專利名稱：光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光刻機(jī)，尤其涉及一種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的光刻機(jī)在對(duì)晶片進(jìn)行光刻時(shí)，通過晶片傳送機(jī)構(gòu)來傳輸晶片。所述晶片傳 送機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、皮帶和導(dǎo)軌。所述皮帶在電機(jī)帶動(dòng)下在導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)。晶片則放置在皮帶 上，跟隨皮帶運(yùn)動(dòng)，以便進(jìn)行光刻。然而，這種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)在使用過程中，經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)損壞現(xiàn)象。通過對(duì)損 壞部件的失效分析發(fā)現(xiàn)一般都是由于電機(jī)(馬達(dá))損壞引起。而進(jìn)一步分析發(fā)現(xiàn)電機(jī)是 因?yàn)檫^載而燒壞。電機(jī)過載的原因經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)是由于粉屑阻塞導(dǎo)軌使得皮帶運(yùn)動(dòng)阻力變大 而引起。而這些粉屑是由于皮帶在使用過程中磨損而產(chǎn)生的，這些粉屑會(huì)堵塞導(dǎo)軌，使得 皮帶運(yùn)動(dòng)受阻，最終使得電機(jī)因?yàn)檫^載而燒毀。因此，如何防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而防止電機(jī)因此發(fā)生損壞事故，是本領(lǐng)域技術(shù)人 員亟待解決的一個(gè)技術(shù)問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，可以抽排掉 導(dǎo)軌上的粉屑，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌而引發(fā)電機(jī)燒毀事故。為了達(dá)到上述的目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，包括置于殼體內(nèi)的電機(jī)、皮帶和導(dǎo)軌，電機(jī)帶動(dòng)皮帶 在導(dǎo)軌上運(yùn)行，所述殼體密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路。在述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)中，所述抽排管路與真空抽吸器連接。在述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)中，所述抽排管路與處于負(fù)壓狀態(tài)的機(jī)臺(tái)的風(fēng)管管 路連接。在述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)中，所述抽排管路經(jīng)一吸粉箱與所述殼體密封連接。在述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)中，所述吸粉箱設(shè)置在殼體的下方。在述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)中，所述吸粉箱設(shè)置在殼體的上方。在述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)中，所述吸粉箱設(shè)置在殼體的側(cè)方。本實(shí)用新型的有益效果如下本實(shí)用新型通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路，藉由所述抽排 管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在導(dǎo)軌上順利運(yùn) 動(dòng)，進(jìn)而，有效避免了電機(jī)因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。
本實(shí)用新型的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)由以下的實(shí)施例及附圖給出。圖1是本實(shí)用新型光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，1-殼體、2-抽排管路、3-吸粉箱、4-三通閥。
具體實(shí)施方式
以下將對(duì)本實(shí)用新型的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。下面將參照附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本實(shí)用新型的優(yōu)選 實(shí)施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本實(shí)用新型而仍然實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型 的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對(duì) 本實(shí)用新型的限制。為了清楚，不描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能 和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠?huì)使本實(shí)用新型由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例 的開發(fā)中，必須作出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商 業(yè)的限制，由一個(gè)實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€(gè)實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和 耗費(fèi)時(shí)間的，但是對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說僅僅是常規(guī)工作。為使本實(shí)用新型的目的、特征更明顯易懂，
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí) 施方式作進(jìn)一步的說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率， 僅用以方便、明晰地輔助說明本實(shí)用新型實(shí)施例的目的。本實(shí)用新型的核心思想通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路， 藉由所述抽排管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在 導(dǎo)軌上順利運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而，有效避免了電機(jī)因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。請參閱圖1，圖1所示為本實(shí)用新型光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。這種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，包括置于殼體1內(nèi)的電機(jī)、皮帶和導(dǎo)軌，電機(jī)帶動(dòng)皮 帶在導(dǎo)軌上運(yùn)行，所述殼體1密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路2。所述抽排管路2可以與真空抽吸器連接。當(dāng)然，所述抽排管路2也可以與處于負(fù) 壓狀態(tài)的光刻機(jī)機(jī)臺(tái)的風(fēng)管管路(圖中為示出)連接。本實(shí)施例中，由于光刻機(jī)機(jī)臺(tái)原本 設(shè)有具有負(fù)壓狀態(tài)的風(fēng)管管路，所以，所述抽排管路2可以通過一個(gè)三通閥4接入該光刻機(jī) 機(jī)臺(tái)本身具有的處于負(fù)壓狀態(tài)的風(fēng)管管路中。本實(shí)施例中，所述抽排管路2和殼體1之間增設(shè)一吸粉箱3，三者之間密閉連通。 即所述抽排管路2通過該吸粉箱3與所述殼體1密封連接。具體結(jié)構(gòu)如下所述吸粉箱3 設(shè)有吸入口和排出口，所述殼體1的接口與所述吸粉箱3的吸入口密封固定連接，所述吸粉 箱3的排出口與所述抽排管路2的吸入口密封固定連接。通過增設(shè)吸粉箱3，可以在保證一 定抽吸面積(該抽吸面積與殼體1上的接口面積相等)的前提下，縮小抽排管路2的截面 積，從而節(jié)約管材，并減少整個(gè)機(jī)構(gòu)的體積。本實(shí)施例中，所述吸粉箱3設(shè)置在殼體1的側(cè)方。當(dāng)然，所述吸粉箱3也可以設(shè)置 在殼體1的上方或下方。當(dāng)吸粉箱3設(shè)置在殼體1的下方時(shí)，由于可以利用粉屑的重力，因 此，抽排粉屑的效率最高。經(jīng)過反復(fù)實(shí)驗(yàn)可知，當(dāng)所述抽排管路2的吸力大于等于0. 001kg/cm2，可以取得比較好的粉屑抽排效果。本實(shí)用新型通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路，藉由所述抽排 管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在導(dǎo)軌上順利運(yùn) 動(dòng)，進(jìn)而，有效避免了電機(jī)因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用 新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及 其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求一種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，包括置于殼體內(nèi)的電機(jī)、皮帶和導(dǎo)軌，電機(jī)帶動(dòng)皮帶在導(dǎo)軌上運(yùn)行，其特征在于，所述殼體密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述抽排管路與真空抽 吸器連接。
3.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述抽排管路與處于負(fù) 壓狀態(tài)的光刻機(jī)機(jī)臺(tái)的風(fēng)管管路連接。
4.如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述抽排管路經(jīng)一吸粉 箱與所述殼體密封連接。
5.如權(quán)利要求4所述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述吸粉箱設(shè)置在殼體 的下方。
6.如權(quán)利要求4所述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述吸粉箱設(shè)置在殼體 的上方。
7.如權(quán)利要求4所述的光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述吸粉箱設(shè)置在殼體 的側(cè)方。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種光刻機(jī)，尤其涉及一種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)。這種光刻機(jī)的晶片傳送機(jī)構(gòu)，包括置于殼體內(nèi)的電機(jī)、皮帶和導(dǎo)軌，電機(jī)帶動(dòng)皮帶在導(dǎo)軌上運(yùn)行，所述殼體密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路。本實(shí)用新型通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路，藉由所述抽排管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在導(dǎo)軌上順利運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而，有效避免了電機(jī)因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。
文檔編號(hào)G03F7/20GK201562122SQ20092021401
公開日2010年8月25日 申請日期2009年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月20日
發(fā)明者王睿 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司