專利名稱：具有均勻色度的薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種薄膜，特別涉及一種能應(yīng)用于觸控面板上，并且具有均勻色度 的透明導(dǎo)電薄膜。
背景技術(shù)：
現(xiàn)行使用于觸控面板的氧化銦錫(ITO)透明導(dǎo)電膜，因?yàn)槠溴兡ぶ瞥虦囟鹊停?而且材料本身在低波長波段的透過率較低而使膜層偏黃，造成面板的視感不佳。此外， ITO膜披覆形成后，為了作電路或電容配置，必須透過蝕刻制程將部分區(qū)塊蝕刻移除， 因此面板上對應(yīng)于該ITO膜被蝕刻的部位，以及對應(yīng)于沒有被蝕刻的部位，將因?yàn)镮TO 材料的有無，造成明顯的顏色差異，使面板表面顏色不均勻，并且造成表面蝕刻圖案容 易被觀察到，進(jìn)而影響面板的視感。而人眼可見的顏色可以利用國際照明委員會(huì)(International Commission on Illumination,簡稱CIE)制定的CIE L*a*b*色度空間來描述，所述b'值可以為負(fù)值也可以
為正值，當(dāng)b'為正值時(shí)，代表黃色，而且b'值越大代表顏色越黃，一般而言，ITO膜的 b*值約為2 4而偏黃。雖然改變ITO的膜厚可以改善膜層偏黃現(xiàn)象，但是為了在觸控面板上作較佳的 觸控應(yīng)用，ITO膜的阻抗值必須控制在一定范圍，其膜厚就不能太厚而也必須控制在一 定厚度，所以無法通過調(diào)整ITO膜本身的膜厚來改良薄膜偏黃現(xiàn)象。目前作法通常是 改變位于ITO膜下方的抗反射膜層的特性，以改變整體薄膜的顏色均勻性，例如日本 專利JP2003-171147、JP2007-299534及臺(tái)灣專利TW200730933號(hào)專利案，都是利用多 層不同折射率的抗反射膜層搭配，以調(diào)變薄膜整體色度與透光度，其它改良技術(shù)例如 JP2004-184579號(hào)專利案是利用五層光學(xué)膜的搭配來調(diào)變色度；JP2007-276332號(hào)專利案 是利用高分子材料作為中間層；JP2008-49518是利用ZnO與低折射率層的配合。然而，上述專利只是設(shè)法將薄膜的整體色度b*值降低，但是并未考慮ITO膜蝕 刻后造成的蝕刻區(qū)塊及非蝕刻區(qū)塊的色彩不均勻性，因此當(dāng)ITO膜蝕刻后，仍然會(huì)產(chǎn)生 多個(gè)色彩不均勻的區(qū)塊，并使蝕刻圖案被清楚觀察到。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種減輕薄膜偏黃現(xiàn)象、色彩均勻、表面蝕刻圖案不易 被觀察到的具有均勻色度的薄膜。本發(fā)明具有均勻色度的薄膜，包含一基材，該基 材包括反向間隔的一第一面與一第二面，所述具有均勻色度的薄膜更包含一位于所 述第一面及第二面的其中一表面的表面處理層，以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的一 第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層，該第一折射層的光學(xué)厚度為dl，且 llnm<dl<16nm,該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射 層的光學(xué)厚度為d2，且60nm《d2《90nm。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。
根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，12納米幼1《15納米。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，60納米《d2《80納米。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該表面處理層鄰近該基材的第二面， 所述第一折射層、第二折射層及透明導(dǎo)電層是鄰近該基材的第一面。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該表面處理層鄰近該基材的第一面， 并且位于該基材及該第一折射層之間。一種具有均勻色度的薄膜，包含一個(gè)基材，以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆 的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層；該第一折射層的光學(xué)厚度為dl，且20納米《dl《29納米，該第二折射層的折射 率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2，且60納米紐2動(dòng)0 納米。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，22納米《dl《28納米。根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，60納米動(dòng)0納米。本發(fā)明的有益效果在于通過所述第一、二折射層的光學(xué)厚度的配合，可以縮 小該透明導(dǎo)電層的蝕刻區(qū)塊及非蝕刻區(qū)塊的色度差，使薄膜整體色彩均勻，蝕刻圖案被 模糊化而不易觀察到，并減輕薄膜偏黃現(xiàn)象。如以下實(shí)施例1 6及比較例1 6的結(jié)果可知，當(dāng)?shù)谝徽凵鋵拥墓鈱W(xué)厚度 太厚時(shí)，膜層的b'值過小甚至變?yōu)樨?fù)值，此時(shí)薄膜將呈現(xiàn)青色，因此膜層越厚顏色 越青；第一折射層的光學(xué)厚度太薄時(shí)，對產(chǎn)品黃化的改善效果不明顯，因此優(yōu)選限定 llnm<dl<16nm ；更優(yōu)選12nm《dl《15nm，將使薄膜色彩更均勻。當(dāng)?shù)诙凵鋵拥墓鈱W(xué)厚度太厚時(shí)，對黃化的改善并無明顯的差異，而且成本提 高、制程延長；光學(xué)厚度太薄時(shí)，也無法改善黃化的現(xiàn)象，而且透光度將下降，因此優(yōu) 選限定60nm《d2《90nm，更優(yōu)選60nm《d2《80nm。此外，如以下實(shí)施例7 9所示，本發(fā)明也可以省略設(shè)置該表面處理層，此時(shí)該 第一折射層的光學(xué)厚度dl的限定，優(yōu)選20nm^dl^29nm，更優(yōu)選22nm^dl^28nm。


圖1是本發(fā)明具有均勻色度的薄膜的實(shí)施例1 6的剖視示意圖；圖2是本發(fā)明實(shí)施例1 3及比較例1 4，在披覆一透明導(dǎo)電層之前與之后的 色度差值(Ab')分布圖；圖3是本發(fā)明實(shí)施例5、6及比較例5、6，在披覆一透明導(dǎo)電層之前與之后的色 度差值(Ab')分布圖；圖4是一剖視示意圖，顯示本發(fā)明的一表面處理層披覆在一基材的一第一面；圖5是本發(fā)明具有均勻色度的薄膜的實(shí)施例7 9的剖視示意圖；圖6是本發(fā)明實(shí)施例7 9及比較例7、8，在披覆一透明導(dǎo)電層之前與之后的色 度差值(Ab')分布圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明，要注意的是，在以下的說明內(nèi) 容中，類似的元件是以相同的編號(hào)來表示。參閱圖1，本發(fā)明具有均勻色度的薄膜的實(shí)施例1包含一基材1、一披覆在該 基材1的表面的表面處理層5、一披覆在該基材1的另一表面的第一折射層2、一披覆在 該第一折射層2的表面的第二折射層3，以及一披覆在該第二折射層3的表面的透明導(dǎo)電 層4。該基材1具有反向間隔的一第一面11與一第二面12，該基材1的材料例如聚對 苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate，PET)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚乙烯 (polyethylene, ΡΕ)...等材料，本實(shí)施例基材1為PET制成，厚度為125微米(μ m)，該基 材1為產(chǎn)品型號(hào)FE-RHPC56N的產(chǎn)品，此產(chǎn)品表面同時(shí)形成有該表面處理層5。該表面處理層5設(shè)置在該基材1的第二面12，其材料為添加功能粒子的反應(yīng)性硬 化樹脂，厚度約為5 μ m，該表面處理層5用于提升該薄膜的硬度，使表面不易刮傷。本 發(fā)明表面處理層5的材質(zhì)及功能不須加以限定，可隨著不同產(chǎn)品的應(yīng)用需求而設(shè)置不同 功能的表面處理層5，例如該表面處理層5可以用于提升薄膜的耐磨性、耐刮性，或者可 以為抗反射鍍膜以提升透光度，或者是具有擴(kuò)散光線功能而使光線均勻的功能性薄膜。該第一折射層2披覆在該基材1的第一面11，其材料例如二氧化鈦(TiO2)、 五氧化二鈮(Nb2O5)、氧化鈮(NbO)、氧化鈰(CeO)、氧化銦錫(ITO)等材料，本實(shí)施例 第一折射層2材料為五氧化二鈮(Nb2O5)，其光學(xué)厚度為dl = 14納米(nm)，所述光學(xué) 厚度為膜層的實(shí)際厚度及其折射率的乘積。該第二折射層3的折射率小于該第一折射層2的折射率，其材料例如二氧化硅 (SiO2)、氮化硅(Si3N4)、二氟化鎂(MgF2)等材料，本實(shí)施例的第二折射層3材料為二氧 化硅(SiO2),其光學(xué)厚度為d2 = 80nm。通過所述第一、二折射層2、3的高低折射率的 搭配，具有抗反射效果而可提升透光度。本實(shí)施例的透明導(dǎo)電層4的材料為氧化銦錫(ITO)，并且具有數(shù)個(gè)非蝕刻區(qū)塊 41，以及數(shù)個(gè)彼此間隔并與非蝕刻區(qū)塊41相鄰的蝕刻區(qū)塊42，所述蝕刻區(qū)塊42的位置及 大小是配合后續(xù)表面線路圖案的布局而設(shè)置。參閱圖1、2及表1，為本發(fā)明實(shí)施例1 4與比較例1 4的相關(guān)參數(shù)及色度 b*值的測試結(jié)果，所述b*為國際照明委員會(huì)(International Commission on Illumination,簡 稱CIE)制定的CIE LW色度空間中的色度b'。所述測試是以Konica公司生產(chǎn)，型號(hào) 為Minolta CM_3600d的分光儀器進(jìn)行光學(xué)穿透度與色度量測。實(shí)施例與比較例主要不 同的地方在于第一折射層2或第二折射層3的光學(xué)厚度，已詳列于表1。表1的\'是在 “無ITO層”下測得的b'值，也就是在披覆該透明導(dǎo)電層4前進(jìn)行b'值量測；b2'代表
在“有ITO層”下測得的b'值，并且是在披覆該透明導(dǎo)電層4后而且尚未蝕刻前，測得 的b'值；Ab'代表披覆該透明導(dǎo)電層4之前與之后的色度差值，也就是Ab'= Ib2MD1^在探討測試結(jié)果前，首先說明Id1'代表無ITO層所測得的b'值，因此可以代表 本發(fā)明薄膜對應(yīng)所述蝕刻區(qū)塊42的部位的b'值，而b2'可用于代表對應(yīng)該非蝕刻區(qū)塊41 的部位的b'值，因此ID1'及b2'越接近，代表有蝕刻以及沒有蝕刻的區(qū)塊的色差越小，也 就是薄膜整體色彩的均勻度越高，又因?yàn)楸∧ふw色彩越均勻，可以使透明導(dǎo)電層4的表面蝕刻圖案模糊化，避免蝕刻圖案被觀察到。另一方面，h'及b2'值愈小，可以減輕 薄膜偏黃的現(xiàn)象。由表1結(jié)果可知比較例1、2的第一折射層2的光學(xué)厚度都大于16nm，雖然 其b2'值分別降低為0.18及0.25，但是相對地也導(dǎo)致Ab'過高，分別為0.71、0.63，使該 透明導(dǎo)電層4的非蝕刻區(qū)塊41及蝕刻區(qū)塊42之間的色度差異過大，因而呈現(xiàn)色彩不均勻 的視感，并使蝕刻圖案被明顯觀察到。而比較例3、4的第一折射層2的光學(xué)厚度都小于 Ilnm,其Ab'分別為0.5、0.63，也過高。反觀本發(fā)明，實(shí)施例1 3的第二折射層3的光學(xué)厚度都是80nm，而第一折射 層2的光學(xué)厚度不同，實(shí)施例1 3在有ITO層的情況下，其\'值都維持在0.8左右， b2'值都維持在0.65 1.14之間，而Ab'值都為0.35以下，由于ID1'與b2'值相當(dāng)接近， 使該蝕刻區(qū)塊42與非蝕刻區(qū)塊41的色度接近，該薄膜整體色彩也較為均勻，因此可避免 表面蝕刻圖案被清楚觀察到，也就是當(dāng)Ab'值小于0.35時(shí)，肉眼觀察該薄膜幾乎為均勻 色彩；另一方面，< 及b2'值都維持在1.15以下，減輕薄膜色彩偏黃現(xiàn)象。實(shí)施例4與 該實(shí)施例2不同的地方在于實(shí)施例4的第二折射層3的光學(xué)厚度為90nm，可以明顯觀 察到，實(shí)施例4的Ab'大幅降低為0.05，使薄膜色彩均勻度更高。表 權(quán)利要求
1.一種具有均勻色度的薄膜，包含一個(gè)包括反向間隔的一個(gè)第一面與一個(gè)第二面 的基材、一位于所述第一面及第二面的其中一個(gè)表面的表面處理層，以及由鄰近而遠(yuǎn)離 該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層；其特征在于，該第一折射層的光學(xué)厚度為dl，且11納米紐1<16納米，該第二折射層的折射率 小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2，且60納米動(dòng)0納 米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，該透明導(dǎo)電層的材料為 氧化銦錫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，12納米納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，60納米動(dòng)0納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，該表面處理層鄰近該基 材的第二面，所述第一折射層、第二折射層及透明導(dǎo)電層鄰近該基材的第一面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，該表面處理層鄰近該基 材的第一面，并且位于該基材及該第一折射層之間。
7.—種具有均勻色度的薄膜，包含一個(gè)基材，以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的 一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層；其特征在于，該第一折射層的光學(xué)厚度為dl，且20納米幼1《29納米，該第二折射層的折射率 小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2，且60納米動(dòng)0納 米。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，該透明導(dǎo)電層的材料為 氧化銦錫。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，22納米納米。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有均勻色度的薄膜，其特征在于，60納米幼2動(dòng)0納米。
全文摘要
一種具有均勻色度的薄膜，包含一基材、一表面處理層，以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層，該第一折射層的光學(xué)厚度為d1，且11nm≤d1≤16nm，該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，其光學(xué)厚度為d2，且60nm≤d2≤90nm。此外，本發(fā)明也可省略設(shè)置該表面處理層，此時(shí)該第一折射層的光學(xué)厚度限制為20nm≤d1≤29nm。通過第一、二折射層的光學(xué)厚度的配合，可以縮小該透明導(dǎo)電層的蝕刻區(qū)塊及非蝕刻區(qū)塊的色度差，使薄膜整體色彩均勻，蝕刻圖案不易被觀察到、減輕薄膜偏黃現(xiàn)象。
文檔編號(hào)G02F1/133GK102012577SQ20091017185
公開日2011年4月13日 申請日期2009年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月7日
發(fā)明者李光榮, 胡文瑋, 詹俊彬 申請人:迎輝科技股份有限公司