專利名稱：：感放射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡及其形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及感放射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡及其形成方法。
背景技術(shù)：
：薄膜晶體管(以下稱為"TFT")型液晶顯示元件或磁頭元件、集成電路元件、固體攝像元件等電子部件中，為了使配置成層狀的配線之間絕緣，通常設(shè)置層間絕緣膜。作為形成層間絕緣膜的材料，優(yōu)選用于獲得必需的圖案形狀的工序數(shù)少并且具有充分的平坦性的材料，所以廣泛使用感放射線性樹脂組合物(參見特開2001-354822及特開2001-343743)。上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件通過在上述層間絕緣膜上形成透明電極膜、進(jìn)而在其上形成液晶取向膜的工序制造，所以層間絕緣膜在透明電極膜的形成工序中暴露在高溫條件下，并暴露在用于形成電極圖案的抗蝕劑的剝離液中，所以必須具有對上述情況的充分的耐性。另外，近年來TFT型液晶顯示元件向大畫面化、高亮度化、高精細(xì)化、高速應(yīng)答化、薄型化等方向發(fā)展，要求用于該顯示元件的層間絕緣膜形成用組合物為高感度，并要求形成的層間絕緣膜具有低介電常數(shù)、高透射率等高于現(xiàn)有水平的高性能。作為上述低介電常數(shù)、高透射率的層間絕緣膜，已知丙烯酸樹脂和重氮醌的組合(特開2005-320542)、酚醛樹脂和重氮醌的組合(特開2003-255546)。但是，上述材料通過膜形成后的加熱工序而發(fā)生脫氣，存在透明性降低等問題。進(jìn)而，由目前已知的感放射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜時的顯影工序中，如果顯影時間比最佳時間略長，則可能發(fā)生圖案的剝離。因此，由感放射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜時，作為組合物要求具有高感度，并且即使形成工序中的顯影工序中顯影時間超過規(guī)定時間的情況下也不發(fā)生圖案剝離，顯示良好的密合性，并且由此形成的層間絕緣膜具有高耐熱性、高耐溶劑性、低介電常數(shù)、高透射率等，但是目前還沒有滿足上迷要求的感放射線性樹脂組合物。另一方面，作為傳真、電子復(fù)印機、固體攝像元件等單片濾色片的成像光學(xué)體系或光纖連接器的光學(xué)類材料，使用透鏡直徑為3~lOOpm左右的微透鏡、或規(guī)則地排列上述微透鏡形成的微透鏡陣列，為了形成微透鏡或微透鏡陣列，已知有以下方法形成相當(dāng)于透鏡的抗蝕劑圖案后，進(jìn)行加熱處理，使其熔融，直接用作透鏡的方法；或以熔融的透鏡圖案為掩模，進(jìn)行干式蝕刻，在基底上轉(zhuǎn)印透鏡形狀的方法等。為了形成上述透鏡圖案，廣泛使用感放射線性樹脂組合物(參見特開平6-18702及特開平6-136239)。但是，形成有上述微透鏡或微透鏡陣列的元件隨后被應(yīng)用于下述工序，即，為了除去作為配線形成部分的焊盤上的各種絕緣膜，涂布平坦化膜及蝕刻用抗蝕劑膜，使用所希望的掩模進(jìn)^f亍膝光、顯影，除去焊盤部分的蝕刻抗蝕劑，然后通過蝕刻除去平坦化膜或各種絕緣膜，露出焊盤部分的工序。因此，微透鏡或微透鏡陣列在平坦化膜及蝕刻抗蝕劑的涂膜形成工序及蝕刻工序中必須具有耐溶劑性和耐熱性。要求用于形成上迷微透鏡的感放射線性樹脂組合物為高感度，且由該組合物形成的微透鏡具有所希望的曲率半徑，具有高耐熱性、高透射率等。另外，由目前已知的感放射線性樹脂組合物得到的微透鏡如果在形成上述透鏡時的顯影工序中顯影時間略長于最佳時間，則顯影液浸透到圖案與基板之間，變得容易發(fā)生剝離，所以必須嚴(yán)格控制顯影時間，產(chǎn)品的成品率方面存在問題。這樣由感放射線性樹脂組合物形成微透鏡時，作為組合物要求高感度，并且即使在形成工序中的顯影工序的顯影時間略長于規(guī)定時間的情況下也不發(fā)生圖案剝離顯示良好的密合性，并且作為微透鏡具有良好的熔化形狀(所希望的曲率半徑)、高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率，目前仍然沒有滿足上述要求的感放射線性樹脂組合物。需要說明的是，作為高耐熱性'高透明性'低介電常數(shù)的材料，已知硅氧烷聚合物，還已知將其用于層間絕緣膜(特開2006-178436)。但是，為了使硅氧烷聚合物表現(xiàn)出充分的耐熱性，硅氧烷聚合物的充分交聯(lián)是必須的，因此必須進(jìn)行250300'C以上的高溫?zé)?，存在不適用于生產(chǎn)顯示元件的工序的問題。另外，雖然嘗試將硅氧烷聚合物用于微透鏡，但是還沒有工業(yè)上成功的例子。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是基于以上事實完成的。因此，本發(fā)明的目的在于提供感放射線性樹脂組合物，該感放射線性樹脂組合物在不足250。C的燒成條件下，用于形成層間絕緣膜時，能夠形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率、低介電常數(shù)的層間絕緣膜，并且用于形成微透鏡時能夠形成具有高透射率和良好的熔化形狀的微透鏡。本發(fā)明的其他目的在于提供感放射線性組合物，該感放射線性組合物具有高感放射線感度，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好的圖案形狀的顯影裕度，能夠容易地形成密合性優(yōu)異的圖案狀薄膜。本發(fā)明的另一個目的是提供使用上述感放射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜及微透鏡的方法。本發(fā)明的另一個目的是提供由本發(fā)明的方法形成的層間絕緣膜及微透鏡。本發(fā)明的另一個目的及優(yōu)點通過以下的i兌明進(jìn)一步明確。根據(jù)本發(fā)明，本發(fā)明的上述目的及優(yōu)點，第l，通過感放射線性樹脂組合物而實現(xiàn)，該感放射線性樹脂組合物含有[A]具有選自環(huán)氧乙烷基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少l種基團(tuán)、和能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)的聚硅氧烷，及[B]l，2-重氮醌化合物。本發(fā)明的上述目的及優(yōu)點，第2,通過按下述順序包含以下工序的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法而實現(xiàn)。(1)在基板上形成上述感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將放射線照射后的被膜顯影的工序，及(4)加熱顯影后的被膜的工序。進(jìn)而本發(fā)明的上迷目的及優(yōu)點，第3通過由上述方法形成的層間絕緣膜或微透鏡而實現(xiàn)。圖l是微透鏡的剖面形狀的模式圖。具體實施方式以下詳細(xì)說明本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物。[A〗成分本發(fā)明中使用的[A]成分是具有選自環(huán)氧乙烷基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少l種基團(tuán)、和能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)的聚硅氧烷。作為上迷能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)，例如可以舉出羥基、巰基、氨基等。本發(fā)明中使用的[A]成分例如優(yōu)選含有下迷化合物(al)、(a2)的水解縮合物(以下稱為聚硅氧烷[A])。(al)具有選自環(huán)氧乙烷基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少l種基團(tuán)和水解性基團(tuán)的硅烷化合物(以下也稱為"化合物(al)")、(a2)具有能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)和水解性基團(tuán)的硅烷化合物(以下也稱為"化合物(a2)")?；衔?al)優(yōu)選為下述式(1)表示的硅烷化合物。(XV)aSiR、R2。(1)(式(1)中，X'為環(huán)氧乙烷基、縮水甘油基、環(huán)氧丙氧基、3,4-環(huán)氧環(huán)己基或3-氧雜環(huán)丁烷基，其中3-氧雜環(huán)丁烷基的3位碳可以被碳數(shù)l~6的烷基取代，丫1為單鍵、亞甲基或碳數(shù)26的亞烷基，1^為碳數(shù)1~6的烷氧基或碳數(shù)2~6的酰氧基，W為碳數(shù)l~6的烷基或碳數(shù)6~12的芳基，a及b分別獨立地表示l~3的整數(shù)，c為02的整數(shù)，其中a+b+c-4。)作為可以取代在上述式(1)中的X'的3-氧雜環(huán)丁烷基的3位碳上的碳數(shù)1~6的烷基，優(yōu)選碳數(shù)1~3的烷基，例如可以舉出甲基、乙基、正丙基等。作為Y1,優(yōu)選亞曱基、或碳數(shù)2或3的亞烷基。作為Y^々碳數(shù)2或3的亞烷基，例如可以舉出亞乙基、三亞甲基等。作為R1，優(yōu)選碳數(shù)l~3的烷氧基或碳數(shù)2~4的酰氧基，例如可以舉出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、乙?；?。作為R2，優(yōu)選碳數(shù)1~4的烷基或碳數(shù)6~8的芳基，例如可以舉出甲基、乙基、苯基等。作為該化合物(al)的具體例，可以分別舉出以下化合物作為含有環(huán)氧乙烷基的硅烷化合物，例如有環(huán)氧丙氧基甲基三甲氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基三乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基三正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基三異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基三乙酰氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基曱基二曱氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基甲基二乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基甲基二正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基甲基二異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基甲基二乙酰氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基乙基二甲氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基乙基二乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基乙基二正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基乙基二異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基乙基二乙酰氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二甲氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三甲氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基甲基二甲氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基甲基二乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基甲基二異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二甲氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二甲氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基曱基二甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基甲基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基甲基二異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基乙基二甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基乙基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基苯基二曱氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基苯基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基苯基二乙酰氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基三曱氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基三乙氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)曱基三正丙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基三乙酰氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基甲基二甲氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)曱基甲基二乙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氣環(huán)己基)甲基甲基二正丙氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基甲基二乙酰氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基乙基二甲氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)曱基乙基二乙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基乙基二正丙氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)曱基苯基二甲氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基苯基二乙氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基苯基二正丙氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)甲基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基曱基二乙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基乙基二甲氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基苯基二甲氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基三甲氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基三乙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(3'，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基乙基二曱氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基9乙基二正丙氧基硅烷、3-(3，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基乙基二乙醜氧基硅烷、3-(3，，4'-環(huán)氧環(huán)己基)丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷等；作為含有氧雜環(huán)丁烷基的硅烷化合物，例如有(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三乙酰氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基甲基二甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二乙酰氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三甲氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二甲氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二甲氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基笨基二乙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三甲氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三乙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三正丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三異丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三乙酰氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二曱氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二乙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二正丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二異丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二乙酰氧基硅烷、(3-甲基氣雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二甲氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二乙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二正丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二甲氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二乙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二正丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基笨基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二異丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二甲氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二甲氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二曱氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3'-基)丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷、(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)甲基三甲氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三乙酰氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二甲氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基曱基二正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基曱基二乙酰氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二甲氧基硅烷、(3-乙基氣雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙酰氣基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二甲氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二曱氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基笨基二甲氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷等。其中，3-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基三乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧丙基曱基二曱氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷或3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氣基硅烷提高感放射線性樹脂組合物的感度，增加顯影裕度，使耐熱性提高，故而優(yōu)選使用。上述化合物(al)可以單獨使用l種，或者組合2種以上進(jìn)行使用。作為化合物(a2)中的能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)，例如可以舉出羥基、巰基、氨基等。該氨基優(yōu)選伯氨基或仲氨基。作為水解性基團(tuán)，例如可以舉出烷氧基、酰氧基、烷氧基烷氧基等。該烷氧基具有的碳數(shù)優(yōu)選為l~6，酰氧基具有的碳數(shù)優(yōu)選為2~6，烷氧基烷氧基具有的碳數(shù)優(yōu)選為2~8?；衔颱2)優(yōu)選為下述式(2)表示的硅烷化合物。(X2Y2)dSiR3eR4f(2)(式(2)中，X匸為羥基、輕基苯基、羥基苯基羰氧基、巰基或氨基，丫2為單鍵、亞甲基、碳數(shù)2~6的亞烷基或下述式(2-1)表示的二價基團(tuán)，-Y3-Z-Y4-(2-1)(式(2-l)中，丫3為亞甲基、碳數(shù)2~6的亞烷基或碳數(shù)6~12的亞芳基，丫4為單鍵、亞甲基或碳數(shù)2~6的亞烷基，Z為硫原子或羥基亞甲基，其中式(2-1)的左側(cè)與基團(tuán)乂2鍵合。)W為碳數(shù)l~6的烷氧基、碳數(shù)2~6的酰氧基或碳數(shù)2~8的烷氧基烷氧基，W為碳數(shù)l~6的烷基或碳數(shù)6~12的芳基，d及e分別獨立表示l-3的整數(shù)，f為02的整數(shù)，其中d+e+f-4。)作為上述式(2)中的乂2的羥基苯基，優(yōu)選4-羥基苯基，作為羥基苯基羰氧基，優(yōu)選對羥基苯基羰氧基。作為乂2的氨基，可以為伯氨基或仲氨基，例如可以舉出伯氨基、N-苯基氨基、N-2-(氨基乙基)氨基等。作為Y2，優(yōu)選亞甲基或碳數(shù)2或3的亞烷基。作為丫2的碳數(shù)2或3的亞烷基，例如可以舉出亞乙基、三亞甲基等。作為R3，優(yōu)選碳數(shù)1~3的烷氧基、碳數(shù)2~4的酰氧基或碳數(shù)2~6的烷氧基烷氧基，例如可以舉出曱氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、乙酰基、曱氧基乙氧基等。作為R4，優(yōu)選碳數(shù)l~4的烷基或碳數(shù)6~8的芳基，例如可以舉出甲基、乙基、苯基等。作為化合物(a2)的具體例，可以分別舉出下述化合物作為含有羥基的硅烷化合物，例如有羥基甲基三甲氧基硅烷、羥基甲基三乙氧基硅烷、羥基曱基三正丙氧基硅烷、羥基甲基三異丙氧基硅烷、羥基曱基三乙酰氧基硅烷、羥基甲基三(甲氧基乙氧基)硅烷、羥基甲基甲基二甲氧基硅烷、羥基甲基曱基二乙氧基硅烷、羥基甲基曱基二正丙氧基硅烷、羥基甲基曱基二異丙氧基硅烷、羥基甲基甲基二乙酰氧基硅烷、羥基曱基乙基二曱氧基硅烷、羥基甲基乙基二乙氧基硅烷、羥基甲基乙基二正丙氧基硅烷、羥基甲基乙基二異丙氧基硅烷、羥基曱基乙基二乙酰氧基硅烷、羥基甲基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、羥基甲基苯基二曱氧基硅烷、羥基曱基苯基二乙氧基硅烷、羥基甲基苯基二正丙氧基硅烷、羥基曱基苯基二異丙氧基硅烷、羥基曱基苯基二乙酰氧基硅烷、羥基甲基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、2-羥基乙基三甲氧基硅烷、2-羥基乙基三乙氧基硅烷、2-羥基乙基三正丙氧基硅烷、2-羥基乙基三異丙氧基硅烷、2-羥基乙基三乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、2-羥基乙基甲基二甲氧基硅烷、2-羥基乙基甲基二乙氧基硅烷、2-羥基乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-羥基乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-羥基乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二曱氧基硅烷、2-羥基乙15基乙基二乙氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、2-羥基乙基苯基二甲氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-幾基丙基三曱氧基硅烷、3-羥基丙基三乙氧基硅烷、3-羥基丙基三正丙氧基硅烷、3-羥基丙基三異丙氧基硅烷、3-羥基丙基三乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基三(曱氧基乙氧基)硅烷、3-羥基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-羥基丙基曱基二乙氧基硅烷、3-羥基丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-羥基丙基甲基二異丙氧基硅烷、3-羥基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二甲氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-輕基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-羥基丙基苯基二曱氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、4-羥基苯基三甲氧基硅烷、4-羥基苯基三乙氧基硅烷、4-羥基苯基三正丙氧基硅烷、4-羥基苯基三異丙氧基硅烷、4-羥基苯基三乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基三(曱氧基乙氧基)硅烷、4-幾基苯基曱基二曱氧基硅烷、4-羥基苯基甲基二乙氧基硅烷、4-羥基苯基曱基二正丙氧基硅烷、4-羥基苯基曱基二異丙氧基硅烷、4-羥基苯基甲基二乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二甲氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二乙氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二正丙氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二異丙氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、4-羥基苯基苯基二曱氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二乙氧基硅烷、4-羥基笨基苯基二正丙氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二異丙氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三曱氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三乙酰氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三(甲氧基乙氧基)硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基曱基二甲氧基硅烷、4-羥基-5-(對輕基苯基羰氧基)戊基甲基二乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基甲基二正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基曱基二異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基甲基二乙酰氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二甲氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二乙酰氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二曱氧基硅烷、4-羥基-5-(對輕基苯基羰氧基)戊基苯基二乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二乙酰氧基硅烷、4_輕基-5_(對羥基苯基羰氧基)戊基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、下述式(a2-l)表示的化合物等；HO-Y3-S-Y4-Si(OR)3(a2-l)(式(2a-l)中，丫3及丫4表示與上迷式(2-1)中的定義相同的含義，R分別獨立地表示碳數(shù)1~6的烷基或碳數(shù)2~6的?；?。)作為含有巰基的硅烷化合物，例如有巰基曱基三曱氧基硅烷、巰基甲基三乙氧基硅烷、巰基甲基三正丙氧基硅烷、巰基甲基三異丙氧基硅烷、巰基曱基三乙酰氧基硅烷、巰基曱基三(曱氧基乙氧基)硅烷、巰基甲基曱基二甲氧基硅烷、巰基甲基甲基二乙氧基硅烷、巰基甲基甲基二正丙氧基硅烷、巰基甲基甲基二異丙氧基硅烷、巰基甲基甲基二乙酰氧基硅烷、巰基甲基乙基二甲氧基硅烷、巰基甲基乙基二乙氧基硅烷、巰基甲基乙基二正丙氧基硅烷、巰基甲基乙基二異丙氧基硅烷、巰基曱基乙基二乙酰氧基硅烷、巰基曱基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、巰基甲基苯基二曱氧基硅烷、巰基曱基苯基二乙氧基硅烷、巰基甲基苯基二正丙氧基硅烷、巰基曱基苯基二異丙氧基硅烷、巰基甲基苯基二乙酰氧基硅烷、巰基甲基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、2-巰基乙基三甲氣基硅烷、2-巰基乙基三乙氧基硅烷、2-巰基乙基三正丙氧基硅烷、2-巰基乙基三異丙氧基硅烷、2-巰基乙基三乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、2-巰基乙基甲基二甲氧基硅烷、2-巰基乙基甲基二乙氧基硅烷、2-巰基乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-巰基乙基甲基二異丙氧基硅烷、2-巰基乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二甲氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、2-巰基乙基苯基二曱氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三乙氧基硅烷、3-巰基丙基三正丙氧基硅烷、3-巰基丙基三異丙氧基硅烷、3-巰基丙基三乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、3-疏基丙基曱基二甲氧基硅烷、3-巰基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-巰基丙基甲基二異丙氧基硅烷、3-巰基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二甲氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-巰基丙基苯基二甲氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷等；作為含有氨基的硅烷化合物，例如有氨基甲基三甲氧基硅烷、氨基曱基三乙氧基硅烷、氨基曱基三正丙氧基硅烷、氨基甲基三異丙氧基硅烷、氨基甲基三乙酰氧基硅烷、氨基甲基三(曱氧基乙氧基)硅烷、氨基甲基曱基二甲氧基硅烷、氨基曱基甲基二乙氧基硅烷、氨基甲基曱基二正丙氧基硅烷、氨基甲基甲基二異丙氧基硅烷、氨基甲基曱基二乙酰氧基硅烷、氨基甲基乙基二甲氧基硅烷、氨基曱基乙基二乙氧基硅烷、氨基曱基乙基二正丙氧基硅烷、氨基甲基乙基二異丙氧基硅烷、氨基甲基乙基二乙酰氧基硅烷、氨基曱基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、氨基甲基苯基二曱氧基硅烷、氨基曱基苯基二乙氧基硅烷、氨基曱基苯基二正丙氧基硅烷、氨基甲基苯基二異丙氧基硅烷、氨基甲基苯基二乙酰氧基硅烷、氨基甲基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、2-氨基乙基三甲氧基硅烷、2-氨基乙基三乙氧基硅烷、2-氨基乙基三正丙氧基硅烷、2-氨基乙基三異丙氧基硅烷、2-氨基乙基三乙酰氧基硅烷、2-氨基乙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、2-氨基乙基甲基二甲氧基硅烷、2-氨基乙基甲基二乙氧基硅烷、2-氨基乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-氨基乙基甲基二異丙氧基硅烷、2-氨基乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-氨基乙基乙基二甲氧基硅烷、2-氨基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-氨基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-氨基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-氨基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-氨基乙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、2-氨基乙基苯基二曱氧基硅烷、2-氨基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-氨基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-氨基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-氨基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、2-氨基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三正丙氧基硅烷、3-氨基丙基三異丙氧基硅烷、3-氨基丙基三乙酰氧基硅烷、3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-氨基丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-氨基丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-氨基丙基乙基二曱氧基硅烷、3-氨基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-氨基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-氨基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-氨基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-氨基丙基苯基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-氨基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-氨基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-氨基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三正丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三異丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙酰氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基曱基二乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二正丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二異丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二正丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二異丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二正丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二異丙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三曱氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三正丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三異丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙酰氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二曱氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二正丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二異丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二曱氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二正丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二異丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二甲氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二正丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二異丙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷等。其中，從得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、透明性、耐剝離液性方面考慮，可以優(yōu)選使用羥基曱基三甲氧基硅烷、羥基乙基三甲氧基硅烷、三甲氧基曱硅烷基丙基-l-(4，-羥基苯基)丙基硫醚、三甲氧基曱硅烷基丙基-l-(2，-羥基苯基)丙基硫醚、三甲氧基甲硅烷基丙基-2-(4，-羥基苯基)丙基硫醚、三曱氧基曱硅烷基丙基-2-(2，-羥基苯基)丙基硫醚、三甲氧基曱硅烷基乙基-(4，-羥基苯基)疏醚、三甲氧基甲硅烷基丙基-(4，-羥基苯基)硫醚、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三乙氧基硅烷或氨基曱基三甲氧基硅烷。上述化合物(a3)可以單獨使用l種或2種以上組合使用。聚硅氧烷(A)可以是僅含有上述化合物(al)和(a2)的硅烷化合物的水解縮合物，或者是除了化合物(al)和(a2)之外進(jìn)一步含有(al)、(a2)之外的水解性硅烷化合物的硅烷化合物(a3)的水解縮20合物。化合物(a3)優(yōu)選為下述式(3)表示的硅烷化合物。SiR5gR6h(3)(式(3)中，115為碳數(shù)1~6的烷氧基或碳數(shù)6~18的芳基氧基，其中芳基氧基的氫原子的一部分或全部可以被鹵原子、氰基、硝基或碳數(shù)1~6的烷基取代，116為碳數(shù)1~6的烷基、碳數(shù)2~6的鏈烯基、碳數(shù)6~18的芳基、或(甲基)丙烯酰氧基，其中芳基具有的氫原子的一部分或全部可以被卣原子、氰基、硝基或碳數(shù)1~6的烷基取代，(曱基)丙烯酰氧基可以通過亞甲基或碳數(shù)2~6的亞烷基鍵合，g為l4的整數(shù)，h為0-3的整數(shù)，其中g(shù)+h-4。)。作為上述式(3)中的R5，優(yōu)選碳數(shù)1~4的烷氧基或碳數(shù)6~12的芳基氧基，例如可以舉出曱氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、苯氧基、萘氧基、4-氯苯氧基、4-氰基苯氧基、4-硝基苯氧基、4-甲苯甲酰氧基等。作為R6,優(yōu)選碳數(shù)1~3的烷基、碳數(shù)2~4的鏈烯基、碳數(shù)6~12的芳基、或直接或通過亞曱基或碳數(shù)2~3的亞烷基鍵合的(甲基)丙烯酰氧基，作為其具體例，例'如可以舉出甲基、乙基、苯基、4-氯苯基、4-氰基苯基、4-硝基苯基、4-甲苯甲?；⑤粱?、乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯酰氧基、(曱基)丙烯酰氧基曱基、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基等。作為化合物(a3)的具體例，例如可以舉出四曱氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷之類四烷氧基硅烷；曱基三曱氧基硅烷、曱基三乙氧基硅烷、甲基三正丙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、環(huán)己基三乙氧基硅烷之類單烷基三烷氧基硅烷；苯基三乙氧基硅烷、萘基三乙氧基硅烷、4-氯苯基三乙氧基硅烷、4-氰基苯基三乙氧基硅烷、4-硝基苯基三乙氧基硅烷、4-甲基苯基三乙氧基硅烷之類單芳基三烷氧基硅烷；苯氧基三乙氧基硅烷、萘氧基三乙氧基硅烷、4-氯苯氧基三乙氧基硅烷、4-氰基苯基三氧基乙氧基硅烷、4-硝基苯氧基三乙氧基硅烷、4-甲基苯氧基三乙氧基硅烷之類單芳基氧基三烷氧基硅烷；二曱基二曱氧基硅烷、二曱基二乙氧基硅烷、二甲基二正丙氧基硅21烷、甲基(乙基)二乙氧基硅烷、甲基(環(huán)己基)二乙氧基硅烷之類二烷基二烷氧基硅烷；甲基(苯基)二乙氧基硅烷之類單烷基單芳基二烷氧基硅烷；二苯基二乙氧基硅烷之類二芳基二烷氧基硅烷；二苯氧基二乙氧基硅烷之類二芳基氧基二烷氧基硅烷；甲基(苯氧基)二乙氧基硅烷之類單烷基單芳基氧基二烷氧基硅烷；苯基(苯氧基)二乙氧基硅烷之類單芳基單芳基氧基二烷氧基硅烷；三甲基乙氧基硅烷、三甲基正丙氧基硅烷、二甲基(乙基)乙氧基硅烷、二甲基(環(huán)己基)乙氧基硅烷之類三烷基單烷氧基硅烷；二甲基(苯基)乙氧基硅烷之類二烷基單芳基單烷氧基硅烷；曱基(二苯基)乙氧基硅烷之類單烷基二芳基單烷氧基硅烷；三苯氧基乙氧基硅烷之類三芳基氧基單烷氧基硅烷；甲基(二苯氧基)乙氧基硅烷之類單烷基二芳基氧基單烷氧基硅烷；苯基(二苯氧基)乙氧基硅烷之類單芳基二芳基氧基單烷氧基硅烷；二曱基(笨氧基)乙氧基硅烷之類二烷基單芳基氧基單烷氧基硅烷；二苯基(苯氧基)乙氧基硅烷之類二芳基單芳基氧基單烷氧基硅烷；甲基(苯基)(苯氧基)乙氧基硅烷之類單烷基單芳基單芳基氧基單烷氧基硅烷；乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三正丙氧基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三(甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基甲基二正丙氧基硅烷、乙烯基甲基二異丙氧基硅烷、乙烯基曱基二乙酰氧基硅烷、乙烯基乙基二曱氧基硅烷、乙烯基乙基二乙氧基硅烷、乙烯基乙基二正丙氧基硅烷、乙烯基乙基二異丙氧基硅烷、乙烯基乙基二乙酰氧基硅烷、乙烯基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基苯基二甲氧基硅烷、乙烯基苯基二乙氧基硅烷、乙烯基苯基二正丙氧基硅烷、乙烯基苯基二異丙氧基硅烷、乙烯基苯基二乙酰氧基硅烷、乙烯基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷之類含有乙烯基的烷氧基硅烷；烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基三正丙氧基硅烷、烯丙基三異丙氧基硅烷、烯丙基三乙酰氧基硅烷、烯丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、烯丙基甲基二甲氧基硅烷、烯丙基甲基二乙氧基硅烷、烯丙基甲基二正丙氧基硅烷、烯丙基甲基二異丙氧基硅烷、烯丙基甲基二乙酰氧基硅烷、烯丙基乙基二甲氧基硅烷、烯丙基乙基二乙氧基硅烷、烯丙基乙基二正丙氧基硅烷、烯丙基乙基二異丙氧基硅烷、烯丙基乙基二乙酰氧基硅烷、烯丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、烯丙基苯基二甲氧基硅烷、烯丙基苯基二乙氧基硅烷、烯丙基苯基二正丙氧基硅烷、烯丙基苯基二異丙氧基硅烷、烯丙基苯基二乙酰氧基硅烷、烯丙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷之類含有烯丙基的硅烷；(甲基)丙烯酰氧基曱基三甲氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基三乙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基三正丙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基三異丙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基三乙酰氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基甲基二甲氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基甲基二乙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基曱基二正丙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基曱基甲基二異丙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基甲基二乙酰氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基乙基二甲氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基乙基二乙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基曱基乙基二正丙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基乙基二異丙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基苯基二甲氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基苯基二乙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基苯基二正丙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基苯基二異丙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基曱基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基三正丙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基三異丙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基三乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基乙基曱基二曱氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基甲基二乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三異丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基曱基二曱氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基乙基二曱氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基苯基二乙酰氧基硅烷之類含有(甲基)丙烯?；墓柰榈?。上述化合物(a3)中，從反應(yīng)性及得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、透明性、耐剝離液性方面考慮，優(yōu)選使用四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、曱基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三曱氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷。上述化合物(a3)可以單獨使用l種，或者組合2種以上進(jìn)行使用?；谟苫衔?al)、(a2)及(a3)衍生的重復(fù)單元的總和，本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]含有由化合物(al)衍生的構(gòu)成單元的含量，優(yōu)選為5~70重量％、特別優(yōu)選為10~60重量％。使用該構(gòu)成單元不足5重量％的共聚物時，在不足250'C的燒成條件下得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度及耐剝離液性有降低的傾向，另一方面，超過70重量％的共聚物存在保存穩(wěn)定性惡化的傾向。本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]中由化合物(a2)衍生的構(gòu)成單元的含量基于由化合物(al)、(a2)及(a3)衍生的重復(fù)單元的總和，優(yōu)選為5~70重量％、特別優(yōu)選為10~60重量％。如果使用該構(gòu)成單元不足5重量％的共聚物，則在不足250。C的燒成條件下得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度及耐剝離液性存在降低的傾向，另一方面，超過70重量％的共聚物有導(dǎo)致顯影后的殘膜率降低、或保存穩(wěn)定性變惡4匕的傾向。本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]中由化合物(a3)衍生的構(gòu)成單元的含量基于由化合物(al)、(a2)及(a3)衍生的重復(fù)單元的總和，優(yōu)選為10~90重量％、特別優(yōu)選為20~80重量％。該構(gòu)成單元不足10重量％時，有感放射線性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性降低的傾向，而該構(gòu)成單元的量超過90重量％時，得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度及耐剝離液性有時不足。作為本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]的具體例，例如可以舉出3-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、2-輕基乙基三甲氧基硅烷及二甲基二甲氧基硅烷的水解縮合物、2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三曱氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷及苯基三曱氧基硅烷的水解縮合物、及3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷、三甲氧基甲硅烷基丙基-2-(4，-羥基苯基)丙基硫醚及甲基三甲氧基硅烷水解縮合物。本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]可以通過將上述化合物(al)、(a2)及(a3)優(yōu)選在溶劑中、優(yōu)選在催化劑的存在下中水解及縮合而合成。作為可以用于合成聚硅氧烷[A]的溶劑，例如可以舉出醇、醚、乙二醇醚、乙二醇單烷基醚乙酸酯、二甘醇、二甘醇單烷基醚乙酸酯、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇烷基醚丙酸酯、芳香烴、酮、酯等。對于上述溶劑的具體例，可以分別舉出下述溶劑作為醇，例如有甲醇、乙醇、千基醇、2-苯基乙基醇、3-苯基-l-丙醇等；作為醚，有四氫呋喃等；作為乙二醇醚，例如有乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚等；作為乙二醇單烷基醚乙酸酯，例如有甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乙二醇單丁基醚乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯等；作為二甘醇，例如有二甘醇單甲基醚、二甘醇單乙基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基曱基醚等；作為二甘醇單烷基醚乙酸酯，例如有二甘醇單乙基醚乙酸酯等；作為丙二醇單烷基醚，例如有丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丙基醚、丙二醇單丁基醚等；作為丙二醇單烷基醚丙酸酯，例如有丙二醇單甲基醚丙酸酯、丙二醇單乙基醚丙酸酯、丙二醇單丙基醚丙酸酯、丙二醇單丁基醚丙酸酯等；作為丙二醇單烷基醚乙酸酯，例如有丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯等；作為芳香烴，例如有曱苯、二甲苯等；作為酮，例如有甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等；作為酯，例如有乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、輕基乙酸乙酯、輕基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-輕基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸曱酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-曱氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸曱酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-曱氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸曱酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等。上述溶劑中，優(yōu)選乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷基醚或丙二醇烷基醚乙酸酯，特別優(yōu)選二甘醇二甲基醚、二甘醇乙基曱基醚、丙二醇甲基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯或3-甲氧基丙酸甲酯或上迷溶劑中的2種以上的混合物。作為溶劑的使用量，優(yōu)選使反應(yīng)溶液中的化合物(al)、U2)及(a3)的總量達(dá)IO~50重量％的量，更優(yōu)選為使總量達(dá)15~40重量％的量。用于合成聚硅氧烷[A]的水解及縮合反應(yīng)優(yōu)選在酸催化劑(例如鹽酸、硫酸、硝酸、甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲磺酸、酸性離子交換樹脂、各種路易斯酸等)或堿催化劑(例如氨、伯胺類、仲胺類、叔胺類、吡啶等含氮芳香族化合物；堿性離子交換樹脂；氫氧化鈉等氫氧化物；碳酸鉀等碳酸鹽；乙酸鈉等羧酸鹽；各種路易斯堿等)的存在下進(jìn)行。作為催化劑的使用量，相對于化合物(al)、(a2)及(a3)的總和l摩爾，優(yōu)選為0.2摩爾以下，更優(yōu)選為0.00001~0.1摩爾。適當(dāng)設(shè)定水的使用量、反應(yīng)溫度及反應(yīng)時間。例如可以采用下述條件。水的使用量相對于化合物(al)中的基團(tuán)R1、化合物(a2)中的基團(tuán)RS及化合物(a3)中的基團(tuán)RS的總量1摩爾，優(yōu)選為0.1~3摩爾，更優(yōu)選為0.3~2摩爾，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5~1.5摩爾。反應(yīng)溫度優(yōu)選為40200。C,更優(yōu)選為50~150°C。反應(yīng)時間優(yōu)選為30分鐘~24小時，更優(yōu)選為l~12小時?？梢砸淮涡蕴砑踊衔?al)、(a2)及(a3)、及水，一步完成水解及縮合反應(yīng)，或者也可以分步添加化合物(al)、(a2)及(a3)、及水，分幾步進(jìn)行水解及縮合反應(yīng)。本發(fā)明中使用的[A]成分的按聚苯乙烯換算的重均分子量(以下稱為"Mw")優(yōu)選為5xl()25x104,更優(yōu)選為lxl()33x104。如果Mw不足5xl02，則有時顯影裕度變得不充分，得到的被膜的殘膜率等降低，并且得到的層間絕緣膜或微透鏡的圖案形狀、耐熱性等差，如果超過5xl04,則感度降低，圖案形狀差。含有上述[A]成分的感放射線性樹脂組合物在顯影時不發(fā)生顯影殘留，能夠容易地形成規(guī)定圖案形狀。[B]成分本發(fā)明中使用的[B]成分是經(jīng)放射線照射產(chǎn)生羧酸的l,2-重氮醌化合物，可以使用酚性化合物或醇性化合物(以下稱為"具有羥基的母核")或具有氨基的母核和l，2-重氮萘醌磺酰鹵的縮合物。作為上述具有羥基的母核，例如可以舉出三羥基二苯酮、四羥基二苯酮、五羥基二苯酮、六羥基二苯酮、(聚羥基苯基)鏈烷及其他具有羥基的母核。作為上迷母核的具體例，可以分別舉出下述化合物作為三羥基二苯酮，例如有2，3,4-三羥基二苯酮、2，4，6-三羥基二笨酮等；作為四羥基二苯酮，有2,2，，4,4，-四羥基二苯酮、2，3，4,3，-四羥基二苯酮、2，3，4，4，-四羥基二苯酮、2，3,4，2，-四羥基-4，-甲基二苯酮、2，3，4，4，-四羥基-3，-甲氧基二苯酮等；作為五羥基二苯酮，例如有2，3，4,2，，6，-五羥基二苯酮等；作為六羥基二苯酮，例如有2，4，6,3，，4，，5，-六羥基二苯酮、3，4,5,3，，4，，5，-六羥基二苯酮等；作為(聚羥基苯基)鏈烷，例如有雙(2，4-二羥基苯基)甲烷、雙27(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)甲烷、1，1,1-三(對羥基苯基)乙烷、雙(2,3，4-三羥基苯基)甲烷、2,2-雙(2，3,4-三輕基苯基)丙烷、1，1,3-三(2，5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷、4,4，-〔1-〔4-〔1-〔4-羥基苯基〕-l-曱基乙基〕苯基〕亞乙基〕雙酚、雙(2，5-二曱基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、3，3,3，，3，-四曱基-1，1，-螺二茚-5，6，7,5，，6，，7，-己醇、2，2，4-三甲基-7，2，，4，-三羥基黃烷等；作為其他具有羥基的母核，例如有2-甲基-2-(2，4-二羥基苯基)-4-(4-羥基苯基)-7-羥基色滿、2-[雙{(5-異丙基-4-羥基-2-甲基)苯基}甲基]、(3-U-(4-羥基苯基)-l-曱基乙基)-4，6-二羥基苯基)-1-甲基乙基]-3-(1-(3-{1-(4-羥基苯基)-l-甲基乙基)-4,6-二羥基苯基)-l-甲基乙基)苯、4,6-雙(1-(4-羥基苯基)-l-曱基乙基)-1,3-二羥基苯等。作為上述具有氨基的母核，可以舉出上迷具有羥基的母核的羥基被氨基取代形成的化合物等。上述母核中，優(yōu)選2,3,4，4，-四羥基二苯酮、4，4，-U-C4-〔1-〔4-羥基苯基〕-l-曱基乙基〕苯基〕亞乙基〕雙酚。作為上述l，2-重氮萘醌磧酰囟，優(yōu)選l,2-重氮萘醌磺酰氯，作為其具體例，可以舉出l,2-重氮萘醌-4-磺酰氯及l(fā)，2-重氮萘醌-5-磺酰氯，其中，優(yōu)選使用l,2-重氮萘醌-5-磺酰氯。縮合反應(yīng)中，1，2-重氮萘醌磺酰囟的使用量相對于酚性化合物或醇性化合物中的羥基數(shù)或具有氨基的母核的氨基數(shù)，優(yōu)選為30~85摩爾％，更優(yōu)選為50~70摩爾°/0?？s合反應(yīng)可以采用公知的方法實施。上述[B]成分可以單獨使用，或?qū)?種以上組合使用。[B]成分的使用比例相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為l~25重量份，更優(yōu)選為5~20重量份。其比例不足l重量份時，放射線照射部分和未照射部分對作為顯影液的堿水溶液的溶解度之差小，有時難以形成圖案，并且得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及耐溶劑性變得不充分。另一方面，其比例超過25重量份時，放射線照射部分對上述堿水溶液的溶解度變得不充分，有時難以進(jìn)行顯影。另外，已知添加1，2-重氮醌化合物有損得到的固化膜的光線透射率目前已知的用于形成使用丙烯酸樹脂或酚醛樹脂的層間絕緣膜或微透鏡的組合物中，如果大量添加該l，2-重氮醌化合物，則無法得到所希望的放射線感度，所以提高得到的固化膜的光線透射率的水平有P艮。但是，如上所述，本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物能夠以比現(xiàn)有組合物少的[B]l,2-重氮醌化合物量實現(xiàn)高放射線感度，所以具有能夠以高放射線感度形成具有高光線透射率的固化膜的優(yōu)點。本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物中的[B]1，2-重氮醌化合物的使用量相對于100重量份[A]成分可以在15重量份以下。其他成分本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物含有上述[A]成分及[B]成分作為必需成分，還可以根據(jù)需要含有[C]感熱性酸生成化合物、[D]具有至少l個烯鍵式不飽和雙鍵的聚合性化合物、[E]環(huán)氧樹脂、[F]表面活性劑、[G]粘合助劑等。上述[C]感熱性酸生成化合物可以用于提高耐熱性和硬度。作為其具體例，可以舉出锍鹽、苯并噻唑鎮(zhèn)鹽(benzothiazonium)、銨鹽、鱗鹽等絲鹽。作為上述锍鹽的具體例，可以舉出烷基锍鹽、節(jié)基锍鹽、二千基锍鹽、取代芐基锍鹽等。作為上述化合物的具體例，可以分別舉出下述化合物作為烷基锍鹽，例如有4-乙酰苯基二甲基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基二甲基锍六氟砷酸鹽、二曱基-4-(千基氧基羰氧基)苯基锍六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟砷酸鹽、二曱基-3-氯-4-乙酰氧基苯基锍六氟銻酸鹽等；作為千基锍鹽，例如有千基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、千基-4-羥基苯基甲基锍六氟磷酸鹽、4-乙酰氧基苯基芐基甲基锍六氟銻酸鹽、千基-4-甲氧基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、芐基-2-曱基-4-羥基苯基曱基锍六氟銻酸鹽、節(jié)基-3-氯-4-羥基苯基甲基锍六氟砷酸鹽、4-甲氧基千基-4-羥基苯基曱基锍六氟磷酸鹽等；作為二芐基锍鹽，例如有二芐基-4-羥基苯基锍六氟銻酸鹽、二芐基-4-羥基苯基锍六氟磷酸鹽、4-乙酰氧基苯基二節(jié)基锍六氟銻酸鹽、二千基-4-甲氧基苯基锍六氟銻酸鹽、二芐基-3-氯-4-羥基苯基锍六氟砷酸鹽、二芐基-3-曱基-4-羥基-5-叔丁基苯基锍六氟銻酸鹽、千基-4-曱氧基千基29-4-羥基苯基锍六氟磷酸鹽等；作為取代節(jié)基锍鹽，例如有對氯爺基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、對硝基爺基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、對氯爺基-4-羥基苯基甲基锍六氟磷酸鹽、對硝基千基-3-甲基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、3，5-二氯芐基-4-羥基苯基曱基锍六氟銻酸鹽、鄰氯芐基-3-氯-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽等。作為上述苯并噻唑鎮(zhèn)鹽的具體例，例如可以舉出3-節(jié)基苯并p塞唑镥六氟銻酸鹽、3-爺基苯并噻唑鎮(zhèn)六氟磷酸鹽、3-,基苯并噻唑餘四氟硼酸鹽、3-(對甲氧基千基)苯并噻唑镎六氟銻酸鹽、3-節(jié)基-2-甲疏基苯并噻唑鎮(zhèn)六氟銻酸鹽、3-千基-5-氯苯并噻唑餘六氟銻酸鹽等。上述化合物中，優(yōu)選使用锍鹽及苯并噻唑銀鹽，特別優(yōu)選使用4-乙酰氧基苯基二甲基锍六氟砷酸鹽、千基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基千基甲基锍六氟銻酸鹽、二節(jié)基-4-羥基苯基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基千基锍六氟銻酸鹽或3-節(jié)基苯并噻唑銀六氟銻酸鹽。作為上迷化合物的市售品，例如可以舉出SunaideSI-L85、SunaideSI-L110、SunaideSI-L145、SunaideSI-L150、SunaideSI-L160(三新化學(xué)工業(yè)(林)制)等。[C]感熱性酸生成化合物的使用比例相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為20重量份以下，更優(yōu)選為5重量份以下。其使用量超過20重量份時，在涂膜形成工序中析出物析出，有時影響涂膜形成。作為上述[D]具有至少1個烯鍵式不飽和雙鍵的聚合性化合物(以下稱為"[D]成分，，)，例如可以優(yōu)選舉出單官能團(tuán)(甲基)丙烯酸酯、2官能團(tuán)(甲基)丙烯酸酯或3官能團(tuán)以上的(甲基)丙烯酸酯。作為上述單官能團(tuán)(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出(曱基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸異水片酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-輕基丙基鄰苯二甲酸酯等。作為上迷化合物的市售品，例如可以舉出AronixM-lOl、AronixM-lll、AronixM-114(以上為東亞合成(林)制)，KAYARADTC-110S、KAYARADTC-120S(以上為日本化藥(林)制)，Biscoat158、Biscoat2311(以上為大阪有機化學(xué)工業(yè)(林)制)等。作為上述2官能團(tuán)(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(曱基)丙烯酸l,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸l，9-壬二醇酯、二(曱基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙紼酸四乙二醇酯、藥二丙烯酸雙苯氧基乙醇酯、藥二(甲基？？)丙烯酸雙苯氧基乙醇酯(JapanesespecificationP.43L.〗2-13)等。作為上述化合物的市售品，例如可以舉出AronixM-210、AronixM-240、AronixM-6200(以上為東亞合成(株)制)，KAYARADHDDA、KAYARADHX-220、KAYARADR-604(以上為日本化藥(抹)制)，Biscoat260、Biscoat312、Biscoat335HP(以上為大阪有機化學(xué)工業(yè)(抹)制)等。作為上述3官能團(tuán)以上的(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等，作為其市售品，例如可以舉出AronixM-309、AronixM-400、AronixM-405、AronixM-450、AronixM-7100、AronixM-8030、AronixM-8060(以上為東亞合成(林)制)，KAYARADTMPTA、KAYARADDPHA、KAYARADDPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARADDPCA-60、KAYARADDPCA-120(以上為日本化藥(林)制)，Biscoat295、Biscoat300、Biscoat360、BiscoatGPT、Biscoat3PA、Biscoat400(以上為大阪有機化學(xué)工業(yè)(林)制)等。其中，優(yōu)選使用3官能團(tuán)以上的(甲基)丙烯酸酯，其中特別優(yōu)選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯。上述單官能團(tuán)、2官能團(tuán)或3官能團(tuán)以上的(甲基)丙烯酸酯可以單獨使用，或組合使用。[D]成分的使用比例相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為50重量份以下，更優(yōu)選為30重量份以下。通過按上迷比例包含[D]成分，可以提高由本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及表面硬度等。如果其使用量超過50重量份，則在基板上形成感放射線性樹脂組合物的被膜的工序中發(fā)生膜干裂。作為上述[E]環(huán)氧樹脂，只要不影響相溶性即可，沒有其他限定。優(yōu)選為雙酚A型環(huán)氧樹脂、線型酚醛環(huán)氧樹脂、曱酚線型酚醛環(huán)氧樹脂、環(huán)狀脂肪族環(huán)氧樹脂、縮水甘油基酯型環(huán)氧樹脂、縮水甘油基胺型環(huán)氧樹脂、雜環(huán)式環(huán)氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油基酯(共)聚合形成的樹脂等。其中，特別優(yōu)選雙酚A型環(huán)氧樹脂、甲酚線型盼醛環(huán)氧樹脂、縮水甘油基酯型環(huán)氧樹脂等。[E]環(huán)氧樹脂的使用比例相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為30重量份以下。通過按該比例包含[E]環(huán)氧樹脂，可以進(jìn)一步提高由本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性及表面硬度。如果其比例超過30重量份，則在基板上形成感放射線性樹脂組合物的被膜時，有時被膜的膜厚均勻性變得不充分。需要說明的是，[A]成分也可以稱為"環(huán)氧樹脂"，但是從具有堿可溶性方面考慮，不同于[E]環(huán)氧樹脂。[E]環(huán)氧樹脂為堿不溶性。為了進(jìn)一步提高涂布性，可以在本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物中使用上述[F]表面活性劑。作為此處可以使用的[F]表面活性劑，可以優(yōu)選使用氟類表面活性劑、有機硅類表面活性劑及非離子類表面活性劑。作為氟類表面活性劑的具體例，可以舉出l,1，2，2-四氟辛基(1，1，2，2-四氟丙基)醚、1，1，2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(l，1，2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(1,1，2,2，3，3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(l，1,2，2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(l，1，2,2，3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1，1，2,2，3，3,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1，2，2，3，3-六氟癸烷等，除此之外，還可以舉出氟烷基苯磺酸鈉；氟烷基氧基亞乙基醚；氟烷基碘化銨、氟烷基聚氧乙烯醚、全氟烷基聚氧化乙醇；全氟烷基烷氧基化物；氟類烷基酯等。作為其市售品，可以舉出BM-IOOO、BM-1100(以上為BMChemie社制)，MegafaceF142D、MegafaceF172、MegafaceF173、MegafaceF183、MegafaceF178、MegafaceF191、MegafaceF471(以上為大日本油墨化學(xué)工業(yè)(抹)制)，F(xiàn)luoradFC-170C、FC-171、FC-430、FC-431(以上為住友3M(林)制)，SURFLONS-112、SURFLONS-113、SURFLONS-Bl、SURFLONS-141、SURFLONS-145、SURFLONS-382、SURFLONSC-lOl、SURFLONSC-102、SURFLONSC-103、SURFLONSC-104、SURFLONSC-105、SURFLONSC-106(旭硝子(株)制)，F(xiàn)-TOPEF301、F-TOPEF303、F-TOPEF352(新秋田化成(抹)制)等。作為上述有機硅類表面活性劑，例如可以舉出以下述商品名銷售的產(chǎn)品DC3PA、DC7PA、FS-1265、SF-8428、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032(以上為東麗.道康寧.有機珪(抹)制),TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上為Momentive'Performance.Materials.Japan合同會社制)等。作為上述非離子類表面活性劑，例如可以使用聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂酰基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚類；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚類；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯類等；(曱基)丙烯酸類共聚物POLYFLOWNo.57、95(共榮社化學(xué)(林)制)等。上述表面活性劑可以單獨使用，或?qū)?種以上組合使用。上述[F]表面活性劑的使用量相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為5重量份以下，更優(yōu)選為2重量份以下。如果[F]表面活性劑的使用量超過5重量份，則在基板上形成涂膜時，有時容易發(fā)生涂膜的膜干裂。本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物中，為了提高與基體的粘合性，可以使用[G]粘合助劑。作為上述[G]粘合助劑，優(yōu)選使用官能性硅烷偶聯(lián)劑，例如可以舉出具有羧基、甲基丙烯?；惽杷狨セ?、環(huán)氧基等反應(yīng)性取代基的硅烷偶聯(lián)劑。具體地可以舉出三甲氣基甲硅烷基苯甲酸、，甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、丫-異氰酸丙酯基三乙氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、p-(3，4-環(huán)氣環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷等。上迷[G]粘合助劑的使用量相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為20重量份以下，更優(yōu)選為10重量份以下。粘合助劑的量超過20重量份時，有時容易在顯影工序中發(fā)生顯影殘留。感放射線性樹脂組合物本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物通過均勻地混合上迷[A]成分及[B]成分及上述任意添加的其他成分進(jìn)行調(diào)制。本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物優(yōu)選溶解在適當(dāng)?shù)娜軇┲?，以溶液狀態(tài)進(jìn)行使用。例如可以通過將[A]成分及[B]成分及任意添加其他成分按規(guī)定的比例進(jìn)行混合，調(diào)制溶液狀態(tài)的感放射線性樹脂組合物。作為用于調(diào)制本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物的溶劑，使用均勻地溶解[A]成分及[B]成分及任意配合的其他成分的各成分、不與各成分反應(yīng)的溶劑。作為上述溶劑，可以舉出與作為用于合成優(yōu)選用作[A]成分的聚硅上述溶劑相同的溶劑。上述溶劑中，從各成分的溶解性、與各成分的反應(yīng)性、成膜容易性等方面考慮，優(yōu)選使用醇、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯及二甘醇。其中，優(yōu)選使用千基醇、2-苯基乙基醇、3-苯基-l-丙醇、乙二醇單丁基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基甲基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單曱基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯或2-乙氧基丙酸乙酯或上述溶劑中的2種以上的混合物。作為本發(fā)明的感放射性樹脂組合物的溶劑，聯(lián)用高沸點溶劑時，其使用比例相對于溶劑總量優(yōu)選為50重量％以下，更優(yōu)選為40重量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為30重量％以下。如果高沸點溶劑的使用比例超過上述使用量，有時涂膜的膜厚均勻性、感度及殘膜率降低。將本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物以溶液狀態(tài)進(jìn)行調(diào)制時，溶劑以外的成分(即[A]成分及[B]成分及任意添加的其他成分的總量)在溶液中所占的比例(固態(tài)成分濃度)可以根據(jù)使用目的和所希望的膜厚的值等任意地設(shè)定，優(yōu)選為5~50重量°/。，更優(yōu)選為10~40重量％，進(jìn)一步優(yōu)選為15~35重量％。由此調(diào)制的組合物溶液在使用孔徑0.2iiim左右的微孔濾器等過濾后，進(jìn)行使用。形成層間絕緣膜、微透鏡下面說明使用本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物形成本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的方法。本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法按下述順序包含下述工序。(1)在基板上形成本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部照射放射線的工序，(3)將放射線照射后的被膜顯影的工序，(4)加熱顯影后的被膜的工序。以下詳細(xì)說明本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法的各工序。(1)在基板上形成本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序工序(1)中，將本發(fā)明的組合物溶液涂布在基板表面上，優(yōu)選進(jìn)行預(yù)焙除去溶劑，形成感放射線性樹脂組合物的被膜。作為能夠使用的基板的種類，例如可以舉出玻璃基板、硅基板及在上述基板的表面形成有各種金屬的基板。作為組合物溶液的涂布方法，沒有特別限定，例如可以采用噴涂法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法(旋涂法)、縫模涂布法、棒涂法、噴射法等適當(dāng)方法，特別優(yōu)選旋涂法或縫模涂布法。預(yù)焙的條件因各成分的種類、使用比例等的不同而異。例如可以在60~110'C下涂布30秒15分鐘左右。對于形成的被膜的膜厚，作為預(yù)焙后的值，形成層間絕緣膜時，例如優(yōu)選為36pm，形成微透鏡時，例如優(yōu)選為0.53jim。(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序工序(2)中，對如上所述地形成的被膜的至少一部照射放射線。為了對被膜的一部分照射放射線，例如可以采用經(jīng)由具有規(guī)定圖案的掩模照射放射線的方法。然后，使用顯影液進(jìn)行顯影處理，除去放射線的照射部分，由此形成圖案。作為此時使用的放射線，例如可以舉出紫外線、遠(yuǎn)紫外線、X射線、帶電粒子線等。作為上述紫外線，例如可以舉出包含g線(波長436nm)、i線(波長365nn)等的放射線。作為遠(yuǎn)紫外線，例如可以舉出KrF準(zhǔn)分子激光等。作為X射線，例如可以舉出同步加速放射線等。作為帶電粒子線，例如可以舉出電子束等。上述放射線中，優(yōu)選紫外線，其中特別優(yōu)選包含g線及i線中的一方或雙方的^t射線。作為放射線的照射量(曝光量)，在形成層間絕緣膜時，優(yōu)選為50~1，500J/m2,形成微透鏡時，優(yōu)選為502，000J/m2。(3)顯影放射線照射后的被膜的工序作為工序(3)的顯影處理中使用的顯影液，例如可以使用氫氧化鈉、氬氧化鉀、碳酸鈉、硅酸鈉、偏硅酸鈉、氨、乙基胺、正丙基胺、二乙基胺、二乙基氨基乙醇、二正丙基胺、三乙基胺、曱基二乙基胺、二曱基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四曱銨、氫氧化四乙銨、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環(huán)[5.4.0]-7-十一碳烯、1，5-二氮雜雙環(huán)[4.3.0]-5-壬烷等堿(堿性化合物)的水溶液。另外，可以將在上述堿的水溶液中添加適當(dāng)量的甲醇、乙醇等水溶性有機溶劑或表面活性劑形成的水溶液、或溶解有本發(fā)明組合物的各種有機溶劑用作顯影液。作為顯影方法，例如可以利用液池法、浸漬法、搖動浸漬法、噴淋法等適當(dāng)方法。此時的顯影時間因組合物的組成不同而異，例如可以為3530~120秒。需要說明的是，目前已知的感放射線性樹脂組合物如果顯影時間超過最佳值20~25秒左右則形成的圖案發(fā)生剝離，所以必需嚴(yán)格控制顯影時間，而本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物即使顯影時間與最佳顯影時間相比超過時間為30秒以上，也能夠形成良好的圖案，有產(chǎn)品成品率方面的優(yōu)點。(4)加熱顯影后的被膜的工序在如上所述地實施的工序(3)的顯影工序后，優(yōu)選對形成了圖案的薄膜實施例如采用流水清洗的沖洗處理，更優(yōu)選用來自高壓水銀燈等的放射線進(jìn)行全面照射(后曝光)，由此對該薄膜中殘留的l,2-重氮醌化合物實施分解處理后，采用熱板、烘箱等加熱裝置對薄膜進(jìn)行加熱處理(后烘處理)，由此進(jìn)行該薄膜的固化處理。上迷后曝光工序中的膝光量優(yōu)選為2,0005,000J/m。另外，該固化處理中的燒成溫度例如在12(TC以上不足250。C。加熱時間因加熱機器的種類不同而異，例如在熱板上進(jìn)行加熱處理時，可以進(jìn)行5~30分鐘，在烘箱中進(jìn)行加熱處理時，可以進(jìn)行30~90分鐘。此時，可以采用進(jìn)行2次以上加熱工序的分步烘焙法等。需要說明的是，在基板上形成含有作為目前高耐熱的材料已知的聚硅氧烷的感光性材料的被膜時，必須進(jìn)行250'C以上的高溫處理，但是使用本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物時，可以將該處理溫度設(shè)定為不足250。C，甚至在240。C以下，更甚者為230。C以下，所以存在也能夠適用于形成顯示元件的工序的優(yōu)點。由此可以在基板表面上形成與作為目標(biāo)的層間絕緣膜或微透鏡對應(yīng)的圖案狀薄膜。層間絕緣膜由后述的實施例可知，如上所述地形成的本發(fā)明的層間絕緣膜與基板的密合性良好，耐溶劑性及耐熱性優(yōu)異，具有高透射率，介電常數(shù)低，可以適用作電子部件的層間絕緣膜。微透鏡由后述的實施例可知，如上所迷地形成的本發(fā)明的微透鏡與基板的密合性良好，耐溶劑性及耐熱性優(yōu)異，具有高透射率和良好的熔化形狀，可以適合用作固體攝像元件的微透鏡。如圖l(a)所示，本發(fā)明的微透鏡的形狀成為半凸透鏡形狀，顯示36良好的聚光特性。實施例以下給出合成例、實施例，更具體地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明并不限定于以下的實施例。[A]成分的合成例合成例1在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中放入33.3g2-羥基乙基三曱氧基硅烷及72.lg二曱基二甲氧基硅烷，在其中加入76.8g二甘醇甲基乙基醚，將其溶解，邊用磁力攪拌器攪拌得到的溶液，邊經(jīng)30分鐘升溫到40°C。用30分鐘在其中連續(xù)添加含有1.4g草酸的43.3g離子交換水。然后，在4(TC下反應(yīng)2小時后，在4(TC經(jīng)l分鐘將得到的反應(yīng)液減壓到10Torr(約1.33xl03Pa),保持減壓60分鐘，蒸餾除去副產(chǎn)物的甲醇。然后，經(jīng)l小時將反應(yīng)液升溫到100'C，蒸餾除去水，同時在100'C反應(yīng)2小時，將由此得到的反應(yīng)液冷卻到60'C，首先經(jīng)30分鐘連續(xù)添加47.2g3-環(huán)氧丙氧丙基三曱氧基硅烷，然后經(jīng)30分鐘連續(xù)添加含有0.4g草酸的10.8g離子交換水，在60'C下反應(yīng)3小時。在減壓下，從反應(yīng)液中蒸餾除去甲醇和水，添加二甘醇甲基乙基醚至固態(tài)成分濃度(聚硅氧烷在溶液中所占的重量比例)達(dá)到40重量％,由此得到含有聚硅氧烷[A-1]的溶液。聚硅氧烷[A-1]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2,600。合成例2在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中投入39.3g3-巰基丙基三甲氧基硅烷及l(fā)19.0g苯基三甲氧基硅烷，在其中加入76.8g二甘醇甲基乙基醚，將其溶解，邊用磁力攪拌器攪拌得到的溶液，邊經(jīng)30分鐘升溫至40°C。經(jīng)30分鐘在其中連續(xù)添加含有1.4g草酸的43.3g離子交換水。然后，在40'C反應(yīng)2小時后，在40'C經(jīng)l分鐘將得到的反應(yīng)液減壓至10Torr，保持減壓60分鐘，由此蒸餾除去副產(chǎn)物的甲醇。然后，經(jīng)l小時將反應(yīng)液升溫到10(TC，蒸餾除去水，同時在100'C繼續(xù)反應(yīng)2小時。將由此得到的反應(yīng)液冷卻到60'C,首先經(jīng)30分鐘連續(xù)添加49.3徑2-(3，，4，-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷，然后經(jīng)30分鐘連續(xù)添加含0.4g草酸的10.8g離子交換水，在60'C進(jìn)一步反應(yīng)3小時。在減壓下從反應(yīng)液中蒸餾除去曱醇和水，添加二甘醇甲基乙基醚至固態(tài)成分濃度達(dá)到40重量％，得到含有聚硅氧烷[A-2]的溶液。聚硅氧烷[A-2]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2,500。合成例3在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中加入55.7g3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷、66.&三甲氧基甲硅烷基丙基-2-(4，-羥基苯基)丙基硫醚及40.3g甲基三曱氧基硅烷，在其中加入139.7g甲基異丁基酮將其溶解，用磁力攪拌器攪拌得到的溶液，同時升溫到6(TC。經(jīng)l小時在其中連續(xù)添加含有1.0g三乙基胺的54.0g離子交換水。然后，在60。C反應(yīng)3小時后，將得到的反應(yīng)液冷卻到室溫。然后，用1重量％的草酸水溶液200g清洗2次，接下來用200g離子交換水清洗。在減壓下從得到的有機層中蒸餾除去醇和水，添加二甘醇乙基曱基醚至固態(tài)成分濃度達(dá)到40重量％，由此得到含有聚硅氧烷[A-3]的溶液。聚硅氧烷[A-3]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2,400。比較合成例l在裝備有分餾管的500mL三口燒瓶中放入88.5g甲基三甲氧基硅烷及69.4g苯基三甲氧基硅烷，在其中加入138.9g雙丙酮醇將其溶解，將得到的溶液用磁力攪拌器攪拌，同時經(jīng)30分鐘連續(xù)添加含0.2g磷酸的54.0g離子交換水。然后在40。C使其反應(yīng)30分鐘后，經(jīng)1小時升溫至100'C，蒸餾除去甲醇和水，同時使其反應(yīng)2小時。然后，加入雙丙酮醇及"丁內(nèi)酯，稀釋至固態(tài)成分為35重量％、雙丙酮醇/丫-丁內(nèi)酯-90/10(重量比)，得到含有聚硅氧烷[a-l]的溶液。該聚硅氧烷[a-l]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2，900。比較合成例2在裝備有冷凝管及攪拌機的燒瓶中放入8重量份2，2，-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)及220重量份二甘醇乙基曱基醚。然后放入20重量份苯乙烯、20重量份甲基丙烯酸、40重量份甲基丙烯酸縮水甘油基酯及20重量份三環(huán)[5.2丄026]癸烷-8-基甲基丙烯酸酯，進(jìn)行氮取代后，開始緩慢攪拌。將溶液的溫度升至70'C,將該溫度保持5小時，得到含共聚物[a-2]38的聚合物溶液。共聚物[a-2]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為7，500，分子量分布(Mw/Mn)為2.5。此處得到的聚合物溶液的固態(tài)成分濃度為31.6重量％?！粗苽涓蟹派渚€性樹脂組合物>實施例l混合上述合成例1中合成的含聚硅氧烷[A-1]的溶液(相當(dāng)于聚硅氧烷[A-1]為100重量份(固態(tài)成分)的量)、及作為成分[B]的10重量份4，4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)和l，2-重氮萘醌-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物(B-l)，加入二甘醇乙基曱基醚至固態(tài)成分濃度達(dá)到30重量％，均勻溶解后，用口徑0.2pm的膜濾器過濾，制備感放射線性樹脂組合物的溶液(S-l)實施例2~7、比較例1~2實施例l中，作為[A]成分及[B]成分，使用表l所記載的種類、量，除此之外，與實施例l同樣地實施，調(diào)制感放射線性樹脂組合物的溶液(S-2)~(S-7)及(s-l)~(s-2)。需要說明的是，實施例2、3中，[B]成分的記栽分別表示聯(lián)用2種l，2-重氮醌化合物。另外，實施例5中除了添加[A]成分及[B]成分外，還添加[C]感熱性酸生成化合物，實施例6中除了添加[A]成分及[B]成分，還添加[E]成分。實施例8實施例7中，溶解成二甘醇乙基甲基醚/丙二醇單甲基醚乙酸酯=6/4(重量比)，使固態(tài)成分濃度達(dá)到20重量％，進(jìn)而添加[F]表面活性劑，除此之外，與實施例l同樣地實施，調(diào)制感放射線性樹脂組合物的溶液(S-8)。39表l<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>表l中，成分的簡稱分別為下述含義。[B-l]:4，4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)和l，2-重氮萘醌-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物[B-2]:4，4，，4"-次乙基三(苯酚)(l.O摩爾)和l,2-重氮萘醌-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物[B-3]:2,3,4,4，-四羥基二苯酮(l.O摩爾)和l，2-重氮萘醌-5-磺酸酯(2.44摩爾)[C陽l]SunaideSI-L85(三新化學(xué)(抹)制)[E-l]Epikote154(JapanEpoxyResin(林)制)[F-l]:SH-28PA(東麗'道康寧'硅(林)制)<作為層間絕緣膜的性能評價〉實施例9~16、比4交例3~4使用如上所述地調(diào)制的感放射線性樹脂組合物，如下所述地評價作為層間絕緣膜的各種特性?！哺卸仍u價〕在硅基板上，對于實施例9~15及比較例3~4,使用旋涂器分別涂布表2中記栽的組合物后，在10(TC下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成膜厚4.0)am的涂膜。對于實施例16，使用縫模涂布機進(jìn)行涂布，在室溫下經(jīng)15秒降壓到0.5Torr，除去溶劑后，在100'C下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，形成膜厚4.0nm的涂膜。分別經(jīng)由具有規(guī)定圖案的圖案掩模，用佳能(抹)制PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)，以詠光時間為變量，將得到的涂膜曝光，然后，用2.38重量％的氫氧化四曱銨水溶液，在25。C下采用液池法顯影80秒。然后，用超純水流水清洗l分鐘，進(jìn)行干燥，在硅基板上形成圖案。確定此時完全溶解3.0vim的線與間隙(IO比I)的空間圖案所需的最小曝光量。將該最小膝光量作為感度示于表2。〔顯影裕度評價〕在硅基板上，對于實施例9~15及比較例3~4,使用旋涂器分別涂布表2中記載的組合物后，在100'C下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成膜厚4.0)iim的涂膜。對于實施例16，使用縫模涂布機進(jìn)行涂布，在室溫下經(jīng)15秒降壓到0.5Torr,除去溶劑后，在10(TC下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，形成膜厚4.0ium的涂膜。分別經(jīng)由具有3.0inm的線與間隙(IO比I)的圖案的掩沖莫，使用佳能(抹)制PLA-501F膝光機(超高壓水銀燈)，以相當(dāng)于上述"〔感度評價〕"中確定的感度值的爆光量對得到的涂膜進(jìn)行矚光，用2.38重量％的氫氧化四甲銨水溶液，在25'C下，以顯影時間為變量，采用液池法進(jìn)行顯影。然后，用超純水流水清洗l分鐘后，將其干燥，在硅基板上形成圖案。此時，以線的線寬達(dá)到3)tim所需的顯影時間為最佳顯影時間，示于表2。另外，在超過最佳顯影時間之后繼續(xù)顯影時，測定直至3.0^im的線'圖案發(fā)生剝離的時間，作為顯影裕度示于表2?！材腿軇┬栽u價〕在硅基板上，對于實施例9~15及比較例3~4，使用旋涂器分別涂布表2中記栽的組合物后，在100'C下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成涂膜。對于實施例16，使用縫模涂布機進(jìn)行涂布，在室溫下經(jīng)15秒降壓到0.5Torr，除去溶劑后，在100'C下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，形成涂膜。使用佳能(林)制PLA-501F啄光機(超高壓水銀燈)分別對得到的涂膜進(jìn)行膝光，使累積照射量達(dá)到3，000J/m2,將該硅基板在清潔烘箱內(nèi)于22(TC加熱1小時，由此得到膜厚約3.0nm的固化膜。測定得到的固化膜的膜厚(T1)。然后，將形成了該固化膜的硅基板在溫度被控制在70'C的二甲基亞砜中浸漬20分鐘后，測定該固化膜的浸漬后膜厚(tl)，計算浸漬導(dǎo)致的膜厚變化率(|U-T1|/T1)xlOO〔％〕。結(jié)果示于表2。需要說明的是，耐溶劑性評價中不需要將形成的膜圖案化，所以省略放射線照射工序及顯影工序，只進(jìn)行涂膜形成工序、后曝光工序及加熱工序，用于評價?！材蜔嵝栽u價〕與上述"〔耐溶劑性評價〕"同樣地在硅基板上形成固化膜，測定得到的固化膜的膜厚(T2)。然后，將該帶有固化膜的基板在清潔烘箱內(nèi)于24(TC追加烘焙1小時后，測定該固化膜的追加烘焙后膜厚(t2)，計算追加烘焙導(dǎo)致的膜厚變化率(|t2-T2|/T2}xl00〔％〕。結(jié)果示于表2?！餐该餍栽u價〕在上述"〔耐溶劑性評價〕"中，使用玻璃基板"Corning7059"(康寧公司制)代替硅基板，除此之外，同樣地在玻璃基板上形成固化膜。使用分光光度計"150-20型雙光束"((林)日立制作所制)測定400~800nm范圍內(nèi)的波長下該具有固化膜的玻璃基板的光線透射率。此時的最低光線透射率的值示于表2。〔相對介電常數(shù)評價〕在研磨的SUS304制基板上，對于實施例9~15及比較例3~4，使用旋涂器分別涂布表2中記栽的組合物后，在100'C下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成膜厚3.0^m的涂膜。對于實施例16,使用縫模涂布機進(jìn)行涂布，在室溫下經(jīng)15秒降壓到0.5Torr(約66.6Pa)，除去溶劑后，在IOO。C下，在熱板上預(yù)焙2分鐘，形成膜厚3.0nm的涂膜。用佳能(抹)制PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)分別對得到的涂膜進(jìn)行曝光，使累積照射量達(dá)到3，000J/n^后，將各基板在清潔烘箱內(nèi)于220'C下加熱1小時，由此在基板上形成固化膜。采用蒸鍍法在該固化膜上形成Pt/Pd電極圖案，制作介電常數(shù)測定用試樣。對該基板，使用橫河'惠普(抹)制HP16451B電極及HP4284A精密LCR表，采用CV法，測定頻率10kHz中的相對介電常數(shù)。結(jié)果示于表2。需要說明的是，介電常數(shù)評價時不需要將形成的膜圖案化，所以省略放射線照射工序及顯影工序，只進(jìn)行涂膜形成工序、后曝光工序及加熱工序，用于評價。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>〈作為微透鏡的性能評價〉實施例17~23、比4支例5~6使用如上所述地調(diào)制的感放射線性樹脂組合物，如下所述地評價作為微透鏡的各種特性。需要說明的是耐溶劑性的評價、耐熱性的評價、透明性的評價參見上述作為層間絕緣膜的性能評價中的結(jié)果?！哺卸仍u價〕在硅基板上，使用旋涂器分別涂布表3中記載的組合物后，在100。C下，于熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成膜厚2.0nm的涂膜。經(jīng)由具有規(guī)定圖案的圖案掩模，使用尼康(株)制NSR1755i7A縮小投影爆光機(NA=0.50、X=365nm),以膝光時間為變量，對得到的涂膜進(jìn)行膝光，用2.38重量%的氫氧化四甲銨水溶液，在25'C下，采用液池法顯影l(fā)分鐘。然后，用水沖洗，將其干燥，在硅基板上形成圖案。確定0.8pm線與間隙圖案(1比l)的空間線寬達(dá)到0.8)nm所需的最小膝光量。以該最小爆光量為感度示于表3?！诧@影裕度評價〕在硅基板上，使用旋涂器分別涂布表3中記載的組合物后，在100'C下，于熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成膜厚2.0pm的涂膜。經(jīng)由具有規(guī)定圖案的圖案掩模，使用尼康(株)制NSR1755i7A縮小投影膝光機(NA=0.50、X=365nm),以相當(dāng)于上述"[感度評價]"中確定的感度值的膝光量，對得到的涂膜進(jìn)行曝光，用表3所示濃度的氫氧化四甲銨水溶液，在25。C下，采用液池法顯影l(fā)分鐘。然后，用水沖洗，將其干燥，在硅基板上形成圖案。將0.8pm線與間隙圖案(l比l)的空間線寬達(dá)到0.8nm所需的顯影時間作為最佳顯影時間示于表3。另外，測定超過最佳顯影時間后繼續(xù)進(jìn)行顯影時至寬0.8nm的圖案發(fā)生剝離的時間(顯影裕度)，作為顯影裕度示于表3?！残纬晌⑼哥R〕在硅基板上，使用旋涂器分別涂布表3中記載的組合物后，在100'C下，于熱板上預(yù)焙2分鐘，由此形成膜厚2.0pm的涂膜。經(jīng)由具有4.0vim點-2.0^n間隙圖案的圖案掩模，使用尼康(抹)制NSR1755i7A縮小投影膝光機(NA-0.50、、=365nm)，以相當(dāng)于上述"[感度評價]"中確定的感度值的曝光量，對得到的涂膜進(jìn)行膝光，用2.38重量％的氫氧化四甲銨水溶液，在25'C下，采用液池法顯影l(fā)分鐘。然后，用水沖洗，將其干燥，在硅基板上形成圖案。然后，用佳能(株)制PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)進(jìn)行曝光，使累積照射量達(dá)到3，000J/m2。然后，在熱板上，于160。C下加熱10分鐘后，再在230。C下加熱10分鐘，使圖案發(fā)生熔體流動，形成微透鏡。形成的微透鏡的底部(接觸基板的面)的尺寸(直徑)及剖面形狀示于表3。微透鏡底部的尺寸超過4.0jnm不足5.0iLim時，判斷為良好。其尺寸在5.0pm以上時，相鄰?fù)哥R處于彼此接觸的狀態(tài)，并不優(yōu)選。另夕卜，在圖l所示的模式圖中，剖面形狀為(a)的半凸透鏡形狀時為良好，剖面形狀為(b)的類梯形狀時為不良。需要說明的是，比較例5中熔體流動的微透鏡圖案與分別相鄰接的圖案接觸，所以無法測定底面直徑并評價剖面形狀。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage47</column></row><table>本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物即使在不足25(TC的燒成條件下，與基板的密合性也良好，具有優(yōu)異的耐溶劑性及耐熱性、高透射率，能夠形成介電常數(shù)低的層間絕緣膜。本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物的感放射線感度高，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好的圖案形狀的顯影裕度，可以容易地形成密合性優(yōu)異的圖案狀薄膜。由上述組合物形成的本發(fā)明的微透鏡與基板的密合性良好，耐溶劑性及耐熱性優(yōu)異，并且具有高透射率和良好的熔化形狀，可以用作固體攝像元件的微透鏡。權(quán)利要求1.感放射線性樹脂組合物，其特征在于，含有下述成分[A]具有選自環(huán)氧乙烷基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少1種基團(tuán)、和能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)的聚硅氧烷；及[B]1，2-重氮醌化合物。2.如權(quán)利要求l所迷的感放射線性樹脂組合物，其中，[A]聚硅氧烷為含有下述物質(zhì)的水解縮合物(al)具有選自環(huán)氧乙烷基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少l種基團(tuán)和水解性基團(tuán)的硅烷化合物、(a2)具有能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)和水解性基團(tuán)的硅烷化合物。3.如權(quán)利要求l所述的感放射線性樹脂組合物，其中，[A]聚硅氧烷中的能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)是羥基、巰基或氨基》4.如權(quán)利要求2所述的感放射線性樹脂組合物，其中，[A]聚硅氧烷中的能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)是羥基、巰基或氨基。5.用于形成層間絕緣膜的如權(quán)利要求l~4中的任一項所述的感放射線性樹脂組合物。6.層間絕緣膜的形成方法，其特征在于，按下迷順序包含以下工序(1)在基板上形成權(quán)利要求5所述的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將放射線照射后的被膜顯影的工序，及(4)加熱顯影后的被膜的工序。7.層間絕緣膜，其特征在于，所述層間絕緣膜是采用權(quán)利要求6所述的方法形成的。8.用于形成微透鏡的如權(quán)利要求l~4中的任一項所述的感放射線性樹脂組合物。9.微透鏡的形成方法，其特征在于，按下述順序包含以下工序(1)在基板上形成權(quán)利要求8所述的感放射線性樹脂組合物的被膜的工序，(2)對該被膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)將放射線照射后的被膜顯影的工序，及(4)加熱顯影后的被膜的工序。10.微透鏡，其特征在于，所述微透鏡是采用權(quán)利要求9所述的方法形成的。全文摘要本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物含有[A]具有選自環(huán)氧乙烷基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少1種基團(tuán)、和能與環(huán)氧乙烷基或氧雜環(huán)丁烷基加成反應(yīng)的官能團(tuán)的聚硅氧烷；及[B]1，2-重氮醌化合物。上述本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物即使在不足250℃的燒成條件下，用于形成層間絕緣膜時，也能夠形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率、低介電常數(shù)的層間絕緣膜，另外用于形成微透鏡時，能夠形成具有高透射率和良好的熔化形狀的微透鏡。文檔編號G03F7/075GK101324755SQ20081012544公開日2008年12月17日申請日期2008年6月13日優(yōu)先權(quán)日2007年6月14日發(fā)明者吉田伸,花村政曉,飯島孝浩申請人:Jsr株式會社