過(guò)擬合到所述測(cè)量的強(qiáng)度分布被確定。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中在所述出瞳中的所述強(qiáng)度分布的所述測(cè)量期 間，在所述照明系統(tǒng)的出瞳表面中設(shè)置光闌。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中在所述出瞳中的所述強(qiáng)度分布的所述測(cè)量期 間，通過(guò)光柵在所述照明系統(tǒng)的出瞳表面中產(chǎn)生衍射圖案。
28.根據(jù)權(quán)利要求25至27中的一個(gè)所述的方法，其中對(duì)多個(gè)不同的理想強(qiáng)度分布，執(zhí) 行所述強(qiáng)度分布的所述測(cè)量以及所述擬合。
29.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一個(gè)所述的方法，其中所述光學(xué)元件選自以下構(gòu)成的組 光源，其相對(duì)于所述照明系統(tǒng)的光軸的位置可被修改；衍射光學(xué)元件，相對(duì)于所述照明系統(tǒng)的所述光軸的空間取向可被修改，尤其被傾斜； 變焦物鏡，包含至少一個(gè)可沿所述光軸位移的透鏡； 軸錐體組，包含兩個(gè)軸錐體元件，其間距可被調(diào)整； 透射濾光器，設(shè)置在所述照明系統(tǒng)的光瞳表面中或緊靠其附近； 透射濾光器，設(shè)置在所述照明系統(tǒng)的場(chǎng)表面中或緊靠其附近； 位置可變化透鏡，設(shè)置在所述照明系統(tǒng)的聚光器中，通過(guò)其來(lái)自二次光源的光線束被 疊加到場(chǎng)平面中。
30.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一個(gè)所述的方法，其中所述照明參數(shù)在步驟a)中被確定，使得它們?yōu)槟M程序的輸入量，采用所述模擬程序可以對(duì)具體的掩模計(jì) 算有關(guān)于可通過(guò)支撐物上的所述掩模成像產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)的所述排布和尺度的量。
31.通過(guò)微光刻投射曝光設(shè)備中的照明系統(tǒng)會(huì)聚到掩模上的點(diǎn)的光束的屬性的估算方 法，具有下面的步驟a)測(cè)量所述照明系統(tǒng)的出瞳中的強(qiáng)度分布，其被分配到所述點(diǎn)；b)至少近似描述步驟a)中測(cè)量的所述強(qiáng)度分布，作為理想強(qiáng)度分布的擾動(dòng)，所述擾動(dòng) 被描述為強(qiáng)度調(diào)制和變形的結(jié)合，且其中i)所述強(qiáng)度調(diào)制由完全的、優(yōu)選正交的第一函數(shù)系統(tǒng)的函數(shù)的線性疊加描述，且 )所述變形由完全的優(yōu)選正交的第二函數(shù)系統(tǒng)的矢量模的線性疊加描述；c)基于所述線性疊加的標(biāo)量疊加系數(shù)估算所述光束的所述屬性。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中所述強(qiáng)度分布被描述為出瞳坐標(biāo)S= (GpCy)的函數(shù)其通過(guò)Ρ(σ)^Μ(σ)-Ρ0{τ(σ))被描述，其中MO )表示所述強(qiáng)度調(diào)制，表示所述變形，且/U<J)表示所述理想強(qiáng) 度分布。
33.微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的制造方法，包含下面的步驟 -編譯所述照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì)；-根據(jù)權(quán)利要求31或32所述的估算方法估算光束的所述屬性； -確定品質(zhì)函數(shù)，步驟b)中確定的疊加系數(shù)中的至少一個(gè)對(duì)所述品質(zhì)函數(shù)有貢獻(xiàn)； -編譯修改的設(shè)計(jì)，使得所述品質(zhì)函數(shù)被改善。
34.會(huì)聚到被微光刻投射曝光設(shè)備中的照明系統(tǒng)照明的掩模上的點(diǎn)的光束的屬性的改 善方法，具有下面的步驟-根據(jù)權(quán)利要求31或32所述的方法估算所述光束的屬性； -修改所述屬性，使得根據(jù)步驟c)的估算被改善；
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其中借助于其對(duì)所述屬性的影響可根據(jù)控制指令被 修改的光學(xué)元件，所述屬性被修改。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的方法，其中當(dāng)至少一個(gè)疊加系數(shù)的大小超過(guò)預(yù)定值時(shí)，所 述光學(xué)元件被驅(qū)動(dòng)。
37.掩模的配置方法，該掩模旨在被微光刻投射曝光設(shè)備中的照明系統(tǒng)照明且通過(guò)投 射物鏡被成像到光敏層上，具有下面的步驟a)根據(jù)權(quán)利要求31或32所述的方法，估算會(huì)聚到被所述微光刻投射曝光設(shè)備中的所 述照明系統(tǒng)照明的所述掩模上的點(diǎn)的光束的屬性；b)確定包含在所述掩模上的結(jié)構(gòu)而考慮疊加系數(shù)，以對(duì)由至少一個(gè)非零疊加系數(shù)引起 的所述掩模的所述成像，降低不期望的影響。
38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中考慮所述疊加系數(shù)的所述場(chǎng)依賴(lài)性。
39.微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)(10)，其由根據(jù)權(quán)利要求31或32所述的方法確 定的標(biāo)量疊加系數(shù)指定。
40.微光刻投射曝光設(shè)備，具有_照明系統(tǒng)，包含多個(gè)光學(xué)元件，其對(duì)所述照明參數(shù)的光學(xué)影響可根據(jù)控制指令被修改。-測(cè)量?jī)x器，測(cè)量出瞳中的強(qiáng)度分布，其被分配給位于照明平面中的點(diǎn)，被照明的掩模 可排布在所述照明平面中，且光束會(huì)聚到所述照明平面上， _計(jì)算機(jī)，其被配置以(i)對(duì)每個(gè)光學(xué)元件，確定各個(gè)光學(xué)元件的敏感度，描述光束的照明屬性的照明參數(shù)以 所述敏感度對(duì)調(diào)整反應(yīng)，所述調(diào)整由所述控制指令引起，其中所述光束的所述屬性包括所 述光束在與所述點(diǎn)關(guān)聯(lián)的出瞳中具有的強(qiáng)度分布，所述強(qiáng)度分布描述為理想強(qiáng)度分布的擾 動(dòng)、且其中所述計(jì)算機(jī)被進(jìn)一步配置( )確定控制指令，而考慮先前確定的敏感度，使得所述照明參數(shù)從所述目標(biāo)照明參 數(shù)的偏離滿足預(yù)定的最小化原則；“數(shù)據(jù)傳輸路徑，所述計(jì)算機(jī)確定的所述控制指令經(jīng)由所述數(shù)據(jù)傳輸路徑可被施加到 所述光學(xué)元件。
全文摘要
在微光刻投射曝光設(shè)備(10)的照明系統(tǒng)(12)的操作方法中，首先確定一組描述光束的屬性的照明參數(shù)，該光束會(huì)聚到被照明系統(tǒng)(12)照明的掩模(14)上的點(diǎn)(72)。另外，確定其對(duì)照明參數(shù)的光學(xué)影響可根據(jù)控制指令被修改的光學(xué)元件(26，36，44，46，74，76)，以及照明參數(shù)對(duì)由控制指令引起的光學(xué)元件的調(diào)整的反應(yīng)的敏感度。然后控制指令被確定，而考慮到先前確定的敏感度，使得照明參數(shù)從預(yù)定的目標(biāo)照明參數(shù)的偏離滿足預(yù)定的最小化原則。在掩模(14)被照明之前，將這些控制指令施加到光學(xué)元件。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101960384SQ200980106335
公開(kāi)日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2009年2月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月25日
發(fā)明者奧利弗·納特, 弗蘭克·施萊斯納 申請(qǐng)人:卡爾蔡司Smt股份公司