專利名稱：液體處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及抑制帶出向基板表面供給的處理液的液體處理裝置。
技術(shù)背景制造形成液晶顯示器的TFT (薄膜晶體管)基板時，對玻璃基板 進行感光劑的涂敷、曝光、顯影、蝕刻、清除感光劑等的處理。各處 理由多個工序構(gòu)成，例如一個處理由向基板供給處理液的工序、清洗基板的工序以及干燥基板的工序構(gòu)成。使用專用的裝置實施各工序， 利用輸送基板的輸送機構(gòu)使基板依次通過各裝置，由此對基板進行一 個處理。并且，利用輸送機構(gòu)輸送的基板在保持水平的狀態(tài)下進行輸 送，以水平狀態(tài)放置在輸送機構(gòu)上的多個基板依次通過各裝置，由此 可對基板依次進行處理。在此通過了供給處理液的裝置后的基板被接著輸送到清洗基板的 裝置，此時處理液也與基板一起被帶入清洗裝置。作為對保持水平狀 態(tài)的基板供給處理液的機構(gòu)，使用在輸送機構(gòu)的上部設(shè)置流出處理液 的噴灑器、向基板連續(xù)供給處理液的方法。從噴灑器流出的處理液在 基板表面形成積液、殘留下來，形成該積液的處理液被帶入下一清洗 裝置。由于清洗裝置使用清洗液，因此，若清洗液與被帶出的處理液 混合，則不能再利用清洗液而將處理液廢棄。因此，若大量的處理液 被帶入清洗裝置，則處理液被大量地浪費消耗，具有處理液的使用效 率低的問題。因此，在日本特開平8-294678號公報發(fā)表了軋液(液切9 )裝置， 利用軋液輥清除附著在基板上的處理液，防止將處理液帶入下一裝置。 在日本特開平8-294678號公報的軋液裝置中，將軋液輥設(shè)置在與通過 輸送機構(gòu)輸送的基板表面只離開微小距離的位置，阻止附著在基板表 面的處理液的移動。發(fā)明內(nèi)容在日本特開平8-294678號公報的軋液裝置中，通過禮液輥與處理 液接觸，使擠壓力向處理液作用，使處理液附著在軋液輥上。因此， 必須定期進行清除附著的處理液的維護作業(yè)，因此具有維護作業(yè)煩雜 的問題。另一方面，也考慮通過利用使基板干燥的吹拂器等機構(gòu)，向基板 表面噴射空氣，利用氣壓清除處理液的方法。如果使用吹拂器，利用 氣體清除處理液，則不需要維護作業(yè)。但是，如果靠利用吹拂器清除 處理液的方法，則很難使吹拂器的氣壓均勻地對基板表面作用，基板 表面的一部分干燥，在附著處理液的部分和不附著的部分上產(chǎn)生不均 勻。因此，導(dǎo)致作為最終的液晶顯示器的產(chǎn)品具有圖象不勻的問題。因此，本發(fā)明的目的是不使用軋液輥和空氣來抑制處理液的帶出量。為了解決以上的問題，本發(fā)明的技術(shù)方案1的液體處理裝置是向 基板表面供給液體、進行表面處理的液體處理裝置，具有輸送機構(gòu)、 液體供給機構(gòu)以及液體噴射機構(gòu)，輸送機構(gòu)在上述液體處理裝置內(nèi)向 水平方向輸送上述基板；液體供給機構(gòu)向通過上述輸送機構(gòu)輸送的整 個上述基板表面供給上述處理液；液體噴射機構(gòu)設(shè)置在上述液體供給 機構(gòu)和上述液體處理裝置的搬出口之間，通過相對上述基板從斜上方 向著上述基板的輸送方向的反方向噴射上述處理液，清除積存在上述 基板表面的積液。根據(jù)技術(shù)方案1的液體處理裝置，從液體供給機構(gòu)供給、在基板基板表面沖走、清除，因此，可抑制處理液的帶出。不使用軋液輥或 空氣，而是使用作為同種液體的處理液擠壓滯留在基板表面的處理液， 因此不需要維護作業(yè)。并且，如果不使用空氣、而使用處理液來清除 處理液，則整個基板表面成為形成液膜的狀態(tài)，可使基板表面不干燥， 一直保持濕潤狀態(tài)。因此，由于基板表面不干燥，故沒有不附著處理 液的部分，也沒有發(fā)生不均勻的問題。并且，由于基板的輸送方向和處理液的噴射方向形成反方向，因 此，基板的輸送速度的能量加在處理液的噴射壓上。因此，可使更強 的處理液的流動對形成積液的處理液進行作用。因此可高效率地清除 基板表面的積液。在此，反方向不局限于角度為180度的反方向，也可以是相對輸 送方向的斜的反方向。如果基板的輸送方向與處理液的噴射方向為斜 的狀態(tài)，與180度的反方向相比較，作用于處理液的液壓稍低。但是， 如果相對輸送方向從斜的反方向噴射處理液，則可從基板的兩條邊擠 壓積存的處理液，因此，可高效率地清除基板表面的積液。并且，若用所噴射的處理液的液壓沖走形成積液的處理液，則基 板表面成為形成液膜的狀態(tài)，從抑制帶出量方面來看，液膜的厚度最 好盡量薄。如果提高所噴射的處理液的液壓，則可使強的擠壓力作用， 可使清除滯留的處理液后的基板表面的液膜變薄。因此，最好盡量提 高處理液的噴射壓。并且，作為液體供給機構(gòu)，為了向整個基板表面供給處理液、進 行表面處理，例如可采用將噴灑器設(shè)置在液體處理裝置的上部的多處， 從該噴灑器一直向基板表面供給處理液的方法。本發(fā)明的技術(shù)方案2的液體處理裝置如技術(shù)方案1所述的液體處 理裝置，其特征在于，將上述液體噴射機構(gòu)的噴射上述處理液的噴射 口形成縫隙形狀，使該縫隙與上述基板的輸送方向正交地設(shè)置上述液 體噴射機構(gòu)。通過將噴射口形成縫隙形狀，可擠壓所噴射的處理液，因此，可 使高噴射壓對滯留在基板表面的處理液作用。在從相對于基板的輸送 方向為180度的反方向噴射處理液的情況下，使縫隙與基板的輸送方 向正交地設(shè)置，在如上所述從斜的反方向噴射處理液的情況下，將縫 隙設(shè)置成向基板的輸送方向傾斜的狀態(tài)。另外，縫隙基本上使用形成直線的縫隙。但也可不是直線形，可 使用形成曲線形的縫隙。例如，作為曲線形的縫隙而使用拋物線狀的縫隙，如果使拋物線的頂點向著基板輸送方向的最上游側(cè)設(shè)i，則可從基板的三邊擠壓處理液。并且，也可以不使用拋物線，而使用圓形 或橢圓形等的曲線形的縫隙。本發(fā)明的技術(shù)方案3的液體處理裝置如技術(shù)方案1或2所述的液 體處理裝置，其特征在于，上述液體供給機構(gòu)和上述液體噴射機構(gòu)設(shè) 置在上述液體處理裝置的上部，回收上述處理液的處理液回收機構(gòu)設(shè) 置在上述液體處理裝置的下部，使通過上述處理液回收機構(gòu)回收的上 述處理液向上述液體供給機構(gòu)和上述液體噴射機構(gòu)循環(huán)，再利用上述 處理液。大量的處理液總是從設(shè)置在液體處理裝置上部的液體供給機構(gòu)向 基板供給，除了一部分用于表面處理的處理液，幾乎都流到液體處理 裝置的下部。通過使這樣的處理液再次返回到液體供給機構(gòu)和液體噴 射機構(gòu)，使處理液循環(huán)，可實現(xiàn)處理液的再利用。通過這樣，可不浪 費處理液，高效率地使用處理液。為了使處理液循環(huán)，將處理液回收 機構(gòu)設(shè)置在裝置下部，使回收的處理液返回液體供給機構(gòu)和液體噴射 機構(gòu)。使處理液循環(huán)的機構(gòu)例如可使用泵。處理液可使用用于顯影爆光后的感光劑(抗蝕劑)的顯影液、用 于進行蝕刻處理的蝕刻液、用于剝離抗蝕劑的抗蝕劑剝離液等任意的 處理液。即，本發(fā)明的液體處理裝置可用于顯影裝置、蝕刻裝置、抗 蝕劑剝離裝置等任意的裝置。并且，本發(fā)明的技術(shù)方案4的液晶顯示器的制造方法的特征是使 用技術(shù)方案1所述的液體處理裝置進行基板表面的處理，利用進行了 該處理的基板制造液晶顯示器。由于液體處理裝置可用于顯影裝置、 蝕刻裝置、抗蝕劑剝離裝置等，因此，利用通過這些裝置進行液體處 理后的基板可制造液晶顯示器。根據(jù)本發(fā)明，通過向形成積液而滯留在基板上的處理液噴射處理 液、將滯留的處理液向基板的外部擠壓，可抑制處理液的帶出。并且， 由于滯留的處理液被作為液體的相同的處理液向基板外部擠壓，因此， 無需針對處理液產(chǎn)生的污染的維護作業(yè)，并且，由于可將基板總是保 持濕潤狀態(tài)，因此，可防止產(chǎn)生不均勻。


圖1是各處理流程的說明圖。圖2是顯影裝置的說明圖。
具體實施方式
以下參照附圖就本發(fā)明的實施方式進行說明。圖l是在液晶顯示 器的制造過程中的顯影處理D的一個例子。在圖1中，顯影處理D由 顯影工序、水置換工序、清洗工序以及干燥工序這四個工序構(gòu)成，顯 影工序D-l通過圖2的顯影裝置20進行，水置換工序D-2通過無圖 示的水置換裝置進行，清洗工序D-3通過無圖示的清洗裝置進行，干 燥工序D-4通過無圖示的干燥裝置進行。如圖1所示，在顯影處理之前進行瀑光處理L。在瀑光處理L中， 相對涂敷在基板上的感光劑(抗蝕劑)、使規(guī)定的圖案形成潛像。經(jīng)過 曝光處理L后的基板在顯影處理D中使?jié)撓竦膱D案顯影。然后，將經(jīng) 過顯影處理D的基板進行蝕刻處理E，根據(jù)顯影后的圖案進行蝕刻。顯影工序D-l是向基板供給作為處理液的顯影液，使在感光劑上 形成潛像的圖案顯影的工序。水置換工序D-2是沖洗顯影液、停止顯 影處理的工序。清洗工序D-3是對沖洗顯影液的基板進行清洗的工序。 干燥工序D-4使清洗后的基板干燥、清除附著的水分的工序。圖2表示進行顯影工序D-l的顯影裝置20。顯影裝置20具有顯 影室30和液體回收機構(gòu)80。顯影室30具有作為輸送基板W的輸送 機構(gòu)的輸送輥40、設(shè)置在輸送輥40的上部并作為液體供給機構(gòu)的噴 灑器50、作為噴射顯影液的液體噴射機構(gòu)的縫隙噴嘴60以及設(shè)置在 顯影室30的下部的液體接收部70。在圖中設(shè)置兩個液體接收部70，液體回收用配管71分別與兩個 液體接收部70連接。兩個液體回收用配管71在中途合流、與液體回 收機構(gòu)80連接。噴灑器用循環(huán)配管81和縫隙噴嘴用循環(huán)配管82與液 體回收機構(gòu)80連接，噴灑器用循環(huán)配管81與噴灑器50連接，縫隙噴 嘴用循環(huán)配管82與縫隙噴嘴60連接。并且，在噴灑器用循環(huán)配管81 和縫隙噴嘴用循環(huán)配管82的中途分別設(shè)置泵Pl和P2。顯影室30是向基板W供給顯影液、進行顯影的腔室?；錡在 顯影室30內(nèi)部被向水平方向輸送，在表面W上進行作為表面處理的 顯影處理。因此，設(shè)置在顯影室30內(nèi)部的輸送輥40將基板W向水平 方向輸送?；錡在被搬入顯影室30之前，在無圖示的曝光裝置中 進行爆光處理L。輸送輥40與無圖示的詠光裝置連續(xù)設(shè)置，具有規(guī)定 的圖案在曝光裝置進行感光后的抗蝕劑(感光劑)的基板W原封不動 地被輸送輥40搬入顯影室30。為此，在顯影室30上設(shè)置用于搬入基 板W的作為入口的搬入口 41。另一方面，在顯影室30進行了顯影工序D-l的基板W被向下一 個工序即水置換工序D-2輸送。為此，在顯影室30上設(shè)置用于搬出基 板W的作為出口的搬出口 42。因此，輸送輥40從搬入口 41設(shè)置到 搬出口42,不斷輸送基板W。噴灑器是用于向基板W供給顯影液的液體供給機構(gòu)，該顯影液用 于使在基板W上形成潛像的規(guī)定圖案顯影。在圖2中，使顯影液從多 個噴灑器中流出。若向基板表面WS供給顯影液，則形成潛像的圖案 被顯影。具體地說，若向基板表面WS供給顯影液，則相應(yīng)于膝光后 的圖案，感光劑與顯影液發(fā)生反應(yīng)而被清除、顯影。這樣，在膝光處 理L中曝光的圖案、例如TFT電路圖案被顯影。因此，需要向整個 基板表面WS供給顯影液，使顯影液一直從噴灑器50向基板W流動?？p隙噴嘴60是從斜上方向著基板W噴射顯影液的液體噴射機構(gòu)。 從縫隙噴嘴用循環(huán)配管82向縫隙噴嘴60供給顯影液，通過泵P2的 泵壓作用來噴射顯影液?？p隙噴嘴60在其噴射口形成縫隙，被擠壓的 顯影液從噴射口噴射。因此，利用高的液壓向著基板W噴射顯影液。 另外，泵P2除了使噴射顯影液的噴射壓作用的功能以外，還具有后 述的顯影液的循環(huán)功能，也可以分別獨立設(shè)置使噴射壓作用的泵和發(fā) 揮循環(huán)功能的泵。如圖2所示，利用從多個噴灑器50流出的顯影液，向從搬入口 41搬入并通過輸送輥40輸送的基板W上供給足量的顯影液。此時， 由于基板W保持水平狀態(tài)地被輸送輥40依次輸送，故由于基板W具有一定程度的大小、并且表面張力進行作用等，導(dǎo)致大量的顯影液形成積液、滯留在表面ws。為了防止該滯留的顯影液被原封不動地帶出到水置換工序D-2而設(shè)置縫隙噴嘴60。從縫隙噴嘴60噴射的顯影液具有規(guī)定的液壓地與滯留在基板W 上的顯影液碰撞。這樣，能量附加在滯留于基板W上的顯影液上、產(chǎn) 生流動，與所噴射的顯影液一起被向基板W的外部擠壓。在此，由于 一直向基板W噴射顯影液、進行碰撞，因此，基板W的表面WS總 是保持濕潤的狀態(tài)，成為液膜形成在表面WS的狀態(tài)。由于顯影液是 液體，因此表面WS由于液體的密合力總是保持濕潤性，表面WS不 會干燥。并且，噴射壓越高，越可以多清除滯留在基板W上的顯影液， 因此，可使液膜的厚度變薄，可進一步抑制將顯影液帶出。并且，從 縫隙噴嘴60噴射的顯影液和從噴灑器50流出的顯影液使用相同的顯 影液。液體接收部70是接收從噴灑器50向基板W供給并溢出的顯影 液、和利用從縫隙噴嘴60噴射的顯影液而被從基板W清除的顯影液 的接收部。因此，液體接收部70設(shè)置在顯影室30的下部。液體接收 部70形成研缽形狀，液體回收用配管71與研缽的頂點連接。在圖2 中，為了使液體接收部70小型化而設(shè)置在兩處，也可設(shè)置一個液體接 收部70。與兩個液體接收部70的頂點連接的兩根液體回收用配管71 在中途合流、形成一個液體回收用配管71,與液體回收機構(gòu)80連接。液體回收機構(gòu)80是用于將使用過的顯影液進行再利用的機構(gòu)。液 體回收機構(gòu)80設(shè)置在顯影室30的下部，發(fā)揮儲存從液體回收用配管 71輸送來的顯影液的作為儲存罐的作用。并且，噴灑器用循環(huán)配管81 和縫隙噴嘴用循環(huán)配管82這兩個配管與液體回收機構(gòu)80連接。噴灑 器用循環(huán)配管81經(jīng)過泵P1與噴灑器50連接。因此，若使泵P1的泵 壓作用，則儲存在液體回收機構(gòu)80中的顯影液被輸送到噴灑器50， 可作為再次向基板W供給的顯影液而被再使用。另一方面，縫隙噴嘴用循環(huán)配管82經(jīng)過泵P2與縫隙噴嘴60連 接。因此，若使泵P2的泵壓作用，則儲存在液體回收機構(gòu)80中的顯影液被輸送到縫隙噴嘴60,可作為用于再次清除滯留在基板W上的 顯影液的顯影液而被再使用。在此，由于基本上以在基板W上基本上不附著雜質(zhì)的狀態(tài)搬入顯 影室30,因此，即使使顯影液循環(huán)，顯影液的純度也不會降低。但是， 由于不可能在基板W上完全不附著雜質(zhì)，因此，考慮到雜質(zhì)的附著， 也可在液體回收機構(gòu)80上設(shè)置過濾器，使通過該過濾器的顯影液向噴 灑器50和縫隙噴嘴60循環(huán)。如上所述，將清除了在基板W上形成積液的顯影液、表面WS 成為液膜狀態(tài)的基板W從搬出口 42搬出，移送到下一個工序的水置 換工序D-2。在移動到水置換工序D-2的基板W上，由于清除了積液， 可抑制將顯影液帶出。另外，由于不使用軋液輥等就可以清除積液， 因此無需進行維護作業(yè)，并且，由于不用噴射空氣就可以清除積液， 因此可將基板表面一直保持濕潤狀態(tài)，也不產(chǎn)生不均勻。
權(quán)利要求
1.一種液體處理裝置，向基板表面供給處理液、進行表面處理，具有輸送機構(gòu)、液體供給機構(gòu)以及液體噴射機構(gòu)，輸送機構(gòu)在所述液體處理裝置內(nèi)向水平方向輸送所述基板；液體供給機構(gòu)向通過所述輸送機構(gòu)輸送的整個所述基板表面供給所述處理液；液體噴射機構(gòu)設(shè)置在所述液體供給機構(gòu)和所述液體處理裝置的搬出口之間，通過相對所述基板從斜上方向著所述基板的輸送方向的反方向噴射所述處理液，清除積存在所述基板表面的積液。
2. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，將所述液體 噴射機構(gòu)的噴射所述處理液的噴射口形成縫隙形狀，使該縫隙與所述 基板的輸送方向正交地設(shè)置所述液體噴射機構(gòu)。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的液體處理裝置，其特征在于，所述液 體供給機構(gòu)和所述液體噴射機構(gòu)設(shè)置在所述液體處理裝置的上部，回 收所述處理液的處理液回收機構(gòu)設(shè)置在所述液體處理裝置的下部，構(gòu)和所述液體噴射機構(gòu)循環(huán)，再利用所述處理液。
4. 一種液晶顯示器的制造方法，其特征在于，使用權(quán)利要求1 所述的液體處理裝置進行基板表面的處理，利用進行了該處理的基板 制造液晶顯示器。
全文摘要
本發(fā)明目的是不使用軋液輥和空氣來抑制將處理液從供給處理液的裝置的帶出量。向基板(W)的表面(WS)供給顯影液、進行表面處理的顯影裝置(20)具有輸送棍(40)、噴灑器(50)以及縫隙噴嘴(60)，輸送棍(40)在顯影裝置(20)的內(nèi)部將基板(W)向水平方向輸送；噴灑器(50)向通過輸送棍(40)輸送的整個基板(W)上供給顯影液；縫隙噴嘴(60)設(shè)置在顯影裝置(20)的搬出口(42)附近，通過相對基板(W)從斜上方向著基板(W)的輸送方向的反方向噴射顯影液，清除積存在基板(W)的表面(WS)上的積液。由于利用來自縫隙噴嘴(60)的顯影液擠壓顯影液，因此不會產(chǎn)生干燥引起的不均勻，也無需進行維護作業(yè)。
文檔編號G02F1/13GK101266414SQ20081008537
公開日2008年9月17日 申請日期2008年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月14日
發(fā)明者福田浩 申請人:株式會社日立高新技術(shù)