專(zhuān)利名稱(chēng)：基板處理方法及基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)液晶顯示器等FPD (Flat Panel Display)用玻璃基板 及半導(dǎo)體基板等基板供給顯影液、蝕刻液等處理液以及漂洗液等洗凈液并進(jìn) 行處理的基板處理方法及基板處理裝置。
背景技術(shù)：
以往，作為基板的處理裝置(方法)，已知有在輸送基板的同時(shí)連續(xù)地 進(jìn)行以下工序的裝置(方法)，(1)在通過(guò)向水平姿態(tài)的基板供給處理液 而在該基板上形成液層的狀態(tài)下進(jìn)行處理的工序(液層形成工序)；(2) 將基板的姿態(tài)變換為傾斜姿態(tài)的工序(姿態(tài)變換工序)；(3)對(duì)傾斜姿態(tài) 的基板供給洗凈液來(lái)進(jìn)行洗凈的工序(洗凈工序)(專(zhuān)利文獻(xiàn)l: JP特開(kāi)平 11-87210公報(bào))。
這種裝置廣泛地適用于進(jìn)行例如基板的顯影處理的裝置中。即，在水平 姿態(tài)的基板上形成顯影液的液層并進(jìn)行顯影處理，此后，將基板變換為傾斜 姿態(tài)，使漂洗液沿基板流下，同時(shí)進(jìn)行洗凈，因此能夠提高顯影液和漂洗液 的轉(zhuǎn)換效率，高效地進(jìn)行洗凈處理。
在這種基板處理裝置中，從減少基板的生產(chǎn)成本及有效利用資源的觀點(diǎn) 進(jìn)行處理液的再使用，在進(jìn)行顯影處理的上述裝置中，通過(guò)預(yù)先在顯影部 (室)中進(jìn)行將基板變換為傾斜姿態(tài)的處理(姿態(tài)變換工序)，使基板上的 顯影液流下并將其回收，再使用。
但是，在如上述地顯影處理后，在將基板的姿態(tài)變換為適用于洗凈處理 的姿態(tài)之后將基板從顯影部搬入洗凈部的情況下，由于顯影液的流下容易在 基板的上位側(cè)產(chǎn)生干燥，在到開(kāi)始洗凈處理為止的期間內(nèi)，在基板的上位側(cè) 和下位側(cè)之間處理的進(jìn)行程度會(huì)有差異，可能會(huì)產(chǎn)生所謂的顯影不勻。特別 是在上位側(cè)與下位側(cè)的高低差較大的大型基板中發(fā)生的頻率更高。
在此，考慮通過(guò)在基板的姿態(tài)變換后，迅速將基板輸送到洗凈部并開(kāi)始 洗凈處理來(lái)防止基板的干燥方案，但在此情況下，在接收基板的洗凈部側(cè)也
需要提高基板的輸送速度，在洗凈部中的處理時(shí)間要縮短，勢(shì)必會(huì)有在洗凈 部中的處理時(shí)間較短，損害顯影液和漂洗液的置換效率的可能。此外，提高 輸送速度有可能使施加在基板上的損傷增加，不能說(shuō)是上策。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是解決上述問(wèn)題，提供一種無(wú)需特別地提高基板的輸送速 度，就能夠在防止所謂不均勻處理同時(shí)進(jìn)行高效率的處理的基板處理方法及 基板處理裝置。
為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明為一種基板處理方法，在輸送基板的同時(shí)， 依次進(jìn)行在第一處理部對(duì)水平姿態(tài)的基板供給處理液的第一處理、和在第二 處理部對(duì)傾斜姿態(tài)的基板供給處理液的第二處理，其特征在于，包括第一 姿態(tài)變換工序，在所述第一處理后，將基板從水平姿態(tài)變換為臨時(shí)傾斜姿態(tài)， 該臨時(shí)傾斜姿態(tài)是給定的傾斜姿態(tài)，斜度比作為適于所述第二處理的姿態(tài)而 預(yù)定的最終傾斜姿態(tài)?。惠斔凸ば?，將該臨時(shí)傾斜姿態(tài)的基板從第一處理部 向第二處理部輸送；第二姿態(tài)變換工序，在第二處理部，將基板的姿態(tài)從所 述臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換為所述最終傾斜姿態(tài)；基板處理工序，在第二姿態(tài)變換 工序后，對(duì)最終傾斜姿態(tài)的基板進(jìn)行所述第二處理。
由此，通過(guò)在第一處理后，使被搬入第二處理部為止的基板的姿態(tài)為比 適于第二處理的最終傾斜姿態(tài)斜度小的傾斜姿態(tài)(臨時(shí)傾斜姿態(tài))，能夠在 使基板上的處理液流下的同時(shí)抑制其干燥。即，通過(guò)將臨時(shí)傾斜姿態(tài)的斜度 設(shè)定為在顯影液能夠流下的范圍內(nèi)盡可能地小，能夠抑制基板表面的干燥。 并且，由于在第二處理部中，使基板在傾斜為理想的斜度的狀態(tài)(最終傾斜 姿態(tài))下進(jìn)行第二處理，因而能夠高效率地進(jìn)行該處理。
在該方法中，最好具有在所述第二姿態(tài)變換工序前，先于所述基板處理 工序而對(duì)以臨時(shí)傾斜姿態(tài)輸送的基板進(jìn)行所述第二處理的第一先行處理工 序。
此外，如果具有在所述基板處理工序前，對(duì)所述第二姿態(tài)變換工序中的 姿態(tài)變換中的基板進(jìn)行所述第二處理的第二先行處理工序也是有效的。
根據(jù)這些方法，能夠通過(guò)對(duì)是傾斜姿態(tài)而不是最終傾斜姿態(tài)的基板先實(shí) 施第二處理來(lái)得到一定的處理效果，此外，由于早期地開(kāi)始第二處理，所以
能夠更可靠地抑制基板表面的干燥。
在上述的方法中，最好在所述第一姿態(tài)變換工序中的基板的姿態(tài)變換 時(shí)，將基板的姿態(tài)暫時(shí)保持在斜度比所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)小的傾斜姿態(tài)，之后， 變換為所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)。
根據(jù)該方法，能夠延緩將基板從水平姿態(tài)向傾斜姿態(tài)變換時(shí)的處理液的 流動(dòng)，能夠抑制所謂流動(dòng)不勻(流路不勻)的發(fā)生。
此外，所述第一姿態(tài)變換工序及第二姿態(tài)變換工序可為使基板的姿態(tài)朝 向基板輸送方向而向左右某一側(cè)傾斜的工序，也可為使基板的姿態(tài)朝向基板 輸送方向傾斜的工序。由此，第一、第二姿態(tài)變換在朝向基板輸送方向而向 左右某一側(cè)傾斜這一點(diǎn)上是共通的，或者在向基板輸送方向傾斜這一點(diǎn)上是 共通的。
此外，本發(fā)明的基板處理裝置在基板的輸送方向上排列有向水平姿態(tài)的 基板供給處理液并實(shí)施第一處理的第一處理部和向傾斜姿態(tài)的基板供給處 理液并實(shí)施第二處理的第二處理部，對(duì)基板依次進(jìn)行所述第一處理和第二處 理，其特征在于，包括第一姿態(tài)變換裝置，其配備在所述第一處理部中， 在所述第一處理后，將基板從水平姿態(tài)變換為臨時(shí)傾斜姿態(tài)，該臨時(shí)傾斜姿 態(tài)為給定的傾斜姿態(tài)，斜度比作為適于所述第二處理的姿態(tài)而預(yù)定的最終傾 斜姿態(tài)??；傾斜輸送裝置，其將基板以所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)直接從第一處理部 向第二處理部輸送；第二姿態(tài)變換裝置及處理液供給裝置，其分別配備在第
二處理部中，該第二姿態(tài)變換裝置將基板的姿態(tài)從所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換為 所述最終傾斜姿態(tài)，該處理液供給裝置對(duì)由該第二姿態(tài)變換裝置變換為最終 傾斜姿態(tài)的基板供給處理液。
根據(jù)該裝置，通過(guò)向水平姿態(tài)的基板上供給處理液來(lái)實(shí)施第一處理，在 該第一處理結(jié)束后，通過(guò)第一姿態(tài)變換裝置將基板的姿態(tài)從水平姿態(tài)變換為 臨時(shí)傾斜姿態(tài)。該第一處理及基板的姿態(tài)變換在第一處理部中進(jìn)行。并且， 在基板以臨時(shí)傾斜姿態(tài)直接由傾斜輸送裝置從第一處理部輸送到第二處理 部后，由第二姿態(tài)變換裝置將基板的姿態(tài)從臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換為最終傾斜姿 態(tài)，該變換后，由處理液供給裝置向該基板供給處理液并進(jìn)行第二處理。因 此，能夠良好地實(shí)施本發(fā)明的基板處理方法。 ，.
在該裝置中，最好在所述第二處理部中，配備有在由所述處理液供給裝
置供給處理液前，對(duì)以臨時(shí)傾斜姿態(tài)輸送來(lái)的基板供給所述第二處理用的處 理液的第一先行處理液供給裝置。
此外，最好在所述第二處理部中，配備有在由所述處理液供給裝置供給 處理液前，對(duì)通過(guò)所述第二姿態(tài)變換裝置而處于姿態(tài)變換中的基板供給所述 第二處理用的處理液的第二先行處理液供給裝置。
通過(guò)這些裝置，能夠?qū)κ莾A斜姿態(tài)而不是最終傾斜姿態(tài)的基板，或者從 臨時(shí)傾斜姿態(tài)向最終傾斜姿態(tài)變換中的基板先進(jìn)行第二處理。因此，能夠良 好地實(shí)施本發(fā)明的基板處理方法。
此外，在上述各裝置中，最好所述第一姿態(tài)變換裝置將基板的姿態(tài)暫時(shí) 保持在斜度比所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)小的傾斜姿態(tài)，之后，變換為所述臨時(shí)傾斜 姿態(tài)。
通過(guò)該裝置，分二階段地階段性進(jìn)行由第一姿態(tài)變換裝置進(jìn)行的基板的 姿態(tài)變換。因此，能夠良好地實(shí)施本發(fā)明的基板處理方法。
此外，所述第一姿態(tài)變換裝置及第二姿態(tài)變換裝置可為使基板的姿態(tài)朝 向基板輸送方向而向左右某一側(cè)傾斜的裝置，也可為使基板的姿態(tài)向基板輸 送方向傾斜的裝置。由此，第一、第二姿態(tài)變換在朝向基板輸送方向而向左 右某一側(cè)傾斜這一點(diǎn)上是共通的，或者在向基板輸送方向傾斜這一點(diǎn)上是共 通的。
本發(fā)明由于在第一處理部和第二處理部中連續(xù)地進(jìn)行對(duì)水平姿態(tài)的基 板供給處理液的第一處理和對(duì)傾斜姿態(tài)的基板供給處理液的第二處理的情 況下，使在第一處理后而被搬入第二處理部為止的基板的姿態(tài)成為比適于所 述第二處理的最終傾斜姿態(tài)斜度小的傾斜姿態(tài)(臨時(shí)傾斜姿態(tài))，能夠在第 一處理后將基板傾斜并使處理液流下，同時(shí)有效地抑制從第一處理部向第二 處理部的基板輸送中的基板表面的干燥。從而，不需特別地提高基板的輸送 速度，就能夠在防止所謂處理不勻的發(fā)生的同時(shí)高效地進(jìn)行基板的處理。


圖1為本發(fā)明的基板處理裝置(使用本發(fā)明的基板處理方法的基板處理 裝置)的整體結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)要側(cè)視圖。
圖2為顯影處理室的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖3為顯影處理室的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖4為處理的進(jìn)行狀態(tài)與基板的姿態(tài)的關(guān)系的立體圖。
圖5為本發(fā)明的另一基板處理裝置(使用本發(fā)明的基板處理方法的基板 處理裝置)的整體結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)要側(cè)視圖。
圖6A 圖6D為本發(fā)明的另一基板處理裝置(使用本發(fā)明的基板處理方 法的基板處理裝置)的整體結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)要側(cè)視圖。
圖7A 圖7D為本發(fā)明的另一基板處理裝置(使用本發(fā)明的基板處理方 法的基板處理裝置)的整體結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)要側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
圖1為本發(fā)明的基板處理裝置(使用本發(fā)明的基板處理方法的基板處理 裝置)的整體結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。該基板處理裝置1在向矩形的LCD用玻璃基 板(以下只稱(chēng)為基板)S的表面供給作為處理液的顯影液并顯影處理后，供 給洗凈液并進(jìn)行洗凈處理。再者，顯影處理相當(dāng)于本發(fā)明的第一處理，洗凈 處理相當(dāng)于本發(fā)明的第二處理。
該基板處理裝置1具有接收基板S的加載室2、對(duì)基板S進(jìn)行顯影處理 的顯影處理室3 (相當(dāng)于本發(fā)明的第一處理部)、將顯影處理后的基板S洗 凈的洗凈處理室4 (相當(dāng)于本發(fā)明的第二處理部)、將洗凈后的基板S干燥 的干燥室5、用于將基板向下一工序送出的卸載室6。
在加載室2中，設(shè)置有輸送滾筒21，將基板2接收在該輸送滾筒21上， 以水平姿態(tài)輸送。
顯影處理室3被劃分為液層形成室3A和顯影準(zhǔn)備室3B，在液層形成室 3A中，向以水平姿態(tài)輸送的基板S的表面上供給顯影液并通過(guò)顯影液的表 面張力在基板S表面上形成顯影液的液層；在顯影準(zhǔn)備室3B中，保持形成 有顯影液的液層的基板S，并使利用液層的顯影液的處理進(jìn)行的同時(shí)，將處 理結(jié)束后的基板S的姿態(tài)從水平姿態(tài)變換為傾斜姿態(tài)。
在液層形成室3A中，設(shè)置有接收從加載室2輸送來(lái)的基板S并以水平 姿態(tài)輸送的輸送滾筒31，以及向由該輸送滾筒31以水平姿態(tài)輸送的基板一 S 的表面上供給顯影液，并在其表面(上表面)上形成顯影液的液層的顯影液
供給噴嘴32。貯存在顯影液罐11中的顯影液通過(guò)泵12向顯影液供給噴嘴
32供給。
圖2為顯影處理室3的簡(jiǎn)要立體圖。在顯影準(zhǔn)備室3B中，設(shè)置有接收 并保持基板S的輸送滾筒33，該基板S由輸送滾筒31從液層形成室3A被 輸送來(lái)，并形成有顯影液的液層。此外，設(shè)置有可將輸送滾筒33的姿態(tài)在 以水平姿態(tài)保持基板S的狀態(tài)和以朝向基板輸送方向左右的一方，本例中為 朝向右下方的傾斜姿態(tài)保持基板S的狀態(tài)之間切換的傾斜機(jī)構(gòu)34(相當(dāng)于本 發(fā)明的第一姿態(tài)變換裝置)。該傾斜機(jī)構(gòu)34包括以使輸送滾筒33的左右 可自由回轉(zhuǎn)的方式支撐輸送滾筒33的左右的滾筒架35、在朝向基板的輸送 前進(jìn)方向(基板輸送方向)的右側(cè)，以滾筒架35可自由回轉(zhuǎn)的方式軸承支 撐滾筒架35，且與基板輸送方向平行地設(shè)置的軸36、在朝向基板輸送方向 的左側(cè)與滾筒架35結(jié)合，使該滾筒架35的左側(cè)上升的氣缸37。 S卩，利用該 傾斜機(jī)構(gòu)34，在顯影準(zhǔn)備室3B中，在如同圖所示地使輸送滾筒33處于水 平姿態(tài)，接收從液層形成室3A通過(guò)輸送滾筒31以水平姿態(tài)輸送來(lái)的基板S 后，能夠在如圖3所示地使氣缸37伸長(zhǎng)而使輸送滾筒33傾斜，使基板S以 朝向基板輸送方向向右下方傾斜的狀態(tài)，在保持為后述那樣的斜度的狀態(tài)下 輸送基板S。
此外，在液層形成室3A及顯影準(zhǔn)備室3B的室下方，如圖1所示地設(shè)置 有回收顯影液的托盤(pán)T1、 T2，將由這些器皿T1、 T2回收的顯影液向顯影液
罐11回收并再利用。
洗凈處理室4被劃分為洗凈準(zhǔn)備室4A和最終洗凈室4B。在洗凈準(zhǔn)備室 4A中，接收以?xún)A斜姿態(tài)從顯影處理室3 (顯影準(zhǔn)備室3B)輸送來(lái)的基板S， 在通過(guò)向該基板S供給洗凈液來(lái)洗凈該基板S的同時(shí)，將基板S的姿態(tài)進(jìn)一 步變換為斜度更大的傾斜姿態(tài)；在最終洗凈室4B中，接收姿態(tài)變換后的基 板S，并以?xún)A斜姿態(tài)輸送該基板S，同時(shí)通過(guò)向該基板S供給處理液對(duì)基板S 進(jìn)行進(jìn)一步洗凈。
在洗凈準(zhǔn)備室4A中，設(shè)置有接收并保持以?xún)A斜姿態(tài)從顯影準(zhǔn)備室3B 輸送來(lái)的基板S的輸送滾筒41、和向基板S的上表面及下表面供給洗凈液的 噴淋型洗凈液供給噴嘴43、 44 (本發(fā)明的第一及第二先行處理液供給裝置)。 各洗凈液供給噴嘴43、 44與超純水供給源45相連接。
在洗凈準(zhǔn)備室4A中，還設(shè)置有將輸送滾筒41的姿態(tài)切換到能夠從顯影 準(zhǔn)備室3B接收基板S的傾斜姿態(tài)、和比該姿態(tài)斜度更大的傾斜姿態(tài)的未圖 示的傾斜機(jī)構(gòu)(相當(dāng)于本發(fā)明的第二姿態(tài)變換裝置)。由于該傾斜機(jī)構(gòu)為與 所述顯影準(zhǔn)備室3B的傾斜機(jī)構(gòu)34相同的機(jī)構(gòu)，省略其詳細(xì)說(shuō)明。再者，在 本實(shí)施例中，由所述輸送滾筒33、 41及傾斜機(jī)構(gòu)34等構(gòu)成本發(fā)明的傾斜輸 送機(jī)構(gòu)。
在此，在洗凈準(zhǔn)備室4A中變換后的基板S的斜度(水平面與基板上表 面所成的角度)被設(shè)置為根據(jù)洗凈液的液種及基板S的種類(lèi)的關(guān)系，最適合 洗凈處理的斜度，即預(yù)先根據(jù)試驗(yàn)等求得的最高效地進(jìn)行顯影液和洗凈液的 置換的斜度(本實(shí)施例中為3。 9。)。與其相對(duì)應(yīng)，所述的在顯影準(zhǔn)備室3B 中變換后的基板S的斜度被設(shè)定為預(yù)先根據(jù)試驗(yàn)等求得的雖然在基板S上形 成的顯影液流下來(lái)但基板表面仍然濕潤(rùn)而不干燥的斜度(本實(shí)施例中為0° 5°)。即，顯影處理后，使基板S傾斜從而使處理液流下，同時(shí)有效地抑制 從顯影處理室3向洗凈處理室4輸送基板過(guò)程中的基板表面的干燥，并且， 在洗凈處理室4中，通過(guò)使基板S的姿態(tài)成為最適合洗凈處理的斜度，能夠 良好地發(fā)揮顯影液與洗凈液的置換性。再者，在以下的說(shuō)明中，根據(jù)需要， 將在顯影準(zhǔn)備室3B中變換后的基板S的姿態(tài)稱(chēng)為"臨時(shí)傾斜姿態(tài)"，將在 洗凈準(zhǔn)備室4A中變換后的基板S姿態(tài)稱(chēng)為"最終傾斜姿態(tài)"。
最終洗凈室4B具有接收姿態(tài)變換后由輸送滾筒41從洗凈準(zhǔn)備室4A輸 送來(lái)的基板S并以相同姿態(tài)輸送該基板S的輸送滾筒47，對(duì)由輸送滾筒47 以?xún)A斜姿態(tài)輸送的基板S的上表面供給洗凈液的洗凈液供給噴嘴48、對(duì)基板 S的下表面供給洗凈液的洗凈液供給噴嘴49。這些洗凈液噴嘴48、 49 (本發(fā) 明的處理液供給裝置)與上述超純水源45相連接。
干燥室5具有接收從洗凈室45輸送來(lái)的基板S并以相同姿態(tài)輸送該基 板S的輸送滾筒51、對(duì)由輸送滾筒51以?xún)A斜姿態(tài)輸送的基板S的上表面噴 吹空氣，將洗凈液吹散并干燥的氣刀52、對(duì)基板S的下表面噴吹空氣，將洗 凈液吹散并干燥的氣刀53。這些氣刀52、 53與空氣供給源55連接。
在卸載室6中，設(shè)置有接收并保持由輸送滾筒51從干燥室5輸送基板S 的輸送滾筒61。此外，在卸載室6中，設(shè)置有能夠?qū)⑤斔蜐L筒61的姿態(tài)切 換到將基板S以水平姿態(tài)保持的狀態(tài)、和以朝向基板輸送方向向右下方傾斜
姿態(tài)保持的狀態(tài)的未圖示的傾斜機(jī)構(gòu)。即，將從干燥室接收的傾斜姿態(tài)的基 板S通過(guò)該傾斜機(jī)構(gòu)變換為水平姿態(tài)，向下一工序送出。由于該傾斜機(jī)構(gòu)的
結(jié)構(gòu)與設(shè)置在顯影準(zhǔn)備室3B的傾斜機(jī)構(gòu)34同樣，省略其詳細(xì)說(shuō)明。
再者，雖圖l中未示出，但各室以處理液的霧氣不相互浸入的狀態(tài)由隔 壁被分隔開(kāi)。此外，在該基板處理裝置l中，設(shè)置有將其動(dòng)作總體地控制的 控制器，由未圖示的控制器控制包括各輸送滾筒21、 31、 33、 41、 47、 51、 61的驅(qū)動(dòng)、傾斜機(jī)構(gòu)34等動(dòng)作、及顯影液等的供給停止等基板處理裝置1 整體的動(dòng)作。
以下，參照?qǐng)D1、圖4對(duì)根據(jù)該控制器的基板處理裝置1的動(dòng)作(基板 處理方法)和其作用一同進(jìn)行說(shuō)明。
從未圖示的基板供給裝置向加載室2供給的基板S由輸送滾筒21以水 平姿態(tài)輸送，交接到液層形成室3A的輸送滾筒31上，送入顯影處理室3中。 然后，以一定速度通過(guò)液層形成室3A內(nèi)，其間中從顯影液供給噴嘴32向基 板S的表面供給顯影液，利用顯影液的表面張力在基板S表面上形成顯影液 的液層。
在液層形成室3A中形成了顯影液的液層的狀態(tài)的基板S從輸送滾筒31 向輸送滾筒33交接并輸送到顯影準(zhǔn)備室3B。送入顯影準(zhǔn)備室3B的基板S 由于輸送滾筒33的停止而暫時(shí)成為靜止?fàn)顟B(tài)。其間，由形成于其上表面的 液層的顯影液進(jìn)行處理，進(jìn)行所謂浸漬顯影(A K》現(xiàn)像)。
在進(jìn)行一定時(shí)間這種浸漬顯影后，接著使傾斜機(jī)構(gòu)34的氣缸37伸長(zhǎng)， 使輸送滾筒33傾斜。由此，基板S從水平姿態(tài)變換為向基板輸送方向右側(cè) 傾斜的臨時(shí)傾斜姿態(tài)(相當(dāng)于本發(fā)明的第一姿態(tài)變換工序)。
通過(guò)該基板S的姿態(tài)變換，基板S上表面的液層的顯影液幾乎全部流下， 而回收到下方的托盤(pán)T2中。g卩，顯影液幾乎不會(huì)被帶到后一工序地在顯影 處理室3內(nèi)被再利用。
在顯影準(zhǔn)備室3B中呈臨時(shí)傾斜姿態(tài)地由輸送滾筒33輸送來(lái)基板S直接 以同樣的傾斜姿態(tài)向洗凈準(zhǔn)備室4A的輸送滾筒41交接而被送入洗凈處理室 4 (相當(dāng)于本發(fā)明的輸送工序)。再者，基板S從顯影處理室3直接以臨時(shí) 傾斜姿態(tài)向洗凈處理室4輸送，但此時(shí)的基板S的斜度如上所述地設(shè)定為基 板S的表面不會(huì)干燥的斜度(0° 5°)，因此，從顯影處理室3向洗凈處理
室4的輸送不是特別地以高速進(jìn)行，而是以與其它的輸送動(dòng)作大致相同的速 度進(jìn)行。
當(dāng)基板S完全地送入洗凈準(zhǔn)備室4A中時(shí)，輸送滾筒41停止，接著傾斜 機(jī)構(gòu)的氣缸(未圖示)伸長(zhǎng)，輸送滾筒41進(jìn)一步傾斜，由此基板S的姿態(tài) 從臨時(shí)傾斜姿態(tài)(0° 5°)變換到最終傾斜姿態(tài)(3° 9°)(相當(dāng)于本發(fā)明的 第二姿態(tài)變換工序)。此外，在與該傾斜機(jī)構(gòu)的動(dòng)作大致同時(shí)，從洗凈液供 給噴嘴43、 44對(duì)于基板S的上表面及下表面供給洗凈液，由此在姿態(tài)變換 中基板S被洗凈(相當(dāng)于本發(fā)明的第二先行處理工序)。
向最終傾斜姿態(tài)的基板S的姿態(tài)變換結(jié)束后，基板S從輸送滾筒41向 最終洗凈室4B的輸送滾筒47交接，直接以最終傾斜姿態(tài)在恒定速度下輸送。 在最終洗凈室4B中，從洗凈液供給噴嘴48、 49對(duì)基板S的上表面及下表面 供給洗凈液來(lái)進(jìn)行洗凈(相當(dāng)于本發(fā)明的基板處理工序)。此時(shí)，洗凈液沿 傾斜的基板S快速地向下側(cè)流下，洗凈液不在基板S的中央部附近滯留而在 短時(shí)間內(nèi)充分地被洗凈掉。特別是由于此時(shí)的基板S的斜度如上所述地設(shè)定 為最高效地進(jìn)行顯影液與洗凈液的置換的斜度(最終傾斜姿態(tài))，所以可進(jìn) 行高效率的洗凈。
從洗凈處理室4以?xún)A斜姿態(tài)由輸送滾筒47輸送來(lái)的基板S直接以相同 的傾斜姿態(tài)向輸送滾筒51交接并向干燥室5輸送。在干燥室5中，從氣刀 52、 53向以?xún)A斜姿態(tài)被輸送的基板S的上表面及下表面噴吹空氣，由此洗凈 液被吹走并進(jìn)行干燥。
從干燥室5由輸送滾筒51輸送來(lái)的基板S以相同的傾斜姿態(tài)直接向輸 送滾筒61交接并向卸載室6輸送。然后，在完全送入卸載室6內(nèi)時(shí)，由傾 斜機(jī)構(gòu)將基板S從傾斜姿態(tài)變換為水平姿態(tài)。然后，在該姿態(tài)變換動(dòng)作后， 通過(guò)輸送滾筒61的驅(qū)動(dòng)將基板S向未圖示的下一工序送出。再者，基板S 的位置可通過(guò)輸送滾筒等的驅(qū)動(dòng)時(shí)間來(lái)識(shí)別，也可在各處理室的出入口上設(shè) 置檢測(cè)基板S的通過(guò)的傳感器來(lái)識(shí)別。
如上所述，在該基板處理裝置1 (基板處理方法)中，顯影處理后，不 是將基板S的姿態(tài)直接變換為適于洗凈處理的姿態(tài)(最終傾斜姿態(tài))，而是 暫時(shí)變換為比該最終傾斜姿態(tài)斜度小的臨時(shí)傾斜姿態(tài)，即在顯影液流下的同 時(shí)能夠防止基板S干燥的傾斜度的姿態(tài)，在該狀態(tài)下直接從顯影處理室3向
洗凈處理室4輸送基板S。因此，如上所述，從顯影處理室3向洗凈處理室 4的輸送不是以高速進(jìn)行，能夠有效地防止該輸送中的基板S的干燥。
從而， 一方面可以得到在向傾斜姿態(tài)的基板S供給洗凈液的同時(shí)有效地 進(jìn)行基板S的洗凈處理的效果，另一方面，還可以在沒(méi)有基板輸送的高速化 風(fēng)險(xiǎn)的情況下有效地防止顯影處理后到洗凈處理開(kāi)始為止的伴隨著基板S表 面的干燥而產(chǎn)生的顯影不勻的現(xiàn)象發(fā)生。
特別是在該基板處理裝置1中，由于在洗凈準(zhǔn)備室4A中基板S從臨時(shí) 傾斜姿態(tài)變換到最終傾斜姿態(tài)的期間，由洗凈液供給噴嘴43、 44供給洗凈 液，由此先行于在最終洗凈室4B中的洗凈處理而進(jìn)行洗凈處理，這樣能夠 進(jìn)一步可靠地防止從顯影處理后到以最終傾斜姿態(tài)的洗凈處理開(kāi)始為止期 間內(nèi)基板表面發(fā)生干燥，此外還具有能夠更早期地開(kāi)始基板S的洗凈處理從 而得到更好的洗凈處理效果的優(yōu)點(diǎn)。
此外，以上說(shuō)明了的基板處理裝置1 (基板處理方法)為本發(fā)明的基板 處理裝置(基板處理方法)的具體的實(shí)施形式的例示，基板處理裝置的具體 的結(jié)構(gòu)、或基板處理方法可在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)適當(dāng)變更。例如 也可采用以下的結(jié)構(gòu)(方法)。
(1)作為圖1所示的基板處理裝置1的洗凈處理室4，也可采用圖5所 示的洗凈處理室4。該洗凈處理室4除了具有洗凈準(zhǔn)備室4A、最終洗凈室 4B以外，還在洗凈準(zhǔn)備室4A的上游側(cè)具有先行處理室4A'的結(jié)構(gòu)。在該先 行處理室4A，中，設(shè)置有接收并保持從顯影準(zhǔn)備室以?xún)A斜姿態(tài)輸送基板S的 輸送滾筒40、和可從輸送方向上游側(cè)朝向下游側(cè)對(duì)由該輸送滾筒40輸送的 基板S的表面大量供給或高壓供給洗凈液的例如狹縫型的洗凈液供給噴嘴 42 (相當(dāng)于本發(fā)明的第一先行處理液供給裝置)。即，在該基板處理裝置1 中，為更先行于洗凈準(zhǔn)備室4A、最終洗凈室4B中的洗凈處理進(jìn)行基板S的 洗凈處理的結(jié)構(gòu)(相當(dāng)于本發(fā)明的第二先行處理工序)。根據(jù)這種裝置，由 于能夠立即對(duì)從顯影準(zhǔn)備室3B送出的基板S進(jìn)行洗凈處理，所以在防止基 板表面干燥，確保洗凈時(shí)間上與圖1的裝置相比是有利的。在此情況下，雖 然圖中沒(méi)有特別記載，在上述的洗凈液供給噴嘴42的下游側(cè)，從輸送方向 下游側(cè)朝向上游側(cè)與所述噴嘴42對(duì)置地配置有向基板S供給洗凈液的狹縫 型的洗凈液供給噴嘴，此外如果具有對(duì)這些噴嘴之間的基板S向其傾斜上位
側(cè)的位置供給洗凈液的洗凈液供給噴嘴則更好。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)能夠在防止污 染再次附著的同時(shí)洗凈基板s。
此外，也可例如在圖1的洗凈準(zhǔn)備室4A中與洗凈液供給噴嘴43、 44分 開(kāi)地在基板接收口附近設(shè)置狹縫型的洗凈液供給噴嘴，由該洗凈液供給噴嘴 向從顯影處理室3向洗凈準(zhǔn)備室4A輸送來(lái)的基板S上供給洗凈液，以替代 圖5那樣在洗凈處理室4中另行設(shè)置先行處理室4A，。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)能夠得 到與圖5同樣的效果。
(2) 在實(shí)施例中，在洗凈準(zhǔn)備室4A中由洗凈液供給噴嘴43、 44對(duì)于 從臨時(shí)傾斜姿態(tài)向最終傾斜姿態(tài)的姿態(tài)變換中的基板S供給洗凈液，但也可 將其省略以實(shí)現(xiàn)裝置的簡(jiǎn)單化。即也可在洗凈準(zhǔn)備室4A中僅進(jìn)行基板S的 姿態(tài)變換。
(3) 也可在顯影準(zhǔn)備室3B中在將基板S從水平姿態(tài)向臨時(shí)傾斜姿態(tài)(斜 度2°)變換的過(guò)程中使基板S暫時(shí)靜止(例如斜度1.5°的姿態(tài))并保持該姿 態(tài)，此后將基板傾斜到臨時(shí)傾斜姿態(tài)。如此，將基板S從水平姿態(tài)向臨時(shí)傾 斜姿態(tài)變換時(shí)的顯影液的流動(dòng)變得緩慢，具有能夠抑制所謂流動(dòng)不勻(流路 不勻)的產(chǎn)生的優(yōu)點(diǎn)。
(4) 此外，在圖1的基板處理裝置1中，基板S的傾斜姿態(tài)為朝向基 板輸送方向左右一方側(cè)(即基板S的寬度方向)傾斜的姿態(tài)，但也可向基板 輸送方向傾斜。圖6A 圖6D及圖7A 圖7D簡(jiǎn)要地示出了此場(chǎng)合的顯影處 理室3及洗凈處理室4的結(jié)構(gòu)。
首先對(duì)圖6A 圖6D的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。如圖6A所示，在顯影準(zhǔn)備室3B 中，設(shè)置有將輸送滾筒33的姿態(tài)(各輸送滾筒33的排列方向)切換到將基 板S以水平姿態(tài)輸送的狀態(tài)、和朝向基板輸送方向前端向上的傾斜姿態(tài)輸送 的狀態(tài)的傾斜機(jī)構(gòu)。該傾斜機(jī)構(gòu)雖未詳細(xì)地圖示，包括以使輸送滾筒33的 左右自由旋轉(zhuǎn)的方式支撐該輸送滾筒33的左右的滾筒架；在基板輸送方向 的后端，以使?jié)L筒架可自由回轉(zhuǎn)地軸承支撐該滾筒架且與基板輸送方向垂直 相交地設(shè)置的軸；在基板輸送方向的前端部與滾筒結(jié)合，使該滾筒架的前端 升降的氣缸71構(gòu)成，在如同圖所示地使輸送滾筒33為水平姿態(tài)并接收從液 層形成室3A以水平姿態(tài)輸送來(lái)的基板S后，使氣缸71伸長(zhǎng)，將滾筒架傾斜， 能夠在將基板S變換為朝向基板輸送方向前端向上傾斜的狀態(tài)，即臨時(shí)傾斜
姿態(tài)(斜度0 5°)的狀態(tài)下輸送。
另一方面，在洗凈處理室4的洗凈準(zhǔn)備室4A中設(shè)置有能夠使輸送滾筒 41的姿態(tài)(各輸送滾筒41的排列方向)切換到將基板S以臨時(shí)傾斜姿態(tài)輸 送的狀態(tài)、和朝向基板輸送方向更大斜度的前端向上的傾斜姿態(tài)、即最終傾 斜狀態(tài)(斜度3 9°)輸送的狀態(tài)的傾斜機(jī)構(gòu)。此外，在最終洗凈室4B中， 設(shè)置有能夠使輸送滾筒47的姿態(tài)(各輸送滾筒47的排列方向)切換到將基 板S以朝向基板輸送方向前端向上的最終傾斜姿態(tài)輸送的狀態(tài)、和以水平姿 態(tài)輸送的狀態(tài)的傾斜機(jī)構(gòu)。再者，洗凈準(zhǔn)備室4A和最終洗凈室4B的各傾斜 機(jī)構(gòu)基本上與顯影準(zhǔn)備室3B的傾斜機(jī)構(gòu)相同，分別由氣缸72、 73驅(qū)動(dòng)。
根據(jù)該圖6A 圖6D所示的基板處理裝置1,在液層形成室3A中形成了 顯影液的液層的狀態(tài)的基板S如同圖6A所示地從輸送滾筒31向輸送滾筒 33交接，向顯影準(zhǔn)備室3B輸送并供浸漬顯影。并且，在通過(guò)傾斜機(jī)構(gòu)的氣 缸71的伸長(zhǎng)從水平姿態(tài)向基板輸送方向前端向上地傾斜的臨時(shí)傾斜姿態(tài)變 換后(圖6B)，由輸送滾筒33輸送，以?xún)A斜姿態(tài)直接向洗凈準(zhǔn)備室4A的 輸送滾筒41交接，并向洗凈處理室4送入。
在基板S完全被送入洗凈準(zhǔn)備室4A后，輸送滾筒41停止，基板S的姿 態(tài)通過(guò)傾斜機(jī)構(gòu)的氣缸72的伸長(zhǎng)而從臨時(shí)傾斜姿態(tài)向最終傾斜姿態(tài)變換(圖 6C)，然后，由輸送滾筒41輸送，并直接以最終傾斜姿態(tài)向輸送滾筒47交 接，然后送入最終洗凈室4B。并且，在最終洗凈室4B中在最終傾斜姿態(tài)的 狀態(tài)下進(jìn)行洗凈處理后，通過(guò)傾斜機(jī)構(gòu)的氣缸73的收縮，基板S的姿態(tài)從 最終傾斜姿態(tài)向水平姿態(tài)變換(圖6D)，通過(guò)從輸送滾筒47向輸送滾筒51 交接而向干燥室5輸送。
以下，對(duì)圖7A 圖7D的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。
如圖7A所示，顯影處理室3的結(jié)構(gòu)與圖6A 圖6D的結(jié)構(gòu)通用。 在洗凈處理室4的洗凈準(zhǔn)備室4A中，設(shè)置有能夠使輸送滾筒41的姿態(tài) (各輸送滾筒41的排列方向)切換到將基板S以輸送方向前端向上的臨時(shí) 傾斜姿態(tài)輸送的狀態(tài)、和朝向基板輸送方向前端向下的最終傾斜狀態(tài)(斜度 3° 9°)輸送的狀態(tài)的傾斜機(jī)構(gòu)。此外，在最終洗凈室4B中，設(shè)置」有能夠使 輸送滾筒47的姿態(tài)(各輸送滾筒47的排列方向)切換到將基板S以朝向基 板輸送方向前端向下的最終傾斜姿態(tài)輸送的狀態(tài)、和以水平姿態(tài)輸送的狀態(tài)
的傾斜機(jī)構(gòu)。
此外，最終洗凈室4B及最終洗凈室4B的各傾斜機(jī)構(gòu)基本上與圖6A 圖6D中說(shuō)明了的洗凈室及傾斜機(jī)構(gòu)相同，但對(duì)于最終洗凈室4B，如同圖所 示，有如下結(jié)構(gòu)不同，即在基板輸送方向的前端，滾筒架可自由回轉(zhuǎn)地被軸 承支撐，在基板輸送方向的后端，滾筒架與氣缸73結(jié)合。
根據(jù)該圖7A 圖7D所示的基板處理裝置1，形成有顯影液的液層的狀 態(tài)的基板S如同圖7A、圖7B所示地在從水平姿態(tài)向基板輸送方向前端向上 地傾斜的臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換后，由輸送滾筒33輸送，以?xún)A斜姿態(tài)直接從顯 影準(zhǔn)備室3B向洗凈準(zhǔn)備室4A的輸送滾筒41交接，并向洗凈處理室4送入。
在基板S完全被送入洗凈準(zhǔn)備室4A后，輸送滾筒41停止，基板S的姿 態(tài)通過(guò)傾斜機(jī)構(gòu)的氣缸72的收縮從前端向上的臨時(shí)傾斜姿態(tài)向前端向下的 最終傾斜姿態(tài)變換(圖7C)，再通過(guò)輸送滾筒41輸送，以最終傾斜姿態(tài)直 接向輸送滾筒47交接，并向最終洗凈室4B送入。然后，在最終洗凈室4B 中以最終傾斜姿態(tài)的狀態(tài)進(jìn)行洗凈處理后，通過(guò)傾斜機(jī)構(gòu)的氣缸73的收縮 將基板S的姿態(tài)從最終傾斜姿態(tài)向水平姿態(tài)變換(圖7D)，通過(guò)從輸送滾 筒47向輸送滾筒51交接，將基板S向干燥室5輸送。
根據(jù)這種如圖6A 圖6D、圖7A 圖7D所示的基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)， 能夠?qū)崿F(xiàn)與上述實(shí)施方式的基板處理裝置1同樣的作用效果。
再者，在上述的實(shí)施方式中，將臨時(shí)傾斜姿態(tài)的基板S的斜度設(shè)定為0 ° 5°，將最終傾斜姿態(tài)的基板S的斜度設(shè)定為30 90的范圍內(nèi)，當(dāng)然，該斜度 為一例，可根據(jù)基板S的種類(lèi)、尺寸及處理液的種類(lèi)適當(dāng)設(shè)定。但是，在如 實(shí)施方式那樣地在矩形的LCD用玻璃基板S上依次進(jìn)行顯影處理及洗凈處 理的情況下，通過(guò)將臨時(shí)傾斜姿態(tài)的斜度和最終傾斜姿態(tài)的斜度分別設(shè)定在 0° 5°、 3° 9°的范圍內(nèi)，能夠得到大致良好的結(jié)果。此外，如變形例(3) 所示，在臨時(shí)傾斜姿態(tài)的斜度為0° 5°的情況下，通過(guò)將在顯影準(zhǔn)備室3B 的姿態(tài)變換中途使基板S暫時(shí)停止時(shí)的斜度設(shè)定為1° 3°，(臨時(shí)傾斜姿態(tài) 的大致一半)能夠得到大致良好的結(jié)果。
權(quán)利要求
1、一種基板處理方法，在輸送基板的同時(shí)，依次進(jìn)行在第一處理部對(duì)水平姿態(tài)的基板供給處理液的第一處理、和在第二處理部對(duì)傾斜姿態(tài)的基板供給處理液的第二處理，其特征在于，包括第一姿態(tài)變換工序，在所述第一處理后，將基板從水平姿態(tài)變換為臨時(shí)傾斜姿態(tài)，該臨時(shí)傾斜姿態(tài)是給定的傾斜姿態(tài)，斜度比作為適于所述第二處理的姿態(tài)而預(yù)定的最終傾斜姿態(tài)??；輸送工序，將該臨時(shí)傾斜姿態(tài)的基板從第一處理部向第二處理部輸送；第二姿態(tài)變換工序，在第二處理部，將基板的姿態(tài)從所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換為所述最終傾斜姿態(tài)；基板處理工序，在第二姿態(tài)變換工序后，對(duì)最終傾斜姿態(tài)的基板進(jìn)行所述第二處理。
2、 按照權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，具有在所述第 二姿態(tài)變換工序前，先于所述基板處理工序而對(duì)以臨時(shí)傾斜姿態(tài)輸送的基板 進(jìn)行所述第二處理的第一先行處理工序。
3、 按照權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，具有在所述基 板處理工序前，對(duì)所述第二姿態(tài)變換工序中的姿態(tài)變換中的基板進(jìn)行所述第 二處理的第二先行處理工序。
4、 按照權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板處理方法，其特征在于， 在所述第一姿態(tài)變換工序中的基板的姿態(tài)變換時(shí)，將基板的姿態(tài)暫時(shí)保持在 斜度比所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)小的傾斜姿態(tài)，之后，變換為所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)。
5、 按照權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，所述第一姿態(tài) 變換工序及第二姿態(tài)變換工序?yàn)槭够宓淖藨B(tài)朝向基板輸送方向而向左右 某一側(cè)傾斜的工序。
6、 按照權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其特征在于，所述第一姿態(tài) 變換工序及第二姿態(tài)變換工序?yàn)槭够宓淖藨B(tài)朝向基板輸送方向傾斜的工 序。
7、 一種基板處理裝置，在基板的輸送方向上排列有向水平姿態(tài)的基板 供給處理液并實(shí)施第一處理的第一處理部和向傾斜姿態(tài)的基板供給處理液 并實(shí)施第二處理的第二處理部，對(duì)基板依次進(jìn)行所述第一處理和第二處理， 其特征在于，包括第一姿態(tài)變換裝置，其配備在所述第一處理部中，在所述第一處理后， 將基板從水平姿態(tài)變換為臨時(shí)傾斜姿態(tài)，該臨時(shí)傾斜姿態(tài)為給定的傾斜姿 態(tài)，斜度比作為適于所述第二處理的姿態(tài)而預(yù)定的最終傾斜姿態(tài)小；傾斜輸送裝置，其將基板以所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)直接從第一處理部向第二 處理部輸送；第二姿態(tài)變換裝置及處理液供給裝置，其分別配備在第二處理部中，該 第二姿態(tài)變換裝置將基板的姿態(tài)從所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換為所述最終傾斜 姿態(tài)，該處理液供給裝置對(duì)由該第二姿態(tài)變換裝置變換為最終傾斜姿態(tài)的基 板供給處理液。
8、 按照權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述第二處 理部中配備有第一先行處理液供給裝置，該第一先行處理液供給裝置在由所 述處理液供給裝置供給處理液前，對(duì)以臨時(shí)傾斜姿態(tài)輸送來(lái)的基板供給所述 第二處理用的處理液。
9、 按照權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述第二處 理部中配備有第二先行處理液供給裝置，該第二先行處理液供給裝置在由所 述處理液供給裝置供給處理液前，對(duì)通過(guò)所述第二姿態(tài)變換裝置而處于姿態(tài) 變換中的基板供給所述第二處理用的處理液。
10、 按照權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一姿態(tài)變換裝置將基板的姿態(tài)暫時(shí)保持在斜度比所述臨時(shí)傾斜姿態(tài) 小的傾斜姿態(tài)，之后，變換為所述臨時(shí)傾斜姿態(tài)。
11、 按照權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一姿態(tài) 變換裝置及第二姿態(tài)變換裝置為使基板的姿態(tài)朝向基板輸送方向而向左右 某一側(cè)傾斜的裝置。
12、 按照權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一姿態(tài) 變換裝置及第二姿態(tài)變換裝置為使基板的姿態(tài)朝向基板輸送方向傾斜的裝 置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在防止發(fā)生不均勻處理的同時(shí)進(jìn)行高效率的基板處理的基板處理方法及基板處理裝置。通過(guò)在顯影處理室(3)中對(duì)水平姿態(tài)的基板供給顯影液以實(shí)施顯影處理后，在洗凈處理室(4)對(duì)傾斜姿態(tài)的基板(S)供給洗凈液以進(jìn)行洗凈處理。此時(shí)，顯影處理后，使基板(S)在顯影處理室(3)中從水平姿態(tài)向臨時(shí)傾斜姿態(tài)(比適用于洗凈處理的基板(S)的傾斜姿態(tài)的斜度小的姿態(tài))變換，在該臨時(shí)傾斜姿態(tài)的狀態(tài)下，將基板(S)從顯影處理室(3)輸送到洗凈處理室(4)。然后，在洗凈處理室(4)中，將基板(S)的姿態(tài)從臨時(shí)傾斜姿態(tài)變換為最終傾斜姿態(tài)，以進(jìn)行洗凈處理。
文檔編號(hào)G03F7/30GK101114578SQ200710137308
公開(kāi)日2008年1月30日 申請(qǐng)日期2007年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月24日
發(fā)明者廚子卓哉, 山岡英人, 芳谷光明 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社