專利名稱：微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
微光學(xué)器件髙速并行直寫制作系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新,及微光學(xué)器件制作領(lǐng)域，具體涉及一種微光學(xué)器件的高速并行直寫制 作系統(tǒng)。
技術(shù)背景激光直寫技術(shù)是隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展而于20世紀(jì)80年代中期提出的，雖然 歷史并不很長(zhǎng)，但卻取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步。在90年代初，激光直寫系統(tǒng)丌始廣泛應(yīng)用于微 光學(xué)器件的制作，大大提髙了微光學(xué)器件的性能，為微光學(xué)技術(shù)的推廣應(yīng)用打下了良好 的基礎(chǔ)?，F(xiàn)有的較為成熟的激光直寫系統(tǒng)大都是逐點(diǎn)曝光式的，其直寫焦斑大小為微米級(jí)， 所能實(shí)現(xiàn)的最小特征尺寸亦只能達(dá)到微米級(jí)。由于激光束橫截面光強(qiáng)的高斯分布特性， 使得加工出的微光學(xué)器件表面比較粗糙。再者，其掃描線間距的典型值為lnm左右，寫 入速度通常為10mm/s左右，完成一個(gè)10mm圓片的曝光需要l 2小時(shí)，寫入速度很慢。 此外，準(zhǔn)分子激光燒蝕法、激光淀積和刻蝕法雖可歸入激光直寫系列，但前者制作光學(xué) 器件時(shí)分辨率較^i,后者制作工藝復(fù)雜、成本較高，二者均未得到廣泛的應(yīng)用。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種可采用逐個(gè) 圖形進(jìn)行曝光的面曝光方式，使其具有內(nèi)在的并行特性，大大提高了微光學(xué)器件的制作 速度和精度，縮短生產(chǎn)周期，使微光學(xué)器件特征尺寸可達(dá)到微米及亞微米量級(jí)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn) 單可靠，生產(chǎn)成本低的微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用下述技術(shù)方案。本實(shí)用新型的微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，其特征在于它包括按下列順序在 光軸線上依次排列的由光源發(fā)出的光垂直照射的電尋址空間光調(diào)制器、傅里葉變換透鏡、 空間濾波器、物鏡和二維精密位移平臺(tái)，還包括機(jī)內(nèi)設(shè)有圖形生成軟件的計(jì)算機(jī)，空間 濾波器置于傅里葉變換透鏡的后焦面上，空間光調(diào)制器通過導(dǎo)線與計(jì)算機(jī)的顯示視頻擴(kuò) 展輸出口連接。所述電尋址空間光調(diào)制器為透射型電尋址空間光調(diào)制器，在光軸線上于透射型電尋
址空間光調(diào)制器itr設(shè)有依次排列的光源和擴(kuò)束準(zhǔn)直器。所述電尋址空間光調(diào)制器為反射型電尋址空間光調(diào)制器，所述光軸線分為第一光軸 線和第二光軸線，反射型電尋址空間光調(diào)制器、傅里葉變換透鏡、空間濾波器、物鏡和 二維精密位移平臺(tái)按以上順序在第一光軸線上依次排列，在反射型電尋址空間光調(diào)制器 和傅里葉變換透鏡之間設(shè)有分束器，在第二光軸線上設(shè)有依次排列的光源和擴(kuò)束準(zhǔn)直器， 第一光軸線和第二光軸線在分束器處垂直相交，分束器的法線與兩光軸線的夾角均為45°。所述二維精密位移平臺(tái)與所述計(jì)算機(jī)相連，或與另一臺(tái)計(jì)算機(jī)相連。 所述光源是紫外光源或是He-Cd激光器。本實(shí)用新型采用電尋址空間光調(diào)制器，通過導(dǎo)線與計(jì)算機(jī)的顯示視頻擴(kuò)展輸出口連 接，并由計(jì)算機(jī)控制和輸入調(diào)制信號(hào)，對(duì)垂直照射的光束進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制，以形成高質(zhì)量 的灰階圖形。再利用基于傅里葉變換透鏡和物鏡組合的高精縮倍率光學(xué)系統(tǒng)，對(duì)微光學(xué) 器件進(jìn)行面曝光，且曝光面上各點(diǎn)曝光強(qiáng)度數(shù)字量化可控。空間光調(diào)制器對(duì)光束進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制和時(shí)間細(xì)分調(diào)制；對(duì)時(shí)間進(jìn)行細(xì)分的方法為-(1) .將單次曝光時(shí)間T細(xì)分為M (M為時(shí)間細(xì)分倍數(shù)，為大于等于2的整數(shù))個(gè)間隔 AT, AT=T/M;(2) .由計(jì)算機(jī)控制不同像元顯示預(yù)定灰階值的時(shí)間為t,，且仁為AT的整數(shù)倍，即 t產(chǎn)mxAT; ra為時(shí)間細(xì)分?jǐn)?shù)，m為大于等于l、小于等于M的整數(shù)；(3) .由計(jì)算機(jī)控制不同像元顯示0灰階值的時(shí)間為t2，且t2= (M-m) xAT; 光強(qiáng)調(diào)制倚數(shù)增大M倍，相當(dāng)于空間光調(diào)制器顯示的灰階值擴(kuò)展M倍。 本實(shí)用新型適當(dāng)選擇傅里葉變換透鏡的焦距、物鏡的焦距、空間光調(diào)制器到傅里葉變換透鏡之間的距離、空間濾波器到物鏡之間的距離，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的高精縮倍率要求， 使所制作微光學(xué)器件的最小特征尺寸達(dá)到微米及亞微米量級(jí)。經(jīng)理論推導(dǎo)，可知光學(xué)系 統(tǒng)的橫向放大倍數(shù)為上式中，A為傅里葉變換透鏡的焦距，f2為物鏡的焦距，山是空間光調(diào)制器到傅里葉 變換透鏡之間的距離，d2是空間濾波器到物鏡之間的距離。為減少光學(xué)系統(tǒng)的尺寸，讓 d《〈f,。適當(dāng)選擇f!、f2、d,、d2的數(shù)值，可實(shí)現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)的高精縮倍率要求。比如令f產(chǎn)500mm、 f產(chǎn)5mm、 d產(chǎn)30ran、 d2=5mm，經(jīng)計(jì)算可知|3=0.01,即光學(xué)系統(tǒng)的縮放倍率為100 : 1;又如
令f產(chǎn)185mm、 f2-4. 64mm、 d產(chǎn)18. 5mm、 d產(chǎn)6咖，經(jīng)計(jì)算可知p=0. 025，即光學(xué)系統(tǒng)的縮放 倍率為40: 1。 一般空間光調(diào)制器單個(gè)像元的大小為2(Hun 3(^m，經(jīng)該光學(xué)系統(tǒng)精縮40 倍后，其像的大小為0.5拜 0.75拜，故該并行直寫系統(tǒng)可制作最小特征尺寸達(dá)到微米 及亞微米量級(jí)的微光學(xué)器件。本實(shí)用新型以拼接方式制作大尺寸微光學(xué)器件。 一般而言，單次曝光的面積為 0. lram2 lmm2數(shù)量級(jí)，對(duì)于具有較大尺寸的微光學(xué)器件，需要經(jīng)過多次曝光。利用圖形拼 接技術(shù)，通過移動(dòng)二維精密位移平臺(tái)，并由計(jì)算機(jī)控制同步切換空間光調(diào)制器上的顯示 圖形，以拼接的方式對(duì)整塊基片進(jìn)行曝光，從而制作大尺寸的微光學(xué)器件。本實(shí)用新型的微光學(xué)器件的面曝光強(qiáng)度分布，可認(rèn)為是空間光調(diào)制器上的原始圖形 和一個(gè)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)發(fā)生巻積作用所形成的結(jié)果，該點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)描述了微光學(xué)器件并行直 寫制作系統(tǒng)的光學(xué)特性。由于巻積具有濾波、平滑細(xì)微結(jié)構(gòu)的作用，因此可獲得非常光 滑的表面光潔度。另一方面，也正是由于這種巻積效應(yīng)，較好地克服了空間光調(diào)制器的 "黑柵"效應(yīng)。本實(shí)用新型采用逐個(gè)圖形曝光方式使其具有內(nèi)在的并行特性，每一次曝光面積相當(dāng) 于逐點(diǎn)曝光式激光直寫系統(tǒng)在數(shù)十分鐘內(nèi)才能完成的工作量，可大大提高直寫速度，縮 短生產(chǎn)周期，斷氏加工成本；采用高精縮倍率的投影光學(xué)系統(tǒng)，選擇像元尺寸小(比如 像元間距為20,)的空間光調(diào)制器可使所加工的微光學(xué)器件的最小特征尺寸達(dá)到微米甚 至亞微米量級(jí)；采用時(shí)間細(xì)分法擴(kuò)展曝光量的動(dòng)態(tài)范圍、實(shí)現(xiàn)光強(qiáng)調(diào)制細(xì)分，獲得曝光 劑量的高分辨率量化控制，并減小微光學(xué)器件深度加工誤差，可生產(chǎn)超精細(xì)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的、 連續(xù)輪廓的高性能微光學(xué)器件；利用圖形拼接技術(shù)，可制作大尺寸的微光學(xué)器件；該系 統(tǒng)所需的電尋址空間光調(diào)制器目前己大量商品化，其它器件購(gòu)買或研制的成本均較低， 可實(shí)現(xiàn)并行直寫設(shè)備的廉價(jià)化，且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠。

圖1為本實(shí)用新型的實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本實(shí)用新型的系統(tǒng)控制流程示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合實(shí)施例并對(duì)照附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明。 實(shí)施例1:如圖1所示，本微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)包括按下列順序在光軸線10上依次排
列的光源l、擴(kuò)束準(zhǔn)直器2、透射型電尋址空間光調(diào)制器3、傅里葉變換透鏡4、空間濾 波器5、物鏡6和二維精密位移平臺(tái)7。還包括機(jī)內(nèi)設(shè)有圖形生成軟件的計(jì)算機(jī)9，空間 濾波器5置于傅里葉變換透鏡4的后焦面上，空間光調(diào)制器3通過導(dǎo)線與計(jì)算機(jī)9的顯 示視頻擴(kuò)展輸出口連接，并由計(jì)算機(jī)9控制和輸入圖形信號(hào)。光源l為紫外光源，也可 以是He-Cd激光器。二維精密位移平臺(tái)7與計(jì)算機(jī)9相連，二維精密位移平臺(tái)7也可由 另一臺(tái)計(jì)算機(jī)控制。工作時(shí)涂有光刻膠的基片8置于二維精密位移平臺(tái)7上。選擇相應(yīng)的系統(tǒng)參數(shù)為單次曝光時(shí)間T^.05秒，時(shí)間細(xì)分倍數(shù)M40，則時(shí)間間隔 AT^.005秒，可見采用時(shí)間細(xì)分法實(shí)現(xiàn)光強(qiáng)調(diào)制細(xì)分，使光強(qiáng)調(diào)制倍數(shù)增大10倍，相 當(dāng)于空間光調(diào)制器3顯示的灰階值擴(kuò)展10倍；令傅里葉變換透鏡4的焦距f產(chǎn)185ram、物 鏡6的焦距f2=4. 64mm、空間光調(diào)制器3到傅里葉變換透鏡4之間的距離d產(chǎn)18. 5mm、空 間濾波器5到物鏡6之間的距離d2=6mm，經(jīng)計(jì)算可知p=0. 025，即本光學(xué)系統(tǒng)的縮放倍 率為40:1，空間光調(diào)制器采用透射型液晶顯示器LCD，型號(hào)為SVGA1。本實(shí)施例制作微光學(xué)器件的并行直寫制作過程為(1) .根據(jù)微光學(xué)器件的位相要求，換算出基片8上各點(diǎn)的曝光強(qiáng)度，由各點(diǎn)的曝光強(qiáng) 度確定透射型電尋址空間光調(diào)制器3上各像元的調(diào)制灰階值以及時(shí)間細(xì)分?jǐn)?shù)m;根據(jù)基片 8上某一點(diǎn)的曝光強(qiáng)度和光學(xué)系統(tǒng)中的光束強(qiáng)度，確定空間光調(diào)制器3上對(duì)應(yīng)像元顯示預(yù) 定灰階值的時(shí)間t產(chǎn)0.015秒，而時(shí)間間隔AT-0.005秒，故該像元的時(shí)間細(xì)分?jǐn)?shù)m-3;接 著該像元顯示0灰階值的時(shí)間t2=(M-m)xAT=(10-3)x0. 005=0. 035秒?；?上所有點(diǎn)均 按同樣方法處理。(2) .計(jì)算機(jī)9內(nèi)的圖形生成軟件根據(jù)所需制作的微光學(xué)器件類型和光學(xué)系統(tǒng)的相關(guān)參 數(shù)，自動(dòng)生成系列圖形，并經(jīng)顯示視頻擴(kuò)展輸出口將該系列圖形依次顯示在空間光調(diào)制 器3上；(3) .光源1發(fā)出的光經(jīng)擴(kuò)束準(zhǔn)直器2后成為平行光束，垂直射向空間光調(diào)制器3;(4) .空間光調(diào)制器3對(duì)光束進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制和時(shí)間細(xì)分調(diào)制；(5) .透過空間光調(diào)制器3的調(diào)制光束，經(jīng)傅里葉變換透鏡4、空間濾波器5和物鏡6 后，精縮成像于基片8上，并對(duì)基片8上的光刻膠涂層進(jìn)行曝光；(6) .移動(dòng)二維精密位移平臺(tái)7，并由計(jì)算機(jī)9控制同步切換空間光調(diào)制器3上的顯示 圖形，當(dāng)空間光調(diào)制器3上每切換顯示一幅圖形時(shí)，二維精密位移平臺(tái)7依據(jù)計(jì)算機(jī)9 給出的相應(yīng)指令，進(jìn)行x、 y兩方向的平移運(yùn)動(dòng)，并根據(jù)x、 y向測(cè)量單元得到的位移信 號(hào)，形成閉環(huán)控制，使二維精密位移平臺(tái)7在較短時(shí)間內(nèi)運(yùn)動(dòng)到下一個(gè)合適的位置，接著對(duì)一小塊面積的光刻膠進(jìn)行曝光。如此往復(fù)，依次將空間光調(diào)制器3上顯示的系列圖 形記錄于光刻膠的不同位置，從而以拼接的方式對(duì)整塊基片8進(jìn)行曝光。根據(jù)生成系列 圖形、空間光調(diào)制器3本身和系統(tǒng)中各部件的相關(guān)參數(shù)，可得到二維精密工作臺(tái)7在x、 y兩方向每次的位移量。系統(tǒng)的控制流程如圖3所示。 (7).對(duì)基片8進(jìn)行顯影、清洗及堅(jiān)膜等處理。如圖3所示，本實(shí)用新型的系統(tǒng)控制流程如下，上電后，系統(tǒng)自檢，若各子系統(tǒng)工 作不正常，就在計(jì)算機(jī)9上顯示錯(cuò)誤信息，系統(tǒng)停止工作。各子系統(tǒng)工作正常后，計(jì)算 機(jī)預(yù)先設(shè)定各子系統(tǒng)的基本工作參數(shù)。根據(jù)需要制作的微光學(xué)器件類型和要求，設(shè)置微 光學(xué)器件的相關(guān)參數(shù)。同時(shí)對(duì)基片8進(jìn)行預(yù)處理，在基片8上實(shí)施涂布光刻膠和烘干等 曝光前期處理過程。計(jì)算機(jī)9內(nèi)圖形生成軟件根據(jù)所需制作的微光學(xué)器件類型和光學(xué)系 統(tǒng)的相關(guān)參數(shù)，自動(dòng)生成系列圖形，并經(jīng)顯示視頻擴(kuò)展輸出口將該系列圖形依次顯示在 空間光調(diào)制器(SLM) 3上。當(dāng)空間光調(diào)制器3上每切換顯示一幅圖形時(shí)，二維精密位移 平臺(tái)7依據(jù)計(jì)算機(jī)9給出的相應(yīng)指令，進(jìn)行x、 y兩方向的平移運(yùn)動(dòng)，并根據(jù)x、 y向測(cè) 量單元得到的位移信號(hào)，形成閉環(huán)控制，使二維精密位移平臺(tái)7在較短時(shí)間內(nèi)運(yùn)動(dòng)到下 一個(gè)合適的位置，接著對(duì)一小塊面積的光刻膠進(jìn)行曝光，并由計(jì)算機(jī)9定時(shí)控制曝光時(shí) 間。如此往復(fù)，依次將空間光調(diào)制器3上顯示的系列圖形記錄于光刻膠的不同位置。根 據(jù)生成系列圖形、空間光調(diào)制器3本身和系統(tǒng)中各部件的相關(guān)參數(shù)，可得到二維精密位 移平臺(tái)7在x、 y兩方向每次的位移量，從而以拼接的方式對(duì)整塊基片8進(jìn)行曝光。曝光 完成后，對(duì)基片8進(jìn)行顯影、清洗及堅(jiān)膜等曝光后期處理過程。實(shí)施例2:如圖2所示，本微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，包括按下列順序在第一光軸線 12上依次排列的反射型電尋址空間光調(diào)制器3、分束器ll、傅里葉變換透鏡4、空間濾 波器5、物鏡6和二維精密位移平臺(tái)7，還包括在第二光軸線13上的光源1和擴(kuò)束準(zhǔn)直 器2，還包括機(jī)內(nèi)設(shè)有圖形生成軟件的計(jì)算機(jī)9，第一光軸線12和第二光軸線13在分束 器11處垂直相交，分束器11的法線與兩光軸線的夾角均為45°，空間濾波器5置于傅里 葉變換透鏡4的后焦面上，空間光調(diào)制器3通過導(dǎo)線與計(jì)算機(jī)9的顯示視頻擴(kuò)展輸出口 連接，并由計(jì)算機(jī)9控制和輸入圖形信號(hào)。光源l為紫外光源，也可以是He-Cd激光器。 二維精密位移平臺(tái)7與計(jì)算機(jī)9相連，二維精密位移平臺(tái)7也可由另一臺(tái)計(jì)算機(jī)控制。 工作時(shí)涂有光刻膠的基片8置于二維精密位移平臺(tái)7上。
選擇相應(yīng)的系統(tǒng)參數(shù)為單次曝光時(shí)間1=0.05秒，時(shí)間細(xì)分倍數(shù)M40，且時(shí)間間隔 AT^.005秒，可見采用時(shí)間細(xì)分法實(shí)現(xiàn)光強(qiáng)調(diào)制細(xì)分，使光強(qiáng)調(diào)制倍數(shù)增大10倍，相 當(dāng)于空間光調(diào)制器顯示的灰階值擴(kuò)展10倍；令f產(chǎn)185ram、 f2=4. 64mm、 d產(chǎn)18. 5ram、 d2=6mm， 經(jīng)計(jì)算可知P=0.025，即光學(xué)系統(tǒng)的縮放倍率為40:1。空間光調(diào)制器采用數(shù)字微鏡裝置 DMD，型號(hào)為XGA2。本實(shí)施例制作微光學(xué)器件的并行直寫制作過程為(1) .根據(jù)微光學(xué)器件的位相要求，換算出基片8上各點(diǎn)的曝光強(qiáng)度，由各點(diǎn)的曝光強(qiáng) 度確定空間光調(diào)制器上各像元的調(diào)制灰階值以及時(shí)間細(xì)分?jǐn)?shù)m;根據(jù)基片8上某一點(diǎn)的曝 光強(qiáng)度和光學(xué)系統(tǒng)中的光束強(qiáng)度，確定了空間光調(diào)制器3上對(duì)應(yīng)像元顯示預(yù)定灰階值的 時(shí)間t^0.015秒，而時(shí)間間隔AT-0.005秒，故該像元的時(shí)間細(xì)分?jǐn)?shù)m-3;接著該像元顯 示0灰階值的時(shí)間t2=(M-m)xAT=(10-3)xO. 005=0. 035秒?；?上所有點(diǎn)均按同樣方法 處理。(2) .計(jì)算機(jī)9內(nèi)的圖形生成軟件根據(jù)所需制作的微光學(xué)器件類型和光學(xué)系統(tǒng)的相關(guān)參 數(shù)，自動(dòng)生成系列圖形，并經(jīng)顯示視頻擴(kuò)展輸出口將該系列圖形依次顯示在空間光調(diào)制 器3上；(3) .光源1發(fā)出的光經(jīng)擴(kuò)束準(zhǔn)直器2后成為平行光束，射向分束器ll，由分束器ll 反射后垂直射向空間光調(diào)制器3;(4) .空間光調(diào)制器3對(duì)光束進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制和時(shí)間細(xì)分調(diào)制；(5) .由空間光調(diào)制器3反射的調(diào)制光束，經(jīng)分束器ll、傅里葉變換透鏡4、空間濾波 器5和物鏡6后，精縮成像于基片8上，并對(duì)基片8上的光刻膠涂層進(jìn)行曝光；(6) .移動(dòng)二維精密位移平臺(tái)7，并由計(jì)算機(jī)9控制同步切換空間光調(diào)制器3上的顯示 圖形，以拼接的方式對(duì)整塊基片8進(jìn)行曝光；(7) .對(duì)基片8進(jìn)行顯影、清洗及堅(jiān)膜等處理。
權(quán)利要求1、一種微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，其特征在于它包括按下列順序在光軸線上依次排列的由光源發(fā)出的光垂直照射的電尋址空間光調(diào)制器、傅里葉變換透鏡、空間濾波器、物鏡和二維精密位移平臺(tái)，還包括機(jī)內(nèi)設(shè)有圖形生成軟件的計(jì)算機(jī)，空間濾波器置于傅里葉變換透鏡的后焦面上，空間光調(diào)制器通過導(dǎo)線與計(jì)算機(jī)的顯示視頻擴(kuò)展輸出口連接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，其特征在于所述電尋 址空間光調(diào)制器為透射型電尋址空間光調(diào)制器，在光軸線上于透射型電尋址空間光調(diào)制 器前設(shè)有依次排列的光源和擴(kuò)束準(zhǔn)直器。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，其特征在于所述電尋 址空間光調(diào)制器為反射型電尋址空間光調(diào)制器，所述光軸線分為第一光軸線和第二光軸 線，反射型電尋址空間光調(diào)制器、傅里葉變換透鏡、空間濾波器、物鏡和二維精密位移 平臺(tái)按以上順序在第一光軸線上依次排列，在反射型電尋址空間光調(diào)制器和傅里葉變換 透鏡之間設(shè)有分柬器，在第二光軸線上設(shè)有依次排列的光源和擴(kuò)束準(zhǔn)直器，第一光軸線 和第二光軸線在分束器處垂直相交，分束器的法線與兩光軸線的夾角均為45°。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，其特征在于 所述二維精密位移平臺(tái)與所述計(jì)算機(jī)相連，或與另一臺(tái)計(jì)算機(jī)相連。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，其特征在于 所述光源是紫外光源或是He-Cd激光器。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種微光學(xué)器件高速并行直寫制作系統(tǒng)，旨在提供一種可采用逐個(gè)圖形進(jìn)行曝光的面曝光方式，使其具有內(nèi)在的并行特性，大大提高微光學(xué)器件的制作速度和精度，縮短生產(chǎn)周期，微光學(xué)器件特征尺寸可達(dá)到微米及亞微米量級(jí)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠，生產(chǎn)成本低的微光學(xué)器件并行直寫制作系統(tǒng)，它包括按下列順序在光軸線上依次排列的由光源發(fā)出的光垂直照射的電尋址空間光調(diào)制器、傅里葉變換透鏡、空間濾波器、物鏡和二維精密位移平臺(tái)，還包括機(jī)內(nèi)設(shè)有圖形生成軟件的計(jì)算機(jī)，空間濾波器置于傅里葉變換透鏡的后焦面上，空間光調(diào)制器通過導(dǎo)線與計(jì)算機(jī)的顯示視頻擴(kuò)展輸出口連接。
文檔編號(hào)G03F7/20GK201035320SQ20072006284
公開日2008年3月12日 申請(qǐng)日期2007年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月2日
發(fā)明者周春雷, 軍 張, 鍔 李, 沈少偉, 童慧鵬, 顏樹華 申請(qǐng)人:中國(guó)人民解放軍國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué)