專利名稱：光刻機(jī)硅片承載臺及其使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造設(shè)備，具體涉及一種光刻機(jī)硅片承載臺，本發(fā)明還涉
及該光刻機(jī)硅片承載臺的使用方法。
背景技術(shù)：
目前使用的硅片承載臺，與硅片接觸的面是固定不變的。使用這種硅片承載臺，如 果硅片的背面有顆粒等粘污，硅片的正面就不在同一水平面上。當(dāng)光刻機(jī)曝光時，會使硅片 上的顆粒所對應(yīng)的正面圖形區(qū)域產(chǎn)生離焦現(xiàn)象，造成光刻圖形的形貌發(fā)生變化，受影響的 硅片需要進(jìn)行光刻返工。影響嚴(yán)重的硅片甚至光刻返工也不能解決問題，影響產(chǎn)品品質(zhì)。
如果硅片上的顆粒掉在承載臺上，還會影響后續(xù)作業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量，造成光刻資源 的浪費，生產(chǎn)成本的提高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種光刻機(jī)硅片承載臺，它可以保證硅片的正 面在同一水平面上。 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺的技術(shù)解決方案為 包括承載臺基座、真空孔、應(yīng)力感應(yīng)器、連接器、硅片接送器；所述承載臺基座上設(shè)
有多個真空孔及硅片接送器；承載臺基座底部設(shè)有連接器；所述承載臺基座的表面設(shè)置多
個應(yīng)力感應(yīng)器。 所述應(yīng)力感應(yīng)器的頂端高于承載臺基座的上表面。所述應(yīng)力感應(yīng)器連接力電轉(zhuǎn)換 電路，力電轉(zhuǎn)換電路的輸出端與終端控制器連接，終端控制器連接動力馬達(dá)。所述各應(yīng)力感 應(yīng)器彼此獨立。 應(yīng)力感應(yīng)器通過感應(yīng)硅片對其作用力的作用點、大小、方向等信息，實現(xiàn)伸縮，調(diào) 節(jié)高度。 所述承載臺基座與硅片接送器之間為間隙配合。 本發(fā)明還提供了該光刻機(jī)硅片承載臺的使用方法，采用以下步驟固定硅片
第一步，驅(qū)動硅片接送器的伸縮，將硅片置于各應(yīng)力感應(yīng)器頂端形成的平面上；
第二步，通過真空孔對硅片進(jìn)行吸真空，使硅片與應(yīng)力感應(yīng)器的頂端保持固定；
第三步，各應(yīng)力感應(yīng)器將感應(yīng)到的硅片對其作用力的信號傳送給力電轉(zhuǎn)換電路， 力電轉(zhuǎn)換電路將該應(yīng)力信號轉(zhuǎn)換為電信號，并將電信號送入終端控制器統(tǒng)一處理；
第四步，終端控制器通過控制每個應(yīng)力感應(yīng)器的動力馬達(dá)，來控制各應(yīng)力感應(yīng)器 的伸縮，調(diào)節(jié)其高度，使各應(yīng)力感應(yīng)器的頂端形成一個動態(tài)的接觸面，從而使硅片的正面保 持在同一水平面上。 本發(fā)明可以達(dá)到的技術(shù)效果是 本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺，通過調(diào)節(jié)與硅片接觸的各應(yīng)力感應(yīng)器的高度，能夠保 證硅片的正面始終處于同一水平面上，避免因硅片背面存在顆粒等沾污引起的正面圖形離焦現(xiàn)象，減少光刻返工的現(xiàn)象。 本發(fā)明的使用，既可以減小制造成本，又可以提高硅片流通速度，同時可避免因光 刻返工帶來的產(chǎn)品品質(zhì)影響。


下面結(jié)合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明
圖1是本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是圖1的俯視圖； 圖3是應(yīng)力感應(yīng)器與干凈硅片接觸時，應(yīng)力感應(yīng)器所受作用力的示意圖；
圖4是硅片背面有顆粒沾污時，應(yīng)力感應(yīng)器與硅片接觸所受的作用力的示意圖。
圖中，1承載臺基座，2真空孔，3應(yīng)力感應(yīng)器，4連接器，5硅片接送器，6硅片，F(xiàn)、F' 應(yīng)力感應(yīng)器所受的作用力，7顆粒。
具體實施例方式
如圖1、圖2所示，本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺，包括承載臺基座1、真空孔2、應(yīng)力感 應(yīng)器3、連接器4、硅片接送器5 ;承載臺基座1上設(shè)有多個真空孔2及硅片接送器5 ;承載臺 基座1底部設(shè)有連接器4。 真空孔2用于對硅片6進(jìn)行吸真空，以固定硅片6。硅片接送器5用于接送硅片
6。承載臺基座1與硅片接送器5之間為間隙配合，硅片接送器5能夠在承載臺基座1上下
伸縮，便于硅片6的接送。連接器4將承載臺基座1固定于光刻機(jī)機(jī)臺上。 承載臺基座1的形狀可以是圓形、矩形、或五角形、星形等形狀。 承載臺基座1的表面設(shè)置多個應(yīng)力感應(yīng)器3，應(yīng)力感應(yīng)器3的頂端高于承載臺基
座1的上表面，各應(yīng)力感應(yīng)器3的頂端與硅片6背面接觸，用于支撐硅片6。每個應(yīng)力感應(yīng)
器3彼此獨立，每個應(yīng)力感應(yīng)器3連接一個動力馬達(dá)。各應(yīng)力感應(yīng)器3連接一個共同的力
電轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路的輸出端與終端控制器連接。 本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺的使用方法如下 第一步，驅(qū)動硅片接送器5的伸縮，將硅片6置于各應(yīng)力感應(yīng)器3頂端形成的平面 上，如圖l所示； 第二步，通過真空孔2對硅片6進(jìn)行吸真空，使硅片6與應(yīng)力感應(yīng)器3的頂端保持 固定； 第三步，各應(yīng)力感應(yīng)器3將感應(yīng)到的硅片6對其作用力的作用點、大小、方向等信 息傳送給力電轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路將該應(yīng)力信號轉(zhuǎn)換為電信號，并將電信號送入終端 控制器統(tǒng)一處理； 第四步，終端控制器通過控制每個應(yīng)力感應(yīng)器3的動力馬達(dá)，來控制各應(yīng)力感應(yīng) 器3的伸縮，調(diào)節(jié)其高度，使各應(yīng)力感應(yīng)器3的頂端形成一個動態(tài)的接觸面，從而使硅片6 的正面保持在同一水平面上。 終端控制器同時可根據(jù)各個應(yīng)力感應(yīng)器3的狀態(tài)，繪制出各個應(yīng)力感應(yīng)器3的整
體端末面，這種端末面的凹凸等狀況，可為用戶提供相應(yīng)的參考。 應(yīng)力感應(yīng)器3的高度，還可以自動根據(jù)應(yīng)力的大小進(jìn)行調(diào)節(jié)。
如圖3所示，當(dāng)應(yīng)力感應(yīng)器3與干凈硅片6接觸時，應(yīng)力感應(yīng)器3所受的作用力為 F，方向向下。 當(dāng)硅片6背面有顆粒7的沾污時，如圖4所示，應(yīng)力感應(yīng)器3與硅片6接觸所受的 作用力為F'，方向傾斜。 從圖3、圖4可看出，當(dāng)硅片6的背面有顆粒7沾污時，顆粒7所在位置的應(yīng)力感應(yīng) 器3與硅片6接觸的狀態(tài)發(fā)生變化，該處應(yīng)力感應(yīng)器3感覺到應(yīng)力的作用點、力的大小及方 向等均發(fā)生變化，該處的應(yīng)力感應(yīng)器3將該應(yīng)力信號傳到終端控制器，終端控制器通過計 算來控制該處的應(yīng)力感應(yīng)器3進(jìn)行伸縮，調(diào)節(jié)其高度，必要時還可以使該處的應(yīng)力感應(yīng)器3 不與硅片6進(jìn)行接觸，即不參與支撐硅片6。因應(yīng)力感應(yīng)器6有足夠多，少許應(yīng)力感應(yīng)器6 不參與支撐硅片6，不會影響到實際曝光，從而避免顆粒等背面沾污帶來的問題。
本發(fā)明可用于各種設(shè)備的硅片承載臺以及其他相關(guān)的承載臺，包括6、8、12、18等 英寸硅片的制造設(shè)備。
權(quán)利要求
一種光刻機(jī)硅片承載臺，包括承載臺基座、真空孔、連接器、硅片接送器；所述承載臺基座上設(shè)有多個真空孔及硅片接送器；承載臺基座底部設(shè)有連接器；其特征在于所述承載臺基座的表面設(shè)置多個應(yīng)力感應(yīng)器。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺，其特征在于所述應(yīng)力感應(yīng)器的頂端高 于承載臺基座的上表面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺，其特征在于所述應(yīng)力感應(yīng)器連接力電 轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路的輸出端與終端控制器連接，終端控制器連接動力馬達(dá)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺，其特征在于所述應(yīng)力感應(yīng)器通過感應(yīng) 硅片對其作用力的作用點、大小、方向的信息，實現(xiàn)伸縮，調(diào)節(jié)高度。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺，其特征在于所述各應(yīng)力感應(yīng)器彼此獨
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺，其特征在于所述承載臺基座與硅片接 送器之間為間隙配合。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺，其特征在于所述承載臺基座的形狀可 以是圓形、矩形、五角形或星形。
8. —種權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)硅片承載臺的使用方法，其特征在于采用以下步驟 固定硅片第一步，驅(qū)動硅片接送器的伸縮，將硅片置于各應(yīng)力感應(yīng)器頂端形成的平面上； 第二步，通過真空孔對硅片進(jìn)行吸真空，使硅片與應(yīng)力感應(yīng)器的頂端保持固定； 第三步，各應(yīng)力感應(yīng)器將感應(yīng)到的硅片對其作用力的信號傳送給力電轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路將該應(yīng)力信號轉(zhuǎn)換為電信號，并將電信號送入終端控制器統(tǒng)一處理；第四步，終端控制器通過控制每個應(yīng)力感應(yīng)器的動力馬達(dá)，來控制各應(yīng)力感應(yīng)器的伸縮，調(diào)節(jié)其高度，使各應(yīng)力感應(yīng)器的頂端形成一個動態(tài)的接觸面，從而使硅片的正面保持在同一水平面上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光刻機(jī)硅片承載臺，包括承載臺基座、真空孔、應(yīng)力感應(yīng)器、連接器、硅片接送器；所述承載臺基座上設(shè)有多個真空孔及硅片接送器；承載臺基座底部設(shè)有連接器；所述承載臺基座的表面設(shè)置多個應(yīng)力感應(yīng)器。所述應(yīng)力感應(yīng)器連接力電轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路的輸出端與終端控制器連接，終端控制器連接動力馬達(dá)。所述應(yīng)力感應(yīng)器通過感應(yīng)硅片對其作用力的作用點、大小、方向等信息，實現(xiàn)伸縮，調(diào)節(jié)高度。本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺，通過調(diào)節(jié)與硅片接觸的各應(yīng)力感應(yīng)器的高度，能夠保證硅片的正面始終處于同一水平面上，避免因硅片背面存在顆粒等沾污引起的正面圖形離焦現(xiàn)象，減少光刻返工的現(xiàn)象。本發(fā)明還公開了該光刻機(jī)硅片承載臺的使用方法。
文檔編號G03F7/20GK101738869SQ200810043959
公開日2010年6月16日 申請日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月20日
發(fā)明者寧開明 申請人:上海華虹Nec電子有限公司