專利名稱：取向膜摩擦工藝及設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器件的加工工藝和設(shè)備，尤其涉及在制備液晶顯示器件過(guò)程
中對(duì)已涂敷好的薄膜進(jìn)行摩擦的工藝，以及摩擦工藝所采用的設(shè)備。
背景技術(shù)：
液晶顯示器件的工作原理為通過(guò)改變施加在液晶上的電壓改變液晶分子的偏轉(zhuǎn) 角度，從而控制偏振光旋轉(zhuǎn)方向和偏振狀態(tài)，進(jìn)而控制偏振光能夠透過(guò)偏振片或者不能透 過(guò)偏振片，以實(shí)現(xiàn)液晶顯示器件顯示狀態(tài)的改變。例如TFT(Thin Film Transistor,薄膜 場(chǎng)效應(yīng)晶體管)液晶顯示面板主要包括彩色濾光片基板(CF)、TFT陣列基板、以及滴注在彩 色濾光片基板和TFT陣列基板之間的液晶，在通過(guò)TFT陣列基板上的TFT電路施加電壓后， 所述液晶分子發(fā)生偏轉(zhuǎn)，從而控制偏振光的旋轉(zhuǎn)方向與偏振狀態(tài)。 在一般情況下，液晶分子長(zhǎng)軸方向的排列是隨機(jī)取向且分布是雜亂無(wú)章的，為了 使大部分液晶分子的長(zhǎng)軸方向能夠沿著一個(gè)方向排列，需要在兩個(gè)基板上形成取向膜，該 取向膜上形成具有一定方向性的溝痕，使得液晶分子的長(zhǎng)軸方向能夠沿著溝痕的方向有規(guī) 律地排列。對(duì)于TFT液晶顯示面板而言，需要在彩色濾光片基板和TFT陣列基板上形成取 向膜。 取向膜的形成包括涂敷工藝和摩擦工藝其中涂敷工藝是在清洗后的基板上通過(guò) 旋轉(zhuǎn)涂敷和印制方式制出用于形成取向膜的薄膜，其中薄膜的材料為聚酰亞胺；摩擦工藝 是對(duì)制出的薄膜進(jìn)行摩擦取向。 現(xiàn)有技術(shù)中摩擦工藝為在圓輥上纏有布滿細(xì)小絨毛的摩擦布形成一個(gè)摩擦輥， 通過(guò)摩擦輥與涂敷有薄膜的基板之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使得摩擦輥上的絨毛對(duì)薄膜表面進(jìn)行摩 擦，從而在薄膜上形成了具有一定方向的溝痕，這種具有溝痕的薄膜可稱為取向膜。
在實(shí)現(xiàn)上述摩擦工藝的過(guò)程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題
隨著液晶顯示器件基板的尺寸不斷增大，由于基板的尺寸較大，使得摩擦輥與基 板之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)距離較長(zhǎng)，這樣可能導(dǎo)致摩擦過(guò)程中，摩擦輥相對(duì)于基板的運(yùn)動(dòng)角度發(fā)生 變化，造成取向膜溝痕方向的均勻性難以保證；同時(shí)，由于摩擦輥運(yùn)動(dòng)的距離變長(zhǎng)了，在不 改變摩擦輥相對(duì)于基板的運(yùn)動(dòng)速度的情況下，需要加長(zhǎng)摩擦工藝的時(shí)間，造成了生產(chǎn)效率 的降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種取向膜摩擦工藝及設(shè)備，以保證取向膜溝痕方向的均勻 性，并提高生產(chǎn)效率。 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案
—種取向膜摩擦工藝，包括 在固定裝置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承載裝置上承載摩擦 布，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對(duì)的狀態(tài)；
4
該工藝還包括 (1)在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對(duì)運(yùn)動(dòng)； (2)在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸； (3)分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。 —種取向膜摩擦設(shè)備，包括 承載裝置，用于承載摩擦布； 固定裝置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板與摩擦布表 面之間為平行相對(duì)的狀態(tài)； 動(dòng)力系統(tǒng)，用于在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對(duì)運(yùn)
動(dòng)；該動(dòng)力系統(tǒng)還用于在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸，并分離所述 薄膜與所述摩擦布的平整表面。 本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備，在進(jìn)行摩擦?xí)r，基板上的薄膜與摩 擦布之間是面接觸，并且摩擦布的表面是平整的，這樣基板上的薄膜就可以一次性地被摩 擦出溝痕來(lái)，進(jìn)而形成取向膜。這種薄膜與摩擦布之間采用面接觸的方式，可以確保在進(jìn)行 摩擦的瞬間，基板上的薄膜所承受的摩擦的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向和速度是相同的；而上述摩擦布 的平整表面能夠保證薄膜的摩擦深度是相同的。由于在本發(fā)明實(shí)施例提供的摩擦工藝和設(shè) 備中，進(jìn)行摩擦的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向和速度相同，并且摩擦深度相同，能夠較好地保證最后摩擦 出的溝痕方向和深度的均勻性。 同時(shí)，由于本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備，能夠在摩擦布和薄膜的 一次接觸中完成整個(gè)基板上薄膜的摩擦，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中需要摩擦輥運(yùn)動(dòng)較長(zhǎng)的距離才 能完成一次摩擦而言，本發(fā)明實(shí)施例具有更高的摩擦效率，從而提高了生產(chǎn)效率。


為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可 以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。 圖1為本發(fā)明實(shí)施例1中取向膜摩擦工藝的流程圖；
圖2為本發(fā)明實(shí)施例1中取向膜摩擦設(shè)備的原理圖；
圖3為本發(fā)明實(shí)施例1中調(diào)整裝置的截面圖；
圖4為本發(fā)明實(shí)施例2中取向膜摩擦工藝的流程圖；
圖5為本發(fā)明實(shí)施例2中取向膜摩擦設(shè)備的原理圖；
圖6為本發(fā)明實(shí)施例2中取向膜摩擦設(shè)備的動(dòng)力原理圖；
圖7為本發(fā)明實(shí)施例2中另一種取向膜摩擦設(shè)備的原理圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供一種取向膜摩擦工藝，在摩擦布與薄膜發(fā)生摩擦之前，需要在承載裝 置上承載摩擦布，并且要將涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定成其薄膜與摩擦布表 面平行相對(duì)的狀態(tài)；在具體生產(chǎn)過(guò)程中，先要在摩擦布和基板之間形成沿基板表面方向的摩擦布的平整表面接觸后分 離薄膜和摩擦布的平整表面。 —般來(lái)說(shuō)，上述移動(dòng)薄膜與摩擦布的平整表面的接觸、以及分離薄膜和摩擦布的 平整表面都是一個(gè)迅速移動(dòng)的過(guò)程。 本發(fā)明提供一種取向膜摩擦設(shè)備，該設(shè)備包括承載裝置、固定裝置和動(dòng)力系統(tǒng)。
所述的承載裝置用于承載摩擦布，并且在摩擦布與薄膜發(fā)生摩擦之前，將摩擦布在承載裝
置上要形成表面平整的狀態(tài)，并且通過(guò)固定裝置將涂敷有薄膜的基板固定成其薄膜與摩擦
布的表面平行相對(duì)的狀態(tài)；在具體生產(chǎn)過(guò)程中，通過(guò)動(dòng)力系統(tǒng)在摩擦布和基板之間形成沿
基板表面方向相對(duì)運(yùn)動(dòng)，然后通過(guò)動(dòng)力系統(tǒng)讓薄膜與摩擦布的平整表面相接觸，在薄膜與
摩擦布的平整表面接觸后，通過(guò)動(dòng)力系統(tǒng)分離薄膜和摩擦布的平整表面。 上述動(dòng)力系統(tǒng)完成薄膜與摩擦布的平整表面相接觸、以及分離薄膜和摩擦布的平
整表面都是一個(gè)迅速移動(dòng)的過(guò)程，使得摩擦布的平整表面與薄膜的接觸控制在一個(gè)較短的
時(shí)間范圍內(nèi)。 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于 本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
實(shí)施例1 : 本實(shí)施例中承載摩擦布的為第二基臺(tái)，并通過(guò)設(shè)有真空吸附結(jié)構(gòu)的第一基臺(tái)將涂
敷有薄膜的基板固定好。如圖l所示，本發(fā)明實(shí)施例的取向膜摩擦工藝包括 101、將一整張摩擦布貼附在第二基臺(tái)的臺(tái)面上，并且貼附后的摩擦布表面是平整
的，形成了摩擦布的平整表面；由于第一基臺(tái)上設(shè)有真空吸附結(jié)構(gòu)，所以可以通過(guò)真空吸附
的方式將涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定到第一基臺(tái)的臺(tái)面上，該第一基臺(tái)的臺(tái)
面與所述摩擦布表面平行相對(duì)，這樣就可以使得所述基板的薄膜與摩擦布表面處于平行相
對(duì)的狀態(tài)。 102、在實(shí)際進(jìn)行摩擦工藝時(shí)通過(guò)預(yù)先設(shè)定第二基臺(tái)與第一基臺(tái)相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向來(lái) 決定基板和摩擦布之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向，為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實(shí)施例中還 需要調(diào)整所述基板的側(cè)邊與所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角，一般通過(guò)調(diào)整第一基臺(tái)的角度即可 實(shí)現(xiàn)上述夾角的調(diào)整。 如果在一次摩擦工藝中，所要求的取向膜溝痕方向是與當(dāng)前第一基臺(tái)角度相應(yīng) 的，則可以不用調(diào)整基板的側(cè)邊與所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)方向的夾角，就可以省去102過(guò)程。
103、并通過(guò)驅(qū)動(dòng)所述第二基臺(tái)沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，以帶動(dòng)所述摩擦布運(yùn) 動(dòng)，從而使得表面平整的摩擦布沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，以形成基板和摩擦布之間的相 對(duì)運(yùn)動(dòng)。 —般而言，上述運(yùn)動(dòng)的應(yīng)該是一個(gè)勻速直線運(yùn)動(dòng)，以確保后續(xù)摩擦中得到均勻性 較好取向膜，并且該勻速直線運(yùn)動(dòng)的速率可以取8m/s左右。 104、為了提高摩擦質(zhì)量，摩擦布的面積需要大于基板上薄膜的面積，當(dāng)?shù)诙_(tái) 運(yùn)動(dòng)到摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的位置時(shí)，迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，使得第一基臺(tái)上 移從而使所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸。
105、在薄膜與摩擦布的平整表面接觸后，再次迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，分離所述薄膜 與所述摩擦布的平整表面。 在實(shí)際加工時(shí)，也可以先驅(qū)動(dòng)第一基臺(tái)沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，從而使得基板 沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，以形成基板和摩擦布之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)；然后當(dāng)?shù)谝换_(tái)運(yùn)動(dòng)到 摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的位置時(shí)，迅速移動(dòng)第二基臺(tái)，使得第二基臺(tái)上的摩擦 布移動(dòng)到所述摩擦布的平整表面與所述薄膜接觸的狀態(tài)；并且在薄膜與摩擦布的平整表面 接觸后，再次迅速移動(dòng)第二基臺(tái)，分離所述摩擦布的平整表面與所述薄膜。
對(duì)應(yīng)于上述取向膜摩擦工藝，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種取向膜摩擦設(shè)備，如圖2 所示，該設(shè)備包括實(shí)現(xiàn)固定裝置功能的第一基臺(tái)21、調(diào)整裝置22、完成動(dòng)力系統(tǒng)功能的第 一動(dòng)力裝置23和第二動(dòng)力裝置24、以及實(shí)現(xiàn)承載裝置功能的第二基臺(tái)25，本實(shí)施例提供的 取向膜摩擦設(shè)備使用方式如下 在按照摩擦工藝進(jìn)行加工時(shí)，先要將一整張摩擦布1貼附在第二基臺(tái)25的臺(tái)面 上，并且貼附后的摩擦布1表面是平整的，得到摩擦布的平整表面，然后通過(guò)實(shí)現(xiàn)固定裝置 功能的第一基臺(tái)21固定涂敷有薄膜的基板2，并且該第一基臺(tái)的臺(tái)面與所述摩擦布的平整 表面平行相對(duì)，以保證薄膜與摩擦布的平整表面平行相對(duì)。本實(shí)施例中第一基臺(tái)21上可以 設(shè)置真空吸附結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)真空吸附的方式將所述涂敷有薄膜的基板2固定到第一基臺(tái) 21的臺(tái)面上。 為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實(shí)施例中還需要調(diào)整所述基板2的側(cè)邊與所 述摩擦布1和基板之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角，一般通過(guò)調(diào)整第一基臺(tái)21的角度即可實(shí)現(xiàn)上 述夾角的調(diào)整，本實(shí)施例中的調(diào)整裝置22就是用于調(diào)整所述基板的側(cè)邊與所述摩擦布運(yùn) 動(dòng)方向的夾角，并且調(diào)整裝置22是通過(guò)調(diào)整第一基臺(tái)的角度即可實(shí)現(xiàn)上述夾角調(diào)整的。具 體實(shí)現(xiàn)時(shí)，可以將支撐第一基臺(tái)21的支架設(shè)計(jì)成可旋轉(zhuǎn)的，所述調(diào)整裝置22的功能就可以 通過(guò)支架的旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)來(lái)完成。 本實(shí)施例中的調(diào)整裝置22安裝在第二運(yùn)動(dòng)裝置中的連桿243上，并且調(diào)整裝置通 過(guò)一個(gè)圓柱桿實(shí)現(xiàn)，該圓柱桿與連桿243之間采用軸向連接的方式，具體如圖3所示，在實(shí) 現(xiàn)調(diào)整裝置22功能的圓柱桿31上設(shè)有一個(gè)固定孔32，并在連桿243上設(shè)有多個(gè)定位孔33， 定位孔32和固定孔33之間采用固定銷34連接，通過(guò)定位銷34穿過(guò)連桿243上不同的定 位孔33來(lái)改變圓柱桿31的旋轉(zhuǎn)角度，這樣就能改變固定在圓柱桿31上的第一基臺(tái)21的 旋轉(zhuǎn)角度，實(shí)現(xiàn)調(diào)整基板2的側(cè)邊與所述摩擦布1運(yùn)動(dòng)方向的夾角。 在做好上述準(zhǔn)備工作以后，利用所述的第一動(dòng)力裝置23驅(qū)動(dòng)表面平整的摩擦布 沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，以形成摩擦布表面與基板之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。由于本實(shí)施例中的 摩擦布貼附在第二基臺(tái)25的臺(tái)面上，所以，所述第一動(dòng)力裝置23可以通過(guò)驅(qū)動(dòng)所述第二基 臺(tái)25運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)所述摩擦布運(yùn)動(dòng)。當(dāng)?shù)诙_(tái)運(yùn)動(dòng)到摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的 位置時(shí)，通過(guò)第二動(dòng)力裝置24迅速移動(dòng)第一基臺(tái)21 ，使得第一基臺(tái)21上的基板移動(dòng)到所述 薄膜與所述摩擦布的平整表面接觸的狀態(tài)。在薄膜與摩擦布接觸后，再次通過(guò)第二動(dòng)力裝 置24迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，以便分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。
本發(fā)明實(shí)施例并不限定第一基臺(tái)和第二基臺(tái)具體的相對(duì)位置，一般而言，其相對(duì) 位置包括但不限于如下兩種第一基臺(tái)在上方、第二基臺(tái)在下方；或者第一基臺(tái)在下方、第 二基臺(tái)在上方。
如圖2所示本發(fā)明實(shí)施例中所采用的第一動(dòng)力裝置23具體可以為但不限定于如下實(shí)現(xiàn)方式由電機(jī)231提供動(dòng)力源，然后通過(guò)絲杠232將電機(jī)的圓周運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化成直線運(yùn)動(dòng)，將需要被驅(qū)動(dòng)的第二基臺(tái)以螺紋方式通過(guò)連桿233連接到絲杠232，如此一來(lái)，電機(jī)231帶動(dòng)絲杠232轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，絲杠232的轉(zhuǎn)動(dòng)使得第二基臺(tái)沿著絲杠122做直線運(yùn)動(dòng)，完成上述實(shí)施例中第二基臺(tái)所需要的運(yùn)動(dòng)方式。 本發(fā)明實(shí)施例中所采用的第二動(dòng)力裝置24都可以采用實(shí)現(xiàn)直線運(yùn)動(dòng)的設(shè)備，具體可以為但不限定于如下實(shí)現(xiàn)方式由電機(jī)241提供動(dòng)力源，然后通過(guò)絲杠242將電機(jī)的圓周運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化成直線運(yùn)動(dòng)，將需要被驅(qū)動(dòng)的第一基臺(tái)以螺紋方式通過(guò)連桿243連接到絲杠242，如此一來(lái)，電機(jī)帶動(dòng)絲杠242轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，絲杠242的轉(zhuǎn)動(dòng)使得第一基臺(tái)沿著絲杠做直線運(yùn)動(dòng)，完成上述實(shí)施例中第一基臺(tái)所需要的運(yùn)動(dòng)方式。 上述實(shí)現(xiàn)方式中均可以通過(guò)電機(jī)的正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)來(lái)改變第一基臺(tái)和第二基臺(tái)的運(yùn)動(dòng)方向。 本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備，在進(jìn)行摩擦?xí)r，薄膜與摩擦布之間
采用面接觸的方式，可以確保在進(jìn)行摩擦的瞬間，基板上的薄膜所承受的摩擦的相對(duì)運(yùn)動(dòng)
方向和速度是相同的；并且上述摩擦布的平整表面能夠保證薄膜的摩擦深度是相同的。由
于在本發(fā)明實(shí)施例提供的摩擦工藝和設(shè)備中，進(jìn)行摩擦的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向和速度相同，并且
摩擦深度相同，能夠較好地保證最后摩擦出的溝痕方向和深度的均勻性。 除了保證取向膜的溝痕方向和深度的均勻性外，本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦
工藝及設(shè)備相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)還具有如下效果 第一、由于本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備，能夠在摩擦布和薄膜的一次接觸中完成整個(gè)基板上薄膜的摩擦，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中需要摩擦輥運(yùn)動(dòng)較長(zhǎng)的距離才能完成一次整個(gè)基板上薄膜的摩擦而言，本發(fā)明實(shí)施例具有更高的摩擦效率，從而提高了生產(chǎn)效率。 第二、按照現(xiàn)有技術(shù)的摩擦工藝進(jìn)行取向膜的摩擦?xí)r，根據(jù)不同的需要調(diào)節(jié)如下參數(shù)摩擦次數(shù)、摩擦深度、摩擦輥轉(zhuǎn)速、摩擦輥半徑和基板相對(duì)于摩擦輥軸心的移動(dòng)速度；采用本發(fā)明提供的取向膜摩擦工藝和設(shè)備進(jìn)行取向膜的摩擦?xí)r，需要調(diào)節(jié)如下參數(shù)摩擦次數(shù)、摩擦深度、摩擦布的運(yùn)動(dòng)速度；故而本發(fā)明需要調(diào)節(jié)的參數(shù)相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)要少，使得摩擦工藝的調(diào)節(jié)較為簡(jiǎn)單。 第三、如果采用現(xiàn)有技術(shù)中的摩擦輥，在對(duì)較大尺寸基板的進(jìn)行摩擦工藝時(shí)，每完
成一次摩擦，摩擦輥上的摩擦布需要與薄膜有多次接觸，造成摩擦布損耗較大，而本發(fā)明實(shí)
施例中的取向膜摩擦工藝和設(shè)備，每完成一次摩擦，摩擦布只需與薄膜接觸一次，減少了摩
擦布的損耗，這樣也可以減少更換摩擦布的次數(shù)，進(jìn)一步減少摩擦工藝的調(diào)節(jié)時(shí)間。 作為一種可變換的實(shí)現(xiàn)方式，本發(fā)明實(shí)施例中取向膜摩擦設(shè)備中的動(dòng)力系統(tǒng)還可
以通過(guò)第三動(dòng)力裝置和第四動(dòng)力裝置實(shí)現(xiàn)，取代現(xiàn)有的第一動(dòng)力裝置和第二動(dòng)力裝置。
具體的摩擦工藝為在第二基臺(tái)上貼附表面平整摩擦布；在第一基臺(tái)上固定涂敷
有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對(duì)的狀態(tài)；然后通
過(guò)調(diào)整裝置調(diào)整所述基板的側(cè)邊與摩擦布和基板之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角。在完成這些準(zhǔn)
備工作以后，通過(guò)第三動(dòng)力裝置驅(qū)動(dòng)所述第一基臺(tái)使得基板沿基板表面的方向運(yùn)動(dòng)；當(dāng)?shù)?br> 二基臺(tái)運(yùn)動(dòng)到摩擦布能夠完全覆蓋基板上的薄膜的位置時(shí)，通過(guò)第四動(dòng)力裝置移動(dòng)所述第
8二基臺(tái)使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸，在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸后，通過(guò)第四動(dòng)力裝置移動(dòng)所述第二基臺(tái)以分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。其中，第三動(dòng)力裝置可以參考第二動(dòng)力裝置的實(shí)現(xiàn)方式，第四動(dòng)力裝置可以參考第一動(dòng)力裝置的實(shí)現(xiàn)方式。 顯而易見(jiàn)的，為了現(xiàn)實(shí)工藝的需要，可以將第一動(dòng)力裝置和第四動(dòng)力裝置都和承載裝置相連，將第二動(dòng)力裝置和第三動(dòng)力裝置都和固定裝置相連，根據(jù)實(shí)際需要選擇動(dòng)力裝置。
實(shí)施例2 : 由于本實(shí)施例主要采用了帶傳動(dòng)的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)摩擦工藝，為了有助于理解本實(shí)施例的技術(shù)方案，先簡(jiǎn)單介紹一下帶傳動(dòng)。帶傳動(dòng)的系統(tǒng)由至少兩個(gè)帶輪(相當(dāng)于下述實(shí)施例中的轉(zhuǎn)輥)和緊套在帶輪上的環(huán)形傳動(dòng)帶組成，其中一個(gè)帶輪為主動(dòng)輪(即動(dòng)力施加在該帶輪上)，位于主動(dòng)輪運(yùn)動(dòng)方向的相反方向的傳動(dòng)帶的一邊被稱為緊邊(下述實(shí)施例中稱為繃緊平整邊)，實(shí)施例中提到的摩擦布的平整面為繃緊平整邊；位于主動(dòng)輪運(yùn)動(dòng)方向的相同方向的傳動(dòng)帶的一邊被稱為松邊。 本發(fā)明實(shí)施例提供一種取向膜摩擦工藝，如圖4所示，該工藝包括 401、將一整張摩擦布繞在兩個(gè)轉(zhuǎn)輥上，，本實(shí)施例中轉(zhuǎn)輥的直徑可以取為130mm ;
通過(guò)第一基臺(tái)上真空吸附結(jié)構(gòu)將涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定到第一基臺(tái)的
臺(tái)面上，該第一基臺(tái)的臺(tái)面與摩擦布表面平行相對(duì)，這樣就可以使得所述基板的薄膜與摩
擦布表面處于平行相對(duì)的狀態(tài)。本過(guò)程中提到的摩擦布表面是指和基板平行的上下表面。 402、為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實(shí)施例中還需要調(diào)整所述基板的側(cè)邊與
摩擦布的平整面與基板的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角，一般通過(guò)調(diào)整第一基臺(tái)的角度即可實(shí)現(xiàn)上
述夾角的調(diào)整。 如果在一次摩擦工藝中，所要求的取向膜溝痕方向是與當(dāng)前第一基臺(tái)角度相應(yīng)的，則可以不用調(diào)整基板的側(cè)邊與所述繃緊平整邊摩擦布運(yùn)動(dòng)方向的夾角，就可以省去402過(guò)程。 本過(guò)程中繃緊平整邊摩擦布的運(yùn)動(dòng)方向?yàn)檠刂灞砻娴姆较颉?403、并通過(guò)驅(qū)動(dòng)其中一個(gè)轉(zhuǎn)輥轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)所述摩擦布運(yùn)動(dòng)，從而使得繃緊平整邊
的摩擦布沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，在轉(zhuǎn)輥轉(zhuǎn)動(dòng)起來(lái)后，摩擦布的繃緊平整邊就是一個(gè)平
整表面，形成了摩擦布的平整表面。 —般而言，上述繃緊平整邊的摩擦布的運(yùn)動(dòng)是勻速直線運(yùn)動(dòng)，以確保后續(xù)摩擦中得到均勻性較好取向膜。在本實(shí)施例中通過(guò)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)輥以iooo轉(zhuǎn)每分鐘的速率勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，即可實(shí)現(xiàn)繃緊平整邊的摩擦布的勻速直線運(yùn)動(dòng)。 404、迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，使得第一基臺(tái)上的基板移動(dòng)到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布面接觸的狀態(tài)。 405、在薄膜與摩擦布接觸后，再次迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，使得第一基臺(tái)上的基板移動(dòng)到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布分開的狀態(tài)。 對(duì)應(yīng)于上述取向膜摩擦工藝，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種取向膜摩擦設(shè)備，如圖5和圖6所示，該設(shè)備包括實(shí)現(xiàn)固定裝置功能的第一基臺(tái)41、調(diào)整裝置42、實(shí)現(xiàn)動(dòng)力系統(tǒng)功能的第一動(dòng)力裝置43和第二動(dòng)力裝置44、以及用于完成承載裝置功能的兩個(gè)轉(zhuǎn)輥45，本實(shí)
9施例提供的取向膜摩擦設(shè)備使用方式如下 在按照摩擦工藝進(jìn)行加工時(shí)，先要將一整張摩擦布3繞在兩個(gè)轉(zhuǎn)輥45上，然后通過(guò)第一基臺(tái)41上的真空吸附結(jié)構(gòu)在所述第一基臺(tái)41固定涂敷有薄膜的基板4，并且在預(yù)先設(shè)定了主動(dòng)轉(zhuǎn)輥以及轉(zhuǎn)動(dòng)方向后，可以得知轉(zhuǎn)輥轉(zhuǎn)動(dòng)起來(lái)后摩擦布的繃緊平整邊，所以本實(shí)施例中基板的薄膜需要與摩擦布3的繃緊平整邊的表面平行相對(duì)。 為了得到溝痕方向不同的取向膜，本實(shí)施例中還需要調(diào)整所述基板的側(cè)邊與所述摩擦布3運(yùn)動(dòng)方向的夾角，一般通過(guò)調(diào)整第一基臺(tái)的角度即可實(shí)現(xiàn)上述夾角的調(diào)整，本實(shí)施例中的調(diào)整裝置42就是用于調(diào)整所述基板的側(cè)邊與所述摩擦布繃緊平整邊和基板相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角，并且調(diào)整裝置42是通過(guò)調(diào)整第一基臺(tái)的角度即可實(shí)現(xiàn)上述夾角調(diào)整的。具體實(shí)現(xiàn)時(shí)，可以采用實(shí)施例1中圖3所表示的方式實(shí)現(xiàn)調(diào)整裝置42。
在做好上述準(zhǔn)備工作以后，利用所述的第一動(dòng)力裝置43驅(qū)動(dòng)表面平整的摩擦布沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)，由于本實(shí)施例中的摩擦布繞在兩個(gè)轉(zhuǎn)輥45上，所以，所述第一動(dòng)力裝置43還可以通過(guò)驅(qū)動(dòng)其中一個(gè)轉(zhuǎn)輥轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)所述摩擦布運(yùn)動(dòng)，從而使得繃緊平整邊的摩擦布沿著基板表面的方向運(yùn)動(dòng)。所述第二動(dòng)力裝置44用于迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，使得第一基臺(tái)上的基板移動(dòng)到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布表面接觸的狀態(tài)。在薄膜與摩擦布接觸后，再次通過(guò)第二動(dòng)力裝置44迅速移動(dòng)第一基臺(tái)，使得第一基臺(tái)上的基板移動(dòng)到所述薄膜與所述繃緊平整邊的摩擦布表面分開的狀態(tài)。 本發(fā)明實(shí)施例并不限定第一基臺(tái)和繃緊平整邊摩擦布具體的相對(duì)位置，一般而言，其相對(duì)位置包括但不限于如下兩種第一基臺(tái)在上方、繃緊平整邊摩擦布在下方；或者第一基臺(tái)在下方、繃緊平整邊摩擦布在上方。 為了使得與取向膜相對(duì)的繃緊平整邊的摩擦布表面更加平整，本實(shí)施例取向膜摩擦設(shè)備還包括抵觸板46，如圖5所示，該抵觸板46設(shè)置在在所述摩擦布的繃緊平整邊和松邊之間，并且該抵觸板46與所述摩擦布的繃緊平整邊相抵觸。這個(gè)抵觸板46可以只是與繃緊平整邊相抵觸，也可以同時(shí)與繃緊平整邊和松邊都相抵觸。 為了使得與取向膜相對(duì)的繃緊平整邊的摩擦布表面更加平整，本實(shí)施例還可以采
用另外的實(shí)現(xiàn)方式，如圖7所示，在所述摩擦布的繃緊平整邊和松邊之間還設(shè)置有至少一
個(gè)轉(zhuǎn)輥47，通過(guò)這些轉(zhuǎn)輥47來(lái)?yè)纹鹂嚲o平整邊的摩擦布，使其更加平整。 本實(shí)施例中的第一動(dòng)力裝置43的可以采用但不限于如下實(shí)現(xiàn)方式通過(guò)電機(jī)轉(zhuǎn)
動(dòng)直接帶動(dòng)轉(zhuǎn)輥45的轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)輥45的轉(zhuǎn)動(dòng)可以直接形成摩擦布局部的直線運(yùn)動(dòng)。 本實(shí)施例中的第二動(dòng)力裝置44的可以采用但不限于如下實(shí)現(xiàn)方式由電機(jī)441提
供動(dòng)力源，然后通過(guò)絲杠442將電機(jī)441的圓周運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化成直線運(yùn)動(dòng)，將需要被驅(qū)動(dòng)的第一
基臺(tái)以螺紋方式通過(guò)連桿443連接到絲杠，如此一來(lái)，電機(jī)帶動(dòng)絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，絲杠的轉(zhuǎn)動(dòng)使
得第一基臺(tái)沿著絲杠做直線運(yùn)動(dòng)，完成本實(shí)施例中第一基臺(tái)運(yùn)動(dòng)方式。 本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備，在進(jìn)行摩擦?xí)r，薄膜與摩擦布之間
采用面接觸的方式，可以確保在進(jìn)行摩擦的瞬間，基板上的薄膜所承受的摩擦的相對(duì)運(yùn)動(dòng)
方向和速度是相同的；并且上述摩擦布的平整表面能夠保證薄膜的摩擦深度是相同的，這
樣能夠較好地保證最后摩擦出的溝痕方向和深度的均勻性。 除了保證取向膜的溝痕方向和深度的均勻性外，本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)還具有如下效果
第一、由于本發(fā)明實(shí)施例提供的取向膜摩擦工藝及設(shè)備，在摩擦布和薄膜的一次接觸中完成整個(gè)基板上薄膜的摩擦，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中需要摩擦輥運(yùn)動(dòng)較長(zhǎng)的距離才能完成一次整個(gè)基板上薄膜的摩擦而言，本發(fā)明實(shí)施例具有更高的摩擦效率，從而提高了生產(chǎn)效率。 第二、按照現(xiàn)有技術(shù)的摩擦工藝進(jìn)行取向膜的摩擦?xí)r，根據(jù)不同的需要調(diào)節(jié)如下參數(shù)摩擦次數(shù)、摩擦深度、摩擦輥轉(zhuǎn)速、摩擦輥半徑和基板相對(duì)于摩擦輥軸心的移動(dòng)速度；采用本發(fā)明提供的取向膜摩擦工藝和設(shè)備進(jìn)行取向膜的摩擦?xí)r，需要調(diào)節(jié)如下參數(shù)摩擦次數(shù)、摩擦深度、摩擦布的運(yùn)動(dòng)速度(即轉(zhuǎn)輥的轉(zhuǎn)動(dòng)速率)；故而本發(fā)明需要調(diào)節(jié)的參數(shù)相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)要少，使得摩擦工藝的調(diào)節(jié)較為簡(jiǎn)單。 第三、如果采用現(xiàn)有技術(shù)中的摩擦輥，在對(duì)較大尺寸基板的進(jìn)行摩擦工藝時(shí)，每完
成一次摩擦，摩擦輥上的摩擦布需要與薄膜有多次接觸，造成摩擦布損耗較大，而本發(fā)明實(shí)
施例中的取向膜摩擦工藝和設(shè)備，每完成一次摩擦，摩擦布只需與薄膜接觸一次，減少了摩
擦布的損耗，這樣也可以減少更換摩擦布的次數(shù)，進(jìn)一步減少摩擦工藝的調(diào)節(jié)時(shí)間。 本發(fā)明實(shí)施例主要用于在液晶顯示器件加工過(guò)程中，對(duì)薄膜進(jìn)行摩擦得到取向膜
的工藝中，例如在彩色濾光片基板和TFT陣列基板形成取向膜的工藝。 以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
一種取向膜摩擦工藝，其特征在于，包括在固定裝置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承載裝置上承載摩擦布，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對(duì)的狀態(tài)；該工藝還包括(1)在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對(duì)運(yùn)動(dòng)；(2)在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸；(3)分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，在(2)之前，該工藝還包括 調(diào)整所述基板的側(cè)邊與所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，所述(1)為驅(qū)動(dòng)所述承載裝置使得摩擦布沿基板表面的方向運(yùn)動(dòng)；所述(2)為移動(dòng)所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸；所述(3)為移動(dòng)所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相分離；或者所述(1)為驅(qū)動(dòng)所述固定裝置使得基板沿基板表面的方向運(yùn)動(dòng)；所述(2)為移動(dòng)所述承載裝置使得所述摩擦布的平整表面與所述薄膜相接觸；所述(3)為移動(dòng)所述承載裝置使得所述摩擦布的平整表面與所述薄膜相分離。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，所述在固定裝置上固定涂敷 有用于形成取向膜的薄膜的基板為在設(shè)有真空吸附結(jié)構(gòu)的第一基臺(tái)上固定涂敷有用于形 成取向膜的薄膜的基板。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，在承載裝置上承載摩擦布為 在第二基臺(tái)的臺(tái)面上貼附表面平整的摩擦布。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，在承載裝置上承載摩擦布為 在兩個(gè)轉(zhuǎn)輥上纏繞摩擦布；所述(1)為驅(qū)動(dòng)其中一個(gè)轉(zhuǎn)輥轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)所述摩擦布運(yùn)動(dòng)使得 摩擦布形成繃緊平整邊和松邊，所述摩擦布的平整表面為所述繃緊平整邊。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，該工藝還包括在所述繃緊平 整邊和松邊之間設(shè)置抵觸板，并且所述抵觸板抵觸到所述繃緊平整邊。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的取向膜摩擦工藝，其特征在于，該工藝還包括在所述繃緊平 整邊和松邊之間還設(shè)置至少一個(gè)轉(zhuǎn)輥，并且所述至少一個(gè)轉(zhuǎn)輥抵觸到所述繃緊平整邊和松 邊。
9. 一種取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，包括 承載裝置，用于承載摩擦布；固定裝置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板與摩擦布表面之 間為平行相對(duì)的狀態(tài)；動(dòng)力系統(tǒng)，用于在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對(duì)運(yùn)動(dòng)；該 動(dòng)力系統(tǒng)還用于在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸，并分離所述薄膜與 所述摩擦布的平整表面。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備還包括 調(diào)整裝置，用于調(diào)整所述基板的側(cè)邊與所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向的夾角。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，所述動(dòng)力系統(tǒng)包括第一動(dòng)力裝置，用于驅(qū)動(dòng)所述承載裝置使得摩擦布沿基板表面的方向運(yùn)動(dòng)；第二動(dòng)力 裝置，用于移動(dòng)所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接觸；該第二動(dòng)力 裝置還用于移動(dòng)所述固定裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相分離；或者 第三動(dòng)力裝置，用于驅(qū)動(dòng)所述固定裝置使得基板沿基板表面的方向運(yùn)動(dòng)； 第四動(dòng)力裝置，用于移動(dòng)所述承載裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相接 觸；該第四動(dòng)力裝置還用于移動(dòng)所述承載裝置使得所述薄膜與所述摩擦布的平整表面相分 離。
12. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，所述固定裝置為設(shè)有真空吸 附結(jié)構(gòu)的第一基臺(tái)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，所述承載裝置為第二基臺(tái)， 所述摩擦布貼附在第二基臺(tái)的臺(tái)面上形成摩擦布的平整表面。
14. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，所述承載裝置包括兩個(gè)轉(zhuǎn) 輥，所述摩擦布纏繞在所述兩個(gè)轉(zhuǎn)輥上，所述第一動(dòng)力裝置通過(guò)驅(qū)動(dòng)其中一個(gè)轉(zhuǎn)輥轉(zhuǎn)動(dòng)帶 動(dòng)所述摩擦布運(yùn)動(dòng)使得摩擦布形成繃緊平整邊和松邊，所述摩擦布的平整表面為所述繃緊 平整邊。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，所述繃緊平整邊和松邊之 間還設(shè)置有抵觸板，并且所述抵觸板抵觸到所述繃緊平整邊。
16. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的取向膜摩擦設(shè)備，其特征在于，所述繃緊平整邊和松邊之 間還設(shè)置有至少一個(gè)轉(zhuǎn)輥，并且所述至少一個(gè)轉(zhuǎn)輥抵觸到所述繃緊平整邊和松邊。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種取向膜摩擦工藝及設(shè)備，涉及液晶顯示器件的加工工藝和設(shè)備，解決了現(xiàn)有取向膜摩擦工藝中會(huì)出現(xiàn)取向膜溝痕不均勻、生產(chǎn)效率低的情況。本發(fā)明實(shí)施例包括在固定裝置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承載裝置上承載摩擦布，所述基板與摩擦布表面之間為平行相對(duì)的狀態(tài)；然后在所述摩擦布與所述基板之間形成沿基板表面的方向的相對(duì)運(yùn)動(dòng)；并且在所述薄膜與所述摩擦布的平整表面之間形成面接觸；最后分離所述薄膜與所述摩擦布的平整表面。本發(fā)明實(shí)例主要用于液晶顯示器件加工過(guò)程中，對(duì)薄膜進(jìn)行摩擦得到取向膜的工藝中，例如在彩色濾光片基板和TFT陣列基板形成取向膜的工藝。
文檔編號(hào)G02F1/1337GK101770115SQ20081024754
公開日2010年7月7日 申請(qǐng)日期2008年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月30日
發(fā)明者車春城 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司