專利名稱：：柔性光導波路及其制造方法以及光模塊的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種柔性光導波路、其制造方法、以及使用柔性光導波路的光模塊。
背景技術：
：對于在電子元件間或配線基板間的高速高密度信號傳輸來說，在采用以往電氣配線的傳輸中，信號的相互干涉或衰減成為了障礙，而開始顯現出了高速'高密度化的界限。為了打破該界限，正在研究用光來連接電子元件間或配線基板間的技術，也就是所謂的光學互連。作為光路，從容易與元件或基板結合、容易操作的觀點考慮，認為具有柔軟性的柔性光導波路是適宜的。在使柔性光導波路和電氣配線基板一體化來復合化時，需要使用粘接劑等來粘接兩者，但是一般來講柔性光導波路的外層即包覆層由于平滑性高，不能與粘接劑充分確保接觸表面積，所以無法發(fā)揮由錨定效果帶來的粘接力，難以得到牢固的粘接性。另外，在將柔性光導波路多層化來實現光路的高集成化時，也發(fā)生同樣的粘接性方面的問題。作為柔性光導波路，提出過高分子膜光導波路(例如參照專利文獻l)。高分子膜是通過在硅等的基板上采用旋涂高分子溶液等并烘焙來形成下包覆層。通過同樣的方法形成芯層后，用含Si光致抗蝕劑等形成掩模圖案，通過干式蝕刻法形成芯圖案后，按照與形成下包層的方法相同的方法來形成上包層。最后，通過從基板剝離光導波路，來制作膜化的柔性光導波路。尤其是，作為基板，為了容易剝離而使用熱氧化的硅基板，在形成光導波路后，作為從該硅基板剝離光導波路的方法，公開了采用浸漬于氟酸的方法。但是，上述的柔性光導波路，由于包覆層外層表面的平滑性高，所以在與電氣配線基板的復合化或柔性光導波路的多層化中，如上所述的粘接性就成為了問題。另外，上述的柔性光導波路的制造方法，不僅在形成下包覆層、芯層和上包覆層各層時花費時間，而且由于是在基板上涂布液態(tài)材料來制膜，所以膜厚控制煩瑣，再者，由于涂布到基板上的樹脂在固化前為液態(tài)，所以樹脂會在基板上流動，存在難以保持膜厚的均勻性等、由于材料形態(tài)是液態(tài)而引起的問題。進而，由于將硅用于基板，所以不適合于大量制造10cm以上尺寸光導波路的情況，并且，上述的制造方法具有作為高真空工藝的干式蝕刻工序，所以要想制作芯層厚的多模光導波路，就需要進行非常長時間的干式蝕刻。專利文獻1:日本特開平7-239422號公報
發(fā)明內容本發(fā)明就是鑒于上述問題，目的為提供一種在與電氣配線基板的復合化或在柔性光導波路的多層化中粘接性優(yōu)異的柔性光導波路、其制造方法、以及使用柔性光導波路的光模塊。本發(fā)明人等在反復深入研究的結果，發(fā)現可以通過如下記載的方法，解決上述問題。即，本發(fā)明涉及以下(1)~(5)。(1)一種柔性光導波路，其為在下包覆層、芯層和上包覆層中的至少一方使用光導波路形成用樹脂膜來制作的柔性光導波路，其中，下包覆層和上包覆層中的至少一方的表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5pm~10nm。(2)—種柔性光導波路，其為在下包覆層、芯層和上包覆層中的至少一方使用光導波路形成用樹脂膜來制作的柔性光導波路，其中，下包覆層和上包覆層中的任一方的表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5|xm~l(Vm，并且另一方的表面的Rz為小于0.5jam。(3)—種柔性光導波路的制造方法，其為含有下包覆層和芯圖案和上包覆層的柔性光導波路的制造方法，包含在下包覆層和上包覆層的至少一方，使用在表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5^im10|im的基材上制作的包覆層形成用樹脂膜來制作光導波路的工序；以及在其后從包覆層形成用樹脂膜除去該基材的工序。(4)才艮據上述(3)所述的柔性光導波路的制造方法，其中，表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5pm10(xm的基材是金屬箔。(5)—種光模塊，其為使用上述(2)所述的柔性光導波路來制作的光模塊，其中，在表面的十點平均粗糙度(Rz)小于0.5pm的下包覆層和上包覆層中的任一方的表面搭載了發(fā)光元件或受光元件。根據本發(fā)明，可以提供在與電氣配線基板的復合化或在柔性光導波路之間的多層化中粘接性優(yōu)異的柔性光導波路、其制造方法、以及使用柔性光導波路的光才莫塊。圖l是說明本發(fā)明的柔性光導波路的制造方法的圖。圖2是說明本發(fā)明的柔性光導波路和電氣配線基板的復合化例子的圖。圖3是說明本發(fā)明的柔性光導波路之間的多層化例子的圖。圖4是說明使用本發(fā)明的柔性光導波路的光模塊的圖。圖中，l是基材，2是下包覆層，3是芯層，4是芯層用基材膜，5是光掩膜，6是芯圖案，7是上包覆層，8是粗糙化面，9是平滑面，IO是粘接層，ll是電氣配線基板，12是發(fā)光元件或受光元件，13是光路變換部。具體實施例方式作為本發(fā)明的柔性光導波路的形態(tài)，例如可以舉出根據圖1(f)所示例子的、由高折射率的芯圖案6、低折射率的下包覆層2和上包覆層7構成的形態(tài)。芯圖案6是如圖1(c)、(d)所示，通過將芯層3曝光顯影來形成。本發(fā)明的柔性光導波路，作為其材料形態(tài)，在下包覆層、芯層和上包覆層中的至少一方使用膜狀的光導波路形成用材料(以下叫做光導波路形成用樹脂膜)來制作。通過使用光導波路形成用樹脂膜，可以在消除由于材料形態(tài)是液態(tài)而引起的問題的情況下，制造出可對應大面積化的柔性光導波路。用于本發(fā)明的光導波路形成用樹脂膜，被設計成用于芯層的光導波路形成用樹脂膜(以下叫做芯層形成用樹脂膜)的折射率高于用于包覆層的光導波路形成用樹脂膜(以下叫做包層形成用樹脂膜)。本發(fā)明的柔性光導波路的特征為，下包覆層和上覆包層中的至少一方的表面的十點平均粗糙度(以下叫做Rz，按照JISB0601-1994的定義)為0.5nm10nm。由此，在該表面應用錨定效果來獲得與電氣配線基板的粘接性或光導波路之間的粘接性優(yōu)異的柔性光導波路。如果Rz在0.5(im以上，則可以得到充分的錨定效果，能夠確保粘接力。另一方面，如果在10^im以下，則不必為了避免由光散射引起的傳輸損失的影響而增厚包覆層，可以提高柔性光導波路的彎曲性。從以上觀點考慮，Rz優(yōu)選在l-5nm的范圍。如果柔性光導波路的下包覆層和上包覆層中的至少一方的表面的Rz為0.5拜10iam，則可以制作粘接性優(yōu)異的柔性光導波路，但對于使用柔性光導波路的光模塊，例如圖4所示在帶有光路變換部的光導波路的包覆層表面(在圖4的例子中，是上包覆層7的表面9)上搭載了發(fā)光元件或受光元件12的光模塊來說，從減少由光散射引起的光耦合損失的觀點考慮，優(yōu)選該表面9的Rz小。從以上觀點考慮，本發(fā)明的柔性光導波路優(yōu)選為下包覆層和上包覆層中的任一方的表面的Rz為0.5|im~10jxm，并且另一方的表面的Rz為小于0.5jim。使用該柔性光導波路來制作的光模塊，優(yōu)選在表面的Rz為小于0.5pm的下包覆層和上包覆層中的任一方的表面搭載發(fā)光元件或受光元件，從減少光耦合損失的角度考慮，該表面的Rz更優(yōu)選為0.3pm以下。作為得到本發(fā)明的柔性光導波路的方法，只要是含有能夠使下包覆層和上包覆層中的至少一方的表面的Rz處于0.5pml(Him的范圍內來對該表面進行粗糙面化的工序的方法，則沒有特別限制。作為對該表面進行粗糙面化的方法，可以舉出在制作光導波路的同時對該表面進行粗糙面化的方法，以及在制作光導波路后對該表面進行粗糙面化加工的方法等。作為在制作光導波路的同時對該表面進行粗糙面化的方法，可以舉出如下的方法在下包覆層和上包覆層的至少一方，使用在表面的Rz為0.5pm10Min的基材上制作的包覆層形成用樹脂膜來制作光導波路后，從該膜除去該基材，將該基材的表面形狀轉印到該膜上的方法。由此，可以簡化粗糙面化加工。就本發(fā)明的柔性光導波路來說，從簡化制作的角度考慮，優(yōu)選在制作光導波路的同時對該表面進4亍4:M造面化的方法。作為上述基材，只要是表面的Rz為0.5nml(Him,則對其材料沒有特別限制，可以舉出銅箔、鎳箔、鋁箔等金屬箔；聚對苯二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴；聚酰胺、聚碳酸酯、聚苯醚、聚醚疏化物、聚苯硫醚、聚芳酯、液晶聚合物、聚>5風、聚醚^5風、聚醚醚酮、聚醚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚酰亞胺等。其中，從巻式連續(xù)生產(rolltoroll)方式中的包層形成用樹脂膜的制作容易，并且容易獲得作為支撐體的強度，進而在制作光導波路后除去基材時可以用蝕刻工序來進行這樣的有利于生產率的觀點考慮，優(yōu)選金屬箔。金屬箔中，更優(yōu)選可以用作為一般的印刷電路板的銅箔。作為基材為銅箔時的蝕刻液，可以舉出氯化鐵溶液、氯化銅溶液、堿蝕刻溶液、過氧化氫蝕刻溶液等。其中，從蝕刻因子良好的角度考慮，優(yōu)選使用氯化鐵溶液。作為金屬箔的厚度，從搡作性和縮短蝕刻除去時間的觀點考慮，優(yōu)選在1060pm的范圍。如果在10pm以上，則在操作時不會產生例如形成皺紋等不良情況。如果在60pm以下，則可以在短時間內蝕刻除去。從以上觀點考慮，作為金屬箔的厚度，更優(yōu)選為2545pm的范圍。作為在制作光導波路后進行該表面的粗糙面化加工的方法，例如可以舉出噴砂加工、反應性離子蝕刻等干式蝕刻；采用有機溶劑、酸、堿等化學藥品的濕式蝕刻等。用于本發(fā)明的光導波路形成用樹脂膜是由光導波路形成用樹脂組合物構成，具體地優(yōu)選由含有(A)基礎聚合物、(B)光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑的樹脂組合物構成。用于此的(A)基礎聚合物，是在形成膜等固化物時用來確保其強度的物質，只要是能夠達到其目的的物質即可，沒有特別限制，可以舉出苯氧樹脂、環(huán)氧樹脂、(曱基)丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚酰胺、聚醚酰亞胺、聚醚砜等或它們的衍生物等。這些基礎聚合物可以單獨使用一種，或兩種以上混合使用。上述舉出的(A)基礎聚合物中，從耐熱性高的觀點考慮，優(yōu)選主鏈上具有芳香族骨架，特別優(yōu)選苯氧樹脂。并且，從能夠進行三維交聯(lián)而提高耐熱性的方面考慮，優(yōu)選環(huán)氧樹脂，特別是在室溫(25°C)下為固體的環(huán)氧樹脂。并且，使用上述的含有(A)、(B)和(C)成分的樹脂組合物進行膜化時，優(yōu)選確保該膜的透明性，因此優(yōu)選與在后面詳述的(B)光聚合性化合物的相溶性高。從這種觀點考慮，優(yōu)選上述苯氧樹脂和(曱基)丙烯酸樹脂。另夕卜，這里的(曱基)丙烯酸樹脂是指丙烯酸樹脂和曱基丙烯酸樹脂。上述苯氧樹脂是非晶聚合物，一般由下述通式(I)表示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula>(1)這里，n為l以上的整數，m為0或l，-Ro-是下述通式(11)、(III)或(IV)所示的基團、或-O-。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>這里，R廣Rk)分別獨立地是氫原子、或曱基和三氟甲基等所示的有機基團。上述苯氧樹脂中，具有下式(V)所示的重復單元的雙酚A型環(huán)氧樹脂的直鏈狀高分子聚合物因為具有高耐熱性，所以是優(yōu)選的。[化學式5],H3/==\I這里，n與上述的意思一樣。上述直鏈狀高分子聚合物的苯氧樹脂，一般是通過使雙酚A和表氯醇進行縮聚反應的一步法，或者使低分子量的環(huán)氧樹脂和雙酚A進行加聚反應的二步法來制造的物質，具體例子可以舉出東都化成林式會社制造的"YP-50"(商品名)、日本特開平4-120124號公報、日本特開平4-122714號公報、日本特開平4-339852號公報中記載的物質等。并且，除了上述通式(I)表示的苯氧樹脂以外，還有使各種2官能性環(huán)氧樹脂和雙酚類進行加聚反應而得的高分子物質，例如溴化苯氧樹脂(日本特開昭63-191826號公報、日本特公平8-26119號公報)、雙酚A/雙酚F共聚型苯氧樹脂(日本特許第2917884號公報、日本特許第2799401號公報)、含磷苯氧樹脂(日本特開2001-310939號公報)、引入芴骨架的高耐熱性苯氧樹脂(日本特開平11-269264號公報、日本特開平11-302373號公報)等已知的苯氧樹脂。由上述雙酚A/雙酚F共聚型苯氧樹脂代表的以下所示的苯氧樹脂，在本發(fā)明中適合用作為(A)成分。即，是含有(a-l)選自雙酚A、雙酚A型環(huán)氧化合物或它們的書f生物中的至少一種和(a-2)選自雙酴F、雙酚F型環(huán)氧化合物或它們的^f汙生物中的至少一種作為共聚成分的結構單元的物質。通過使用含有這種以(a-l)成分和(a-2)成分為共聚成分的樹脂作為(A)成分的光導波路形成用樹脂組合物，能夠進一步提高包覆層和芯層的層間密合性或光導波路芯圖案形成時的圖案形成性(細線或窄線間距對應性)，可以形成線寬和線間距小的精細圖案。作為雙酚A、雙酚A型環(huán)氧化合物或它們的衍生物，適合舉出的有四溴雙酚A或四溴雙酚A型環(huán)氧化合物等。并且，作為雙酚F或雙酚F型環(huán)氧化合物或它們的書f生物，適合舉出的有四溴雙酚F或四溴雙酚F型環(huán)氧化合物等。作為本發(fā)明的(A)基礎聚合物，如上所述，特別適合舉出的有雙酚A/雙酚F共聚型苯氧樹脂，例如可以購入東都化成抹式會社制造的商品名"PhenototoYP-70"。接著，作為室溫(25°C)下是固體的環(huán)氧樹脂，例如有東都化成抹式會社制造的"EpototoYD-7020、EpototoYD-70.59、EpototoYD-70.57"(均為商品名)、曰本環(huán)氧樹脂林式會社制造的"Epicoat10.50、Epicoat1009、Epicoat1008(均為商品名)等雙酚A型環(huán)氧樹脂。關于(A)基礎聚合物的分子量，考慮到還要形成光學互連用光導波路材料等所要求的膜厚50,左右的厚膜的光導波路形成用樹脂膜，優(yōu)選數均分子量為5,000以上，進而優(yōu)選為10，000以上，特別優(yōu)選為30,000以上。數均分子量的上限沒有特別限制，但是從與(B)光聚合性化合物的相溶性和曝光顯影性的觀點考慮，優(yōu)選為1,000，000以下，更優(yōu)選為500,000以下，特別優(yōu)選為200,000以下。另外，數均分子量是用凝膠滲透色鐠法(GPC)測定并進行標準聚苯乙烯換算后的值。(A)基礎聚合物的配合量相對于(A)成分和(B)成分的總量優(yōu)選為5~80質量％。其配合量為5質量％以上的話，容易將含有(B)光聚合性化合物和(C)光聚合引發(fā)劑的樹脂組合物膜化。特別是在形成光導波路形成用樹脂膜時，考慮到還能容易地形成膜厚50pm以上的厚膜，所以更優(yōu)選10質量％以上。另一方面，如果該配合量在80質量％以下，在形成光導波路時，會提高圖案形成性，且能充分地進行光固化反應。從以上觀點考慮，(A)基礎聚合物的配合量更優(yōu)選為20~70質量o/o。接著，(B)光聚合性化合物只要是能夠通過紫外線等光的照射而聚合的物質，則沒有特別限制，可以舉出分子內具有乙烯性不飽和基團的化合物和分子內具有兩個以上環(huán)氧基的化合物等。其中，從對光的反應性的觀點考慮，優(yōu)選分子內具有乙烯性不飽和基團的化合物。具體地，可以舉出(甲基)丙烯酸酯、偏鹵乙烯、乙烯基醚、乙烯基吡咬、乙烯基苯酚等，其中，從透明性和耐熱性觀點考慮，優(yōu)選(甲基)丙烯酸酯。作為(甲基)丙烯酸酯，能使用1官能性、2官能性、3官能性以上的多官能性的任何一種。另外，這里的(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯。作為1官能性的(甲基)丙烯酸酯，可以舉出甲氧基聚乙二醇(曱基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(曱基)丙烯酸酯、月桂基(曱基)丙烯酸酯、異硬脂基(曱基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基丁二酸酯、對異丙苯基苯氧基乙二醇(曱基)丙烯酸酯、2-四氫吡喃基(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸曱酯、(曱基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丁酯、(曱基)丙烯酸節(jié)酯等。并且，作為2官能性(甲基)丙烯酸酯，可以舉出乙氧基化2-甲基-1，3-丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(曱基)丙烯酸酯、2-甲基-l，8-辛二醇二(曱基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(曱基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、三乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)癸烷二(曱基)丙烯酸酯、乙氧基化環(huán)己烷二甲醇二(曱基)丙烯酸酯、2-羥基-l-丙烯酰氧基-3-曱基丙烯酰氧基丙烷、2-羥基-l，3-二曱基丙烯酰氧基丙烷、9，9-雙[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、9，9-雙(3-苯基國4國丙烯?；垩趸已趸?藥、雙酚A型、苯酚酚醛清漆型、甲酚酚醛清漆型和縮水甘油醚型環(huán)氧(曱基)丙烯酸酯等。進而，作為3官能性以上的多官能性(甲基)丙烯酸酯，有乙氧基化異氰尿酸三(曱基)丙烯酸酯、乙氧基化甘油三(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、丙氧基化季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、二三羥曱基丙烷四(曱基)丙烯酸酯、己內酯改性二三羥甲基丙烷四(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯等。它們可以單獨使用或兩種以上組合使用。在這些化合物中，從能夠在通過聚合產生的3維網狀結構中籠絡基礎聚合物來固化的觀點考慮，作為(B)成分優(yōu)選至少一種使用2官能性以上的(曱基)丙烯酸酯。另外，作為2官能性(曱基)丙烯酸酯，從兼顧透明性和耐熱性的觀點考慮，優(yōu)選使用環(huán)氧(曱基)丙烯酸酯。作為代表性的環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯，可以舉出下式(VI)所示的雙酚A雙酚A環(huán)氧丙烯酸酯因為與苯氧樹脂相溶性優(yōu)良，能實現高透明性，所以(A)成分使用苯氧初t脂、(B)成分使用雙酚A環(huán)氧丙烯酸酯是非常優(yōu)選的方案。另外，該雙酚A環(huán)氧丙烯酸酯能商購EA-1020(新中村化學工業(yè)抹式會社制造，商品名)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>并且，從透明性觀點考慮，作為(B)成分也適合使用(曱基)丙烯酸丙烯酰酯，特別是作為(A)成分組合使用(曱基)丙烯酸樹脂時其效果特別好而優(yōu)選。作為(甲基)丙烯酸丙烯酰酯沒有特別限制，一般是在丙烯酸縮水甘油酯的聚合物中加成1官能性的(曱基)丙烯酸酯的制品。作為該1官能性(甲基)丙烯酸酯可以舉出各種化合物，例如(曱基)丙烯酸、或與作為上述1官能性(甲基)丙烯酸酯舉出的化合物一樣的化合物。這里，所說的(曱基)丙烯酸是指丙烯酸和甲基丙烯酸。另外，在形成光導波路時，如在后面詳述需要設計成芯層的折射率高于包覆層，作為(B)光聚合性化合物，除了高透明性、高耐熱性、以及與(A)成分的相溶性以外，還要考慮高折射率性，因此優(yōu)選含有芴二(曱基)丙烯酸酯作為構成成分。特別優(yōu)選含有下述通式(VII)表示的芴二(曱基)丙烯酸酯作為構成成分。[化學式7]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>這里，X是下式(VIII)所示的基團，Y是氫原子或甲基。并且p和q分別為120的整數，優(yōu)選為l-10的整數。[化學式8]平2124這里，RnR26分別獨立地表示氫原子、碳原子數112的烷基、碳原子數16的烷氧基、碳原子數2~7的烷氧基羰基、碳原子數610的芳基、或碳原子數79的芳烷基。R!9R28分別可以在苯環(huán)的任何一個位置，沒有這些取代基的部分(式(vm)中的"*，，標記)與式(VII)的骨架中的氧原子結合。另外，通式(VII)和(VIII)中，Y是氫原子，R『R26是氫原子，p為1,q為1的物質可以商購(新中村化學工業(yè)抹式會社制造，商品名"A-BPEF，)。另夕卜，作為(B)成分，還可以并用上述藥二(曱基)丙烯酸酯和分子內至少具有一個(曱基)丙烯?；幕衔铩Ａ硗?，作為在分子內具有兩個以上環(huán)氧基的化合物，具體地可以舉出雙酚A型環(huán)氧樹脂、四溴雙酚A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、雙酚AD型環(huán)氧樹脂、萘型環(huán)氧樹脂等2官能芳香族縮水甘油醚；苯酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、曱酚酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、二環(huán)戊二烯-苯酚型環(huán)氧樹脂、四苯酚基乙烷型環(huán)氧樹脂等多官能芳香族縮水甘油醚；聚乙二醇型環(huán)氧樹脂、聚丙二醇型環(huán)氧樹脂、新戊二醇型環(huán)氧樹脂、己二醇型環(huán)氧樹脂等2官能脂肪族縮水甘油醚；加氫雙酚A型環(huán)氧樹脂等2官能脂環(huán)式縮水甘油醚；三羥甲基丙烷型環(huán)氧樹脂、山梨糖醇型環(huán)氧樹脂、甘油型環(huán)氧樹脂等多官能脂肪族縮水甘油醚；苯二曱酸二縮水甘油酯等2官能芳香族縮水甘油酯；四氬苯二甲酸二縮水甘油酯、六氳苯二甲酸二縮水甘油酯等2官能脂環(huán)式縮水甘油酯；N，N-二縮水甘油基苯胺、N，N-二縮水甘油基三氟甲基苯胺等2官能芳香族縮水甘油胺；N,N，N，，N，-四縮水甘油基-4，4-二氨基二苯基曱烷、1，3-雙(N,N-縮水甘油基氨基曱基)環(huán)己烷、N,N-鄰三縮水甘油基-對氨基苯酚等多官能芳香族縮水甘油胺；脂環(huán)二環(huán)氧乙縮醛、脂環(huán)二環(huán)氧己二酸酯、脂環(huán)二環(huán)氧羧酸酯、乙烯基環(huán)己烯二氧化物等2官能脂環(huán)式環(huán)氧樹脂；二縮水甘油基乙內酰脲等2官能雜環(huán)式環(huán)氧樹脂；三縮水甘油基異氰尿酸酯等多官能雜環(huán)式環(huán)氧樹脂；有機聚硅氧烷型環(huán)氧樹脂等2官能或多官能含硅環(huán)氧樹脂等。這些在分子內具有兩個以上環(huán)氧基的化合物通常其分子量為100~2，000左右，更優(yōu)選為1501，000左右，適合使用室溫(25°C)下為液態(tài)的物質。并且這些化合物可以單獨使用或兩種以上組合使用，進而還可以和其他光聚合性化合物組合使用。另外，(B)光聚合性化合物的分子量，可以通過GPC法或質量分析法來測定。上述(B)光聚合性化合物的配合量相對于(A)成分和(B)成分的總量優(yōu)選為2095質量％。其配合量在20質量％以上的話，可以容易地籠絡基礎聚合物來固化，在形成光導波路時，具有提高芯圖案形成時的圖案形成性的優(yōu)點。另一方面，在95質量％以下的話，容易通過添加(A)成分來膜化，進一步從容易形成厚膜的膜的角度考慮，優(yōu)選為90質量％以下。從以上的觀點來說，(B)光聚合性化合物的配合量更優(yōu)選為30-80質量％。作為(C)光聚合引發(fā)劑，只要是能夠通過紫外線等光線的照射來產生(B)光聚合性化合物的聚合的化合物即可，沒有特別限制。例如(B)成分使用分子內具有乙烯性不飽和基團的化合物時，作為(C)光聚合引發(fā)劑，可以舉出二苯甲酮、N，N，-四曱基-4,4，-二氨基二苯曱酮(米氏酮)、N，N，-四乙基-4，4，-二氨基二苯甲酮、4-曱氧基-4，-二曱基氨基二苯甲酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁烷-l-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-羥基-2-曱基-l-笨基丙烷-l-酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-l-丙烷國l-酮、1,2-曱基-1-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-l-酮、1-[4-(苯硫基)苯基]-l，2-辛二酮-2-苯曱酰肟等芳香族酮；2-乙基蒽醌、菲醌、2-叔丁基蒽醌、八曱基蒽醌、1，2-苯并蒽醌、2，3-苯并蒽醌、2-苯基蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、l-氯代蒽醌、2-曱基蒽醌、1,4-萘醌、9,10-菲醌、2-甲基-l，4-萘醌、2，3-二甲基蒽醌等醌類；苯偶姻曱醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻苯醚等苯偶姻醚化合物；苯偶姻、曱基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻化合物；聯(lián)苯?？s二曱醇等聯(lián)苯酰衍生物；2-(鄰氯代苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚體、2-(鄰氯代苯基)-4,5-二(曱氧基苯基)咪唑二聚體、2-(鄰氟代苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚體、2-(鄰曱氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚體、2-(對曱氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚體等2，4，5-三芳基咪唑二聚體；雙(2,4,6-三甲基苯曱?；?苯基膦氧化物、雙(2，6-二曱氧基苯曱?；?-2，4,4-三甲基戊基膦氧化物、2,4，6-三曱基苯甲?；交⒀趸锏褥⒀趸镱?；9-苯基吖啶、1,7-雙(9，9，-吖啶基)庚烷等吖咬衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物、香豆素系化合物等。并且2,4,5-三芳基咪唑二聚體中，兩個2，4,5-三芳基咪唑的芳基的取代基可以相同而提供對稱化合物，也可以不同而提供非對稱化合物。另夕卜，像二乙基瘞噸酮和二曱基氨基苯曱酸的組合那樣，也可以組合噻噸酮系化合物和^又胺化合物。這些可以單獨-使用一種或組合^f吏用兩種以上。其中，從提高芯層和包層的透明性的觀點考慮，優(yōu)選芳香族酮和膦氧化物類。另外，(B)成分使用環(huán)氧樹脂時，作為(C)光聚合引發(fā)劑，可以舉出例如對甲氧基苯重氮六氟磷酸酯等芳基重氮鹽；二苯基碘鑰六氟鱗鹽、二苯基碘鑰六氟銻酸鹽等二芳基碘鑰鹽；三苯基銃六氟鱗鹽、三苯基锍六氟銻酸鹽、二苯基_4_硫代苯氧基苯基锍六氟鱗鹽、二苯基-4-硫代苯氧基苯基锍六氟銻酸鹽、二苯基_4-硫代苯氧基苯基銃五氟鞋基銻酸鹽等三芳基锍鹽；三苯基硒総六氟轔鹽、三苯基硒鎗氟硼酸鹽、三苯基硒鑰六氟銻酸鹽等三芳基硒鑰鹽；二甲基苯曱酰曱基锍六氟銻酸鹽、二乙基苯曱酰曱基锍六氟銻酸鹽等二烷基苯曱酰曱基锍鹽；4-羥基苯基二曱基锍六氟銻酸鹽、4-羥基苯基節(jié)基曱基銃六氟銻酸鹽等二烷基-4-羥基苯基锍鹽；a-羥基曱基苯偶姻磺酸酯、N-羥基酰亞胺磺酸酯、a-磺酰氧基酮、p-磺酰氧基酮等磺酸酯等。這些可以單獨使用或兩種以上組合使用。上述(C)光聚合引發(fā)劑的配合量相對于(A)成分和(B)成分的總量100質量份優(yōu)選為0.510質量份。該配合量在0.5質量^f分以上的話，光感度充分，另一方面在IO質量份以下的話，曝光時感光性樹脂組合物的表層的吸收不會增大，內部光固化充分。進而，作為光導波路使用時，不會由于聚合引發(fā)劑自身的光吸收的影響使傳輸損失增加，因此是適合的。從以上觀點考慮，(C)光聚合引發(fā)劑的配合量更優(yōu)選為0.25質量份。在光導波路形成用樹脂組合物中，除了上述(A)、(B)和(C)成分以外也可以根據需要以不損害本發(fā)明效果的比例添加內部脫模劑、抗氧化劑、防黃變劑、紫外線吸收劑、可見光吸收劑、著色劑、增塑劑、穩(wěn)定劑、填充劑等所謂的添加劑。光導波路形成用樹脂組合物，被設計成用于芯層的光導波路形成用樹脂組合物(以下叫做芯層形成用樹脂組合物)的折射率高于用于包覆層的光導波路形成用樹脂組合物(以下叫做包覆層形成用樹脂組合物)。作為芯層形成用樹脂組合物，可以使用能夠通過活性光線形成芯圖案的樹脂組合物，適宜使用感光性樹脂組合物。具體是含有上述(A)、(B)和(C)成分，并根據需要含有上述任意成分的樹脂組合物。另夕卜，作為包覆層形成用樹脂組合物，只要是折射率低于芯層形成用樹脂組合物，并且可通過光或熱來固化的樹脂組合物，則沒有特別限制，可以適宜使用熱固性樹脂組合物或感光性樹脂組合物。具體是含有上述(A)、(B)和(C)成分，并根據需要含有上述任意成分的樹脂組合物。用于本發(fā)明的光導波路形成用樹脂膜，是由上述的光導波路形成用樹脂組合物形成，通過在溶劑中溶解含有上述(A)、(B)和(C)成分的樹脂組合物來作為樹脂清漆，采用旋涂法等涂布到基材上，除去溶劑，就可以容易地制造。作為用于涂布樹脂清漆的的涂布機，沒有特別限制，可以使用例如敷料器、旋涂機等，但從生產率的觀點考慮，優(yōu)選使用可連續(xù)制作樹脂膜的涂布機。作為這種涂布機可以舉出例如日本平野技研抹式會社制造的MulticoaterTM-MC。這里，作為使用的溶劑，只要是能夠溶解該樹脂組合物的溶劑則沒有特別限制，例如可以使用丙酮、曱基乙基甲酮、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、甲苯、N，N-二曱基曱酰胺、N，N-二曱基乙酰胺、丙二醇單曱醚、丙二醇單曱醚乙酸酯等溶劑或它們的混合溶劑。這里，從獲得與基材相反側的樹脂面的平滑性優(yōu)異的膜的觀點考慮，優(yōu)選使用丙二醇單甲醚乙酸酯。樹脂溶液中的固體成分濃度通常優(yōu)選為30~80質量％左右。在調和所述樹脂清漆時，優(yōu)選通過攪拌來混合。作為攪拌方法沒有特別限制，但從攪拌效果的觀點考慮，優(yōu)選使用螺旋槳的方法。作為螺旋槳的轉速沒有特別限制，但從樹脂清漆內含有的成分能夠被充分混合，并且抑制由于螺旋槳旋轉引起的巻入氣泡的觀點考慮，優(yōu)選101，000rpm,更優(yōu)選50800rpm,特別優(yōu)選100500rpm。作為攪拌時間沒有特別限制，但從混合性和制造效率的觀點考慮，優(yōu)選124小時。調和后的樹脂清漆，優(yōu)選使用孔徑50)im以下的過濾器來過濾。如果過濾器孔徑在50|im以下，則可以除去大的異物等，在涂布清漆時不會產生收縮等。從這樣的觀點考慮，作為過濾器的孔徑，更優(yōu)選30pm以下，特別優(yōu)選10pm以下。調和后的樹脂清漆，優(yōu)選在減壓下脫泡。作為脫泡方法沒有特別限制，作為具體例可以使用真空泵和玻璃鐘罩、帶有真空裝置的脫泡裝置等。作為減壓時的壓力沒有特別限制，優(yōu)選不至于使樹脂清漆中含有的溶劑沸騰的壓力。作為減壓時間沒有特別限制，但是，從能夠除去溶解在樹脂清漆內的氣泡，并且可以抑制溶劑揮發(fā)的觀點考慮，優(yōu)選3~60分鐘。作為在芯層形成用樹脂膜的制造過程中使用的基材，是能夠支撐芯層形成用樹脂膜的支撐體，對于其材料沒有特別限制，但考慮到以后容易從芯層形成用樹脂膜剝離該基材，并且從具有耐熱性和耐溶劑性的觀點考慮，適宜舉出聚對苯二曱酸乙二醇酯(PET)等聚酯；聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴等。并且，從提高曝光用光線的透過率和降低芯圖案側壁的粗糙的觀點考慮，優(yōu)選使用高透明型的柔性基材。高透明型基材的霧度值優(yōu)選為5%以下，更優(yōu)選3%以下，特別優(yōu)選2%以下。另外，霧度值是基于JISK7105測定的，例如可以使用NDH-1001DP(日本電色工業(yè)抹式會社制造)等市售的濁度計等測定。作為這樣的基材，可以獲得東洋紡織林式會社制造的商品名"-只乇夕X47(Cosmoshine)A1517"或":37乇,〉Y4:xA4100，,的市售品。這里，該"-久乇，二弋OA1517"曝光時與掩模的間隙變小，具有可以形成更精細的圖案的伊C點。作為該基材的厚度，優(yōu)選在550pm的范圍內。在5pm以上的話，有容易獲得作為支撐體的強度的優(yōu)點，在50pm以下的話，在芯圖案形成時與掩模的間隙變小，具有能形成更精細的圖案的優(yōu)點。從以上觀點考慮，該基材的厚度更優(yōu)選為10~40|jm的范圍，進而優(yōu)選為15~30^im，特別優(yōu)選為20~30|im。對于芯層形成用樹脂膜的厚度沒有特別限制，但是優(yōu)選干燥后的厚度在10100pm的范圍。在10jim以上的話，有與受發(fā)光元件或光纖的耦合容許度增大的優(yōu)點，在lOO]im以下的話，有提高與受發(fā)光元件或光纖的耦合效率的優(yōu)點。根據上述觀點，該膜的厚度更優(yōu)選在3070^mi的范圍。從與上述同樣的觀點考慮，芯層和芯圖案的厚度優(yōu)選在10~1OOpm的范圍，更優(yōu)選在30~70|im的范圍。作為在包層形成用樹脂膜的制造過程中使用的基材，可以舉出上述的表面的Rz為0.5[xm10nm的基材。其中，從與上述同樣的觀點考慮，優(yōu)選金屬箔。另外，在本發(fā)明的柔性光導波路中，在制作例如下包覆層的表面的Rz為0.5^m10^im、并且上包覆層的表面的Rz小于0.5,的柔性光導波路時，作為在上包覆層形成用樹脂膜的制造過程中使用的基材，優(yōu)選使用表面的Rz小于0.5pm的基材。作為這種基材，只要是表面的Rz小于0.5pm,對其材料就沒有特別限制，但是考慮到以后容易從上包覆層形成用樹脂膜剝離該基材，并且從具有耐熱性和耐溶劑性的觀點考慮，適合舉出有聚對苯二曱酸乙二醇酯等聚酯；聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴等。該基材的厚度優(yōu)選在5100jam的范圍。如果在5pm以上的話，有容易獲得作為支撐體的強度的優(yōu)點，在100pm以下的話，在制作巻狀膜時具有巻繞性提高的優(yōu)點。從以上觀點考慮，該基材的厚度更優(yōu)選為1080pm的范圍，進而優(yōu)選為1550,的范圍。包覆層樹脂膜的厚度，只要能夠封閉光或埋入芯，則沒有特別限制，優(yōu)選以干燥后的厚度計為5500pm的范圍。如果在5pm以上，則能夠確保封閉光所需的包覆層的厚度，如果在500)am以下，則能夠容易將膜厚控制均勻。從以上觀點考慮，該膜的厚度更優(yōu)選為10100pm的范圍。在這樣獲得的基材上設置的光導波路形成用樹脂膜，例如可以通過巻繞成巻狀來容易地保存。并且，也可以根據需要在光導波路形成用樹脂膜上設置保護膜。另外，為了使后述的光導波路形成用樹脂膜的剝離變得容易，對基材和保護膜也可以實施抗靜電處理等。作為包覆層(上包覆層和下包覆層的全體)的厚度，就最初形成的下包覆層和用來埋入芯圖案的上包覆層來說，可以相同也可以不同。另外，就上包覆層的厚度來說，為了埋入芯圖案，優(yōu)選比芯層的厚度更厚。從柔性光導波路全體的厚度變小，發(fā)揮更優(yōu)異的柔軟性的觀點考慮，當芯圖案的厚度在上述10~100^im的范圍時，作為光導波路全體的包覆層的厚度，優(yōu)選為3040(Him的范圍，作為上包覆層的厚度優(yōu)選為20300pm的范圍，作為下包覆層的厚度優(yōu)選為1010(^m的范圍。進而，當芯圖案的厚度在優(yōu)選范圍3070jam時，優(yōu)選光導波路全體的包覆層的厚度為60130pm的范圍，上包覆層的厚度為4080pm的范圍，下包覆層的厚度為20~50pm的范圍。這里，上包覆層的厚度是指從芯圖案與下包覆層的交界到上包覆層的上面的值，下包覆層的厚度是指從芯圖案與下包覆層的交界到下包覆層的下面的值。上述光導波路形成用樹脂組合物或光導波路形成用樹脂膜，從抑制光損失可1起的傳輸信號強度下降的觀點考慮，其固化物的光傳輸損失優(yōu)選在0.5dB/cm以下。這里光傳輸損失是用棱鏡耦合式光學特性測定裝置(SAIRONTECHNOLOGY公司制造，SPA-4000)測定的值。本發(fā)明的柔性光導波路的制造方法，是含有下包覆層和芯圖案和上包覆層的柔性光導波路的制造方法，包含在下包覆層和上包覆層的至少一方，使用在表面的Rz為0.5nm~10|_im的基材上制作的包覆層形成用樹脂膜來制作光導波路的工序；以及在其后從該膜除去該基材的工序。根據該方法，通過從該膜除去該基材就可以將該基材的表面形狀轉印到該膜上，所以可以在制作光導波路的同時，使由該膜構成的包覆層表面粗糙面化。由此無須另行進行粗糙面化加工，可以簡化工序。在柔性光導波路的制造工序中，下包覆層需要作為支撐體的基材，通過將該基材兼用于用來粗糙面化加工的基材，可以簡化工序。從以上觀點考慮，在表面的Rz為0.5|iml(^m的基材上制作的包覆層形成用樹脂膜，優(yōu)選至少用于下包覆層。作為表面的Rz為0.5)iml(Him的基材，與上述敘述的一樣。其中，從能夠容易制作包覆層形成用樹脂膜，并且從作為支撐體的充分強度和生產率的觀點考慮，優(yōu)選金屬箔。以下，作為本發(fā)明柔性光導波路的制造方法的一個例子，詳細說明圖1所示的方法。首先，作為第一工序，通過光或加熱來固化在基材1上制作的包覆層形成用樹脂膜，來形成下包覆層2(圖1(a))。這里，作為基材l,使用表面(包覆層形成面)的Rz為0.5fim10pm的基材。在形成該下包覆層2的第一工序中，當包覆層形成用樹脂膜的與基材膜的相反側設置有保護膜時，是在剝離該保護膜后，通過光或加熱來固化包覆層形成用樹脂膜，來形成下包覆層2。形成下包覆層2時的活性光線的照射量優(yōu)選為0.1~5J/cm2，加熱溫度優(yōu)選為50130。C，但并不限于這些條件。接著，作為第二工序，在下包覆層2上層壓芯層形成用樹脂膜，來層疊芯層3(圖1(b))。在該第二工序中，通過在上述下包覆層2上加熱壓接芯層形成用樹脂膜，層疊折射率比包覆層高的芯層3。這里，作為層壓方式，可以舉出使用軋輥層壓機或平板型層壓機的方法，從密合性和跟隨性的角度考慮，優(yōu)選在減壓下進行層疊。尤其優(yōu)選使用平板型層壓機在減壓下層疊芯層形成用樹脂膜。這里，在本發(fā)明中所謂平板型層壓機是指將層疊材料夾在一對平板之間，通過對平板加壓來進行壓接的層壓機，例如可適宜使用真空加壓式層壓機。這里的加熱溫度優(yōu)選為50~130°C,壓接壓力優(yōu)選為0.1~1.0MPa(l10kgf/cm2)左右，但對于這些條件并沒有特別限制。這里，在使用真空加壓式層壓機進行層疊之前，也可以使用軋輥層壓機先將芯層形成用樹脂膜臨時粘貼在下包覆層2上。這里，從密合性和跟隨性的角度考慮，優(yōu)選邊壓接邊臨時粘貼，也可以在壓接時使用具有熱輥的層壓機邊加熱邊進行。層壓機的溫度優(yōu)選為室溫(25°C)10(TC的范圍。如果在室溫(25。C)以上，則下包覆層2與芯層3的密合性提高，如果在100。C以下，則芯層3在軋輥層壓時不會流動，可以得到必要的膜厚。從以上觀點考慮，更優(yōu)選為4010(TC的范圍。壓力優(yōu)選為0.20.9MPa，層壓速度優(yōu)選為0.1~3m/min，但對于這些條件并沒有特別限制。芯層形成用樹脂膜，如果制作在芯層用基材膜4上，則容易操作，所以優(yōu)選。另外，芯層3也可以通過如下方法來形成在溶劑中溶解芯層形成用樹脂組合物來作為樹脂清漆，采用旋涂法等涂布到下包覆層2上，除去溶劑。接著，作為第三工序，將芯層3曝光顯影，形成光導波路的芯圖案6(圖1(c)和(d))。具體地，通過光掩模5，以圖像狀照射活性光線。作為活性光線的光源，例如可以舉出碳弧燈、水銀蒸氣弧燈、超高壓水銀燈、高壓7K銀燈、氙燈等能有效放射紫外線的公知光源。此外，也可以使用照相用散光燈、太陽燈等有效放射可見光的光源。這里，活性光線的照射量優(yōu)選為0.01~10J/cm2。如果在0.01J/cn^以上，則能夠充分進行固化反應，不會因后述的顯影工序流失芯圖案；如果在10J/cm2以下，則不會因曝光量過多而使芯圖案變粗，適宜形成微細的圖案。從以上觀點考慮，更優(yōu)選為0.055J/cr^的范圍，特別優(yōu)選為0.12J/cm2的范圍。這里，通過將紫外線的照射量適當地調節(jié)在所述范圍內，可以縮小芯圖案的線寬和線間距，例如通過使紫外線的照射量為0.2J/cm2，可以形成線寬/線間距為50jjm/75pm的微細的圖案。接著，當殘留有芯層用基材膜4時，剝離該基材，用濕式顯影等除去未曝光部進行顯影，來形成光導波路圖案。當濕式顯影時，可以使用適合于上述膜的組成的有機溶劑系顯影液，通過噴霧、搖動浸漬、刷涂、刮等公知方法來顯影。作為有機溶劑系顯影液，例如可以舉出丙酮、曱醇、曱基乙基甲酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮、乙酸丁酯、乳酸乙酯、，丁內酯、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單曱醚、丙二醇單曱醚乙酸酯、曱苯、二甲苯、N,N-二曱基曱酰胺、N,N-二曱基乙酰胺、N-曱基吡咯烷酮等。這些有機溶劑為了防止著火，優(yōu)選在1~20質量％的范圍添加水。另外，這些有機溶劑可以單獨或組合兩種以上來使用。作為顯影液的具體例，從不用剝離芯圖案就可以顯影的觀點考慮，適宜舉出例如N，N-二曱基乙酰胺和丙二醇單曱醚乙酸酯的2:8混合液(質量比)。作為顯影的方式，例如可以舉出浸漬方式、攪拌方式、高壓噴霧方式等噴霧方式、刷涂、刮等。作為顯影后的處理，也可以使用如上所述的有機溶劑，來清洗光導波路的芯圖案。作為有機溶劑系清洗液，可以舉出例如丙酮、曱醇、乙醇、異丙醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、？丁內酯、曱基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單曱醚、丙二醇單曱醚乙酸酯、甲苯、二甲苯等。其中，從溶解性的觀點考慮，優(yōu)選使用曱醇、乙醇、異丙醇、乙酸乙酯。另外，從能夠使顯影時沒有顯影殘渣的觀點考慮，優(yōu)選使用異丙醇。這些有;^兒溶劑，為了防止著火，優(yōu)選在1~20質量％的范圍添加水。另外，有機溶劑可以單獨或組合兩種以上來使用。作為清洗的方式，可以舉出浸漬方式、攪拌方式、高壓噴霧方式等噴霧方式、刷涂、刮等。作為顯影、清洗后的處理，根據需要可以在60250。C左右加熱或進行0.11000mJ/cm2左右的曝光，而進一步固化光導波路的芯圖案。接著，作為笫四工序，為了埋入芯圖案6，層壓包覆層形成用樹脂膜并固化，來形成上包覆層7(圖1(e))。此時的上包覆層7的厚度，如上所述優(yōu)選比芯圖案6的厚度要厚。固化是通過光或加熱與上述同樣地進行。作為第四工序中的層壓方式，可以舉出使用軋輥層壓機或平板型層壓機的方法，從密合性、跟隨性以及平坦性的角度考慮，與第二工序一樣，適宜使用平板型層壓機優(yōu)選使用真空加壓式層壓機在減壓下層疊包覆層形成用樹脂膜。這里的加熱溫度優(yōu)選為50130。C,壓接壓力優(yōu)選為0.11.0MPa(110kgf/cm2)，但對于這些條件并沒有特別限制。第四工序中的固化，與第一工序一樣，可以通過光和/或熱來進行。形成上包覆層7時的活性光線的照射量優(yōu)選為0.1~30J/cm2。當上述包覆層形成用樹脂膜的支撐膜為PET時，活性光線的照射量優(yōu)選為0.15J/cm2。如果紫外線照射量在該范圍內，就可以充分固化，例如通過使紫外線照射量為3J/cm2,能夠牢固地固化，可以得到減少光導波路的光損失的效果。從這樣的觀點考慮，更優(yōu)選為0.5~5J/cm2，特別優(yōu)選為l~4J/cm2。另一方面，當該支撐膜為聚萘二曱酸乙二醇酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚苯醚、聚醚硫化物、聚醚砜、聚砜等時，由于與PET相比難以使紫外線等短波長的活性光線通過，所以活性光線的照射量優(yōu)選為0.5~30J/cm2。如果在0.5J/cn^以上，可以充分進行固化反應，如果在30J/cm2以下，則不會使光照射時間過長。從以上觀點考慮，更優(yōu)選為3~27J/cm2，特別優(yōu)選為5~25J/cm2。為了進一步固化，可以使用能夠從兩面同時照射活性光線的兩面曝光機。另外，也可以邊加熱邊照射活性光線?；钚怨饩€照射過程中和/或照射后的加熱溫度優(yōu)選為50~200°C,但對這些條件并沒有特別限制。作為本工序中的包覆層形成用樹脂膜，從容易操作的角度考慮，優(yōu)選使用制作到基材上的膜。此時，在芯圖案6側層壓包覆層形成用樹脂膜。此時，作為基材使用表面(包覆層形成面)的Rz為0.5nm10nm的基材來形成上包覆層7，然后除去該基材，來制作上包覆層7的表面的Rz為0.5(am10^im的柔性光導波路。另外，上包覆層7，也可以通過如下方法來形成在溶劑中溶解包覆層形成用樹脂組合物來作為樹脂清漆，將其采用旋涂法等進行涂布，除去溶劑，并固化樹脂組合物。然后，作為第五工序，除去在第一工序中使用的基材l(圖1(f))。通過除去該基材l，可以轉印基材的粗糙面化形狀，可以制作在下包覆層2具有粗糙化面8的柔性光導波路。作為除去該基材l的方法，沒有特別限制，但當該基材l為金屬箔時，可以由蝕刻工序來進行，有利于生產率。根據上述的制造方法，可以得到以往成為問題的粘接性得以提高了的柔性光導波路。實施例下面，通過制造例和實施例進一步詳細說明本發(fā)明，但本發(fā)明并受限于這些制造例和實施例。制造例1(芯層用和包覆層用的樹脂清漆的調制)按照表1所示的配比，準備芯層形成用樹脂組合物和包覆層形成用樹脂組合物，在其中相對于總量添加40質量份的曱基乙基曱酮作為溶劑，稱量到廣口聚合瓶中，使用機械攪拌機、軸和螺旋槳，在溫度25。C、轉數400rpm的條件下，攪拌6小時，調和芯層用和包覆層用的樹脂清漆。然后，使用孔徑2pm的聚四氟乙烯樹脂過濾器(商品名PF020,Advantec東洋抹式會社制造)和孔徑0.5^m的膜濾器(商品名J050A，Advantec東洋抹式會社制造)，在溫度25。C、壓力0.4MPa的條件下加壓過濾，進而使用真空泵和玻璃鐘罩，在減壓度50mmHg的條件下減壓脫泡15分鐘。這里，在表l所示的配比中，(A)基礎聚合物和(B)光聚合性化合物的配合量是相對于(A)成分和(B)成分的總量的質量％,(C)光聚合引發(fā)劑的配合量是相對于(A)成分和(B)成分的總量100質量份的比例(質量份)。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>*1PhenototoYP-70:雙酚A/雙酚F共聚型苯氧樹脂(東都化成抹式會社制造)*2A-BPEF:9，9-雙[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴(新中村化學工業(yè)林式會社制造)*3EA-1020:雙酚A型環(huán)氧丙烯酸酯(新中村化學工業(yè)林式會社制造)*4KRM-2110:脂環(huán)二環(huán)氧羧酸酯(旭電化工業(yè)抹式會社制造)*5Irgacure819:雙(2,4，6-三曱基苯曱酰)苯基膦氧化物(汽巴精化公司制造)*6Irgacure2959:1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-曱基-l-丙烷-l-酮(汽巴精化公司制造)*7SP-170，三苯基锍六氟銻酸鹽(旭電化工業(yè)抹式會社制造)制造例2(芯層形成用樹脂膜的制作)芯層形成用樹脂膜是在PET膜(東洋紡織抹式會社制造，商品名"A-4100",厚度25jim,Rz(非處理面)0.1jam,涂布面非處理面)上，使用敷料器(3少、；'7精機林式會社制造，"YBA-4")涂布由上迷制造例1所得到的芯層用樹脂清漆，在8(TC下干燥10分鐘、然后在100。C下干燥10分鐘，揮發(fā)溶劑，來制作。此時芯層形成用樹脂膜的厚度可以通過調節(jié)敷料器的間隙在5pm到10(Him之間來任意地調節(jié)，本實施例中是調節(jié)成固化后的膜厚成為50pm。制造例3(上包覆層和下包覆層形成用樹脂膜的制造)上包覆層形成用樹脂膜是在PET膜(與上述同樣的膜)上，使用在上述制造例l得到的包覆層用樹脂清漆，按照與上述同樣的方法來制作。上包覆層形成用樹脂膜的膜厚為80pm。另一方面，下包覆層形成用樹脂膜是在銅箔(古河電路銅蕩抹式會社制造，商品名"GTS-35"，厚度35^m，Rz(光澤面)2.1|im)的光澤面上，涂布由上述制造例1得到的包覆層用樹脂清漆，在80。C下干燥10分鐘、然后在IO(TC下干燥10分鐘，揮發(fā)溶劑，來制作。下包覆層形成用樹脂膜的膜厚為30jiim。使用Metricon公司制造的棱鏡耦合測試儀(Model2020)測定本制造例中的光導波路形成用樹脂膜的折射率的結果(測定波長為830nm)，芯層形成用樹脂膜的折射率為1.583,包覆層形成用樹脂膜的折射率為1.550。實施例1(柔性光導波路的制造)下包覆層的形成工序對于在上述制造例3得到的在銅箔(基材1)上制作的下包覆層形成用樹脂膜，用紫外線曝光機(才一夕制作所林式會社制造，EXM-1172)照射1J/cm2的紫外線(波長365nm)，形成下包覆層2(圖1(a))。芯圖案的形成工序接著，在下包覆層2上，使用真空加壓式層壓機(名機制作所林式會社制造，MVLP-500),在壓力0.5MPa、溫度50°C、加壓時間30秒的條件下，層壓在上述制造例2得到的芯層形成用樹脂膜，來形成芯層3(圖1(b))。接著，隔著光掩模5，用上述紫外線曝光機照射1J/cm2的紫外線(波長365nm)后(圖l(c)),剝離PET膜(芯層用基材膜4)，溶劑則使用N，N-二曱基乙酰胺，來顯影芯圖案6(圖1(d))。顯影液的清洗，是使用曱醇和水。上包覆層的形成工序接著，按照與形成芯層3時同樣的條件，層壓在上述制造例3得到的上包覆層形成用樹脂膜，照射lJ/cm"的紫外線(波長365nm),除去PET膜(上包覆層基材膜)后，接著在16(TC加熱處理1小時，來形成上包覆層7(圖l(e))。銅箔的除去工序最后，用氯化鐵水溶液(Sunhayato抹式會社制造，商品名"H-20L")溶解作為下包覆層形成用樹脂膜的支撐基材的銅箔，得到柔性光導波路(圖1(f))。用表面粗糙度測定儀(小坂研究所抹式會社制造，商品名"廿一7-—夕'SE-2300")測定該柔性光導波路的表面粗糙度的結果，下包覆層側的Rz為3.0pun，上包覆層側的Rz為0.3fim。對于制作的柔性光導波路的傳輸損失，光源使用850nm的VCSEL(EXFO公司制造，FLS-300-01-VCL)和受光傳感器(愛德萬測試抹式會社制造，Q82214),根據縮減(力7卜戶7夕)法(測定光導波路長5、3、2cm，入射光纖GI-50.525多模光纖(NA-0.20),出射光纖SI-114/125(NA=0.22)進行測定，結果為0.1dB/cm。作為粘接劑使用粘接膜(日立化成工業(yè)抹式會社制造，商品名"、47夕'7fHS-230"，厚度25pm)，將制作的柔性光導波路的下包覆層側按照圖2所示的形態(tài)粘接到電氣配線基板11(日立化成工業(yè)林式會社制造，商品名"MCL-E-679F",是測試用電氣配線電路)。其結果，柔性光導波路能夠與電氣配線基板ll粘接。另外，使用同樣的粘接膜，將制作的柔性光導波路之間的下包覆層側按照圖3所示的形態(tài)粘接。其結果，可以將柔性光導波路之間進行粘接。產業(yè)上的利用可能性本發(fā)明的柔性光導波路的粘接性優(yōu)異。另外，根據本發(fā)明，可以制造出生產率好并且粘接性優(yōu)異的柔性光導波路。因此，柔性光導波路之間的多層化或與電氣配線基板的復合變得容易，可適用于光學互連等的寬廣的領域。權利要求1.一種柔性光導波路，其為在下包覆層、芯層和上包覆層中的至少一方使用光導波路形成用樹脂膜來制作的柔性光導波路，其中，下包覆層和上包覆層中的至少一方的表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5μm～10μm。2.—種柔性光導波路，其為在下包覆層、芯層和上包覆層中的至少一方使用光導波路形成用樹脂膜來制作的柔性光導波路，其中，下包覆層和上包覆層中的任選一方的表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5^im~10|om,并且另一方的表面的Rz為小于0.5pim。3.—種柔性光導波路的制造方法，其為含有下包覆層和芯圖案和上包覆層的柔性光導波路的制造方法，包含在下包覆層和上包覆層的至少一方，使用在表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5nm10nm的基材上制作的包覆層形成用樹脂膜來制作光導波路的工序；以及在其后從該包覆層形成用樹脂膜除去該基材的工序。4.根據權利要求3所述的柔性光導波路的制造方法，其中，表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5^im10^im的基材是金屬箔。5.—種光才莫塊，其為使用權利要求2所述的柔性光導波路來制作的光模塊，其中，在表面的十點平均粗糙度(Rz)小于0.5pm的下包覆層和上包覆層中的任選一方的表面搭載了發(fā)光元件或受光元件。全文摘要本發(fā)明提供一種柔性光導波路，其為在下包覆層、芯層和上包覆層中的至少一方使用光導波路形成用樹脂膜而制成的柔性光導波路，其中，下包覆層和上包覆層中的至少一方的表面的十點平均粗糙度(Rz)為0.5μm～10μm，本發(fā)明還提供上述柔性光導波路的制造方法、以及使用柔性光導波路的使用柔性光導波路的光模塊。本發(fā)明提供與電氣配線基板的復合化或在柔性光導波路的多層化中的粘接性優(yōu)異的柔性光導波路、其制造方法、以及使用柔性光導波路的光模塊。文檔編號G02B6/122GK101395511SQ20078000784公開日2009年3月25日申請日期2007年3月2日優(yōu)先權日2006年3月6日發(fā)明者增田宏,柴田智章,牧野龍也,落合雅美,高崎俊彥,高橋敦之申請人:日立化成工業(yè)株式會社