專利名稱：一種標(biāo)準(zhǔn)具及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域，尤其涉及標(biāo)準(zhǔn)具領(lǐng)域。 ,狄^
標(biāo)準(zhǔn)具是通過在平板的兩個表面鍍金屬膜或多層電介質(zhì)反射膜來實現(xiàn)多光 束干涉的，利用多光束干涉原理產(chǎn)生十分細銳條紋，可選擇特定波長的光束以 高透射率通過標(biāo)準(zhǔn)具，而其他波長則基本完全損耗。標(biāo)準(zhǔn)具的制作，要求兩塊 板間的距離不變并嚴(yán)格平行。其光路原理圖如圖l所示，簡單分析可得出，每
條光線的位相比前一條光線落后5 = ^AL = ^"^C0W;因此透射光線的復(fù)振
A) A
幅是一個等比級數(shù)，公比為i V、因此可以得到透射率為
r= 4"in，/2) 可見其透射率是波長;t。、厚度h、反射率R的函數(shù)。
(卜i ) +4i sin2(5/2)
常見標(biāo)準(zhǔn)具如圖2所示
圖2(a)中，101為實心標(biāo)準(zhǔn)具，sl， s2為標(biāo)準(zhǔn)具反射膜；圖2(b)中102、 103為有反射膜的標(biāo)準(zhǔn)具腔片，104為標(biāo)準(zhǔn)具支撐架。
圖2 (a)中di尺寸一般較大，同樣圖2 (b)中(12亦較厚。但很多時候需要
較大自由光譜范圍時，則需山、d2很薄。當(dāng)山、(M艮薄時，這兩種結(jié)構(gòu)在實際制
作中就很難制作。

發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題，本發(fā)明公開一種新型的超薄標(biāo)準(zhǔn)具，并公開其制作方法。
本發(fā)明是采用如下技術(shù)方案
本發(fā)明的標(biāo)準(zhǔn)具，包括
第一基片，其上鍍有特定波長反射膜；光學(xué)介質(zhì)薄層，其鍍于所述的第一基片的鍍膜面；
第二基片，其上鍍有特定波長反射膜，鍍膜面并通過光膠或深化光膠膠合 于所述的光學(xué)介質(zhì)薄層。
若所述的光學(xué)介質(zhì)薄層是完整的薄層面，則構(gòu)成實心標(biāo)準(zhǔn)具。
若所述的光學(xué)介質(zhì)薄層是中心區(qū)域缺失的薄層面，則構(gòu)成空腔標(biāo)準(zhǔn)具。
進一步的，所述的光學(xué)介質(zhì)薄層的厚度是微米量級；所述的光學(xué)介質(zhì)薄層 的材料是S i 02或其他均勻光學(xué)介質(zhì)。
進一步的，所述的空腔標(biāo)準(zhǔn)具中心區(qū)域缺失的空隙內(nèi)為空氣或真空或特定 氣體。
所述的兩種標(biāo)準(zhǔn)具的基片非鍍膜的外通光面形成一個小楔角，所述的楔角
范圍約為r -io'?；蛘撸龅臉?biāo)準(zhǔn)具的基片非鍍膜的外通光面鍍增透膜。 用以為防止表面反射光的干擾。
制作所述實心標(biāo)準(zhǔn)具的方法，步驟如下
步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜；
步驟2:將經(jīng)過步驟1后的一基片的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層；
步驟3:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層與經(jīng)過步驟1后的另一基片通過光膠或深化光膠 膠合。
制作所述空腔標(biāo)準(zhǔn)具的方法，步驟如下 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:在鍍膜的基片膜表面中心區(qū)域墊一塊基底； 步驟3:將經(jīng)過步驟2后的一基片的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層； 步驟4:除去基片膜表面中心區(qū)域的基底；步驟5:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層與經(jīng)過步驟1后的另一基片通過光膠或深化光膠 膠合。
制作所述空腔標(biāo)準(zhǔn)具的另一種方法，步驟如下 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:將經(jīng)過步驟1后的一基片的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層； 步驟3:將基片膜表面中心區(qū)域通過光刻方式除去；
步驟4:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層與經(jīng)過步驟1后的另一基片通過光膠或深化光膠 膠合。
本發(fā)明采用如上技術(shù)方案，公開了一種新型的標(biāo)準(zhǔn)具。這種標(biāo)準(zhǔn)具厚度很 小，可達到幾個um的量級，通過光膠或深化光膠的方法粘結(jié)在一起，制作較方 便。而且這種超薄標(biāo)準(zhǔn)具的自由光譜范圍較大，適用于激光選模等方面。


圖l是多光束干涉示意圖； 圖2(a)是常見實心標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2(b)是常見空腔標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3是本發(fā)明的標(biāo)準(zhǔn)具理論透射曲線； 圖4是本發(fā)明的實心標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5是本發(fā)明的空腔標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
現(xiàn)結(jié)合

和具體實施方式
對本發(fā)明進一步說明。 本發(fā)明的標(biāo)準(zhǔn)具，包括
第一基片，其上鍍有特定波長反射或部分反射膜；光學(xué)介質(zhì)薄層，其鍍于所述的第一基片的鍍膜面，根據(jù)所設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)具的厚度決定該光學(xué)介質(zhì)鍍層厚度； 第二基片，其上鍍有特定波長反射或部分反射膜，鍍膜面通過光膠或深化光膠 膠合于所述的光學(xué)介質(zhì)薄層。
若所述的光學(xué)介質(zhì)薄層是完整的薄層面，則構(gòu)成實心標(biāo)準(zhǔn)具。
若所述的光學(xué)介質(zhì)薄層是中心區(qū)域缺失的薄層面，則構(gòu)成空腔標(biāo)準(zhǔn)具。
所述的基片的材料是K9玻璃或其他光學(xué)材料。所述的光學(xué)介質(zhì)薄層的厚度
是微米量級；所述的光學(xué)介質(zhì)薄層的材料是Si02或其他均勻光學(xué)介質(zhì)。
這種標(biāo)準(zhǔn)具厚度很小，可達到幾個jum的量級，通過光膠或深化光膠的方法 粘結(jié)在一起，制作較方便。而且這種超薄標(biāo)準(zhǔn)具的自由光譜范圍較大，適用于 激光選模等方面。
舉例說明，若實心標(biāo)準(zhǔn)具的材料是熔石英，折射率為常數(shù)11=1. 45843,波長 入-1112nm,高反膜對入的反射率R-80y。，厚度h=5um，標(biāo)準(zhǔn)具的透射率T。
如圖3所示，膜內(nèi)傾角為^' = 7.634。時，T1112=99. 999%。而且可以看出，自由
光譜范圍約1204nm-1112nm=92nm。
如圖4所示是本發(fā)明的實心標(biāo)準(zhǔn)具，其中401、 403為表面鍍部分反射膜或 高反膜的K9或其他材料的基片；402為Si02或其他光學(xué)材料的超薄膜層，通過 鍍膜形成。
制作所述實心標(biāo)準(zhǔn)具的方法，步驟如下 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:將經(jīng)過步驟1后的一基片401的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層402;
步驟3:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層402與經(jīng)過步驟1后的另一基片403通過光膠或 深化光膠膠合。
如圖5所示是本發(fā)明的空腔標(biāo)準(zhǔn)具，其中501和503為表面鍍膜的K9或其他材料的基片，與圖4所示的實心標(biāo)準(zhǔn)具不同之處在于，第一基片501和第二 基片503通過超薄膜層相隔，形成空氣隙標(biāo)準(zhǔn)具。這種標(biāo)準(zhǔn)具的優(yōu)點是由于 是空氣隙標(biāo)準(zhǔn)具，空氣對各個波長的折射率基本相同，都接近于l,因此基本消 除了色散的影響?？諝庀稑?biāo)準(zhǔn)具，亦可以制作成真空或充特定氣體的標(biāo)準(zhǔn)具。
制作所述空腔標(biāo)準(zhǔn)具的方法，步驟如下 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:在鍍膜的基片501膜表面中心區(qū)域墊一塊基底；
步驟3:將經(jīng)過步驟2后的一基片501的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層502; 步驟4:除去基片膜表面中心區(qū)域的基底；
步驟5:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層502與經(jīng)過步驟1后的另一基片503通過光膠或 深化光膠膠合。
制作所述空腔標(biāo)準(zhǔn)具的另一種方法，步驟如下 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:將經(jīng)過步驟1后的一基片501的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層502; 步驟3:將基片膜表面中心區(qū)域通過光刻方式除去；
步驟4:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層502與經(jīng)過步驟1后的另一基片501通過光膠或 深化光膠膠合。
盡管結(jié)合優(yōu)選實施方案具體展示和介紹了本發(fā)明，但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員 應(yīng)該明白，在不脫離所附權(quán)利要求書所限定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，在形式 上和細節(jié)上可以對本發(fā)明做出各種變化，均為本發(fā)明的保護范圍。
權(quán)利要求
1. 一種標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于包括第一基片，其上鍍有特定波長反射膜；光學(xué)介質(zhì)薄層，其鍍于所述的第一基片的鍍膜面；第二基片，其上鍍有特定波長反射膜，鍍膜面通過光膠或深化光膠膠合于所述的光學(xué)介質(zhì)薄層。
2. 如權(quán)利要求1所述的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于所述的光學(xué)介質(zhì)薄層是完整的薄 層面，構(gòu)成實心標(biāo)準(zhǔn)具。
3. 如權(quán)利要求1所述的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于所述的光學(xué)介質(zhì)薄層是中心區(qū)域 缺失的薄層面，構(gòu)成空腔標(biāo)準(zhǔn)具。
4. 如權(quán)利要求1或2或3所述的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于所述的光學(xué)介質(zhì)薄層的 厚度是微米量級；所述的光學(xué)介質(zhì)薄層的材料是Si02或其他均勻光學(xué)介質(zhì)。
5. 如權(quán)利要求1或3所述的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于所述的空腔標(biāo)準(zhǔn)具中心區(qū)域 缺失的空隙內(nèi)為空氣或真空或特定氣體。
6. 如權(quán)利要求1或2或3所述的所述的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于所述的標(biāo)準(zhǔn)具的 基片非鍍膜的外通光面形成一個小楔角，所述的楔角范圍約為l' -10'。
7. 如權(quán)利要求1或2或3所述的所述的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于所述的標(biāo)準(zhǔn)具的 基片非鍍膜的外通光面鍍增透膜。
8. 制作如權(quán)利要求1或2所述的標(biāo)準(zhǔn)具的方法，其特征在于步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜；步驟2:將經(jīng)過步驟1后的一基片的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層；步驟3:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層與經(jīng)過步驟1后的另一基片通過光膠或深化光膠 膠合。
9. 制作如權(quán)利要求1或3所述的標(biāo)準(zhǔn)具的方法，其特征在于 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:在鍍膜的基片膜表面中心區(qū)域墊一塊基底；步驟3:將經(jīng)過步驟2后的一基片的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層； 步驟4:除去基片膜表面中心區(qū)域的基底；步驟5:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層與經(jīng)過步驟1后的另一基片通過光膠或深化光膠 膠合。
10. 制作如權(quán)利要求l或3所述的標(biāo)準(zhǔn)具的方法，其特征在于 步驟l:先制作基片，并在基片上鍍特定波長的高反膜或部分反射膜； 步驟2:將經(jīng)過步驟1后的一基片的鍍膜面鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)薄層； 步驟3:將基片膜表面中心區(qū)域通過光刻方式除去；步驟4:將所述的光學(xué)介質(zhì)薄層與經(jīng)過步驟1后的另一基片通過光膠或深化光膠 膠合。
全文摘要
本發(fā)明的一種標(biāo)準(zhǔn)具及其制作方法涉及光學(xué)領(lǐng)域，尤其涉及標(biāo)準(zhǔn)具領(lǐng)域。本發(fā)明采用鍍膜與深化光膠、光膠結(jié)合制作超薄膜實心與空腔標(biāo)準(zhǔn)具。本發(fā)明在一片標(biāo)準(zhǔn)具腔片部分反射或高反膜上直接鍍一定厚度的光學(xué)介質(zhì)后，再與另一片標(biāo)準(zhǔn)具腔片膜層光膠或深化光膠構(gòu)成實心標(biāo)準(zhǔn)具，或采用遮掩或光刻方法使標(biāo)準(zhǔn)具腔片膜面非中心區(qū)域再鍍有一層均勻介質(zhì)膜后再相互光膠或深化光膠構(gòu)成中心為空氣隙的超薄標(biāo)準(zhǔn)具。本發(fā)明采用如上技術(shù)方案，公開了一種新型的標(biāo)準(zhǔn)具。這種標(biāo)準(zhǔn)具厚度很小，可達到幾個um的量級，通過光膠或深化光膠的方法粘結(jié)在一起，制作較方便。而且這種超薄標(biāo)準(zhǔn)具的自由光譜范圍較大，適用于激光選模等方面。
文檔編號G02B5/28GK101464535SQ20091011089
公開日2009年6月24日 申請日期2009年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月14日
發(fā)明者凌吉武, 礪 吳, 楊建陽, 英 邱, 陳衛(wèi)民, 黃順寧 申請人:福州高意通訊有限公司