專利名稱：背光源框架定位調(diào)整治具的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種背光源框架定位調(diào)整治具，特別是涉及一種可以將 不同尺寸的背光源框架精密調(diào)整定位使其處于標準狀態(tài)，以利于逆向檢測的 治具。
技術背景-
背光源框架由于其本身的結構因素，在自然放置時是處于變形狀態(tài)的。 傳統(tǒng)的測量方法是利用二次元投影的原理進行，這種測量方法不僅精度不高， 而且對于背光源框架側面的尺寸測試不到，不能進行全尺寸檢測。
三坐標測量機的引進解決了測量精度及全尺寸檢測的問題。但如果對背 光源框架只進行簡單的定位，利用三坐標測量機逆向重構及全尺寸檢測時得 到的結果是不準確的。經(jīng)對專利文獻和專業(yè)期刊的檢索，尚未發(fā)現(xiàn)關于背光 源框架定位調(diào)整裝置的報道及相關信息的公開
實用新型內(nèi)容
為了克服背光源框架檢測時的變形問題，本實用新型的目的在于提供一 種可以將變形的背光源框架定位調(diào)整至標準狀態(tài)的治具。
為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取如下技術方案 一種背光源框架定位 調(diào)整治具，主要是由底座、導軌、立柱及精密調(diào)平機構組成，導軌設置在底 座上，四條導軌的設置組成一個矩形，導軌上設有用于放置框架棱角的四個 立柱，每條導軌上至少設有一個精密調(diào)平機構。
本實用新型的優(yōu)先方案是上述導軌中有一條導軌可沿與其相鄰的兩條 平行導軌水平滑動，四條導軌所組成的矩形內(nèi)還設有與上述滑動導軌滑動方 向相垂直的另一條滑動導軌。
本實用新型進一步的技術方案是四個立柱中有一個是作為高度基準的 固定立柱，其余三個立柱均可在導軌內(nèi)自由移動，立柱的高度調(diào)節(jié)是采用螺 旋測微結構實現(xiàn)的。
本實用新型更進一步的技術方案是所述的精密調(diào)平機構包括豎直方向 調(diào)整機構、水平方向調(diào)整機構和壓緊固定機構；豎直方向調(diào)整機構位于精密調(diào)平機構的下部，其底部與導軌的T型槽配合，豎直方向的調(diào)節(jié)采用螺旋測微
結構；水平方向調(diào)整機構位于精密調(diào)平機構的中部，主要包括下拖板、螺桿、 上拖板、螺母和托條，上拖板與下拖板滑動配合，螺桿固定在下拖板中，螺 母與上拖板固定連接，螺桿與螺母配合，上拖板的上表面設有放置框架的托
條，托條與上拖板滑動配合，螺桿轉動通過螺母傳動帶動上拖板水平移動； 壓緊固定機構位于精密調(diào)平機構的上部，主要包括螺桿、滑槽、豎桿和固定 螺母，螺桿穿過滑槽，螺桿可在滑槽內(nèi)水平方向和豎直方向移動，螺桿通過 位于滑槽上下面的固定螺母固定，滑槽通過豎桿與水平方向調(diào)整機構的上拖 板固定連接。
兩條滑動導軌分別實現(xiàn)橫向和縱向的水平移動，適用于不同尺寸背光源 框架的定位和測量；立柱部分實現(xiàn)了豎直方向的精密調(diào)整，精密調(diào)平機構實 現(xiàn)了豎直方向及水平方向精密調(diào)整相結合，壓緊機構使得被調(diào)整背光源框架 與調(diào)平機構同步運動。
調(diào)整前先將背光源框架棱角放置在四個高度一致的立柱上，其中， 一個 立柱的高度固定，其余三個立柱采用螺旋測微結構進行豎直方向的微調(diào)，在 零點時與第一個立柱的高度是一樣的，并且這四個立柱的中心點所構成的四 邊形為矩形。
背光源框架各條邊框的調(diào)整可利用精密調(diào)平機構進行。豎直方向使用與 立柱相同的螺旋測微結構微調(diào)，并且零點時與立柱的高度一致；水平方向采 用"螺桿轉動，螺母移動"的原理進行微調(diào)；治具中所有微調(diào)的精度可達到 0. Olmm;壓緊機構使得被調(diào)整背光源框架與調(diào)平機構同步運動。
同時，本實用新型采用導軌結構，立柱及調(diào)平機構的連續(xù)移動滿足了不 同尺寸背光源框架的定位需要。
本實用新型的有益效果是，可以對各種不同尺寸的背光源框架實現(xiàn)精密 調(diào)整，使其達到不變形的標準狀態(tài)以利于逆向重構及全尺寸檢測的進行。


圖l為放置有背光源框架的定位調(diào)整治具的三維結構圖； 圖2為精密調(diào)平機構的三維結構圖3為精密調(diào)平機構中水平方向調(diào)整機構和壓緊固定機構的結構剖面示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型作進一步的詳細說明
如圖l所示，本實用新型主要由底座14、導軌9、導軌IO、導軌ll、滑動
導軌12、滑動導軌13、固定立柱l、可調(diào)立柱2、可調(diào)立柱3、可調(diào)立柱4及精 密調(diào)平機構5， 6， 7, 8組成。導軌9、導軌IO、導軌11固定在底座14上，滑動 導軌13兩端的下部開有U形滑槽卡在導軌10和導軌U上，可以在導軌10和導軌 ll上連續(xù)移動，滑動導軌12位于導軌9和滑動導軌13的下方，可沿導軌9和滑 動導軌13的水平方向連續(xù)移動，滑動導軌12和滑動導軌13可以在水平的橫 向和縱向連續(xù)移動以滿足不同尺寸背光源框架的定位需求。所有的導軌及滑 動導軌均加工相同的T型槽，即導軌的截面為T型槽結構，與之相配合的立柱 及調(diào)平機構可以在T型槽里任意移動。立柱l的位置固定不動，并且高度也是 固定的，可以作為其它立柱及調(diào)平機構零位高度的參照；立柱2，3， 4采用螺 旋測微結構進行豎直方向高度的精密調(diào)整，調(diào)整精度為0.01mm，背光源框架 15的四個棱角放置在四個立柱的平面上。精密調(diào)平機構5， 6， 7， 8在豎直方 向采用與立柱2， 3， 4相同的螺旋測微結構進行精密調(diào)整，水平方向采用"螺 桿轉動，螺母移動"的原理實現(xiàn)精密調(diào)整，精度可達0.01mm，螺旋測微結構 即同于現(xiàn)有的螺旋測微器，屬于測量領域公知技術，故該結構在此不再贅述。 結合圖2和圖3所示，精密調(diào)平機構包括豎直方向調(diào)整機構、水平方向調(diào) 整機構和壓緊固定機構；豎直方向調(diào)整機構位于精密調(diào)平機構的下部，其底 部與導軌的T型槽配合，調(diào)節(jié)部分采用螺旋測微結構；豎桿26將精密調(diào)平機 構的水平方向調(diào)整機構與下端的豎直方向調(diào)整部分相連接。水平方向調(diào)整機 構位于精密調(diào)平機構的中部，主要包括下拖板16、螺桿24、上拖板17、螺母 27和拖條18，上拖板17與下拖板16之間采用燕尾槽結構的滑動連接，保證了 上拖板移動時的穩(wěn)定性；豎桿26與絲桿固定圈25—起將螺桿24固定在下拖板 16中，螺母27與上拖板17鉚合固定在一起，螺母27移動時，上拖板17也在水 平方向移動，螺桿24與螺母27配合，螺桿24在下拖板16中只能轉動而不能移 動，轉動螺桿24時，通過螺母27傳動帶動上拖板17水平移動，上拖板17的上 表面設有放置框架邊框的托條18，托條18與上拖板17之間采用燕尾槽結構的滑動配合，保證了與上拖板移動的同步性，可以根據(jù)背光源框架的邊框寬度 和長度的不同加工不同寬度和長度的托條，以保證背光源框架邊框有更多的 部分放置在同一平面上，提高了定位的精度，降低了調(diào)整定位的復雜性。壓
緊固定機構位于精密調(diào)平機構的上部，主要包括螺桿21、滑槽22、豎桿23和 固定螺母19、 20，螺桿21豎直穿過滑槽22，螺桿21可在滑槽內(nèi)水平方向和豎 直方向移動，螺桿21通過位于滑槽22上下面的固定螺母19和20固定，滑槽22 通過豎桿23與水平方向調(diào)整機構的上拖板17固定連接。在調(diào)整的過程中，為 了使背光源框架的移動與治具的移動同步，通過壓緊豎桿23與上拖板固定在 一起壓緊機構進行壓緊，壓緊螺桿21可根據(jù)被壓緊工件的高度和寬度在壓緊 滑槽22里移動，移到合適位置后，可利用壓緊下螺母19和壓緊上螺母20將 其固定。這樣，在轉動螺桿使得上拖板帶動工件移動的同時，壓緊機構也是 一起移動的。
使用本實用新型進行定位調(diào)整時，首先，針對待定位背光源框架的尺寸 將四個立柱在導軌上移動到合適的位置，并將螺旋測微結構調(diào)整到零位，以 確保四個立柱的高度一致。將背光源框架四個棱角放置在立柱的四個平面上。
其次，根據(jù)需要確定精密調(diào)平機構的數(shù)量及不同寬度與長度的托條。通 常情況下，比較小的背光源框架每條邊只需要一個精密調(diào)平機構即可，所選 托條長度和寬度也可以比較小。對于較大的背光源框架，如果邊框寬且厚， 變形不是很大，每條邊框需要一個精密調(diào)平機構就可以達到要求，但要根據(jù) 情況選用較長且寬的托條，這樣才能使邊框上更多的地方放置在同一平面上。 而如果較大的背光源邊框比較細，柔軟易變形，就需要視情況增加精密調(diào)平 機構的數(shù)量及托條的長度，這樣才能達到好的定位調(diào)整效果。
選擇好精密調(diào)平機構及托條后，將精密調(diào)平機構置入導軌或滑軌的T型槽 內(nèi)，將背光源框架的邊框放置在托條上，并根據(jù)情況適當調(diào)整精密調(diào)平機構 及托條的位置以達到最佳的定位狀態(tài)。放置完成后，將精密調(diào)平機構調(diào)至零 位，以確保與四個立柱在同一高度。
粗調(diào)完成后，利用精密調(diào)平機構上面的壓緊部分將背光源框架固定。此 時，就可以根據(jù)需要細調(diào)了。由于豎直方向上立柱和精密調(diào)平機構都已在零 位，所以只需微調(diào)即可達到要求。水平方向可利用精密調(diào)平機構的進行微調(diào)。待調(diào)整到基本標準后，可利用三坐標測量機觸發(fā)式測頭進行進一步的測量以 評價調(diào)整定位的精確度。這樣反復幾次，直到達到所需要的標準狀態(tài)即可。
精密調(diào)整定位完成后，就可以利用三坐標測量機激光掃描測頭進行逆向 重構與全尺寸檢測了。同時，在定位到標準狀態(tài)的情況下，背光源框架的細 微結構尺寸可以用三坐標測量機的小直徑測頭精密測量。
權利要求1、背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于主要是由底座、導軌、立柱及精密調(diào)平機構組成，導軌設置在底座上，四條導軌的設置組成一個矩形，導軌上設有用于放置框架棱角的四個立柱，每條導軌上至少設有一個精密調(diào)平機構。
2、 根據(jù)權利要求l所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所述 導軌中有一條導軌可沿與其相鄰的兩條平行導軌水平滑動，四條導軌所組成 的矩形內(nèi)還設有與上述滑動導軌滑動方向相垂直的另一條滑動導軌。
3、 根據(jù)權利要求l所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于四個 立柱中有一個是作為高度基準的固定立柱，其余三個立柱均可在導軌內(nèi)自由 移動。
4、 根據(jù)權利要求1或3所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所 述立柱的高度調(diào)節(jié)是采用螺旋測微結構。
5、 根據(jù)權利要求l所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所述 導軌的截面為T型槽結構，立柱及精密調(diào)平機構的底部與導軌的T型槽配合。
6、 根據(jù)權利要求l所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所述 的精密調(diào)平機構包括豎直方向調(diào)整機構、水平方向調(diào)整機構和壓緊固定機構。
7、 根據(jù)權利要求6所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所述 的豎直方向調(diào)整機構位于精密調(diào)平機構的下部，其底部與導軌的T型槽配合， 豎直方向的調(diào)節(jié)采用螺旋測微結構。
8、 根據(jù)權利要求6所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所述 的水平方向調(diào)整機構位于精密調(diào)平機構的中部，主要包括下拖板、螺桿、上 拖板、螺母和托條，上拖板與下拖板滑動配合，螺桿固定在下拖板中，螺母 與上拖板固定連接，螺桿與螺母配合，上拖板的上表面設有放置框架的托條， 托條與上拖板滑動配合，螺桿轉動通過螺母傳動帶動上拖板水平移動。
9、 根據(jù)權利要求6所述的背光源框架定位調(diào)整治具，其特征在于所述 的壓緊固定機構位于精密調(diào)平機構的上部，主要包括螺桿、滑槽、豎桿和周 定螺母，螺桿穿過滑槽，螺桿可在滑槽內(nèi)水平方向和豎直方向移動，螺桿通 過位于滑槽上下面的固定螺母固定，滑槽通過豎桿與水平方向調(diào)整機構的上 拖板固定連接。
專利摘要本實用新型公開一種背光源框架定位調(diào)整治具，主要是由導軌、立柱及精密調(diào)平機構組成；導軌設置在底座上，四條導軌的設置組成一個矩形，其中一條導軌可沿與其相鄰的兩條平行導軌水平滑動，矩形內(nèi)還設有與上述滑動導軌滑動方向相垂直的另一條滑動導軌，導軌上設有用于放置框架棱角的四個立柱，每條導軌上至少設有一個精密調(diào)平機構，該治具滿足了不同尺寸背光源框架定位調(diào)整的需求，立柱及精密調(diào)平機構實現(xiàn)了豎直方向和水平方向的精確調(diào)整，將柔軟易變形的背光源框架調(diào)整定位到標準狀態(tài)，以便利用三坐標測量機激光掃描測頭對其進行逆向重構及全尺寸檢測。
文檔編號G02F1/13GK201348696SQ20082004190
公開日2009年11月18日 申請日期2008年7月18日 優(yōu)先權日2008年7月18日
發(fā)明者敏 李, 趙長春 申請人:蘇州京東方茶谷電子有限公司