專利名稱：光波導(dǎo)路裝置的制造方法以及由此獲得的光波導(dǎo)路裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在光通信、光信息處理、其它一般光學(xué) 中廣泛應(yīng)用的光波導(dǎo)路裝置的制造方法以及由此獲得的光波
導(dǎo)路裝置。
背景技術(shù)：
通常，光波導(dǎo)路裝置通過(guò)光波導(dǎo)路傳播從發(fā)光元件發(fā)出 的光，相反，使受光元件接收由光波導(dǎo)路傳播來(lái)的光，從而
進(jìn)4亍光l禺合(optical coupling),例如圖8所示構(gòu)造。該光波 導(dǎo)路裝置包括光波導(dǎo)路，該光波導(dǎo)路由在基板l上設(shè)置固定的 發(fā)光元件2、下敷層3、芯層4和上敷層5構(gòu)成，按照箭頭所示 傳播光。
在上述光波導(dǎo)路裝置中，為了降低光耦合損失，需要準(zhǔn) 確地將發(fā)光元件2的光軸和芯層4的光軸的位置對(duì)合，在與光 軸正交的2個(gè)方向(左右方向和上下方向)進(jìn)行嚴(yán)格的位置調(diào) 整。但是，在上述位置調(diào)整中需要特殊的構(gòu)件，或者在該位 置調(diào)整中需要花費(fèi)很多時(shí)間和勞力，因此，存在組裝成本變 高的問(wèn)題。
因此，例如，公示有一種包括對(duì)位標(biāo)記的光波導(dǎo)路組件， 該對(duì)位標(biāo)記在距離受發(fā)光元件的受發(fā)光部規(guī)定距離的位置反 射或者吸收位置調(diào)整用光(參照專利文獻(xiàn)l)。 專利文獻(xiàn)l:日本特開(kāi)2005-134444號(hào)乂>凈艮 采用上述光波導(dǎo)路組件雖然具有在位置調(diào)整中不需要使 用特殊構(gòu)件的優(yōu)點(diǎn)，但是，仍然需要將受發(fā)光元件的對(duì)位標(biāo) 記作為記號(hào)進(jìn)行位置調(diào)整，因此，無(wú)法解決對(duì)位所需的時(shí)間和勞力的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情況而做出的，其目的在于提供一種 能夠簡(jiǎn)單且準(zhǔn)確地對(duì)受發(fā)光元件的光軸與光波導(dǎo)路的光軸的 位置對(duì)合，能夠縮短制造時(shí)間的優(yōu)秀的光波導(dǎo)路裝置制造方 法以及由此獲得的光波導(dǎo)路裝置。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的第l技術(shù)方案在于提供一種
光波導(dǎo)路裝置的制造方法，包括在基板上表面形成下敷層 的工序；^爭(zhēng)越上述下敷層上表面以及基^反上表面的受發(fā)光元
件設(shè)置預(yù)定部而形成芯形成材料層的工序；使上述芯形成材 料層局部固化，通過(guò)去除未固化部分形成包括光入射面或光 射出面的芯層，同時(shí)形成受發(fā)光元件設(shè)置用的左右方向?qū)ξ?用導(dǎo)向部的工序；沿著上述左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部，在基板 上設(shè)置受發(fā)光元件的工序。
另外，本發(fā)明的第2技術(shù)方案特別在于提供一種裝置的制 造方法，其中包括用樹(shù)脂密封在上述基板上設(shè)置的受發(fā)光 元件、芯層的至少光入射面或者光射出面，從而形成光傳播 層的工序；第3技術(shù)方案在于提供一種光波導(dǎo)路裝置的制造方 法，使用與上述芯形成材料相同的材料進(jìn)行上述樹(shù)脂密封。
而且，本發(fā)明的第4技術(shù)方案在于提供一種通過(guò)上述第1 技術(shù)方案中的制造方法獲得的光波導(dǎo)路裝置，在基板上表面 形成下敷層，在其上表面形成包括光入射面或者光射出面的 芯層，并且在上述基板上形成由與上述芯層相同的材料構(gòu)成 的受發(fā)光元件設(shè)置用的左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部，沿著該左右 方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部，在基板上設(shè)置受發(fā)光元件。
而且，本發(fā)明的第5技術(shù)方案在于提供一種光波導(dǎo)路裝置，其中，特別是用樹(shù)脂密封在上述基板上設(shè)置的受發(fā)光元 件、和芯層的至少光入射面或光射出面，形成光傳播層。
即，本發(fā)明人對(duì)于不采用特殊構(gòu)件、簡(jiǎn)單且準(zhǔn)確地進(jìn)行 受發(fā)光元件與光波導(dǎo)路對(duì)位的方法重復(fù)進(jìn)行了深入研究。其 結(jié)果是，在形成光波導(dǎo)路中的芯層時(shí)，使用其芯形成材料層 同時(shí)形成用于對(duì)受發(fā)光元件與光波導(dǎo)路對(duì)位的對(duì)位用導(dǎo)向 部，則能夠準(zhǔn)確且簡(jiǎn)單地相對(duì)于芯層的光傳播用端面確定上 述對(duì)位用導(dǎo)向部的位置，其結(jié)果是，能夠不花費(fèi)任何時(shí)間和 勞力、準(zhǔn)確地對(duì)受發(fā)光元件進(jìn)行定位，達(dá)到本發(fā)明的目的。
若根據(jù)本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置的制造方法，則如上所述， 在形成光波導(dǎo)路的芯層時(shí)，由于使用其芯形成材料層同時(shí)形 成用于對(duì)受發(fā)光元件和光波導(dǎo)路對(duì)位的對(duì)位用導(dǎo)向部，因此， 不需要另外準(zhǔn)備對(duì)位用構(gòu)件的時(shí)間和勞力。而且，由于在制 造光掩模等時(shí)，能夠準(zhǔn)確且簡(jiǎn)單地將上述對(duì)位用導(dǎo)向部相對(duì) 于芯層的光傳播端面定位，因此，具有能夠高精度對(duì)受發(fā)光 元件進(jìn)行定位的優(yōu)點(diǎn)。
而且，上述制造方法中，特別是包括用樹(shù)脂密封在上述 基板上設(shè)置的受發(fā)光元件、和芯層的至少光入射面或者光射 出面，從而形成光傳播層的工序的制造方法，即使上述受發(fā) 光元件和芯層的入射面或者射出面的定位多少有些偏差，但 由于經(jīng)過(guò)上述光傳播層傳播光，因此對(duì)兩者定位更加簡(jiǎn)單。 另外，其中，特別是使用與芯形成材料相同的材料進(jìn)行上述 樹(shù)脂密封，通過(guò)上述樹(shù)脂密封形成的光傳播層與芯層具有完 全相同的折射率，因此，能夠?qū)⒐獾鸟詈蠐p失降低到最小限 度，這是理想的。
進(jìn)而，本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置在準(zhǔn)確定位光軸的狀態(tài)下 進(jìn)行光耦合，因此，能夠傳播高強(qiáng)度的光。而且，在上述光波導(dǎo)路裝置中，特別是用樹(shù)脂密封在上 述基板上設(shè)置的受發(fā)光元件、和芯層的至少光入射面或光射 出面，形成光傳播層，很大程度地減少光電耦合損失，能夠 傳播更高強(qiáng)度的光。


圖l為示意地表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光波導(dǎo)路裝置制造 工序的說(shuō)明圖。
圖2的(a)為示意地表示上述光波導(dǎo)路裝置制造工序的說(shuō) 明圖，(b )為其俯視圖。
圖3的(a)為示意地表示上述光波導(dǎo)路裝置制造工序的說(shuō) 明圖，(b)為其右側(cè)視圖，
圖4的(a)為示意地表示上述光波導(dǎo)路裝置制造工序的說(shuō) 明圖，(b )為其右側(cè)視圖。
圖5為示意地表示上述光波導(dǎo)路裝置制造工序的說(shuō)明圖。
圖6為示意地表示上述光波導(dǎo)路裝置制造工序的說(shuō)明圖。
圖7為示意地表示通過(guò)本發(fā)明所獲得的光波導(dǎo)路裝置的另 一方式的說(shuō)明圖。
圖8為示意地表示以往的光波導(dǎo)路裝置的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
接著，對(duì)本發(fā)明的最佳實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
即，作為本發(fā)明的一個(gè)例子，以制造光耦合發(fā)光元件和 光波導(dǎo)路而成的光波導(dǎo)路裝置為例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
根據(jù)該例子，首先如圖l所示，準(zhǔn)備平板狀基板IO,在其 上表面的規(guī)定領(lǐng)域形成下敷層ll。
作為形成上述基板10的材料，優(yōu)選包括低CTE、耐溶劑性的材料，另外，考慮到需要進(jìn)行處理，優(yōu)選具有一定厚度
且一定剛性的材料。具體有例如玻璃、石英、硅、樹(shù)脂、 金屬等。另外，根據(jù)基板10的材質(zhì)或需求特性適當(dāng)設(shè)定基板 IO的厚度，例如，當(dāng)材料為聚酯樹(shù)脂(PET)、聚碳酸酯樹(shù)脂 (PC)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等時(shí)，通常優(yōu)選厚度為 50~ 300(im;當(dāng)材料為玻璃板或石英板時(shí)，通常優(yōu)選厚度為 1 ~ 5mm。
另外，作為形成上述下敷層ll的材料，使用將感光性樹(shù) 脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂等溶解到溶劑中形成的漆 (varnish)。而且，通過(guò)例如旋轉(zhuǎn)涂ft法、浸漬法、澆鑄法、 注射法、噴墨法等在基板10上涂敷上述漆，使其固化，從而 能夠獲得下敷層ll。
另外，使用感光性樹(shù)脂作為形成下敷層ll的材料時(shí)，照 射紫外線等，對(duì)規(guī)定領(lǐng)域進(jìn)行曝光而使下敷層ll固化。紫外 線的照射量通常為10 ~ 10000mJ/cm2，優(yōu)選的是為50 ~ 3000mJ/cm2。另外，使用聚酰亞胺樹(shù)脂作為形成下敷層11的 材料時(shí)，通常通過(guò)300 ~ 400°Cx60 ~ 180分鐘的加熱處理使其 固化。
優(yōu)選的是，將上述下敷層ll的厚度設(shè)定為25 ~ 300nm, 通常，考慮到芯層16 (參照?qǐng)D7)的高度和發(fā)光元件19的高度 設(shè)定該厚度，使二者的光軸高度相同。但是，在本發(fā)明中， 如下所述，在上述芯層16的入射面16a和發(fā)光元件19之間進(jìn)行 密封樹(shù)脂，能夠形成光傳播層(參照?qǐng)D5 )。通常考慮到由于 通過(guò)沖切將晶圓切分成芯片，發(fā)光元件19具有士25[im左右的 尺寸偏差，因此，在設(shè)計(jì)上使芯層16與發(fā)光元件19的高度一 致，則通過(guò)密封上述樹(shù)脂，能夠彌補(bǔ)由于尺寸偏差產(chǎn)生的誤 差。接著，如圖2的(a)所示，在上述下敷層ll上表面和基 板10上表面的發(fā)光元件設(shè)置預(yù)定部上，通過(guò)涂敷芯形成材料 形成芯形成材料層12。
作為上述芯形成材料層，通常使用將感光性樹(shù)脂溶解到 溶劑中形成的漆，獲得的芯層16的折射率必須大于上述下敷 層11以及下述上敷層21 (參照?qǐng)D6 )。例如，通過(guò)選擇形成上 述下敷層ll、芯層16、上敷層21的各種材料的種類、或調(diào)整 上述各種材料的組成，能夠調(diào)整上述折射率。
而且，形成上述芯形成材料層12與形成上述下敷層11相 同，首先，通過(guò)例如旋轉(zhuǎn)涂敷法、浸漬法、澆鑄法、注射法、 噴墨法等，在上述下敷層11上表面和基板10上表面的發(fā)光元 件設(shè)置預(yù)定部上以規(guī)定厚度涂敷芯形成材料、即漆。另外， 之后，通常進(jìn)行50 ~ 120°CxlO ~ 30分鐘的力口熱處理，使上述 芯形成材料層12固化。
接著，如圖2的(a)的俯視圖、即圖2的(b)所示，用 光掩模15覆蓋上述芯形成材料層12，并通過(guò)照射線對(duì)上述芯 形成材料層12進(jìn)行曝光。該光掩模15設(shè)有通過(guò)光反應(yīng)僅使必 要部分固化的開(kāi)口圖案13、 14(圖中，以網(wǎng)紋進(jìn)行表示)。通 過(guò)上述開(kāi)口圖案13曝光的部分形成構(gòu)成光波導(dǎo)路的芯層16， 通過(guò)上述開(kāi)口圖案14曝光的部分形成左右一對(duì)設(shè)置發(fā)光元件 用的左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部17 (參照?qǐng)D3)。將上述開(kāi)口圖案 13、 14配置在準(zhǔn)確位置，從而，從在基板10上表面設(shè)置的發(fā) 光元件19發(fā)出的光的光軸通過(guò)所形成的芯層16中心。
作為上述曝光用的照射線，使用例如可見(jiàn)光、紫外線、 紅外線、X射線、a射線、P射線和Y射線等。優(yōu)選使用紫外 線。其原因在于，若使用紫外線，則照射較多能量，能夠使 固化速度較快，而且，照射裝置能夠變小且價(jià)格便宜，能夠降低生產(chǎn)成本。作為紫外線的光源，有例如低壓水銀燈、高 壓水銀燈、超高壓水銀燈等，紫外線的照射量通常為10 ~
10000mJ/cm2，優(yōu)選50 ~ 3000mJ/cm2。
然后，在上述曝光后，為了完成光反應(yīng)，進(jìn)行加熱處理。 在80~ 250°C、優(yōu)選的是在100 - 200。C進(jìn)行該加熱處理10秒 鐘~ 2小時(shí)、優(yōu)選5分鐘~ l小時(shí)。之后，使用顯影液進(jìn)行顯影， 從而使上述芯形成材料層12中的未曝光部分(未固化部分) 溶解而將其去除，獲得與上述開(kāi)口圖案13、 14一致的圖案固 化部分。然后，再通過(guò)加熱處理，將殘留在該固化部分上的 顯影液去除。從而，如圖3的(a)以及作為圖3的(a)的右 側(cè)視圖的圖3的(b)所示，能夠獲得芯層16和左右方向?qū)ξ?用導(dǎo)向部17。
另外，采用例如浸漬法、噴霧法、攪拌法等進(jìn)行上述顯 影。另外，顯影劑使用例如有機(jī)溶劑、含有堿水溶液的有機(jī) 溶劑等。根據(jù)芯形成材料的組成，適當(dāng)選擇上述顯影劑以及 顯影條件。另外，用于去除殘留的顯影液的加熱處理通常在 80 ~ 120°CxlO ~ 30分鐘范圍內(nèi)進(jìn)4亍。
通常將如上所述獲得的芯層16與左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部 17的厚度設(shè)定在10~ 80(im范圍內(nèi)，通常將其左右方向的寬度 設(shè)定在10~ 500)im范圍內(nèi)。
接著，如圖4的(a)以及作為圖4的(a)的右側(cè)視圖的 圖4(b)所示，將搭載到撓性印刷電路基板(FPC基板)18 上的發(fā)光元件19嵌入上述左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部17內(nèi)側(cè)，通
下將該發(fā)光元件19設(shè)置到基板10上表面。另外，可以不用粘 接劑載置或者使用少量粘接劑臨時(shí)固定上述發(fā)光元件19。也 就是說(shuō)，如下所述在下一個(gè)工序中，再用樹(shù)脂密封上述發(fā)光元件19,從而將其固定到基板10上。
作為上述發(fā)光元件19,使用例如發(fā)光二極管、激光二極 管、VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser: 垂直
腔面發(fā)射激光器)等。
個(gè)部分滴下樹(shù)脂材料，覆蓋該部分后，使其固化。從而如圖5 所示，用樹(shù)脂密封發(fā)光元件19和芯層16的入射面16a,該部分 形成光傳播層20。
作為上述樹(shù)脂密封所使用的樹(shù)脂，基于由于該部分形成 光傳播層20而產(chǎn)生耦合損失的觀點(diǎn)，優(yōu)選采用與上述芯層16 折射率相同的樹(shù)脂，與上述芯層16使用的樹(shù)脂材料相同，通 常，適當(dāng)使用將感光性樹(shù)脂溶解到溶劑中形成的漆。因此， 選擇使用與上述芯形成材料相同的材料，無(wú)論從耦合損失方 面還是從工作效率方面來(lái)說(shuō)都是適宜的。但是，若是折射率 大于下敷層11以及上敷層21的材料，基本上是可以使用的。
而且，上述樹(shù)脂密封用樹(shù)脂材料的固化根據(jù)使用的樹(shù)脂 種類、樹(shù)脂材料的組成等，選擇適當(dāng)?shù)姆椒ǎ渲?，將感?性樹(shù)脂作為形成樹(shù)脂材料的樹(shù)脂成分使用，優(yōu)選對(duì)其采用點(diǎn) 狀紫夕卜線照射的方法，該點(diǎn)狀紫外線照射時(shí)間為數(shù)秒鐘。
另外，上述樹(shù)脂密封獲得的光傳播層20的大小被設(shè)定成 能夠?qū)l(fā)光元件19和芯層16的入射面16a與空氣隔離的程度， 通常，將厚度(高度)設(shè)定為50~ 100(im,將直徑設(shè)定為80 200jim。
接著，如圖6所示，在上述光傳播層20以及芯層16上形成 上敷層21。形成該上敷層21的材料，例如與上述下敷層ll的 材料相同。而且，形成該上敷層21的材料可以與形成上述下 敷層ll的材料相同，也可以不同，但從設(shè)計(jì)光波導(dǎo)路方面來(lái)看，優(yōu)選使用相同材料。
另外，作為形成上述上敷層21的方法，有例如模具填充 法、涂膜形成法等，其中，模具填充法在防止氣泡混入或形 成均勻膜厚方面是優(yōu)選的。而且，其固化方法也與上述下敷 層ll相同，省略對(duì)其說(shuō)明，其中，優(yōu)選通過(guò)照射紫外線和后 烘烤使其固化。另外，優(yōu)選的是，通常將上述上敷層21的厚
度設(shè)定在20 ~ 100pm范圍內(nèi)。
另外，形成上述上敷層21時(shí)，其下的芯層16以及光傳播 層20完全由上述上敷層21覆蓋，這從防止污染或者防止受損 的方面來(lái)看是優(yōu)選的，但是，即使該芯層16以及光導(dǎo)電層20
的局部或者整體露出也沒(méi)有問(wèn)題，能夠地發(fā)揮功能。
如上所述，能夠在基板10上表面荻得耦合了發(fā)光元件19
和光波導(dǎo)路的光波導(dǎo)路裝置(參照?qǐng)Dl)。
若根據(jù)制造上述光波導(dǎo)路裝置的方法，則通過(guò)與芯層16 同時(shí)形成的左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部17，可簡(jiǎn)單且準(zhǔn)確地確定 光耦合位置，因此，能夠獲得低成本、高品質(zhì)的光波導(dǎo)路裝 置。特別是在通過(guò)光刻法同時(shí)制作許多個(gè)光耦合部的觸摸面 板中優(yōu)選4吏用該制造方法。
而且，如上述例子所述，通過(guò)上述左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向 部17確定左右方向的位置，由于形成上述光傳播層20,省去 了上下方向的定位，則能夠大幅度減少定位所需時(shí)間、勞力 和成本，是優(yōu)選的。
另外，上述例子適用于向芯層16入射發(fā)光元件19發(fā)出的 光的形成光耦合的光波導(dǎo)路裝置，本發(fā)明也適用于向受光元 件入射芯層16射出的光的形成光耦合的光波導(dǎo)路裝置。
接著，對(duì)實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。但是，本發(fā)明不限于下述實(shí) 施例。(形成下敷層和上敷層的材料)
雙苯氧乙醇藥基縮水甘油醚(成分A): 35重量份、脂環(huán)式 環(huán)氧樹(shù)脂，即3' , 4'-環(huán)氧環(huán)己基曱基3， 4-環(huán)氧己烯羧酸酯 (大賽璐化學(xué)工業(yè)公司制造，CELLOXIDE2021P )(成分B ): 40重量份、(, -環(huán)氧環(huán)己烷)甲基3' ，4'-環(huán)氧環(huán)己基 羧酸酯(大賽璐化學(xué)工業(yè)公司制造，CELLOXIDE2081 )(成 分Ch 25重量份、和4， -雙[二 ( P羥基乙氧基)苯基亞硫 酸基]苯基碌"酸-雙-六氟銻酸鹽的50%石灰酸丙二酯溶液(光酸發(fā) 生劑成分D): l重量份混合，調(diào)制成下敷層和上敷層的形成 材料。
(形成芯層以及光傳播層的材料)
將70重量份的上述成分A、 30重量份的1， 3, 3-三{4-[2-(3-氧雜環(huán)丁烷)]丁氧基苯基}丁烷、和0.5重量份的上述成分 D,溶解到28重量份的乳酸乙烷28中，調(diào)制成芯層以及光傳播 層的形成材料。
(制作光波導(dǎo)路裝置) 首先，通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷法將形成下敷層的材料涂敷到玻璃基 板(厚度為1.0mm)上表面之后，照射2000mJ/cm2的紫外線。 接著，進(jìn)行120。Cxl5分鐘的加熱處理，從而形成下敷層(厚度 為125,)。
接著，通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷法將形成上述芯層的材料涂敷到上 述下敷層上表面之后，進(jìn)行100。Cxl5分鐘的干燥處理。接著， 在其上方形成合成石英系的光掩模，其中，該光掩模形成有 形狀與芯圖案相同的開(kāi)口圖案、和能形成左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo) 向部的開(kāi)口圖案形成，該左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部能夠相對(duì)上
述芯圖案準(zhǔn)確確定發(fā)光元件在左右方向上的位置。然后，通 過(guò)接觸曝光法從其上方照射3000mJ/cm2的紫外線，進(jìn)行曝光之后，進(jìn)行80。Cxl5分鐘的加熱處理。接著，使用Y-丁內(nèi)酯 重量占10%的水溶液進(jìn)行顯影，從而溶解去除未曝光部分之 后，進(jìn)行120。Cxl5分鐘的加熱處理，形成芯層(截面尺寸 寬度12nmx高度24)im )以及左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部(截面尺 寸與芯層相同)。
接著，沿著左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部，將搭載到FPC基板 上的VCSEL (元4牛尺寸長(zhǎng)300(imx寬300iimx高200iim，發(fā) 光點(diǎn)高150)im)定位，同時(shí)設(shè)置到上述基板上表面的上述左 右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部間的空間內(nèi)，使用少量紫外線固化粘接 劑進(jìn)行臨時(shí)固定。
而且，向上述下敷層上表面滴下形成上述光傳播層的材 料之后，點(diǎn)狀紫外線照射2000mJ/cn^x2秒鐘，從而，覆蓋上 述VCSEL和上述芯層的入射面。從而，形成密封樹(shù)脂高70pm、 直徑130jim的光傳播層。
接著，通過(guò)模具填充法，在上述下敷層以及芯層、光傳 播層上填充形成上敷層的材料，照射3000mJ/cn^的紫外線之 后，進(jìn)行120。Cxl5分鐘的加熱處理，從而形成上敷層(厚度 為50[im )。
如上所述，能夠在玻璃基板上制造光波導(dǎo)路裝置，其中， 該光波導(dǎo)路裝置由埋設(shè)VCSEL的下敷層、芯層、光傳播層和 上敷層構(gòu)成。
可以看出，經(jīng)過(guò)光波導(dǎo)路之后的光量為通過(guò)主動(dòng)對(duì)位完 全調(diào)心后光量的80%,光的耦合損失減少，品質(zhì)變高。
權(quán)利要求
1. 一種光波導(dǎo)路裝置的制造方法，其特征在于，包括在基板上表面形成下敷層的工序；跨越上述下敷層上表面以及基板上表面的受發(fā)光元件設(shè)置預(yù)定部而形成芯形成材料層的工序；使上述芯形成材料層局部固化、通過(guò)去除未固化部分形成包括光入射面或光射出面的芯層、同時(shí)形成受發(fā)光元件設(shè)置用的左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部的工序；沿著上述左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部在基板上設(shè)置受發(fā)光元件的工序。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光波導(dǎo)路裝置的制造方法，包括 用樹(shù)脂密封在上述基板上設(shè)置的受發(fā)光元件、和芯層的至少光 入射面或光射出面，從而形成光傳播層的工序。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光波導(dǎo)路裝置的制造方法，使用 構(gòu)成從上述芯形成材料層的芯形成材料進(jìn)行上述樹(shù)脂密封。
4. 一種光波導(dǎo)路裝置，通過(guò)權(quán)利要求l所述的制造方法獲 得，其特征在于，在基板上表面形成下敷層，在該下敷層上表形成由與上述芯層相同的材料構(gòu)成的受發(fā)光元件設(shè)置用的左右 方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部，沿著該左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部在基板上i殳 置受發(fā)光元件。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光波導(dǎo)路裝置，用樹(shù)脂密封在上 述基板上設(shè)置的受發(fā)光元件、和芯層的至少光入射面或光射出 面，形成光傳播層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠簡(jiǎn)單且準(zhǔn)確地對(duì)受發(fā)光元件與光波導(dǎo)路的光軸進(jìn)行對(duì)位，能夠縮短制造時(shí)間的杰出的光波導(dǎo)路裝置的制造方法以及由此獲得的光波導(dǎo)路裝置。在基板(10)上表面形成下敷層(11)，在下敷層(11)上表面形成芯層(16)的同時(shí)，在上述基板(10)上形成由與上述芯層(16)相同的材料構(gòu)成的左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部(17)，沿著該左右方向?qū)ξ挥脤?dǎo)向部(17)在基板(10)上設(shè)置發(fā)光元件(19)。
文檔編號(hào)G02B6/13GK101430401SQ20081017523
公開(kāi)日2009年5月13日 申請(qǐng)日期2008年11月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月6日
發(fā)明者程野將行 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社