專利名稱：一種干膜及利用該干膜制造彩色濾光片的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明提供了一種干膜(Dry Film)、制造干膜的方法及制造彩色濾光片(Color Filter)的方法，尤其提供了一種能夠簡化制程的干膜結(jié)構(gòu)及彩色濾光片的制造方法。
背景技術(shù)：
隨著計算機產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，液晶顯示器(LCD)的生產(chǎn)成本與售價亦逐漸下降，因此如何簡化制程并提高LCD的優(yōu)良率，為當(dāng)今業(yè)內(nèi)的重要課題。
液晶顯示器(LCD)的零組件主要包含液晶面板和背光模塊，背光模塊是提供光線給液晶面板，液晶面板包含主動元件陣列基板、彩色濾光片基板以及夾設(shè)于其間的液晶層。
公開號為20060000379的美國專利揭示了利用干膜來制造彩色濾光片的方法。請參考圖1，為一種用于制作彩色濾光片的現(xiàn)有技術(shù)干膜結(jié)構(gòu)，其組成包含一抗靜電層101、一底層102、一撓性輔助層(Cushion Layer)103、一氧氣阻障層(O2Barrier Layer)104、一光刻膠層(Photo Resist Layer)105和一保護層(Cover Film)106。在利用該干膜制作彩色濾光片時，利用干膜轉(zhuǎn)印色膜圖案至一基板上，之后，于該色膜圖案上形成ITO導(dǎo)電層，最后，于該ITO導(dǎo)電層上形成光刻膠的柱狀物層。在該光刻膠柱狀物層制造過程中，進行光刻膠涂布時，常會因均勻度的控制不易，影響到該柱狀物層的均勻度和厚度，之后，在對組彩色濾光片基板和主動陣列基板時也間接影響了晶包間隙(Cell gap)的均勻度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種干膜(Dry Film)和制造該干膜的方法，該干膜的結(jié)構(gòu)中包含了導(dǎo)電層，利用該干膜制造彩色濾光片時，可以通過干膜轉(zhuǎn)印方法將導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印于彩色濾光片半成品上，不僅簡化彩色濾光片的制作工藝，同時可避免形成ITO導(dǎo)電層可能帶來的節(jié)瘤問題，更達到降低生產(chǎn)成本，縮短制造時間和提升面板優(yōu)良率的效果。
本發(fā)明還提供了利用上述干膜制造彩色濾光片的方法，通過將多層膜干膜制膜技術(shù)應(yīng)用于彩色濾光片制程中，將平坦層(Overcoat layer)、導(dǎo)電層與光刻膠柱狀物層(Photo Spacer)合并為同一制程，再透過干膜轉(zhuǎn)印的方式將導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印于彩色濾光片半成品上，以達到簡化制程，降低成本及提升面板效能的目的。
為達到上述目的，本發(fā)明提供一種干膜，其結(jié)構(gòu)至少包含底層、導(dǎo)電層和保護層(cover film)。此外，本發(fā)明提供一種制造該干膜的方法，其步驟包括應(yīng)用非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)(Spinless Coating)將導(dǎo)電層形成于底層(Basefilm)上，以及于該導(dǎo)電層上形成保護層。
本發(fā)明更進一步提供一種干膜，其結(jié)構(gòu)至少包含底層(Base film)、位于該底層一側(cè)上的抗靜電層、位于該底層另一側(cè)上的光刻膠層、位于該光刻膠層上的導(dǎo)電層、位于該導(dǎo)電層上的撓性輔助層(Cushion layer)及位于該撓性輔助層上的保護層(Cover film)。此外，本發(fā)明還提供一種制造干膜的方法，其步驟包括應(yīng)用旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)或非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)于底層上形成光刻膠層；應(yīng)用非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)(Spinless Coating)于光刻膠層上形成導(dǎo)電層；于導(dǎo)電層上形成撓性輔助層；以及于底層的另一側(cè)上形成抗靜電層。
本發(fā)明還進一步提供一種采用上述干膜制造彩色濾光片的方法先移去該干膜的保護層，并將底層及導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至一彩色濾光片半成品上，壓合撓性輔助層和導(dǎo)電層與該彩色濾光片半成品，接著將底層去除，即完成彩色濾光片的制作。本發(fā)明的彩色濾光片的撓性輔助層、導(dǎo)電層和光刻膠柱狀物層由干是采用膜轉(zhuǎn)印法制造，故可避免常規(guī)技術(shù)中光刻膠涂布均勻度不佳的問題，撓性輔助層可作為平坦層(Overcoat layer)，達成平坦化的目的，簡化了制造工藝，也可以避開因ITO導(dǎo)電層濺鍍而形成節(jié)瘤的問題，進而能降低生產(chǎn)成本，縮短制造時間，提升面板優(yōu)良率。
根據(jù)本發(fā)明提供的制造彩色濾光片的方法，包括提供彩色濾光片半成品和干膜，所述彩色濾光片半成品包括基板以及色阻矩陣，該色阻矩陣設(shè)置于所述基板上；所述干膜包括底層(base film)；導(dǎo)電層，其位于該底層上；以及保護層(cover film)，其位于該導(dǎo)電層上；該制造方法還包括移除該干膜的保護層；以及將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
根據(jù)上述制造方法，將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至彩色濾光片半成品上的步驟包括在移除該干膜的該保護層后，將該干膜轉(zhuǎn)印至彩色濾光片半成品上；以及，分離該底層與該導(dǎo)電層，使得該導(dǎo)電層位于該彩色濾光片半成品的該色阻矩陣上。
根據(jù)本發(fā)明的制造方法，該干膜還包括有位于該導(dǎo)電層和保護層之間的撓性輔助層時，將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品的步驟包括將該撓性輔助層及該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
更進一步，該干膜還包括有位于該底層及該導(dǎo)電層之間的光刻膠層，將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟包括將該撓性輔助層、該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
該方法還可進一步包括圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個光刻膠柱狀物；其中，圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個光刻膠柱狀物的步驟以及將該撓性輔助層、該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟可為同時實施。
根據(jù)本發(fā)明的制造方法，該干膜還包括光刻膠層，其位于該底層及該導(dǎo)電層之間，此時將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟包括將該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
上述方法還可包括圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個間隙物。
其中，圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個間隙物步驟以及將該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟可為同時實施。
根據(jù)本發(fā)明的制造方法，其還可包括圖案化該導(dǎo)電層以形成多數(shù)個凹槽。具體地，圖案化該導(dǎo)電層以形成多數(shù)個凹槽的步驟是應(yīng)用圖案化垂直配向技術(shù)(Patterned Vertical Alignment，PVA)完成。且，圖案化該導(dǎo)電層以形成多數(shù)個凹槽的步驟可在將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟后。
為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點更明顯，下文特舉具體實施例，并配合所附圖示，做詳細(xì)說明如下。


圖1顯示依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的干膜結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖2A顯示依據(jù)本發(fā)明提供的干膜結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖2B顯示依據(jù)本發(fā)明一實施例的一種制作干膜方法的流程圖。
圖2C顯示依據(jù)本發(fā)明另一實施例的一種制作干膜方法的流程圖。
圖3A顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例的干膜與彩色濾光片半成品的壓合示意圖。
圖3B顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例的制作彩色濾光片方法的流程圖。
圖4A顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例的制作彩色濾光片方法所制作出的含光刻膠層的彩色濾光片成品的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4B顯示依據(jù)本發(fā)明第二實施例的制作彩色濾光片方法所制作出不含光刻膠層的彩色濾光片成品的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5A顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例的制作彩色濾光片方法所制作出的含光刻膠柱狀物的彩色濾光片成品的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5B顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例制作彩色濾光片方法所制作出的含光刻膠柱狀物和導(dǎo)電層凹槽的彩色濾光片成品的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6顯示依據(jù)本發(fā)明第三實施例制作彩色濾光片的方法中以圖案化的滾筒制作光刻膠柱狀物于彩色濾光片上的流程示意圖。
圖中主要元件符號說明101抗靜電層102底層103撓性輔助層104氧氣阻障層105光刻膠層106保護層200彩色濾光片半成品201抗靜電層202底層203光刻膠層204導(dǎo)電層205撓性輔助層206保護層210基板220光刻膠柱狀物230凹槽240滾筒2401凸起物260色阻矩陣
具體實施例方式
請參閱圖2A所示，為依據(jù)本發(fā)明的一個較佳實施例的一種干膜，主要是用于制作彩色濾光片的導(dǎo)電層。該干膜結(jié)構(gòu)的組成可包括底層(Basefilm)202、位于底層202一側(cè)上的抗靜電層201、位于該底層202的另一側(cè)上的光刻膠層203、導(dǎo)電層204位于該光刻膠層203上、撓性輔助層(Cushionlayer)205位于該導(dǎo)電層204上及保護層(Cover film)206位于該撓性輔助層205上。需注意的是，在此描述的本發(fā)明的干膜結(jié)構(gòu)僅是為方便實施而舉例說明，在其它實際例中干膜結(jié)構(gòu)的組成是可以任意變化或增減，并不用于限定本發(fā)明范圍，但其中的底層202、導(dǎo)電層204及保護層206是本發(fā)明干膜結(jié)構(gòu)中不可缺少的組成。若在制造一僅具有導(dǎo)電層的基板時，便可利用僅具有底層202、導(dǎo)電層204及保護層206的干膜，快速且直接將導(dǎo)電層204形成在一基底上，例如可使用在彩色濾光片于陣列基板上(Color Filteron Array)的液晶顯示器所需的對向基板的共通電極制程上或是自發(fā)光顯示基板所需的顯示電極制程上等等。該底層202的材料可為聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，PET)、聚氯乙烯(Polyvinyl chloride，PVC)、聚丙烯(Polypropylene，PP)等任一種材質(zhì)。導(dǎo)電層204厚度約為50-2000埃，而導(dǎo)電層204的材料包括金屬或金屬氧化物或二者的組合，厚度控制約為50埃至2000埃。所述該導(dǎo)電層204可包括的金屬或金屬氧化物中，金屬材料可包括鋁、銀、鈦、鉬、銅、金、鉻、鉑、鈮或鈷等材料，而該金屬氧化物的材料可包括氧化銦錫、氧化銦鋅、二氧化錫(SnO2)、氧化鋅(ZnO)、二氧化鈦(TiO2)、氧化鋅摻雜釩(ZnO:V)、氧化鋅摻雜鈷(ZnO:Co)、氧化鋅摻雜鋁(ZnO:Al)、氧化鋅摻雜鎵(ZnO:Ga)、氧化鋅摻雜鈦(ZnO:Ti)、氧化鋅摻雜銦(ZnO:In)等。導(dǎo)電層204的厚度可控制在約為400埃至2000埃，但在本實施例，導(dǎo)電層204的最佳厚度約為1000埃。
請參閱圖2B所示，為依據(jù)本發(fā)明的一實施例的一種制造該干膜的方法，該方法包括以下步驟
步驟S200，應(yīng)用非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)(Spinless Coating)于底層202上形成導(dǎo)電層204。所述非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)可應(yīng)用一種狹縫涂布技術(shù)(Slit coating)實現(xiàn)。導(dǎo)電層204的材料包括金屬或金屬氧化物或其組合，厚度控制約為50埃至2000埃。該導(dǎo)電層204的金屬或金屬氧化物材料中，金屬材料可包括鋁、銀、鈦、鉬、銅、金、鉻、鉑、鈮或鈷等材料；而該金屬氧化物的材料可包括氧化銦錫、氧化銦鋅、二氧化錫(SnO2)、氧化鋅(ZnO)、二氧化鈦(TiO2)、ZnO:V、ZnO:Co、ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:Ti、ZnO:In等。導(dǎo)電層204的厚度可控制在約為400埃至2000埃，但在本實施例，導(dǎo)電層204的最佳厚度約為1000埃。該底層202的材料可為聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethyleneterephthalate，PET)、聚氯乙烯(Polyvinyl chloride，PVC)、聚丙烯(Polypropylene，PP)等中的任一種材質(zhì)；以及步驟S202，于該導(dǎo)電層204上形成保護層206。
請參閱圖2C所示，為依據(jù)本發(fā)明另一實施例的一種制造該干膜的方法，該方法包括步驟S2000，可應(yīng)用旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)或非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)于底層202上形成光刻膠層203，底層202的材料可為聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethyleneterephthalate，PET)、聚氯乙烯(Polyvinyl chloride，PVC)、聚丙烯(Polypropylene，PP)等中的任一種材質(zhì)；步驟S2100，應(yīng)用非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)(Spinless Coating)形成導(dǎo)電層204位于光阻層203上。所述非旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)可應(yīng)用一種狹縫涂布技術(shù)(Slit coating)加以達成。導(dǎo)電層204的材料包括金屬或金屬氧化物，厚度控制約為50埃至2000埃。該導(dǎo)電層204可包括的金屬或金屬氧化物中，金屬材料可包括鋁、銀、鈦、鉬、銅、金、鉻、鉑、鈮、或鈷等材料；而金屬氧化物的材料可包括氧化銦錫、氧化銦鋅、二氧化錫(SnO2)、氧化鋅(ZnO)、二氧化鈦(TiO2)、ZnO:V、ZnO:Co、ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:Ti、ZnO:In等。導(dǎo)電層204的厚度可控制在約為400埃至2000埃，但在本實施例，導(dǎo)電層204的最佳厚度約為1000埃，其作為彩色濾光片中的共通電極所用。該底層202的材料可為聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，PET)、聚氯乙烯(Polyvinyl chloride，PVC)、聚丙烯(Polypropylene，PP)等中的任一種材質(zhì)；步驟S2200，于導(dǎo)電層204上形成撓性輔助層205，該撓性輔助層205厚度約為0.5微米至100微米；以及步驟S2300，于該撓性輔助層205上形成保護層206。
此外，可選擇性地實施步驟S2400，于底層202的另一側(cè)上形成抗靜電層201，步驟S2400可在步驟S2300后執(zhí)行或任一步驟之前或后執(zhí)行，在此并不局限。
執(zhí)行上述步驟后，便形成如圖2A所示的干膜。
如圖3A及3B所示，為依據(jù)本發(fā)明一較佳實施例的一種制造彩色濾光片的方法，是利用了前述干膜結(jié)構(gòu)，該方法包括步驟S302，提供一彩色濾光片半成品200，且該彩色濾光片半成品包含一基板210及設(shè)置于該基板上的一色阻矩陣260，該色阻矩陣260是包含色阻以及其間的黑色矩陣，色阻的材料舉例可為染料或色料，形成的方法舉例可為干膜轉(zhuǎn)印法或是涂布法；步驟S304，提供一干膜，且該干膜包括一底層202、一導(dǎo)電層204、一光刻膠層203、一保護層206、一抗靜電層201，以及一撓性輔助層205，干膜的詳細(xì)結(jié)構(gòu)在此不再贅述；步驟S306，移除該干膜的保護層206；以及步驟S308，如圖3A所示，將該光刻膠層203、撓性輔助層205及該導(dǎo)電層204轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品200上；步驟S3 10，自該干膜的導(dǎo)電層204上移除該干膜的底層202和抗靜電層201，使得該光刻膠層203、導(dǎo)電層204及撓性輔助層205位于該彩色濾光片半成品200的色阻矩陣260之上(其結(jié)構(gòu)如圖4A所示)；步驟S312，接著圖案化如圖4A所示的光刻膠層203以形成如圖5A所示的多數(shù)個光刻膠柱狀物220，其用途如同間隙物(Spacer)或是MVA(Multi-domain Vertical Alignment)液晶顯示器中所需的配向凸塊。需注意的是，圖案化該光刻膠層203以形成多數(shù)個光刻膠柱狀物220的步驟以及將該撓性輔助層205、該導(dǎo)電層204及該光刻膠層203轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品200上的步驟舉例是可同時執(zhí)行。
接著可如圖5B所示，進一步應(yīng)用激光圖案法(Laser pattern)以形成多數(shù)個凹槽230，此凹槽230舉例可應(yīng)用在垂直配向技術(shù)(Patterned VerticalAlignment，PVA)。
依據(jù)本發(fā)明第二較佳實施例的干膜是不包含光刻膠層203，以此干膜制造彩色濾光片時，將導(dǎo)電層204和撓性輔助層205轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品200上后(如圖4B所示)，再移除該干膜的底層202和抗靜電層201，之后，再進行如常規(guī)的操作方式，將間隙物(Spacer)或是MVA液晶顯示器中所需的配向凸塊制作于導(dǎo)電層204上即完成彩色濾光片的制作。
如圖6所示，為依據(jù)本發(fā)明第三較佳實施例的一種制造彩色濾光片的方法，是利用一圖案化的滾筒240，滾筒240上具有多數(shù)個凸起物2401，將該撓性輔助層205、導(dǎo)電層204以及該光刻膠層203轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品200上，利用凸起物2401以類似壓模(embossing)的方式同時形成多數(shù)個光刻膠柱狀物220，其用途如同間隙物(Spacer)或是MVA(Multi-domain VerticalAlignment)液晶顯示器中所需的配向凸塊。
以上所述者僅為本發(fā)明的較佳實施方式，舉凡熟習(xí)本案技術(shù)的人士依本發(fā)明的精神所作的等效修飾或變化，皆應(yīng)涵蓋于本發(fā)明的權(quán)利要求書范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于制造彩色濾光片的干膜，包括底層；導(dǎo)電層，其位于該底層上；以及保護層，其位于該導(dǎo)電層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其中該導(dǎo)電層的材料包括金屬、金屬氧化物或它們的組合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其中該導(dǎo)電層的材料包括氧化銦錫、氧化銦鋅、二氧化錫、氧化鋅、二氧化鈦ZnO:V、ZnO:Co、ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:Ti、ZnO:In或上述組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其中該導(dǎo)電層的厚度為50埃至2000埃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其中該導(dǎo)電層的材料包括鋁、銀、鈦、鉬、銅、金、鉻、鉑、鈮、鈷或上述組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其還包括抗靜電層，且所述底層位于該抗靜電層及該導(dǎo)電層之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其還包括光刻膠層，且所述光刻膠層位于該底層以及該導(dǎo)電層之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干膜，其還包括撓性輔助層，且所述撓性輔助層位于該導(dǎo)電層及該保護層之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的干膜，其中，該撓性輔助層的厚度為0.5微米至100微米。
10.一種制造彩色濾光片的方法，包括提供彩色濾光片半成品和干膜，所述彩色濾光片半成品包括基板以及色阻矩陣，該色阻矩陣設(shè)置于所述基板上；所述干膜包括底層；導(dǎo)電層，其位于該底層上；以及保護層，其位于該導(dǎo)電層上；該制造方法還包括移除該干膜的保護層；以及將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至彩色濾光片半成品上的步驟包括在移除該干膜的該保護層后，將該干膜轉(zhuǎn)印至彩色濾光片半成品上；以及分離該底層與該導(dǎo)電層，使得該導(dǎo)電層位于該彩色濾光片半成品的該色阻矩陣上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，該干膜還包括有位于該導(dǎo)電層和保護層之間的撓性輔助層，將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品的步驟包括將該撓性輔助層及該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，該干膜還包括有位于該底層及該導(dǎo)電層之間的光刻膠層，將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟包括將該撓性輔助層、該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其還包括圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個光刻膠柱狀物。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個光刻膠柱狀物的步驟以及將該撓性輔助層、該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟為同時實施。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，該干膜還包括光刻膠層，其位于該底層及該導(dǎo)電層之間，且將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟包括將該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其還包括圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個間隙物。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，圖案化該光刻膠層以形成多數(shù)個間隙物步驟以及將該導(dǎo)電層以及該光刻膠層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟為同時實施。
19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其還包括圖案化該導(dǎo)電層以形成多數(shù)個凹槽。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，圖案化該導(dǎo)電層以形成多數(shù)個凹槽的步驟是應(yīng)用圖案化垂直配向技術(shù)完成。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，圖案化該導(dǎo)電層以形成多數(shù)個凹槽的步驟是在將該導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至該彩色濾光片半成品上的步驟后。
全文摘要
本發(fā)明主要關(guān)于一種干膜、制造該干膜的方法及制造彩色濾光片的方法。其中該干膜至少具有導(dǎo)電層、底層及保護層，且制造干膜的方法包括在底層上形成導(dǎo)電層，以及于該導(dǎo)電層上形成保護層。在制造彩色濾光片時，先移去該保護層，再將底層和導(dǎo)電層轉(zhuǎn)印至一彩色濾光片半成品上，即可利用該干膜制造出一彩色濾光片。
文檔編號G02B5/20GK101082685SQ20071013625
公開日2007年12月5日 申請日期2007年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月12日
發(fā)明者黃彥衡, 陳宗凱, 陳重伊, 李淑琴 申請人:友達光電股份有限公司