專利名稱：為浸沒光刻提供流體的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體上涉及一種為浸沒光刻(immersion lithography)提 供流體的系統(tǒng)和方法，更具體地說，是一種控制流體流量和壓力以便 為浸沒光刻提供穩(wěn)定條件的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
曝光裝置是一種精密組件，在半導(dǎo)體處理期間，它通常被用于把 圖像從一分劃板轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶片上。 一種典型的曝光裝置包括一 照明源； 一分劃板臺組件，用于保持著一分劃板； 一光學(xué)組件； 一晶 片臺組件，用于保持著半導(dǎo)體晶片； 一測量系統(tǒng)； 一控制系統(tǒng)。涂敷 有抗蝕劑的晶片被放置在從一形成圖案的掩膜發(fā)射的輻射路徑中，并 且被這種輻射曝光。當(dāng)抗蝕劑被顯影時，掩膜圖案被轉(zhuǎn)移到晶片上。 在顯微鏡方法中，超紫外線(EUV)輻射通過一薄的樣本而被傳遞到 一個涂敷有抗蝕劑的板上。當(dāng)抗蝕劑被顯影時，就留下與樣本結(jié)構(gòu)相 關(guān)的剖析形狀。
浸沒光刻是這樣一種技術(shù)，它可以利用數(shù)值孔徑大于l地進(jìn)行膝 光，從而能提高投射光刻的分辨率，這種分辨率要大于傳統(tǒng)的"干式" 系統(tǒng)的分辨率的理論最大值。通過對最終光學(xué)元件和涂敷有抗蝕劑的目標(biāo)(即，晶片)之間的空間進(jìn)行填充，浸沒光刻就可以利用那些如 果用其它方式就會在光-空氣分界面處被在內(nèi)部全部反射的光線進(jìn)行 膝光。采用與浸沒流體(或抗蝕劑或透鏡材料，最少的那一個)的折
射率(index) —樣高的數(shù)值孔徑是可以的。與具有相同數(shù)值孔徑的干 式系統(tǒng)相比，通過浸沒流體的折射率，流體浸沒還增大了晶片的焦點(diǎn) 深度，即在晶片的豎直位置的可容忍誤差。因此，浸沒光刻能提高分 辨率，能從248nm轉(zhuǎn)變?yōu)?93nm。然而，不象曝光波長中的轉(zhuǎn)變，采 用浸沒方式就無需研發(fā)新的光源、光學(xué)材料或涂敷層，并且允許在相 同的波長采用與傳統(tǒng)的光刻相同或相似的抗蝕劑。在只有最終光學(xué)元 件和它的支座和晶片(以及可能還有支撐臺)與浸沒流體相接觸的浸 沒系統(tǒng)中，在諸如污染控制的領(lǐng)域中已經(jīng)為傳統(tǒng)的工具研制了許多技 術(shù)和設(shè)計(jì)，直接應(yīng)用到浸沒光刻。
浸沒光刻的一個難題在于設(shè)計(jì)一個用于在最終光學(xué)元件和晶片之 間輸送和回收諸如水的流體的系統(tǒng)，以便為浸沒光刻提供一個穩(wěn)定的 條件。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例是針對控制流體流量和壓力以便為浸沒光刻提供 穩(wěn)定條件的系統(tǒng)和方法。在浸沒光刻過程期間，向透鏡和基片之間的 一空間提供一流體。流體被供給到所說空間，并通過一個與所說空間 流體連通的一個多孔元件從所說空間回收流體。把多孔元件中的壓力 保持在多孔元件的起泡點(diǎn)以下，就能消除在流體回收期間由空氣與流 體相混合所產(chǎn)生的噪音。起泡點(diǎn)是多孔元件的一個特征，它取決于多 孔元件中的孔(最大孔)的尺寸大小以及流體與多孔元件所形成的接 觸角(它是基于多孔材料特性和流體特性的一個參數(shù))。由于起泡點(diǎn)通 常是一個非常低的壓力，因此，這種低壓的控制就成為一個重要的問 題。
本發(fā)明的一個方面是針對一種在浸沒光刻系統(tǒng)中從一透鏡和一基的方法。該方法包括通過一個多孔元件 經(jīng)由一條回收流線路從所說空間抽吸流體；在從所說空間吸取流體期 間，把多孔元件中的壓力保持在多孔元件的起泡點(diǎn)以下。
在某些實(shí)施例中，保持壓力的步驟包括提供一個被保持在一預(yù) 定壓力的溢流容器；把通過多孔元件經(jīng)由回收流線路從所說空間回收 的流體引導(dǎo)到溢流容器內(nèi)。保持壓力的步驟還包括把流體從溢流容 器虹吸到一收集箱內(nèi)。流體在重力作用下被向下虹吸到設(shè)置在溢流容 器下面的收集箱內(nèi)。在另外一些實(shí)施例中，保持壓力的步驟包括提 供一流體液位緩沖件；通過多孔元件經(jīng)由一緩沖流線路把流體從所說 空間吸到流體液位緩沖件；感測流體液位緩沖件處的壓力或流體液位； 根據(jù)所感測到的流體液位緩沖件處的壓力或流體液位，對通過多孔元 件經(jīng)由回收流線路從所說空間吸取的流體進(jìn)行控制?？刂屏黧w流的步 驟包括控制一個被設(shè)置在回收流線路中位于多孔元件下游的可變閥。 在另外一些實(shí)施中，保持壓力的步驟包括提供一流體液位緩沖件； 通過多孔元件經(jīng)由 一緩沖流線路把流體從所說空間抽吸到流體液位緩 沖件；感測流體液位緩沖件處的壓力或流體液位；根據(jù)所感測到的流 體液位緩沖件處的壓力或流體液位，控制通過多孔元件的回收流線路 出口處的真空壓力?？刂普婵諌毫Φ牟襟E包括控制回收流線路出口 處的一收集箱中的一真空調(diào)節(jié)器。
根據(jù)本發(fā)明的另 一個方面，提供了 一種在一浸沒光刻系統(tǒng)中用于 從一透鏡和一基片之間的一空間回收流體的裝置，該裝置包括 一內(nèi) 部件，該內(nèi)部件具有一透鏡開口，以便容納透鏡的一部分，并且把透 鏡設(shè)置成與基片分離開，使其被所說空間間隔開，以便在透鏡和基片 之間的空間中接收流體。 一外部件被設(shè)置在內(nèi)部件周圍，該外部件具 有一多孔元件，該多孔元件與所說空間以及一流體回收出口流體連通， 以便經(jīng)由多孔元件把流體從所說空間抽吸到流體回收出口 。 一壓力控 制系統(tǒng)與多孔元件流體連通，以便在經(jīng)由多孔元件從所說空間抽吸流 體期間，把多孔元件的表面處的壓力保持在多孔元件的起泡點(diǎn)以下。在一些實(shí)施例中，壓力控制系統(tǒng)包括 一溢流容器，該溢流容器 與多孔元件流體連通； 一真空調(diào)節(jié)器，用于調(diào)節(jié)溢流容器中的壓力。 一收集箱與溢流容器流體連通，并且位于該溢流容器的下方。在另一 些實(shí)施例中，壓力控制系統(tǒng)包括 一流體液位緩沖件，該流體液位緩 沖件與多孔元件流體連通； 一傳感器，用于感測流體液位緩沖件處的 壓力或流體液位； 一控制器，用于根據(jù)傳感器感測到的傳感器信號， 調(diào)節(jié)通過流體回收出口從所說空間抽吸的流體的流量，在經(jīng)過多孔元 件從所說空間抽吸流體期間，以便把多孔元件的表面處的壓力保持在 多孔元件的起泡點(diǎn)以下。壓力控制系統(tǒng)包括一閥，該閥被設(shè)置在流體 回收出口的下游，并且控制器被用于控制該閥，以便調(diào)節(jié)通過流體回 收出口從所說空間抽吸的流體的流量。在另外一些實(shí)施例中，壓力控 制系統(tǒng)包括 一收集箱，該收集箱與流體回收出口流體連通； 一可控 真空調(diào)節(jié)器，用于調(diào)節(jié)收集箱中的壓力?？刂破鞅挥糜诳刂瓶煽卣婵?調(diào)節(jié)器，以便通過控制收集箱中的壓力來調(diào)節(jié)通過流體回收出口從所 說空間抽吸到收集箱的流體的流量。
在一些特定的實(shí)施例中，內(nèi)部件與外部件間隔開一中間間隔。內(nèi) 部件包括一 內(nèi)部腔室，該內(nèi)部腔室形成透鏡和基片之間的間隔的一部 分，并且，內(nèi)部件具有一些孔，這些孔被設(shè)置在內(nèi)部腔室的上方，以 便實(shí)現(xiàn)把流體引入到內(nèi)部腔室內(nèi)和把流體從內(nèi)部腔室抽吸出中的至少 一種功能。內(nèi)部件具有一些孔，這些孔被設(shè)置在透鏡開口的對置側(cè)， 以便把流體引入到內(nèi)部腔室。內(nèi)部件包括一對緩沖槽，這對緩沖槽沿 著浸沒光刻系統(tǒng)的掃描方向被設(shè)置在透鏡開口的對置側(cè)。內(nèi)部件具有 一些清洗孔，并且，所說的這對緩沖槽中的每個緩沖槽與至少一個清 洗孔流體連通。多孔元件選自由網(wǎng)、多孔材料、其內(nèi)具有蝕刻孔的元 件所構(gòu)成的組。
根據(jù)本發(fā)明的另外一個方面，提供了一種裝置，該裝置包括一 光學(xué)投射系統(tǒng)，該光學(xué)投射系統(tǒng)具有一最終光學(xué)元件，該光學(xué)投射系 統(tǒng)用于把一圖像投射到一工件上； 一臺，當(dāng)圖像被投射到工件上時，該臺用于支撐著光學(xué)投射系統(tǒng)附近的工件。在最終光學(xué)元件和工件之 間設(shè)置一間隔，該間隔被用于充填一浸沒流體。 一多孔材料被設(shè)置成 鄰近所說間隔，用于回收從所說間隔流出的流體。 一控制系統(tǒng)被用于 保持多孔材料上的壓力。該壓力等于或小于多孔材料的起泡點(diǎn)。


圖l是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的浸沒光刻的簡化平面示意圖2是根據(jù)本發(fā)明 一 個實(shí)施例的在浸沒光刻中用于流體輸送和回 收的一噴嘴的立體圖3是圖2中的噴嘴的簡化剖面圖4是圖2中的噴嘴的內(nèi)部件的剖面圖5是根據(jù)另一個實(shí)施例的噴嘴的簡化剖面圖6是根據(jù)本發(fā)明 一 個實(shí)施例在浸沒光刻系統(tǒng)中用于流體回收的 壓力控制系統(tǒng)的簡化示意圖7是根據(jù)本發(fā)明另 一個實(shí)施例在浸沒光刻系統(tǒng)中用于流體回收 的壓力控制系統(tǒng)的簡化示意圖8是根據(jù)本發(fā)明另 一個實(shí)施例在浸沒光刻系統(tǒng)中用于流體回收 的壓力控制系統(tǒng)的簡化示意圖9是根據(jù)本發(fā)明另 一 個實(shí)施例在帶有防止水停滯功能的浸沒光 刻系統(tǒng)中用于流體回收的壓力控制系統(tǒng)的簡化示意圖。
具體實(shí)施例方式
圖l表示出了一個浸沒光刻系統(tǒng)10，它包括 一分劃板臺12，在 該分劃板臺上支撐有一分劃板； 一投射透鏡14; 一晶片16，該晶片被 支撐在一晶片臺18上。在投射透鏡14的最終光學(xué)元件22的周圍設(shè)置 有一浸沒裝置20，以便在最終光學(xué)元件22和晶片16之間提供和回收 流體，所說流體可以是諸如水或氣體的流體，所說的浸沒裝置20有時 也被稱作噴頭或噴嘴。在本實(shí)施例的浸沒光刻系統(tǒng)10中，在掃描膝光期間，分劃板和晶片16在各自的掃描方向上被同步移動。
圖2和圖3表示出了在浸沒光刻中用于在最終光學(xué)元件22和晶片 16之間輸送和回收流體的裝置或噴嘴20。圖2表示出了噴嘴20的底 視立體圖，該噴嘴20包括一外部件30和一內(nèi)部件32。內(nèi)部件32形 成一內(nèi)部腔室34，以便在最終元件22和晶片16之間接收流體。內(nèi)部 件32具有一些孔38，以便流體流入和流出內(nèi)部腔室34。如圖2所示， 在最終光學(xué)元件22的兩側(cè)都設(shè)置有一些孔38。內(nèi)部件32具有一個環(huán) 繞著內(nèi)部腔室34的平坦部33。該平坦部33基本上平行于晶片16。最 終光學(xué)元件22和晶片16的端面之間的距離Dl要大于平坦部33和晶 片16之間的距離D2。距離Dl可以為1.0-5.0mm，距離D2可以為 0.5-2.0mm。在另一個實(shí)施例中，距離Dl基本上等于距離D2。內(nèi)部 件32還包括一對帶有清洗孔42的緩沖件或緩沖槽40。緩沖件40被 設(shè)置在平坦部33處或附近。緩沖件40位于最終光學(xué)元件22的對置側(cè)。 圖4表示出了內(nèi)部件32沿掃描方向44的剖面圖。
通過一中間間隔或槽48把外部件30與內(nèi)部件32間隔開，所說的 中間間隔或槽48可被稱作大氣槽。外部件30包括一個或多個流體回 收孔50，這些流體回收孔50被設(shè)置在最終光學(xué)元件22的對置側(cè)。一 個多孔元件51被設(shè)置在一槽或外部腔室53內(nèi)，該槽或外部腔室53 在內(nèi)部件32周圍延伸并且與這對流體回收孔50流體連通。多孔元件 51可以是一網(wǎng)，也可以由具有孔的多孔材料制成，孔的尺寸大小通常 約在50-200孩￡米的范圍內(nèi)。例如，多孔元件51可以是絲網(wǎng)，該絲網(wǎng) 包括由金屬、塑料或類似制成的編織條或?qū)訝畈牧?，多孔金屬，多?玻璃，多孔塑料，多孔陶瓷，或具有以化學(xué)方式蝕刻(例如通過光刻) 的孔的片材。外部件30還包括一流體緩沖出口 56和一流體回收出口 58。如圖5所示，在噴嘴20，的另一個實(shí)施例中，內(nèi)部件32不與最終 光學(xué)元件22接觸，也不與最終光學(xué)元件22形成一密封，而是與最終 光學(xué)元件22間隔開。然而，該間隔可允許流體被暴露于空氣。
噴嘴20的一個特征在于它被制成兩件式，即外部件30和內(nèi)部件32。內(nèi)部件32把流體保持在透鏡和晶片表面之間，外部件30主要用
于流體回收。在流體回收期間，振動可從外部件30通過多孔元件51
被傳遞到光刻系統(tǒng)的其它部件，包括內(nèi)部件32，該內(nèi)部件32可被用
于把一自動聚焦光束引導(dǎo)到晶片16。在外部件30和其上安裝有外部
件30的安裝件之間可安裝一減振材料，以便減小從外部件30傳遞的
振動。此外，具有多孔元件的外部件30易于被污染，因此需要對其進(jìn)
行更換維護(hù)。把外部件30做成一個單獨(dú)部件，有利于使維護(hù)更容易。
與更換整個噴嘴20相反，這還可以減小更換外部件之后的重新調(diào)節(jié)和
重新校準(zhǔn)時間。如果噴嘴20被制造成兩個單獨(dú)部件，那么還可以改善
噴嘴20的可制造性。應(yīng)當(dāng)知道，在一些可選實(shí)施例中，噴嘴20可以 由一個單一件制成。
噴嘴20的另一個特征在于內(nèi)部件32和外部件30之間的大氣槽 48。這條大氣槽48用作一隔斷邊緣，如果流體回收速率快于流體供給 速率，那么，該隔斷邊緣就阻止內(nèi)部件30中的流體被外部件30上的 多孔元件51吸出。在沒有隔斷邊緣的情況下，必須要保持流體回收速 率和流體供給速率之間的平衡，以便在掃描期間流體能被一直保持在 內(nèi)部件32內(nèi)。設(shè)置有這種大氣槽48,就可以把回收速率設(shè)置在最大 值，以便在掃描期間使流體漏出外部件30減到最少。大氣槽48還用 作一緩沖件，以便在掃描期間流體流入和流出，從而使對水供給和回 收的要求減到最小。
在浸沒光刻的過程中，從一干燥狀態(tài)，把一流體填充到投射透鏡 14和晶片16之間，在其它時間，對流體進(jìn)行回收。例如，在一新的 晶片開始曝光時，在開始膝光之前把流體完全充滿內(nèi)部件32的內(nèi)部腔 室34。在這個過程期間，理想地是，在投射透鏡14和晶片16或其它 光學(xué)路徑例如自動聚焦光束之間沒有氣泡存在。內(nèi)部件32的內(nèi)部腔室 中的流體供給被設(shè)置在該腔室中的最高點(diǎn)(通過孔38),從而使流體 從上向下進(jìn)行填充，這樣就可以在填充過程期間把氣泡驅(qū)逐出內(nèi)部腔 室。在這個實(shí)施例中(這組孔38位于一側(cè))，流體被理想地從一側(cè)開始供給，從而流體從一側(cè)被填充到另一側(cè)，這樣就又可以把氣泡逐出， 以便避免夾雜一些空氣。也可以采用其它的結(jié)構(gòu)布置，只要流體從內(nèi) 側(cè)向外填充即可。
有時，必須從內(nèi)部件32的內(nèi)部腔室完全回收流體。在圖4中，在 內(nèi)部件32的每個緩沖件40中具有小孔42。當(dāng)流體必須被完全回收時， 這些孔42用于快速地進(jìn)行流體回收或流體清洗。利用高真空，結(jié)合晶 片臺18中的少許移動，把流體從這些孔42吸出，這就使得可以在一 合理時間回收全部流體。
內(nèi)部件32具有兩組或兩排孔38，用于供給或回收流體。每排孔 都能被獨(dú)立地控制使其進(jìn)行供給或回收流體。在兩排孔都被選擇用于 供給流體的情況下，所有的流體都通過外部件30中的多孔元件51被 回收。由于兩排孔都被用于供給流體，因此，在內(nèi)部腔室中的壓力會 增大，從而造成投射透鏡14的最終光學(xué)元件22或晶片16或兩者都產(chǎn) 生變形。此外，橫貫最終光學(xué)元件22的流體也會被限制，從而最終使 得最終光學(xué)元件22和晶片16之間的溫度升高，造成不良的影響。另 一方面，如果一排孔被選擇用于供給流體，而另一排孔被選擇用于回 收流體，那么，流體流就將橫貫最終光學(xué)元件22被驅(qū)動，這樣就使溫 度升高量減到最小。此外，與從兩排孔來供給流體時所產(chǎn)生的壓力相 比，這種方式還能減小壓力。在這種情況中，減小了需要通過多孔元 件51來回收的流體，從而減弱了多孔元件的回收要求。在另外的噴嘴 結(jié)構(gòu)中，可以采用多重流體供給和回收，以便使性能優(yōu)化。
在晶片臺18的掃描移動期間(沿著圖2中的掃描方向44)，流體 可以被拖入和拖出內(nèi)部件32的內(nèi)部腔室。當(dāng)流體被拖出時，流體就通 過外部件30中的多孔元件51被回收。當(dāng)晶片臺18沿著相反方向移動 時，空氣可以被拖入到內(nèi)部件32的內(nèi)部腔室34內(nèi)。在這期間，緩沖 件40中的流體以及從內(nèi)部腔室34所供給的流體幫助再填充沿著掃描 方向被拖動的流體，從而阻止空氣進(jìn)入內(nèi)部腔室內(nèi)。緩沖件40和多孔 元件51—起作用，以便在晶片臺18的掃描移動期間，使從外部件30泄漏出的流體以及拖入到內(nèi)部件32內(nèi)的空氣減到最少。
在把多孔元件51中的壓力保持在起泡點(diǎn)以下的情況下來通過多 孔元件51回收流體，就能消除在流體回收期間由空氣和流體的混合所 產(chǎn)生的噪音。起泡點(diǎn)是多孔元件51的一個特征，它取決于多孔元件 51中的孔(最大孔)的尺寸大小以及流體與多孔元件51所形成的接 觸角(它是基于多孔材料特性和流體特性的一個參數(shù))。由于起泡點(diǎn)通 常是一個非常低的壓力(例如，大約1000帕斯卡)，因此，這種低壓 的控制就成為一個重要的問題。圖6-7表示出了在流體回收期間把壓 力保持在起泡點(diǎn)以下的兩種具體方式。
在圖6的壓力控制系統(tǒng)100中，利用一真空調(diào)節(jié)器102,并借助 于一個通過一回收流線路106(該回收流線路與流體緩沖出口 57相連) 與多孔元件51流體連通的溢流容器或箱104，在多孔元件51的表面 處保持一個在起泡點(diǎn)以下的壓力。多孔元件51的表面處的壓力等于由 真空調(diào)節(jié)器102保持的壓力減去由多孔元件51上方的流體高度所產(chǎn)生 的壓力。利用溢流箱104來多孔元件51上方的流體的恒定高度，就可 以容易地控制多孔元件51的表面處的壓力。那些通過多孔元件51被 回收的流體將溢出，并且沿著虹吸線路108被向下吸到一個被設(shè)置在 溢流箱104下面的收集箱110內(nèi)。 一條可選的流通路徑112被連接在 溢流箱104和收集箱110之間，以^更幫助平衡溢流箱104和收集箱110 之間的壓力，從而有利于流體沿著虹吸線路108流動。這種壓力控制 系統(tǒng)100的一個特征在于它是一個被動系統(tǒng)(passive system),無需 控制。
在圖7所示的壓力控制系統(tǒng)120中，在流體液位緩沖件124處利 用 一真空調(diào)節(jié)器122來把多孔元件51的表面處的壓力保持在起泡點(diǎn)以 下，其中的流體液位緩沖件124通過一緩沖流線路126 (該緩沖流線 路與流體緩沖出口 56相連)與多孔元件51流體連通。利用一壓力變 換器或一水位傳感器128來測量流體液位緩沖件124處的壓力或流體 液位(fluid level )。然后把傳感器信號用于反饋控制130，把傳感器信號反饋到一閥132,該閥132被設(shè)置在(與流體回收出口 58相連的) 一回收流線路134中，該回收流線路134被連接在多孔元件51和一收 集箱136之間。閥132可采用4壬何適合的閥，例如比例閥或可變閥。 可變閥132可被調(diào)節(jié)，以便控制通過流體回收線路134流向收集箱136 的流體流，從而把流體液位緩沖件124的壓力或流體液位保持在一個 預(yù)定值。收集箱136處于一個受一高真空調(diào)節(jié)器138控制的相對較高 的真空下，以便進(jìn)行流體回收。在這種流體控制系統(tǒng)120中，無需溢 流箱，并且收集箱136可以被設(shè)置在該系統(tǒng)中的任何地方，無需被設(shè) 置在溢流箱下面。理想地是，在流體回收線路134中設(shè)置一開/關(guān)閥 140,當(dāng)不需要流體回收時，就把該開/關(guān)閥140關(guān)閉。
在圖8中，壓力控制系統(tǒng)160類似于圖7所示的系統(tǒng)120，并且 相同的附圖標(biāo)記表示相同的部件。這個系統(tǒng)160不釆用閥132來對流 體回收進(jìn)行反饋控制，而是采用一可控制真空調(diào)節(jié)器162來對流體回 收進(jìn)行反饋控制。真空調(diào)節(jié)器162典型的是可電子控制的，以便根據(jù) 來自壓力變換器或水位傳感器128的傳感器信號來調(diào)節(jié)收集箱136中 的真空壓力。真空調(diào)節(jié)器162可被調(diào)節(jié)，以便控制通過流體回收線路 134流到收集箱136的流體流，從而把壓力或流體液位緩沖件124的 流體液位保持在一預(yù)定值。當(dāng)不需要回收流體時，就關(guān)閉流體回收線 路134中的開/關(guān)閥140。
圖9表示出了根據(jù)本發(fā)明另外一實(shí)施例的一種在浸沒光刻系統(tǒng)中 用于回收流體的壓力控制系統(tǒng)180,這種壓力控制系統(tǒng)能防止水發(fā)生 停滯。這種壓力控制系統(tǒng)180與圖7中的系統(tǒng)120相類似，并且相同 的部件采用相同的附圖標(biāo)記來表示。此外，流體液位緩沖件124與水 供給或水回收器182流體連通，以便向流體液位緩沖件124供給水或 從流體液位緩沖件124回收水，從而防止水停滯。可以利用一可選的 泵或一類似的移動部件在流體液位緩沖件124和水供給或回收器182 之間引導(dǎo)流動。水或流體停滯時間過長，就可能在水中滋生細(xì)菌/霉菌。 在正常操作下，流體液位緩沖件124處的水是停滯的，因?yàn)閺木W(wǎng)51回收的水將經(jīng)過位于網(wǎng)高度的小管流到收集箱136。在正常操作期間， 通過把流體引入或引出流體液位緩沖件124，就可以防止滋生細(xì)菌/霉 菌的問題。
應(yīng)當(dāng)知道，上面的描述只是解釋性的，并不是限制性的。對于本 領(lǐng)域的技術(shù)人員而言， 一旦閱讀上面的描述，許多實(shí)施例就會是很顯 然的。因此，本發(fā)明的范圍并不是參照上述描述來確定的，而是參照 所附的權(quán)利要求以及它的等同范圍來確定的。
此外，本發(fā)明還能被用于雙臺式光刻系統(tǒng)。例如，在美國專利 US6262796和US6341007中就公開了雙臺式光刻系統(tǒng)，在此引用這些 專利文件的全文作為參考。
權(quán)利要求
1. 一種裝置，包括光學(xué)投射系統(tǒng)，該光學(xué)投射系統(tǒng)具有一最終光學(xué)元件，該光學(xué)投射系統(tǒng)用于把一圖像投射到一工件上；臺，當(dāng)圖像被投射到工件上時，該臺用于支撐著鄰近光學(xué)投射系統(tǒng)的所說工件；噴嘴，用于向最終光學(xué)元件和工件之間的間隔中提供一浸沒流體；其中，所說噴嘴具有一內(nèi)部腔室，用于把浸沒流體保持在所說間隔中；一外部腔室，用于回收那些流出內(nèi)部腔室的浸沒流體。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，噴嘴還包括一槽，該槽位 于內(nèi)部腔室和外部腔室之間。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，其中，噴嘴還包括一多孔元件， 該多孔元件被設(shè)置在外部腔室中。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，多孔元件選自由網(wǎng)、多孔 材料、其內(nèi)具有蝕刻孔的元件所組成的組。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，其中，內(nèi)部腔室形成最終光學(xué)元 件和工件之間的所說間隔的一部分，并且噴嘴具有一些孔，這些孔被 設(shè)置在內(nèi)部腔室上方，以便實(shí)現(xiàn)把流體引入到內(nèi)部腔室或從內(nèi)部腔室 抽吸流體中的至少一種功能。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其中，所說的這些孔被設(shè)置在最 終光學(xué)元件的對置側(cè)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，噴嘴還包括一對緩沖槽， 這對緩沖槽沿著所說臺相對于光學(xué)投射系統(tǒng)的移動方向被設(shè)置在所說 最終光學(xué)元件的對置側(cè)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，噴嘴還包括一些清洗孔， 并且所說的這對緩沖槽中的每條緩沖槽都與至少一個所說清洗孔流體 連通。
全文摘要
本發(fā)明的實(shí)施例是針對控制流體流量和壓力以便為浸沒光刻提供穩(wěn)定條件的系統(tǒng)和方法。在浸沒光刻過程期間，向透鏡(22)和基片(16)之間的一空間(34)提供一流體。流體被供給到所說空間，并通過一個與所說空間流體連通的一個多孔元件(51)從所說空間回收流體。把多孔元件中的壓力保持在多孔元件的起泡點(diǎn)以下，就能消除在流體回收期間由空氣與流體相混合所產(chǎn)生的噪音。在一個實(shí)施例中，所說的方法包括通過一個多孔元件經(jīng)由一回收流體線路從所說空間抽吸流體；在從所說空間抽吸流體期間，把多孔元件中的流體壓力保持在多孔元件的起泡點(diǎn)以下。
文檔編號G03B27/52GK101430508SQ20081009225
公開日2009年5月13日 申請日期2004年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月3日
發(fā)明者A·K·T·普恩, L·W·F·霍 申請人:株式會社尼康