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用于投影裝置的集光裝置的制作方法

文檔序號:2731194閱讀:165來源:國知局
專利名稱:用于投影裝置的集光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是關(guān)于一種用于一投影裝置的集光裝置,尤其是指一種制作簡易、且適 用于多光源投影裝置的集光裝置。
背景技術(shù)
一般而言,數(shù)字光處理(Digital Light Processing, DLP)投影系統(tǒng)包括有光源、 分光元件、合光元件和數(shù)字微鏡裝置(Digital Micromirror Device, DMD)等部件, 光線通過各個部件處理后,便能產(chǎn)生影像。而在數(shù)字光處理投影系統(tǒng)中,為了整合 光線并提升其均勻度,通常會在光源之后的光路徑上設(shè)置集光柱(integration rod)。 光線自光源射出后,便可進入集光柱,在集光柱內(nèi)部經(jīng)過多次反射后,再從集光柱 的出光面射出。借此,將光線整合并進一步均勻化。
長久以來,數(shù)字光處理投影系統(tǒng)有著光展量(6tendue)守恒的限制,意指僅 為有限的光源面積及光線角度內(nèi)始為有效光,造成亮度普遍不足的情況。為提高數(shù) 字光處理投影系統(tǒng)的亮度,可考慮采用多光源照明架構(gòu),利用提高光源數(shù)量,進而 增加光源面積及光線角度,以提高成像亮度。
為將多光源所發(fā)射的光線加以結(jié)合、并進而均勻化,集光柱的設(shè)計便更顯重要。 先前技術(shù)中,己揭露一種用于投影系統(tǒng)的多光源照明架構(gòu)及其集光裝置,如圖1A 及圖IB所示。此現(xiàn)有的照明架構(gòu)1包含有一第一光源11、 一第二光源13、 一第 一集光柱15、 一第二集光柱17以及一第三集光柱19。其中,第一光源ll與第二 光源13是相對設(shè)置,各個集光柱15、 17、 19分別具有入光面151、 171、 191及出 光面153、 173、 193,第一集光柱15與第二集光柱17還具有反射面155、 175。第 一光源U所發(fā)射的第一光線111通過入光面151進入第一集光柱15,并通過反射 面155反射后,于出光面153射出;同樣地,第二光源13的第二光線131通過入 光面171穿透進入第二集光柱17,并經(jīng)第二集光柱17的反射面175反射后,于出 光面173射出;于出光面153、 173射出的光線,隨即進入第三集光柱19中,并經(jīng)出光面193離開,然后投射至后端的其它光學(xué)元件。借此,便可將二不同光源的光 線整合、并加以均勻化,同時也減少因合光所需要的元件,進而減少光源系統(tǒng)整體 體積。
由于前述的集光裝置于結(jié)構(gòu)上頗為復(fù)雜,于制造上具有一定困難度。具體說, 由于此集光裝置的結(jié)構(gòu)是由三個集光柱加以組合,加上各集光柱尺寸極小,欲將第
一集光柱15及第二集光柱17結(jié)合至第三集光柱19上具有一定的技術(shù)難度。此外, 集光柱間的耦合不易,光路通過耦合部分的次數(shù)愈多,光損耗將愈大。此外,反射 面155、 175的面積小,精確地涂布(coating)反射材料十分不易。
另一方面,因數(shù)字光處理投影系統(tǒng)的數(shù)字微鏡裝置的長寬比具有一定的尺寸比 例(通常為4: 3、 16: 9或16: 10),設(shè)計時若欲使集光柱的出光面193符合數(shù) 字微鏡裝置的長寬比,以及考量光源受本身的限制,必須盡可能水平設(shè)置投影機內(nèi); 投影裝置內(nèi)部勢必設(shè)置額外的光學(xué)元件,以將光線正確投影至數(shù)字微鏡裝置,這不 但增加成本也會導(dǎo)致更多的光損耗。
而且,現(xiàn)有的集光裝置僅適以配合二光源使用,較難適用于多光源的投影裝置, 應(yīng)用上較不具彈性。
綜上所述,現(xiàn)有多光源照明架構(gòu)雖可配合二光源使用,然而集光裝置卻具有制 造難度高、及耦合光線易損耗等缺點。因此,提供一種可應(yīng)用于多光源照明的投影 裝置,且易于加工制造、集光效率高且尺寸小的集光裝置,為此業(yè)界所亟需。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一目的在于提供一種用于投影裝置的集光裝置,此集光裝置可整合多 個光源的光線,以提供投影裝置所需的亮度,并且符合數(shù)字微鏡裝置的尺寸比例, 及有效利用投影裝置的內(nèi)部空間。
本發(fā)明的另一 目的在于提供一種用于投影裝置的集光裝置,此集光裝置的結(jié)構(gòu) 簡單,故具有制作容易、成本較低等優(yōu)點。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種用于投影裝置的集光裝置,于此設(shè)計中,減少 光路通過集光柱間耦合部分的機會,故此集光裝置可大幅降低光耗損的風(fēng)險,進而 獲得較佳的光耦合效率。
為達上述目的,本發(fā)明的集光裝置包含一第一集光柱,其具有一本體部、 一縱
長方向、 一入光端部以及一出光端部。其中,入光端部包含一第一入射面及一第一 反射面,第一入射面與第一反射面相鄰且形成一夾角,而出光端部是相對于入光端 部。于實際使用時, 一第一光線適可通過入光端部的第一入射面穿透,進入集光柱 的本體部,循縱長方向朝出光端部行進;而一第二光線適可進入第一集光柱的本體 部,通過入光端部的第一反射面反射,循縱長方向朝出光端部行進。


通過以下參閱附圖對本發(fā)明具體實施方式
的描述,所屬技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識 者便可了解本發(fā)明的目的,以及本發(fā)明的技術(shù)手段及實施態(tài)樣;其中 圖1A是先前技術(shù)中,集光裝置與各光源的配置示意圖; 圖1B是圖1A的現(xiàn)有集光裝置的放大示意圖; 圖2A是本發(fā)明第一實施例的集光裝置的立體示意圖; 圖2B是根據(jù)圖2A的集光裝置,配合光源的光路示意圖; 圖3A是本發(fā)明第二實施例的集光裝置的立體示意圖; 圖3B是根據(jù)圖3A的集光裝置,配合光源的光路示意圖; 圖4A是本發(fā)明第三實施例的集光裝置的立體示意圖; 圖4B是根據(jù)圖4A的集光裝置,配合光源的光路示意圖; 圖5是根據(jù)圖3A的集光裝置的另一實施態(tài)樣的立體示意圖; 圖6A是根據(jù)圖4A的集光裝置的又一實施態(tài)樣的立體示意圖; 圖6B是根據(jù)圖6A的集光裝置,配合光源的光路示意圖; 圖7A是根據(jù)圖6A的集光裝置,入光端部的投影面示意圖; 圖7B是根據(jù)圖6A的集光裝置,出光端部的投影面示意圖; 圖8A是根據(jù)圖3A的集光裝置的又一實施態(tài)樣的立體示意圖;以及 圖8B是根據(jù)圖8A的集光裝置,配合光源的光路示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明揭露一種用于一投影裝置的集光裝置,于圖2A、 2B所示的第一實施例 中,投影裝置(圖未示出)包含一集光裝置2、 一第一光源20與一第二光源22, 其中,集光裝置2的立體圖如圖2A所示,集光裝置2配合光源的俯視圖則如圖2B
所示,須說明的是,本發(fā)明的附圖是示意元件間的關(guān)系,非用以限制各元件的尺寸。 此集光裝置2包含一第一集光柱21 ,用以收集并均勻化投影裝置中的第一光源20
與第二光源22所產(chǎn)生的光束。此外,于此實施例中,第一光源20與第二光源22 均為超高壓汞燈(Ultra High Pressure Lamp, UHP),但不以此為限,亦可采用其 他光源裝置。
第一集光柱21具有一本體部211、 一縱長方向213、 一入光端部215以及相對 于入光端部215的一出光端部217。本體部211是沿縱長方向213延伸;入光端部 215位于本體部211的一端,其包含一第一入射面215a、 一第一反射面215b及一 第二入射面215c,出光端部217包含一第一出射面217a。第一入射面215a與第一 反射面215b相鄰且形成一夾角,第二入射面215c恰與第一入射面215a垂直相交, 且斜向相對于第一反射面215b。于此實施例中,第一反射面215b上涂布有一反射 材料層,以具有反射的功效。
第一光源20產(chǎn)生的第一光線200適可通過入光端部215的第一入射面215a 穿透,進入第一集光柱21的本體部211,循著縱長方向213朝出光端部217行進; 而第二光源22產(chǎn)生的第二光線220則先通過第二入射面215c穿透,進入第一集光 柱21的本體部211后,適可通過入光端部215的第一反射面215b反射,改變行進 方向而循縱長方向213,以朝出光端部217行進。借此,第一光線200與第二光線 220便可加以均勻化。需注意的是,于此實施例中,各光源產(chǎn)生的光線均包含了一 主光線(chief ray)和一邊緣光線(marginal ray),以下敘述的各光線均僅采用主光線及 其行進方向以便說明。
本發(fā)明的第二實施例是進一步于第一實施例的第一集光柱21上形成另一集光 柱,以滿足多燈源的實施態(tài)樣。投影裝置(圖未示出)包含一集光裝置3、 一第一 光源30、 一第二光源32與一第三光源34。集光裝置3的立體圖如圖3A所示,集 光裝置3配合光源的俯視圖則如圖3B所示。此集光裝置3包含一第一集光柱31 與一第二集光柱33,第一集光柱31是用以收集并均勻化投影裝置中第一光源30 與第二光源32所產(chǎn)生的光束;第二集光柱33則用以收集并均勻化第三光源34所 產(chǎn)生的光束。第二集光柱33鄰設(shè)于第一集光柱31,于此實施例中,第一集光柱31 與第二集光柱33分別為具有切削角的集光柱;同樣地,第一光源30、第二光源32 與第三光源34可均為超高壓汞燈,但不以此為限。
具體說,第一集光柱31具有一第一本體部311、 一縱長方向313、 一第一入光 端部315、以及相對于第一入光端部315的一第一出光端部317。本體部311是沿 縱長方向313延伸;第一入光端部315位于本體部311的一端,其包含一第一入射 面315a、 一第一反射面315b及一第二入射面315c,第一出光端部317則包含一第 一出射面317a。第一入射面315a與第一反射面315b相鄰且形成一夾角,第二入 射面315c恰與第一入射面315a垂直相交,且斜向相對于第一反射面315b。其中, 第一反射面315b涂布有一反射材料層,以具有反射的功效。
第一光源30產(chǎn)生的第一光線300適可通過第一入光端部315的第一入射面 315a穿透,進入第一集光柱31的第一本體部311,循著縱長方向313,朝第一出 光端部317行進;而第二光源32產(chǎn)生的第二光線320則通過第二入射面315c穿透, 進入第一集光柱31內(nèi)部后,適可通過第一入光端部315的第一反射面315b反射, 改變行進方向而改循縱長方向313,以朝第一出光端部317行進。
而第二集光柱33具有一第二本體部331、 一第二入光端部335以及一第二出 光端部337。第二集光柱33的第二入光端部335具有一第三入射面335a與一第二 反射面335b,第二集光柱33的第二出光端部337則具有一第二出射面337a,其中 第二出射面337a是與第二反射面335b相對。第二反射面335b可涂布一反射材料 層,以具有反射的功效。借此,第三光源34產(chǎn)生的第三光線340通過第三入射面 335a進入第二集光柱33的第二本體部331后,適可通過第二反射面335b反射, 改變行進方向而循縱長方向313,朝第二出射面337a行進。
于此實施例中,第一出光端部317的第一出射面317a與第二出光端部337的 第二出射面337a是位于同一平面上,且第一集光柱31與第二集光柱33是一體, 故事實上,第一光線300、第二光線320于第一集光柱31中進行均勻化,而第三 光線340是于第二集光柱33中進行均勻化,經(jīng)二集光柱均勻化后的光線自同一平 面射出。此外,由于第一光線300與第二光線320在同一集光柱中行進,可避免集 光柱接合部分導(dǎo)致光損耗。而第二光源32與第三光源34恰錯置于相對側(cè),可有效 減小多光源的設(shè)置空間。此外,于此實施例中,以上各光線的敘述同樣均僅采用主 光線以便說明。
可想而知,本發(fā)明的集光裝置可與更多的光源配合使用。本發(fā)明的第三實施例 所揭示的投影裝置(圖未示出)包含一集光裝置4與一第一光源40、 一第二光源 42、 一第三光源44與一第四光源46,集光裝置4的立體圖如圖4A所示,而集光 裝置4配合這些光源的俯視圖則如圖4B所示。此集光裝置4包含一第一集光柱41 、 一第二集光柱43與一第三集光柱45,用以收集并均勻投影裝置中的第一光源40、 第二光源42、第三光源44與第四光源46所產(chǎn)生的光束。第二集光柱43鄰設(shè)于第 一集光柱41,且第三集光柱45則鄰設(shè)于第二集光柱43的另一側(cè)。于此實施例中, 第一集光柱41、第二集光柱43與第三集光柱45分別為具有切削角的集光柱;第 一光源40、第二光源42、第三光源44與第四光源46均可為超高壓汞燈,但不以 此為限。
第一集光柱41具有一第一本體部411、 一第一入光端部415以及與該第一入 光端部415相對的一第一出光端部417,并定義出一縱長方向413。第一本體部411 是沿縱長方向413延伸;第一入光端部415位于第一本體部411的一端,其包含一 第一入射面415a、 一第一反射面415b及一第二入射面415c,第一出光端部417包 含一第一出射面417a。第一入射面415a與第一反射面415b相鄰且形成一夾角, 第二入射面415c恰與第一入射面415a垂直相交,且斜向相對于第一反射面415b。 第一反射面415b涂布有一反射材料層,以具有反射的功效。
第一光源40產(chǎn)生的第一光線400適可通過第一入光端部415的第一入射面 415a穿透,進入第一集光柱41的第一本體部411,循著縱長方向413朝出第一出 光端部417行進;而第二光源42產(chǎn)生的第二光線420則通過第二入射面415c穿透, 進入第一本體部411后,適可通過第一入光端部415的第一反射面415b反射,改 變行進方向而改循縱長方向413,以朝第一出光端部417行進。
第二集光柱43具有一第二本體部431、 一第二入光端部435以及一第二出光 端部437。第二集光柱43的第二入光端部435具有一第三入射面435a與一第二反 射面435b,第二集光柱43的第二出光端部437則具有一第二出射面437a,其中第 二出射面437a是與第二反射面435b相對。第二反射面435b尚可涂布一反射材料 層,以具有反射的功效。借此,第三光源44產(chǎn)生的第三光線440通過第三入射面 435a進入第二集光柱43的第二本體部431后,適可通過第二反射面435b反射, 改變行進方向而循縱長方向413朝第二出射面437a行進。
第三集光柱45則具有一第三本體部451、 一第三入光端部455以及一第三出 光端部457。第三集光柱45的第三入光端部455具有一第四入射面455a與一第三
反射面455b,第三集光柱45的第三出光端部457則具有一第三出射面457a,其中 第三出射面457a是與第三反射面455b相對。第三反射面455b可涂布反射材料層, 以具有反射的功效。借此,第四光源46產(chǎn)生的第四光線460通過第四入射面455a 進入第三集光柱45的第三本體部451后,適可通過第三反射面455b反射,改變行 進方向而循縱長方向413朝第三出射面457a行進。
于此實施例中,第一出光端部417的第一出射面417a、第二出光端部437的 第二出射面437a與第三出光端部457的第三出射面457a是位于同一平面上,且第 一集光柱41、第二集光柱43與第三集光柱45是一體,故第一光線400與第二光 線420于第一集光柱41中進行均勻化,而第三光線440與第四光線460分別由第 二集光柱43與第三集光柱45中進行均勻化,經(jīng)三集光柱均勻化后的光線自同一平 面射出。此外,由于第一光線400與第二光線420是于同一集光柱中行進,可避免 集光柱接合部分的光損耗。第二光源42、第三光源44與第四光源46恰錯置于相 對側(cè),以減小多光源所需的設(shè)置空間。同樣地,于此實施例中各光線的敘述亦均僅 采用主光線以便說明。
須說明的是,前述反射面所涂布的反射材料層,皆可以反射鏡加以替代。如圖 5所示,以第二實施例為例,可于第一反射面315b上設(shè)置一第一反射鏡51,以利 進行光線的反射,并于第二反射面335b上設(shè)置一第二反射鏡53,以利進行光線的 反射。此外,上述各集光裝置亦可同時并用涂布反射材料層及設(shè)置反射鏡的反射面。
若進一步考量集光裝置于出射面所提供的光線分布,以配合數(shù)字微鏡裝置的尺 寸比例,上述各實施例可具有又一實施態(tài)樣。以第三實施例為例,此實施態(tài)樣的立 體圖如圖6A所示,集光裝置4'配合光源的俯視圖則如圖6B所示。第一集光柱41'、 第二集光柱43,與第三集光柱45,整體而言是斷面呈一矩形的錐體,自三者的入光 端部至出光端部具有一遞增的截面積。第一入射面與各個反射面(對應(yīng)于圖4A的 第一反射面415b、第二反射面435b與第三反射面455b)于垂直縱長方向的一投影 面的面積總和,是小于各個出射面(對應(yīng)于圖4A的第一出射面417a、第二出射面 437a與第三出射面457a)于垂直縱長方向的一投影面的面積,簡而言之,集光裝置 4'的入光端部的投影面是小于出光端部的投影面。
更明確而言,請參閱圖7A及圖7B,圖7A所示為集光裝置于入光端部的投影 面示意圖,而圖7B所示為集光裝置于出光端部的投影面示意圖,其中,第一入射
面415a、第一反射面415b、第二反射面435b與第三反射面455b所形成的投影面 701、 703、 705、 707,可使入光端部形成邊長實質(zhì)上比例為2: 1的矩形,而各個 集光柱的出光端部(出射面)所形成的投影面711、 713、 715、 717由于是等比例 遞增,則使該出光端部亦形成邊長實質(zhì)上比例為2: 1的矩形;為配合數(shù)字微鏡裝
置的各種規(guī)格,當(dāng)然亦可使入光端部及出光端部形成邊長實質(zhì)等比例的4: 3、 16: 9或16: IO的矩形;另外,亦可使入光端部形成邊長實質(zhì)上比例為16: 8的矩形, 而出光端部形成邊長實質(zhì)上為等比例為16: 9的矩形。上述實施態(tài)樣端視所配合的
數(shù)字微鏡裝置的規(guī)格而定,無論入光端部的尺寸為何,借助漸縮或漸擴的集光柱設(shè) 計,皆可使得出光端部可具有較佳的長寬比,現(xiàn)有此項技術(shù)亦可輕易推得具有不同 邊長比例的態(tài)樣。
除上述各實施例所描述的第二集光柱與第三集光柱的形態(tài),設(shè)于第一集光柱上 方的各集光柱(包含但不限于第二集光柱及/或第三集光柱)亦可為其他結(jié)構(gòu)型式,舉 例而言,其形狀可與上述各實施例的第一集光柱相同。以第二實施例為例,此實施
態(tài)樣的立體圖如圖8A所示,集光裝置3,配合光源的俯視圖則如圖8B所示。集光 裝置3'的第二集光柱33'亦鄰設(shè)于第一集光柱31,且第二集光柱33'同樣具有一第 二本體部331'、 一第二入光端部335'以及一第二出光端部337'。
然而,與第二實施例不同的是,采用此集光裝置3,的投影裝置除包含一第三 光源34',還可多采用一第四光源36,此外,第二集光柱33'的第二入光端部335' 具有一第三入射面335a,與一第二反射面335b';第二出光端部337'具有與第二反 射面335b,相對的一第二出射面337a';其中,第二反射面335b'可涂布一反射材料 層,以具有反射的功效。借此,第三光源34'產(chǎn)生的第三光線340'適可通過第二入 光端部335,的第三入射面335a,穿透,進入第二集光柱33,的第二本體部331,,循 縱長方向313,以朝第二出射面337a'行進。第四光源36產(chǎn)生的第四光線360亦可 進入第二集光柱33'的第二本體部331',通過第二入光端部335'的第二反射面335b' 反射,改變行進方向而改循縱長方向313,朝第二出光端部337'的第二出射面337a' 行進。
本發(fā)明的集光裝置可采用切削方式對單一集光柱進行加工,或者以一體成型的 方式,其工藝相對簡易。借此結(jié)構(gòu),光路不會因為接合面而減損光耦合效率。此外, 本發(fā)明僅采用單一集光柱便能均勻多個光源產(chǎn)生的光線,借助本發(fā)明的結(jié)構(gòu)設(shè)計,
各個光源適可相錯布置,大幅減少了光源設(shè)置的空間,使得采用此集光裝置的投影 裝置的整體尺寸更為縮小。
上述的實施例僅用來例舉本發(fā)明的實施態(tài)樣,以及闡釋本發(fā)明的技術(shù)特征,并 非用來限制本發(fā)明的范疇。任何熟悉此技術(shù)者可輕易完成的改變或均等性的安排均 屬于本發(fā)明所主張的范圍,本發(fā)明的權(quán)利保護范圍應(yīng)以本申請權(quán)利要求范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種用于一投影裝置的集光裝置,包含一第一集光柱,其特征在于該第一集光柱具有一縱長方向;一本體部,沿該縱長方向延伸;一入光端部,位于該本體部的一端并包含一第一入射面及一第一反射面,該第一入射面與該第一反射面相鄰且形成一夾角;以及一出光端部,位于該本體部上并位于該入光端部的相對端;其中,一第一光線適可通過該第一入射面穿透,進入該第一集光柱的本體部,循該縱長方向朝該出光端部行進;而一第二光線適可進入該第一集光柱的本體部,通過該入光端部的該第一反射面反射,循該縱長方向朝該出光端部行進。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的集光裝置,其特征在于該入光端部還包含一第二入射 面,該第二光線是通過該第二入射面穿透,進入該第一集光柱本體部。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的集光裝置,其特征在于該第一反射面上涂布有一反射 材料層。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的集光裝置,其特征在于還包含一第一反射鏡,其設(shè)于 該第一反射面上。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的集光裝置,其特征在于該第一集光柱是呈一錐體,自 該入光端部沿該縱長方向至該出光端部,具有一遞增的截面積。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的集光裝置,其特征在于該第一入射面與該第一反射面 于垂直該縱長方向的一投影面的面積總和,是小于該出光端部的一第一出射面于垂 直該縱長方向的一投影面的面積。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的集光裝置,其特征在于該第一出射面所形成的該投影 面為一矩形,且該矩形的長寬比為4:3、 16:9或16:10。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的集光裝置,其特征在于還包含一第二集光柱,其鄰設(shè) 于該第一集光柱,該第二集光柱具有一第二反射面、與該第二反射面相對的一第二 出射面,借此, 一第三光線可進入該第二集光柱的一本體部,通過該第二反射面反 射循該縱長方向朝該第二出射面行進。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的集光裝置,其特征在于還包含一第二集光柱,其鄰設(shè) 于該第一集光柱,該第二集光柱具有一第三入射面、 一第二反射面及與該第二反射 面相對的一第二出射面,借此, 一第三光線適可通過該第三入射面穿透,進入該第 二集光柱的一本體部,循該縱長方向朝該第二出射面行進;而一第四光線適可進入 該第二集光柱的本體部,通過該第二反射面反射,循該縱長方向朝該第二出射面行 進。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的集光裝置,其特征在于該第二反射面上涂布有 一反射材料層。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的集光裝置,其特征在于還包含一第二反射鏡, 其設(shè)于該第二反射面。
12. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的集光裝置,其特征在于該第二集光柱是呈一錐體。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的集光裝置,其特征在于該第一入射面、該第一反射 面及該第二反射面于垂直該縱長方向的一投影面的面積總和,是小于該出光端部的 一第一出射面及該第二出射面于垂直該縱長方向的一投影面的面積總和。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的集光裝置,其特征在于該第一出射面及該第二出射 面,所形成的該投影面為一矩形,且該矩形的長寬比為4:3、 16:9或16:10。
15. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的集光裝置,其特征在于該第一集光柱及該第二 集光柱是一體成形。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于投影裝置的集光裝置,該集光裝置至少包含一集光柱,其具有一本體部、一縱長方向、一入光端部以及一出光端部。入光端部包含一入射面及一反射面,入射面與反射面相鄰且形成一夾角;而出光端部與入光端部相對。其中,一第一光線適可通過入光端部的入射面穿透,進入集光柱的本體部,并循縱長方向朝出光端部行進,而一第二光線適可進入集光柱的本體部,通過入光端部的反射面反射并循縱長方向朝出光端部行進。
文檔編號G03B21/14GK101359157SQ200710141328
公開日2009年2月4日 申請日期2007年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月1日
發(fā)明者黃俊杰 申請人:臺達電子工業(yè)股份有限公司
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