專利名稱：：確定前饋傳遞函數(shù)的方法、光刻設(shè)備和器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種用于確定光刻設(shè)備中的控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)的方法、一種光刻設(shè)備以及一種用于制造器件的方法。
背景技術(shù)：
：光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上(通常到所述襯底的目標(biāo)部分上)的機器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(ic)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０?retide)的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案?？梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯的部分)上。典型地，經(jīng)由成像將所述圖案轉(zhuǎn)移到在所述襯底上設(shè)置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。通常，單獨的襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。常規(guī)的光刻設(shè)備包括所謂步進機，在所述步進機中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來輻射每一個目標(biāo)部分；以及所謂掃描器，在所述掃描器中，通過沿給定方向("掃描"方向)的輻射束掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標(biāo)部分。還可以通過將所述圖案壓印(imprinting)到所述襯底上，將所述圖案從所述圖案形成裝置轉(zhuǎn)移到所述襯底上。作為示例，在所謂步進掃描光刻設(shè)備中，掩模版臺和晶片臺以納米級精度進行步進和掃描運動。生產(chǎn)量的需求需要高的速度和加速度水平。由于在加速階段，激發(fā)了所述臺的動態(tài)特性，所以這些高的加速度水平可能與位置精度的要求相矛盾。振動需要在曝光開始之前的一定設(shè)置時間內(nèi)被處理掉。為了滿足這種需要，復(fù)雜的運動控制被用于控制掩模版臺和晶片臺的6個機械自由度(6DOF)。反饋控制被用于防護穩(wěn)定性和提高抗擾動性能，而前饋控制被用于實現(xiàn)所需的循跡性能。在過去的若干年里，迭代學(xué)習(xí)控制已經(jīng)被考慮用于在控制光刻設(shè)備的臺(例如襯底臺或掩模版臺)的位置相關(guān)量(例如位置、速度、加速度等)中確定前饋信號。在前饋/反饋組合控制系統(tǒng)中，迭代學(xué)習(xí)控制通過將選定點激勵提供給控制系統(tǒng)、采用初始或預(yù)先確定的前饋信號、測量用于表示所述臺的所需響應(yīng)和所述臺的測量到的或所獲得的響應(yīng)之間的差別的誤差信號、以及根據(jù)誤差信號和所采用的前饋信號確定緊隨的或之后的前饋信號來提供前饋信號的學(xué)習(xí)。該過程可以被重復(fù)迭代，直到已經(jīng)完成了一定次數(shù)的迭代或者滿足了任何其他合適的條件(例如前饋信號的收斂、殘余誤差信號的幅度或范數(shù)等)為止。于是，在迭代學(xué)習(xí)控制中，基于測量到的誤差信號對前饋信號進行更新。在多次嘗試(迭代)之后，穩(wěn)定的迭代學(xué)習(xí)控制(ILC)收斂到理想的前饋信號，所述ILC提供去除或至少降低重復(fù)循跡誤差的能力。盡管通過采用迭代學(xué)習(xí)控制可以提供益處，但是所述迭代學(xué)習(xí)控制的局限在于這種學(xué)習(xí)信號僅僅為特定的選定點保持(例如隨著與臺運動圖案相對應(yīng)的按時間變化的圖案變化的選定點)，所述選定點是在迭代學(xué)習(xí)過程中已經(jīng)被應(yīng)用的選定點。當(dāng)所述選定點變化時，系統(tǒng)的動態(tài)特性被有差別地激發(fā)。因為變化可能很大，以使得可能出現(xiàn)幾乎無限多的選定點分布，所以要考慮到學(xué)習(xí)每種可能出現(xiàn)的選定點分布是十分耗時的或者甚至是不可能的。由于與單輸入單輸出系統(tǒng)相比，多輸入多輸出系統(tǒng)中的選定點分布的變化增加，所以上述方面在多輸入多輸出系統(tǒng)中甚至更加惡化。于是，需要采用來自限定量的學(xué)習(xí)選定點的信息。
發(fā)明內(nèi)容旨在使得迭代學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)對于選定點變化的魯棒性的改進。根據(jù)本發(fā)明的實施例，提供一種用于在光刻設(shè)備中確定控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)的方法，所述方法包括a)通過對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及c)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。在本發(fā)明的另一個實施例中，提供一種光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備包括:用于確定控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)的處理裝置，所述處理裝置設(shè)置有程序指令，所述程序指令用于a)通過對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及c)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，提供一種用于制造器件的方法，包括由照射束將圖案從圖案形成裝置投影到襯底上；對經(jīng)過照射的襯底進行顯影；以及由經(jīng)過顯影的襯底制造器件，其中所述圖案形成裝置和襯底中的至少一個被臺保持，所述臺的位置被具有前饋傳遞函數(shù)的控制系統(tǒng)控制，所述前饋傳遞函數(shù)由以下過程確定a)通過對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及C)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。在此僅借助示例，參照所附示意圖對本發(fā)明的實施例進行描述，在所附示意圖中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的部分，且其中-圖l示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的光刻設(shè)備；圖2示出用于迭代學(xué)習(xí)前饋輸出信號的控制系統(tǒng)的框圖表示；圖3A和3B示出分別用于解釋迭代學(xué)習(xí)控制的控制圖和流程圖；圖4示出包括雙前饋路徑的控制系統(tǒng)的框圖表示；圖5A和5B分別示出有限脈沖響應(yīng)濾波器的框圖表示以及示出用于確定有限脈沖響應(yīng)或其他關(guān)系式的動作的流程圖；圖6示出臺的定位示例的未經(jīng)濾波的誤差和力隨時間變化的圖；圖7示出有限脈沖響應(yīng)濾波器的濾波器系數(shù)；圖8示出殘余誤差和有限脈沖響應(yīng)濾波器的級數(shù)的關(guān)系；圖9示出多輸入多輸出控制系統(tǒng)的前饋；以及圖10示出形成本發(fā)明的實施例的一部分的前饋的高度簡化的示意性控制圖。具體實施方式圖l示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的光刻設(shè)備。所述設(shè)備包括照射系統(tǒng)(照射器)IL，配置用于調(diào)節(jié)輻射束B(例如，紫外輻射或其他任何合適的輻射)；圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺或掩模支架)MT，配置用于支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位圖案形成裝置的第一定位器PM相連。所述設(shè)備也包括襯底臺(例如晶片臺)WT或"襯底支架"，配置用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片)W，并與配置用于根據(jù)確定的參數(shù)精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連。所述設(shè)備還包括投影系統(tǒng)(例如折射式投影透鏡系統(tǒng))PS，所述投影系統(tǒng)PS配置用于將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包括一根或多根管芯)上。所述照射系統(tǒng)可以包括各種類型的光學(xué)部件，例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜電型或其他類型的光學(xué)部件、或其任意組合，以引導(dǎo)、成形、或控制輻射。圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺或掩模支架)支撐所述圖案形成裝置，即承擔(dān)所述圖案形成裝置的重量。其以依賴于圖案形成裝置的取向、光刻設(shè)備的設(shè)計以及諸如圖案形成裝置是否保持在真空環(huán)境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)可以采用機械的、真空的、靜電的或其他夾持技術(shù)保持圖案形成裝置。圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動的。所述圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)可以確保圖案形成裝置位于所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng))。在這里任何使用的術(shù)語"掩模版"或"掩模"都可以認(rèn)為與更上位的術(shù)語"圖案形成裝置"同義。這里所使用的術(shù)語"圖案形成裝置"應(yīng)該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在輔射束的橫截面上賦予輻射束以便在襯底的目標(biāo)部分上形成圖案的任何裝置。應(yīng)當(dāng)注意，被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底目標(biāo)部分上所需的圖案完全相對應(yīng)(例如如果該圖案包括相移特征或所謂輔助特征)。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標(biāo)部分上形成的器件中的特定的功能層相對應(yīng)，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻中是公知的，并且包括諸如二元掩模類型、交替相移掩模類型、衰減相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型?？删幊谭瓷溏R陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置，可以獨立地傾斜每一個小反射鏡，以便沿不同方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡矩陣反射的輻射束。應(yīng)該將這里使用的術(shù)語"投影系統(tǒng)"廣義地解釋為包括任意類型的投影系統(tǒng)，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電型光學(xué)系統(tǒng)、或其任意組合，如對于所使用的曝光輻射所適合的、或?qū)τ谥T如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這里使用的任何術(shù)語"投影透鏡"可以認(rèn)為是與更上位的術(shù)語"投影系統(tǒng)"同義。如這里所示的，所述設(shè)備是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述設(shè)備可以是反射型的(例如，采用如上所述類型的可編程反射鏡陣列，或采用反射式掩模)。所述光刻設(shè)備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺或"襯底支架"(和/或兩個或更多的掩模臺或"圖案形成裝置支架")的類型。在這種"多臺"機器中，可以并行地使用附加的臺，或可以在將一個或更多個其他臺用于曝光的同時，在一個或更多個臺上執(zhí)行預(yù)備步驟。所述光刻設(shè)備也可以是其中至少一部分襯底可以被具有高折射率的液體(例如水)覆蓋的類型，以便填充投影系統(tǒng)和襯底之間的空隙。浸沒液也可以被應(yīng)用到光刻設(shè)備中的其他空隙中(例如在所述掩模和投影系統(tǒng)之間)。浸沒技術(shù)用于增加投影系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。這里所使用的該術(shù)語"浸沒"并不意味著結(jié)構(gòu)(例如襯底)必須浸在液體中，而僅僅意味著在曝光過程中，液體位于投影系統(tǒng)和襯底之間。參照圖1，所述照射器IL接收從輻射源SO發(fā)出的輻射束。該源和所述光刻設(shè)備可以是分立的實體(例如當(dāng)該源為準(zhǔn)分子激光器時)。在這種情況下，不會將該源考慮成光刻設(shè)備的組成部分，并且通過包括例如合適的引導(dǎo)反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統(tǒng)BD的幫助，將所述輻射束從所述源SO傳到所述照射器IL。在其他情況下，所述源可以是所述光刻設(shè)備的組成部分(例如當(dāng)所述源是汞燈時)?？梢詫⑺鲈碨O和所述照射器IL、以及如果需要時的所述束傳遞系統(tǒng)BD—起稱作輻射系統(tǒng)。所述照射器IL可以包括配置用于調(diào)整所述輻射束的角強度分布的調(diào)整器AD。通常，可以對所述照射器的光瞳面中的強度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍(一般分別稱為CT-外部和C7-內(nèi)部)進行調(diào)整。此外，所述照射器IL可以包括各種其他部件，例如積分器IN和聚光器CO?？梢詫⑺稣丈淦饔糜谡{(diào)節(jié)所述輻射束，以在其橫截面中具有所需的均勻性和強度分布。所述輻射束B入射到保持在圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺MT)的所述圖案形成裝置(例如，掩模MA)上，并且通過所述圖案形成裝置來形成圖案。已經(jīng)穿過掩模MA之后，所述輻射束B通過投影系統(tǒng)PS，所述PS將輻射束聚焦到所述襯底W的目標(biāo)部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF(例如，干涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同目標(biāo)部分C定位于所述輻射束B的輻射路徑中。類似地，例如在從掩模庫的機械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位器PM和另一個位置傳感器(圖1中未明確示出)可以用于將掩模MA相對于所述輻射束B的輻射路徑精確地定位。通常，可以通過形成所述第一定位裝置PM的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來實現(xiàn)圖案形成裝置臺MT的移動。類似地，可以采用形成所述第二定位器PW的一部分的長行程模塊和短行程模塊來實現(xiàn)所述襯底臺WT或"襯底支架"的移動。在步進機的情況下(與掃描器相反)，所述圖案形成裝置臺MT可以僅與短行程致動器相連，或可以是固定的?？梢允褂醚谀R標(biāo)記M1、M2和襯底對齊標(biāo)記P1、P2來對齊圖案形成裝置MA和襯底W。盡管所示的襯底對齊標(biāo)記占據(jù)了專用目標(biāo)部分，但是他們可以位于目標(biāo)部分之間的空隙(這些公知為劃線對齊標(biāo)記)上。類似地，在將多于一個的管芯設(shè)置在圖案形成裝置MA上的情況下，所述掩模對齊標(biāo)記可以位于所述管芯之間?？梢詫⑺鲈O(shè)備用于以下模式的至少一種1.在步進模式中，在將賦予到所述輻射束的整個圖案一次投影到目標(biāo)部分C上的同時，將圖案形成裝置臺MT或"圖案形成裝置支架"和所述襯底臺WT或"襯底支架"保持為基本靜止(即，單一的靜態(tài)曝光)。然后將所述襯底臺WT或"襯底支架"沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標(biāo)部分c曝光。在步進模式中，曝光場的最大尺寸限制了在單一的靜態(tài)曝光中成像的所述目標(biāo)部分c的尺寸。2.在掃描模式中，在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上的同時，對圖案形成裝置臺MT或"圖案形成裝置支架"和襯底臺WT或"襯底支架"同步地進行掃描(即，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT或"襯底支架"相對于圖案形成裝置臺MT或"圖案形成裝置支架"的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PS的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了單一的動態(tài)曝光中的所述目標(biāo)部分的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描運動的長度確定了所述目標(biāo)部分的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個模式中，將保持可編程圖案形成裝置的圖案形成裝置臺MT或"圖案形成裝置支架"保持為基本靜止?fàn)顟B(tài)，并且在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上的同時，對所述襯底臺WT或"襯底支架"進行移動或掃描。在這種模式中，通常采用脈沖輻射源，并且在所述襯底臺WT或"襯底支架"的每一次移動之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻中。也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。在此將在單輸入單輸出(SISO)控制系統(tǒng)的框架中描述迭代學(xué)習(xí)控制的工作原理。迭代學(xué)習(xí)控制此后可以由縮寫ILC表示。包括反饋控制器C的控制方案如圖2所示，所述反饋控制器C用于控制過程P(例如短行程圖案形成裝置臺)，所述控制方案在學(xué)習(xí)配置中具有前饋F和ILC控制器。誤差信號e被確定為選定點r和測量位置y之間的差別，在下文將進行更詳細(xì)的描述。該誤差e被反饋到反饋控制器C中。在該示例中，前饋控制器F由加速度和節(jié)拍前饋的組合構(gòu)成，并提供前饋信號fff。ILC控制器基于之前測量到的誤差計算前饋輸出信號(在該示例中是離線的力信號f化)。在操作中，所述力被加給來自前饋F的前饋力，導(dǎo)致更優(yōu)化的前饋操作。經(jīng)過學(xué)習(xí)的力fue已經(jīng)對于給定的選定點r被學(xué)習(xí)，并因此當(dāng)選定點r被采用時，可以在操作過程中提供所需的前饋，所述前饋對應(yīng)于經(jīng)過學(xué)習(xí)的選定點。在無論如何采用其他的選定點的情況下，經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋可以提供亞優(yōu)化方案。在此將參照圖3A和3B對迭代學(xué)習(xí)控制的原理進行更詳細(xì)的解釋。圖3A在迭代(學(xué)習(xí))域中示出所謂被抬升的ILC控制器。其中，ek表示具有第k次迭代的誤差信號的矩陣，L表示學(xué)習(xí)矩陣，Z"表示一次迭代延遲操作器，I表示酉矩陣，而Ps表示以下形式的矩陣<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>其中參數(shù)ho,...，hn是所謂馬爾可夫(Markov)參數(shù)。矩陣Ps具有特普利茨(Toeplitz)結(jié)構(gòu)，所述特普利茨結(jié)構(gòu)表示過程P的過程敏感動態(tài)特性，而S表示敏感動態(tài)特性的特普利茨矩陣。在每次迭代中，通過學(xué)習(xí)更多的合適的ILC輸出信號以抵消誤差，來進一步減小誤差。這可以通過迭代域(也稱為嘗試域)中的下列誤差方程表不<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>上述過程如圖3B示意性地所示，圖3B示出流程圖，在所述流程圖中，在100中，選定點信號被應(yīng)用到控制系統(tǒng)，由此作為前饋輸出信號提供前饋輸出信號的近似。然后，在110中，記錄控制系統(tǒng)的誤差信號。接著，在120中，根據(jù)誤差信號和前饋輸出信號的近似，確定緊隨或之后的前饋輸出信號的近似。如圖3B中的回路所示，通過將前饋輸出信號的每個緊隨或之后的近似用作在緊隨或以后的重復(fù)中的前饋輸出信號的近似，100、110和120可以被重復(fù)迭代。在已經(jīng)滿足預(yù)定條件(例如一定次數(shù)的迭代、收斂條件或其他任何合適的條件)之后，在最后的重復(fù)中被確定的其近似被設(shè)置為前饋輸出信號。注意到，術(shù)語"選定點"或"選定點分布"應(yīng)當(dāng)被理解為隨時間周期變化的選定點，例如選定點信號值的時間序列。在控制系統(tǒng)包括臺控制系統(tǒng)的示例中，選定點可以包括表示步進掃描運動的分布，例如包括加速、恒定掃描速度和減速的序列。選定點可以包括多個相關(guān)量(例如位置、速度、加速度等)中的一個量。術(shù)語"前饋輸出信號"也可以被理解為隨時間變化的輸出信號，例如前饋信號值的時間序列。ILC可以被用于對于一定的選定點收斂到前饋輸出信號。由于這樣經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號形成例如前饋輸出值的時間序列，所以所述前饋輸出信號通常不對其他的選定點優(yōu)化，所述前饋輸出值的時間序列經(jīng)過學(xué)習(xí)，以考慮與經(jīng)過學(xué)習(xí)的選定點出現(xiàn)的誤差。為了滿足上述要求，提出將傳遞函數(shù)(例如濾波器)作為選定點和ILC輸出信號之間的傳遞函數(shù)的應(yīng)用。所述傳遞函數(shù)可以根據(jù)經(jīng)過學(xué)習(xí)的ILC前饋信號和在ILC信號的學(xué)習(xí)過程中所采用的選定點信號被確定。在確定這種關(guān)系式以后，對于給定的前饋應(yīng)用，不僅允許在學(xué)習(xí)過程中已經(jīng)被采用的選定點，而且能夠通過根據(jù)選定點信號和傳遞函數(shù)確定前饋信號，以使前饋信號適應(yīng)于其他選定點信號。由此，對選定點變化的敏感度可以降低，而與用于存儲ILC輸出信號時間序列的所存儲的ILC輸出信號表相比，可以實現(xiàn)ILC。作為示例，所述關(guān)系式可以包括濾波器，例如有限脈沖響應(yīng)濾波器。其他的關(guān)系式可以是自回歸(ARX)、無限脈沖響應(yīng)(IIR)、小波或傅里葉變換型。在下文將提供上述將有限脈沖響應(yīng)濾波器用作所述關(guān)系式的示例。在普通的情況下，在離散時間域中，有限脈沖響應(yīng)濾波器可以由多個系數(shù)構(gòu)成所述系數(shù)，在選定點值的時間序列中以不同次數(shù)與多個選定點值共同操作，以提供在給定時刻處的前饋信號值。在離散時間中，上述可以被寫作其中fk表示在(采樣)時刻k上的前饋輸出信號，r^表示在采樣時刻k+nl上的選定點值，iVn2表示在采樣時刻k-n2上的選定點值，且g^表示濾波器系數(shù)-nl，而g。2表示濾波器系數(shù)n2。注意到，在該示例中，由于fk是ivm的函數(shù)，所以映射是非因果的。在該示例中，濾波器的非因果部分是nl，而因果部分是n2。上述方程也可以被寫作多個累加的形式-"1在矩陣形式中，R表示包括選定點數(shù)據(jù)的Toeplitz矩陣，f表示包括經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋信號的矢量，而g表示濾波器系數(shù)的矢量<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>或者，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>在簡單的情況下，在此已經(jīng)獲得一組方程，以提供許多比未知變量更多的方程。這是因為在多個采樣時刻上的選定點值是已知的，而經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋信號也是已知的。因此，未知變量，即濾波器的系數(shù)，可以由此確定，而降低被包含在數(shù)據(jù)點中的噪聲。采用矩陣計算，上述矩陣方程可以基于以下標(biāo)準(zhǔn)方程，采用線性最小二乘近似求解一旦系數(shù)g(i)被確定，選定點r和前饋輸出信號之間的普通關(guān)系式就可以被確定。優(yōu)選地，kn(k比n大得多)，換句話說，在所確定的關(guān)系式中，選定點的離散時間選定點輸出值的總數(shù)大于(更優(yōu)選地明顯大于)系數(shù)的數(shù)量。由此，除去上述可能的益處之外，可以實現(xiàn)數(shù)據(jù)量的降低，這從實現(xiàn)的角度講可能是有益的。所述過程可以參照圖5B，通過下列方式累加通過對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號(框200);確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式(框210);以及將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)(框220)。如圖4所示，己經(jīng)被確定的選定點信號和經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號之間的關(guān)系式可以被用在有限脈沖響應(yīng)濾波器F^平行于已知的前饋F的前饋控制器中，在上述示例中，所述關(guān)系式形成有限脈沖響應(yīng)(FIR)濾波器。當(dāng)從經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋導(dǎo)出的FIR濾波器將用于根據(jù)已知的前饋降低殘余誤差時，通過采用雙前饋，可以提高精度。FIR濾波器可以容易地編程實現(xiàn)且它們本身是穩(wěn)定的。在另一個示例中，F(xiàn)IR濾波器可以被用作單前饋。FIR濾波器F^可以包括如圖5A示意性示出的結(jié)構(gòu)，其中Z"表示一個采樣時間延遲操作器，Z表示它的逆，即一個采樣時間超前操作器，而系數(shù)g表示有限脈沖響應(yīng)濾波器的系數(shù)。當(dāng)以FIR形式確定關(guān)系式時，可以通過從迭代確定的前饋輸出信號導(dǎo)出時間長度(以例如多個采樣時間表示)進行系數(shù)數(shù)量的估計。當(dāng)經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的輸出信號示出對改變參考信號的值的響應(yīng)時，所述響應(yīng)的采樣時間的數(shù)量的時間長度可以從中導(dǎo)出，并用作有限脈沖響應(yīng)濾波器的時間長度。在離散時間域中，時間長度可以被表示成一定數(shù)量的采樣時間的采樣數(shù)量(即如圖5A所示的單位延遲操作器的單位延遲時間的數(shù)量)，提供系數(shù)的數(shù)量以及關(guān)系式(例如有限脈沖響應(yīng)濾波器)的時間長度。也可以確定是否所述有限脈沖響應(yīng)濾波器被做成非因果的在經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋輸出信號預(yù)期到選定點信號的改變的情況下，所述預(yù)期的非因果時間長度可以被用于確定表達這種非因果性的系數(shù)的數(shù)量。作為示例假定選定點信號的階躍響應(yīng)導(dǎo)致迭代學(xué)習(xí)的前饋，所述前饋提供前饋輸出信號，所述前饋輸出信號開始影響在這個階躍之前5個采樣時間的階躍響應(yīng)，而在所述階躍之后的10個采樣時間維持活躍，然后可以限定具有形成具有5個非因果和10個因果系數(shù)的FIR濾波器的15個系數(shù)的關(guān)系式。在非因果濾波器的起始的情況下，來自過去的選定點值將是需要的，但可能是得不到的。對于未知的或無法從過去獲得的選定點信號值r，可以插入零，用零填充R的右上三角。為了能夠?qū)崿F(xiàn)非因果濾波，選定點r應(yīng)當(dāng)在幾個采樣之前是已知的。這在實際中可以通過在饋送入控制環(huán)之前將選定點延遲幾個采樣時間，或者通過早幾個采樣時間讀出選定點信號時間序列，并將其延遲以提供選定點信號或在一些采樣之后再次讀出所述序列來實現(xiàn)。FIR濾波器可以采用由此獲得的時間差以成為非因果的。注意到，在選定點信號延遲的情況下，這種引入的延遲僅僅在起始過程中遇到，并因此對例如裝備有這種前饋的光刻設(shè)備的生產(chǎn)量具有負(fù)面影響。在實施例中，來自不同選定點的經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋輸出信號可以被用于確定FIR濾波器<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>將不同的選定點用作訓(xùn)練數(shù)據(jù)，給出在不同激發(fā)上的平均值，以使得所述濾波器對于選定點的變化更有魯棒性。于是，在實施例中，可以使用兩個(或更多個)前饋輸出信號，所述前饋輸出信號中的每個經(jīng)過對于各自的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)。然后，所述關(guān)系式根據(jù)經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋信號和各自的選定點信號確定所述關(guān)系式。根據(jù)多個選定點學(xué)習(xí)前饋的過程以及使用經(jīng)過學(xué)習(xí)的數(shù)據(jù)來訓(xùn)練FIR濾波器，將在下文釆用示例進行描述。在該示例中，使用掩模版臺y方向定位控制系統(tǒng)。具有變化的速度和位移值的三個不同的選定點被用于訓(xùn)練所述濾波器<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>然后，濾波器性能被以在選定點上的測試運動評估，所述選定點在速度和位移上與訓(xùn)練的選定點都不同，以使得正確的有效性被提供。這些變化可以覆蓋在實際中可能出現(xiàn)的變化。結(jié)果被示于圖6中。在該示例中，表示所述臺的加速度的選定點信號由不連續(xù)的線表示。作為參考，初始誤差僅僅由正常的前饋繪出。以在測試選定點上的15次迭代之后的附加的ILC前饋信號獲得的誤差也表示出來。在此，根據(jù)經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋，根據(jù)上述步驟確定FIR濾波器。在將FIR濾波器用作前饋之后，循跡誤差由圖15中的"Fir誤差"表示?？梢杂^察到，F(xiàn)IR濾波器實現(xiàn)了性能，換句話說，提供可以與能夠以經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋信號實現(xiàn)的殘余誤差相比的殘余誤差，且由于待采用的選定點信號被饋送到FIR濾波器以計算前饋輸出信號，所以FIR濾波器使得前饋對于選定點信號的變化更有魯棒性。經(jīng)過訓(xùn)練的濾波器系數(shù)gi在圖7中繪出，其中非因果部分nl-5，因果部分n2-10，總共提供15個系數(shù)。當(dāng)FIR濾波器在相同的選定點上被訓(xùn)練，其中在所述選定點上評估其性能，增加的濾波器階數(shù)將導(dǎo)致更好的性能。然后，更高階數(shù)(第n階)的濾波器將完全的復(fù)制n各采樣的數(shù)據(jù)fue。當(dāng)無論這種高階濾波器如何在不同于訓(xùn)練選定點的選定點上被采用，都可以觀察到濾波器階數(shù)的優(yōu)化。在該優(yōu)化上，當(dāng)在一定的時間里隨時間而與前饋的相關(guān)越來越小的選定點的數(shù)據(jù)在濾波器中被考慮時，訓(xùn)練數(shù)據(jù)被過擬合，導(dǎo)致性能變差。這可以從圖8中看出，在圖8中，測量到的誤差的均方根(RMS)值對于濾波器的階數(shù)被繪出。在此，F(xiàn)IR濾波器以來自三個選定點的固定數(shù)據(jù)組被訓(xùn)練。非因果濾波器階數(shù)被固定到5個采樣。所述因果濾波器階數(shù)從5增加到400。獲得最低誤差的優(yōu)化在1O個采樣附近出現(xiàn)。當(dāng)所述臺進行不同的運動時，上述方面能夠?qū)⒔?jīng)過學(xué)習(xí)的數(shù)據(jù)應(yīng)用于選定點變化的情況下(即在光刻設(shè)備臺定位的示例中)。由于對于每個可能的選定點信號前饋必須被學(xué)習(xí)，所以在對于選定點變化沒有魯棒性的情況下，采用ILC將很困難。在此所述的概念提出用于以普通的FIR濾波器處理選定點變化的方法，所述普通的FIR濾波器例如可以被平行于常規(guī)的前饋控制器地被添加。由于FIR濾波器操作簡便，所以可以相當(dāng)容易地實現(xiàn)。實驗已經(jīng)表明，循跡誤差的O調(diào)節(jié)時間可以沿著臺的掃描方向?qū)崿F(xiàn)。由此，可以提高光刻設(shè)備的生產(chǎn)量。進而，考慮到依賴于位置的動態(tài)特性，可以考慮采用依賴于不同位置的FIR濾波器。濾波器的系數(shù)自身可以成為位置(g(x，y))的顯函數(shù)。然后，所有濾波器系數(shù)在每個采樣時間中被更新，以導(dǎo)致依賴于位置的濾波器。并能夠在有限數(shù)量的FIR濾波器之間插值。盡管在上文中，單輸入單輸出系統(tǒng)己經(jīng)被描述(例如定位在一個維度上的臺)，但是在此所述的概念可以應(yīng)用于如圖9所示的多輸入多輸出控制系統(tǒng)中。在這種多輸入多輸出控制系統(tǒng)中，多個(交叉)前饋可能已經(jīng)被提供用于處理交叉效應(yīng)(例如串?dāng)_等)。從選定點生成器的信號(例如，分別沿著X和Y維度的SPG-X、SPG-Y)中，對于X、Y和Z維度的前饋信號分別由各個前饋K脇K斷,Kfl^以及K^，K^,Kffyz獲得。這種配置可以根據(jù)需要被延伸為多個變量，由此交叉前饋的數(shù)量可以隨著待控制的變量(例如維度、旋轉(zhuǎn)、位置、速度、加速度等)的增加而增加。在這種系統(tǒng)中，迭代學(xué)習(xí)控制將提供用于獲得用于補償這種交叉效應(yīng)的前饋的恰當(dāng)方法。然而，因為多輸入多輸出將導(dǎo)致許多需要應(yīng)付的更為不同的情況(選定點、輸出的組合等)，所以可能出現(xiàn)大量的情況。因此，將不得不學(xué)習(xí)許多不同的情況，這可能使得這種系統(tǒng)復(fù)雜和難于實現(xiàn)。因為對于選定點變化的魯棒性，所以在本文中所述的原理可以在此提供足夠的前饋補償。在另一個實施例中，參照圖10所述，兩個前饋輸出信號FF1、FF2已經(jīng)根據(jù)圖5B的框200對于各個相反的極性和方向(或者選定點信號的其他參數(shù)，由此，例如可以考慮臺定位系統(tǒng)中的方向差別)被迭代學(xué)習(xí)。如根據(jù)圖5B的框210和220所示的過程被對于前饋輸出信號FF1、FF2及其各個選定點信號R的值實現(xiàn)，并由此為選定點信號的各個極性提供控制系統(tǒng)的各個前饋傳遞函數(shù)。選擇器可以被提供用于依賴于選定點信號的極性、方向或其它參數(shù)選擇前饋信號FF1和FF2中的任一個，由此提供依賴于選定點信號的符號/極性的不同濾波器?？蛇x地，濾波器的輸出都可以通過由圖io中2表示的累加運算累加，由此將在濾波器的輸入被切換(可能導(dǎo)致初始化錯誤)的情況下出現(xiàn)的初始化效應(yīng)可以在很大程度上被防止。于是，可以提供前饋，所述前饋對于選定點的變化具有魯棒性，同時考慮對于不同選定點信號極性的經(jīng)過學(xué)習(xí)的差別。類似地，這種極性也可以在單一加速階段依賴于加速度的導(dǎo)數(shù)(加加速度)的極性被考慮。不同于將經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋信號和對應(yīng)的選定點信號擬合到濾波器關(guān)系式的過程，替代地，濾波器g可以根據(jù)測量到的誤差信號和對應(yīng)的選定點信號直接被確定，由此省略學(xué)習(xí)過程。從循跡誤差的角度，最小二乘問題被重新寫作其中矩陣Ps是Toeplitz矩陣，用于表示過程敏感的動態(tài)特性。如上所列出，在本文中所述的前饋可以在例如參照圖l所述的光刻設(shè)備中實現(xiàn)，例如通過具有設(shè)置有合適的程序指令的其處理裝置來實現(xiàn)所述的步驟，由此，例如提供控制系統(tǒng)，以控制臺(例如襯底臺WT或圖案形成裝置臺MT)的位置量(例如位置、速度、加速度、和/或加加速度)。本發(fā)明的實施例還可以在器件制造方法中實現(xiàn)，所述方法用于制造器件(例如半導(dǎo)體器件、處理單元、集成電路、電子設(shè)備等)，所述方法包括通過照射束將來自圖案形成裝置MA的圖案投影到襯底W上；對經(jīng)過照射的襯底W進行顯影；以及由所述經(jīng)過顯影的襯底制造器件，其中，圖案形成裝置MA和襯底W中的至少一個被臺(例如分別為圖案形成裝置臺MT和襯底臺WT)保持，臺的位置被具有前饋傳遞函數(shù)的控制系統(tǒng)控制，所述前饋傳遞函數(shù)通過以下方式確定a)通過對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號(200);b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式(210);以及C)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)(220)。盡管以上已經(jīng)在光學(xué)光刻的內(nèi)容中且尤其是在臺定位的內(nèi)容中描述了本發(fā)明的實施例，但應(yīng)該理解的是，任何其他的精確控制的應(yīng)用都可以從在此所述的本發(fā)明中受益。盡管在本文中可以做出特定的參考，將所述光刻設(shè)備用于制造IC，但應(yīng)當(dāng)理解這里所述的光刻設(shè)備可以有其他的應(yīng)用，例如，集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器、薄膜磁頭的制造等。對于本領(lǐng)域的普通的技術(shù)人員，應(yīng)該理解的是，在這種替代的應(yīng)用的情況中，可以將其中使用的任意術(shù)語"晶片"或"管芯"分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語"襯底"或"目標(biāo)部分"同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上，并且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、度量工具和/或檢驗工具中。在可應(yīng)用的情況下，可以將所述公開應(yīng)用于這種和其他襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為制作多層IC，使得這里使用的所述術(shù)語襯底也可以表示已經(jīng)包含多個已處理層的襯底。盡管以上已經(jīng)作出了特定的參考，在光學(xué)光刻的情況中使用本發(fā)明的實施例，但應(yīng)該理解的是，本發(fā)明可以用于其他應(yīng)用中，例如壓印光刻，并且只要情況允許，不局限于光學(xué)光刻。在壓印光刻中，圖案形成裝置中的拓?fù)湎薅嗽谝r底上產(chǎn)生的圖案。可以將所述圖案形成裝置的拓?fù)溆∷⒌教峁┙o所述襯底的抗蝕劑層上，在其上通過施加電磁輻射、熱、壓力或其組合來使所述抗蝕劑固化。在所述抗蝕劑固化之后，所述圖案形成裝置從所述抗蝕劑上移走，并在抗蝕劑中留下圖案。這里使用的術(shù)語"輻射"和"束"包含全部類型的電磁輻射，包括紫外輻射(例如具有約365、248、193、157或126nm的波長)和極紫外輻射(例如具有5-20nm范圍內(nèi)的波長)，以及粒子束，例如離子束或電子束。在上下文允許的情況下，所述術(shù)語"透鏡"可以表示各種類型的光學(xué)部件中的任何一種或它們的組合，包括折射式、反射式、磁性式、電磁式和靜電式的光學(xué)部件。盡管以上己經(jīng)描述了本發(fā)明的特定的實施例，但是應(yīng)該理解的是本發(fā)明可以與上述不同的形式實現(xiàn)。例如，本發(fā)明可以采取包含一個或更多個用于描述上述公開的方法的機器可讀指令序列的計算機程序的形式，或者采取具有在其中存儲的這種計算機程序的數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)的形式(例如，半導(dǎo)體存儲器、磁盤或光盤)。以上的描述是說明性的，而不是限制性的。因此，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不背離所附的權(quán)利要求的保護范圍的條件下，可以對上述本發(fā)明進行修改。權(quán)利要求1.一種用于確定在光刻設(shè)備中的控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)的方法，所述方法包括a)采用對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制，迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及c)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中a)包括al)將選定點信號應(yīng)用到控制系統(tǒng)，由此提供前饋輸出信號的近似作為前饋輸出信號；a2)記錄控制系統(tǒng)的誤差信號；a3)根據(jù)誤差信號和前饋輸出信號的近似，確定后續(xù)的前饋輸出信號的近似；以及a4)迭代重復(fù)al)、a2)和a3)，將前饋輸出信號的每個后續(xù)的近似用作在后續(xù)重復(fù)中的前饋輸出信號的近似；以及a5)提供在最后的重復(fù)中被確定的前饋輸出信號的近似作為前饋輸出信號。3.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中所述關(guān)系式包括有限脈沖響應(yīng)濾波器。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中所述有限脈沖響應(yīng)濾波器的時間長度由經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號的時間長度導(dǎo)出。5.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中，在a)中，至少兩個前饋輸出信號針對兩個各自的選定點信號進行迭代學(xué)習(xí)，且其中，在b)中，所述關(guān)系式根據(jù)至少兩個經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋信號和各自的選定點信號而確定。6.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中所述關(guān)系式包括非因果關(guān)系式。7.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中所述兩個前饋輸出信號在a)中針對選定點信號的各自的相反極性被迭代學(xué)習(xí)，且其中b)和c)對于前饋輸出信號和它們各自的選定點信號兩者進行，以便針對選定點信號的各自的極性提供控制系統(tǒng)的各自的前饋傳遞函數(shù)。8.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中所述控制系統(tǒng)包括臺控制系統(tǒng)。9.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中所述控制系統(tǒng)包括多輸入多輸出控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)包括在多輸入多輸出控制系統(tǒng)中的交叉前饋傳遞函數(shù)。10.—種光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備包括-用于確定控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)的處理裝置，所述處理裝置包括程序指令，所述程序指令用于a)采用對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制，迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及c)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。11.根據(jù)權(quán)利要求io所述的光刻設(shè)備，其中配置所述處理裝置，以使得a)能夠根據(jù)一定的方法實現(xiàn)，所述方法包括al)將選定點信號應(yīng)用到控制系統(tǒng)，由此提供前饋輸出信號的近似作為前饋輸出信號；a2)記錄控制系統(tǒng)的誤差信號；a3)根據(jù)誤差信號和前饋輸出信號的近似，確定后續(xù)的前饋輸出信號的近似；以及a4)迭代重復(fù)al)、a2)和a3)，將前饋輸出信號的每個后續(xù)的近似用作在后續(xù)重復(fù)中的前饋輸出信號的近似；以及a5)提供在最后的重復(fù)中被確定的前饋輸出信號的近似作為前饋輸出信號。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中所述關(guān)系式包括有限脈沖響應(yīng)濾波器。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光刻設(shè)備，其中所述處理裝置被編程為具有根據(jù)經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號的時間長度導(dǎo)出的有限脈沖響應(yīng)濾波器的時間長度。14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中所述處理裝置被編程為在a)中針對兩個各自的選定點信號迭代學(xué)習(xí)至少兩個前饋輸出信號，且在b)中根據(jù)至少兩個經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋信號和各自的選定點信號確定所述關(guān)系式。15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中配置所述處理裝置，以使得所述關(guān)系式包括非因果濾波器。16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中所述處理裝置被配置為具有在a)中針對選定點信號的各自相反的極性被迭代學(xué)習(xí)的兩個前饋輸出信號，且其中b)和c)對于前饋輸出信號和它們各自的選定點信號兩者進行，以便針對選定點信號的各自的極性提供控制系統(tǒng)的各自的前饋傳遞函數(shù)。17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中所述控制系統(tǒng)包括臺控制系統(tǒng)。18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中所述控制系統(tǒng)包括多輸入多輸出控制系統(tǒng)，所述前饋傳遞函數(shù)包括在多輸入多輸出控制系統(tǒng)中的交叉前饋傳遞函數(shù)。19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，還包括照射系統(tǒng)，被配置用于調(diào)節(jié)輻射束；圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu)，被配置用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠?qū)D案在輻射束的橫截面上賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；襯底支撐結(jié)構(gòu)，被配置用于保持襯底；以及投影系統(tǒng)，被配置用于將所述圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的光刻設(shè)備，其中所述控制系統(tǒng)包括用于控制臺的位置量的臺控制系統(tǒng)，所述臺包括所述支撐結(jié)構(gòu)中的一種。21.—種用于制造器件的方法，包括以圖案形成裝置對輻射束進行圖案化；將圖案化的輻射束投影到襯底上；對用所投影的圖案化的輻射束照射的襯底進行顯影；以及由經(jīng)過顯影的襯底制造器件，其中所述圖案形成裝置或襯底中的至少一個被臺保持，所述臺的位置被具有前饋傳遞函數(shù)的控制系統(tǒng)控制，所述前饋傳遞函數(shù)由以下過程確定a)采用對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制，迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及c)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中a)包括al)將選定點信號應(yīng)用到控制系統(tǒng)，由此提供前饋輸出信號的近似作為前饋輸出信號；a2)記錄控制系統(tǒng)的誤差信號；a3)根據(jù)誤差信號和前饋輸出信號的近似，確定后續(xù)的前饋輸出信號的近似；以及a4)迭代重復(fù)al)、a2)和a3)，將前饋輸出信號的每個后續(xù)的近似用作在后續(xù)重復(fù)中的前饋輸出信號的近似；以及a5)提供在最后的重復(fù)中被確定的前饋輸出信號的近似作為前饋輸出信號。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中所述關(guān)系式包括有限脈沖響應(yīng)濾波器。24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述有限脈沖響應(yīng)濾波器的時間長度由經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號的時間長度導(dǎo)出。25.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中，在a)中，至少兩個前饋輸出信號針對兩個各自的選定點信號進行迭代學(xué)習(xí)，且其中，在b)中，所述關(guān)系式根據(jù)至少兩個經(jīng)過迭代學(xué)習(xí)的前饋信號和各自的選定點信號而26.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述關(guān)系式包括非因果關(guān)系式。27.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中兩個前饋輸出信號在a)中針對選定點信號的各自的相反極性被迭代學(xué)習(xí)，且其中b)和c)對于前饋輸出信號和它們各自的選定點信號兩者進行，以便針對選定點信號的各自的極性提供控制系統(tǒng)的各自的前饋傳遞函數(shù)。28.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述控制系統(tǒng)包括臺控制系統(tǒng)。29.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述控制系統(tǒng)包括多輸入多輸出控制系統(tǒng)，所述前饋傳遞函數(shù)包括在多輸入多輸出控制系統(tǒng)中的交叉前饋傳遞函數(shù)。全文摘要一種用于在光刻設(shè)備中確定控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)的方法，所述方法包括a)通過對給定的選定點信號的迭代學(xué)習(xí)控制，迭代地學(xué)習(xí)控制系統(tǒng)的前饋輸出信號；b)確定經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋輸出信號和選定點信號之間的關(guān)系式；以及c)將所述關(guān)系式用作控制系統(tǒng)的前饋傳遞函數(shù)。一種經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋，可以被配置用于提供依賴于選定點信號的前饋輸出信號，所述經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋僅僅針對一個或更多個特定的選定點信號進行了學(xué)習(xí)。經(jīng)過學(xué)習(xí)的前饋可以對于選定點變化具有更強的魯棒性。文檔編號G03F7/20GK101266410SQ200810009480公開日2008年9月17日申請日期2008年2月3日優(yōu)先權(quán)日2007年2月15日發(fā)明者丹尼斯·安朱斯·皮徹斯·休伯迪娜·霍本,蘭米汀·勒扎爾·卡米迪,康斯坦特·保爾·瑪麗·瓊澤夫·拜根,瑪麗內(nèi)斯·雅克布斯·杰拉爾德斯·范德摩利恩格蘭夫特,皮徹斯·瑪麗內(nèi)斯·克里斯汀納斯·瑪麗安·范德貝格拉爾,英·蒂姆·特索,馬克·康斯坦特·約翰內(nèi)斯·拜根,馬賽爾·弗蘭克斯·赫爾特杰斯申請人:Asml荷蘭有限公司