專利名稱：使用兩件式蓋子保護模版的系統(tǒng)和方法
使用兩件式蓋子保護模版的系統(tǒng)和方法本申請是申請?zhí)枮?WM"06.X的中國專利申請的分案申請，原申請的 日為2003年2月21日，名稱為"使用兩件式蓋子保護模版的系統(tǒng)和方法"。本申請涉;SJt^技術(shù)(lithography)，尤其涉及不使用薄皮(pellicle)對 狄^4ii行保護. 背景技術(shù)ife^技術(shù)是一種在村底的表面上產(chǎn)生特征的方法.村底可以包括在制造平 綠示器、電路板、樹絲電絲中所細的那些村底例如可以使用半導(dǎo) 體晶片作為村底來制造絲電路.在ife^技術(shù)中，使用模版將所需困案轉(zhuǎn)移到村底Ji.模版可以由對所使用 的it^波長來^i透明的材^HN成，例如在可見光的情況下使用玻璃. ^也可以形成為能夠反射所使用的光刻波長，例如^l^統(tǒng)紫外線(扱JV). m上印有困象針對使用模版的具體系統(tǒng)來選擇模版的尺寸.例如可以使用6英寸x6英 寸并JJ^l^l/4英寸的m在iU J過程中，iti在晶片臺上的晶片^4露 于^fe^KJi所印田像而秘到晶片表面上的困象所^&射的困^Mt沉積在晶片表面上的層(例如ifeifc抗蝕劑層)的特性發(fā)生 變化.這些變^^碟itit程中^^到晶片上的特脅對應(yīng).在舉it4L^,該層 可以被刻蝕，以形成帶田案的層.該困案對應(yīng)于在瀑it3t程中a^到晶片上的 那些特機然后使用該帶有困案的層來l^該晶片內(nèi)的在下面的結(jié)構(gòu)層(例如 導(dǎo)電層、半導(dǎo)電層或^^層)的膝光部分.重復(fù)該過程以及其它步泉直J^ 晶片的表面上形成所需的特征.jyLh面的描述中可以清楚地看到，通itit刻技術(shù)而產(chǎn)生的特征的準確位置 和尺寸直接取決于絲到晶片上的田像的精度和準度.亞100nmit^的嚴格汰不 ^tiUW工具、而且"M"^&提出了嚴格的要禮沉降^KLt的空氣中的顆 i^灰塵會導(dǎo)致晶片上的缺陷.皿平面內(nèi)的小的田像變形或移位可能比臨界 尺寸和重4誤差預(yù)計值更大.傳統(tǒng)的解決方法a用永久性閨^ii明材料薄片 作為m的薄皮.該薄皮在光刻過程的所有步驟中都保留在原仗薄皮在改4^Mt到晶片上 的困像的準^面具有雙重功禮首先，薄皮用于保護 &^與鄉(xiāng)污染物直 絲觸.如上所迷，沉降在^KJl的顆粒會產(chǎn)生困像變形，因此必須除去.但是，從^^Ji除去顆粒會導(dǎo)致對艦的損壞，罔為這種除去可能會涉;sji〗與模 版直M觸.當(dāng)使用薄皮時，顆粒會沉降在薄皮上而不是m上.罔此必須清潔的是薄皮.清潔薄皮而不是^M"^L的完整汰來說危害較小，因為在該清潔過程中衡fil由其薄皮所保護.薄皮所產(chǎn)生的第二個功效與薄皮的間咪(standoff)有關(guān).在隊;3tit程中， 聚焦平面對應(yīng)于^Lt印制的困像的位置.,過使用薄皮，系統(tǒng)中的任何顆粒 會沉降在薄皮上而不是mii,利用薄皮的厚/t以及由此而在薄皮的表面和 艦的帶困絲面之間狄的距離，這輛^f會處于聚焦平面.由于薄皮將 顆粒抬升而不在聚焦平面，因jfcifc^到村底上的困像會fe^這^Si粒的可能性 就大大制tJ^的這種方法在許多傳統(tǒng)的it^加xa術(shù)中^MM艮好.因jft^t用這種系 ^光穿過皿和薄皮的系統(tǒng)中是方便的，因為制選毫明薄皮和皿的材料是可以得到的.但是該薄皮方法不適用于EUV應(yīng)用，因為所使用的光的m 皮長^Jl易在穿過氣體或固體時被吸札因此，目前沒有材料對EUV足夠透明而可以用于制麟皮.^EUV輛技術(shù) 中，EUV不穿過皿，但4Jl射離開m的困像側(cè).該技^為^lt光刻.如果 在反射it^過程中使用薄皮，則EUV必須兩次穿過薄皮，一^i射向艦而另一 ;;fc4^射離開瓶罔此，toV加x!L術(shù)中，與薄皮有關(guān)的賄絲失妙倍.因此，需h種系統(tǒng)和方法，可以保護m不受污染，它狄不會5H氐穿過系統(tǒng)的EUV光量.發(fā)明^本發(fā)明的實施方案提^"種傳輸掩模的方法，包妙下步取(a〉用可移 式顆粒蓋子4IA掩模的第一部分，形成掩模-蓋子構(gòu)選(b)將該構(gòu)造封閉在一 個氣密的盒子中，該盒子包括有掩模運栽部分以及與該掩模運我部分分開的果 以及(c〉將該構(gòu)it^盒子內(nèi)進行傳榆.本發(fā)明的實施方案提供一種用于傳^^模的氣密的盒子，該盒子包括掩模運栽部分；軍；用亍防止氣體在掩模錄部補杖間流動的氣密裝置；以 及用于將革與該掩模運栽部分暫時性的連接和固定的閂鎖.
本發(fā)明的實施方案提f種傳輸、搬錄加工掩模的方法，fe^如下步艱(a)用可移式顆粒蓋子4U1掩模的第一部分，形A^模-蓋子構(gòu)選(b) 構(gòu)造封閉在一個氣密的盒子中，該盒子包括有掩模i^部分以及與該掩模絲 部分分開的革；(c)將帶有該構(gòu)造的盒子傳必，J加工工具，該工具具有以下每個 部件中的至少一沐脫吊搶器(dei)odder)、 "(^tR鄉(xiāng)*^器、負栽鎖 (loadlock)、真空腔、真空操縱器、以及掩模iL虔；(d)將帶有該構(gòu)造的盒子 絲脫吊搶器的第一開口上，使得盒子的軍防止氣體iiit該第一開口而流動； (e)用清潔氣^H匕脫吊輪器的內(nèi)部；(f)將掩模狄部絲革分開而打賴盒 子，絲軍在原位，用于雌氣體流動，將掩模運栽部^t構(gòu)鄉(xiāng)動到脫吊 艙器的內(nèi)部；(g)利用^^IM^器通過第二脫吊搶器開口而微構(gòu)it^吊 舲器抽到鄉(xiāng)餘內(nèi)，并絲構(gòu)^t第一負栽鎖開口^J'J負栽鎖內(nèi)部；(h)抽 空負栽銷；(i)利用真空狄^r構(gòu)itit過第二負栽銷從該負栽銷中抽出， 并將該構(gòu)造移動到真空腔內(nèi)；(j)員構(gòu)it^i在掩模iL^上，使##模的^81 蓋部分與i^N^觸；(k)利用該支^i!M^N^樣(1)利用真空IM^器，將差 子與掩齡開，取M子；(m)加工掩樣本發(fā)明的實施方案提供了一種負栽銷，包拾具有至少兩個開口的封套； 與該封套的第一開口*^空氣側(cè)門閥；與該封輛第二開口輛合的真空側(cè)門 閥；位于封套內(nèi)的用于接收掩模的掩#^#器；位于封套內(nèi)的用于^J1掩模的 可移動圃頂；以及用于移動圃頂?shù)钠皂敶賱悠鳎瑥亩撈皂斂梢?ft^位A4U 該掩樣本發(fā)明的實施方案提^""種將掩模從空氣壓力過渡到負栽銷中的真空的 方法，包括如下步取(a)將掩^^3U負栽鎖內(nèi)；(b)將掩模用圃頂4LMo以 防止負栽鎖中的空氣中的顆樹3達掩樣(c)關(guān)閉負栽鎖；(d)抽空負栽銷；(e》 打開負栽鎖通向真空；(f)縮回圃頂而使4f^模不^bSUL;以及(g)從負栽銷中本發(fā)明的實施方案提^-種傳輸、搬錄加J^^模的方法，包括如下步取(a)將掩模封閉在一個氣密的盒子中，該盒子包括有掩模運栽部分以及與該掩 模運栽部分分開的革；(b)將帶有該掩模的盒子傳i!U"〗加工工具，該工具具有以 下每禱件中的至少一種脫吊掄器、^fe^、 ^J5f^Mil器、負栽鎖、真 空腔、真空諷器、以及掩模JL^; (c)將帶有該掩模的盒子絲脫吊艙器的笫 一開口上，使得盒子的軍防止氣體通過該第一開口而流動；(d)用清潔氣^MHt 脫吊搶器的內(nèi)部；(e)將掩模運栽部^革分開而打^盒子，##革在原仗 (f)利用Ufcgf^m器，通過第二脫吊搶器開口而絲掩^Jfe吊艙器抽到aif 餘內(nèi)，并絲掩模M笫一負栽鎖開口;aj'J負栽鎖內(nèi)部；(g)抽空負栽鎖；(h〉 利用真空綠^H^掩模通過笫二負栽銷從該負栽鎖中抽出，并微掩棋移動 到真空腔內(nèi)；(i)Mf掩^^5L^掩模iLiJL;以及(j)加工掩榥本發(fā)明的實施方案提#^種*^用于在盒子內(nèi)對#^至該40^離賴 M的4fr模aWf加工，該M包括^it的空氣JMt部^;至少一個大^im 器；至少一個脫吊搶器；用清潔氣^J^大氣壓力下進行凈化的氣W^ 部^;至少一個^^L器；至少一個負栽鎖；真空部分；以M少一個真本發(fā)明的實施方案ll^"-種系統(tǒng)，包括^M^與該^&ii接而保護^L的 蓋子.蓋子包括框架和可移動面板，該面jfe^動而允^t在膝;5tii程中光的ii^ 指向i m和蓋子利用自動IMW^手移動至平臺.m^蓋子絲開之 前可以連接JJ^L本發(fā)明的其他實施方案、特征和優(yōu)點以及本發(fā)明各實施方案的結(jié)構(gòu)和KWt 將在下面參考附圖作更詳細描i^ 附困的簡JN t明在紐引入附困##為說明書的一部分，連同說明"^來解釋本發(fā)明，還 用于解釋本發(fā)明的原理， H吏得所屬^M^城的^t術(shù)人員可以實^發(fā)明. 圖l是本發(fā)明實施方案的^Uit當(dāng)位置處的兩件式蓋子的分解歐 困2是##本發(fā)明的實施方案利用自動 將兩件式蓋子中的 ^*14 平臺上的視圖；圍3是#4^本發(fā)明的實施方絲示皿膝;JUi行光刻的視歐困4^示本發(fā)明實施方案的兩件U子的分解立體困；圍5是利用本發(fā)明實施方案的兩件式蓋子進行對準和絲的方法；圖6絲示^本發(fā)明的實施方案的定位崎的視困；困7^示本發(fā)明實施方案的帶有定位配件的兩件式蓋子的外推閨；固8是^本發(fā)明的實施方案用于增強樣&中的區(qū)城的方法；閨9 - 10分別表示##本發(fā)明實施方案的示例^WJL子的餘現(xiàn)圍^H卬視
圖；

圖11表示困9- 10的^U1子的分艦困； 圖12表示4M^本發(fā)明的實施方案雙重包套吊舲(wr印pod)設(shè)計； 困13^示困12的雙重包套吊麵分解恥 困14狄示本發(fā)明實施方案的負栽銀 困15狄示困14的負栽鎖的分解臥 困16狄示本發(fā)明實施方案的^ftL搬i^t置核心的視困； 圖17表示本發(fā)明實施方案的整個^Ufti^t置； 圖18表示絲本發(fā)明的實施方案傳送掩模的方法的;錄困； 困19表示; 1#本發(fā)明的實施方案傳送、4ft^加:Mfr模的方法的諒悉田； 困20表示4MI本發(fā)明的實施方1tjt負栽鎖內(nèi)從大氣壓力向真空傳送掩模 的方法的流輕困；困21表示M本發(fā)明的實施方lMt負栽鎖內(nèi)從真空向大^力4^li掩模 的方法的淡艱圖；困22表示絲本發(fā)明的實施方案傳送、搬狄加:M^模的方法的Sit^困.以下將參考附困對本發(fā)明進行稱l在附田中， 一些類似的附困標"K^示 同樣的或功能相近的元件.另外，大多數(shù)附閨標記中最左面的數(shù)字表示在那個 附困中該附困標記笫一次出現(xiàn). 優(yōu)選實施方案的詳細說明本發(fā)明的實施方案提[種保護皿的蓋子，它相對于傳統(tǒng)系統(tǒng)來ii^r所改 t本發(fā)明的其他實施方案提供可與該蓋子相配的吊搶或^Sl傳送盒，它進一 步保護m不受顆粒侵害.本發(fā)明的另一些實施方案提供與該蓋子相配的負栽 鎖，當(dāng)在大氣壓力和真空之間^1^時，它進一步保護m不受顆粒侵害.本發(fā)明的再一些實施方案提供具有三個獨立的環(huán)境(例如逸辻的室內(nèi)空氣、氣 ^f化的自境、以及真空)的;K;&掇^t里，每個fl^Hii合于在^fe運步槺中有^效率的減少^&的污染.本發(fā)明絲一些實施方案提[種利 用以上減少污染的所有裝置來搬i^Ml的方法.傳統(tǒng)的jt^技術(shù)絲于薄皮來誄護m的帶田案區(qū)域不受到郷污染.但 是如上所迷，由于沒有一種對板紫外光(EUV)來^afA透明的材料，因此不能實 現(xiàn)這個方法.另外，內(nèi)部對準的限制使得整個^fl^子的除去難以it^進行.
因^絲本發(fā)明的實施方案，利用mH子來保護;^L,該^J1子^用 于支撐艦的框架，以及可以在攀狄清潔過程中除去的面;feL盡管光刻系^L清潔的環(huán)境下進^IMt，但^加工過程中會產(chǎn)生顆板這些顆粒會污染m ^&要周期性的清潔，從而將m么的^^量^^在一 個允許的閾值之下.因此必須考慮光刻系統(tǒng)內(nèi)的顆粒產(chǎn)生來源.通常，在另外的清潔系統(tǒng)中的顆粒是因為摩擦而產(chǎn)生的.在^的系統(tǒng)中，當(dāng)^l^一^Hi置傳送到另一個位置時會產(chǎn)生顆板由于在^^的系統(tǒng)中mjt,過程中可 以滑動，閎jH^rm^f^iit程中的滑動4L^產(chǎn)生另外的顆權(quán)m&,傳統(tǒng) 系統(tǒng)中的振動^導(dǎo)錄擦和相關(guān)的顆粒產(chǎn)生，#*本發(fā)明的實施方案，在可除去蓋子上^位里定位器和脊，從而iSUt 絲和艦滑動> ^#.但AJ1子的安紗除去會產(chǎn)^^擦.勤以的，如在傳送 系統(tǒng)中的振動Hfe^導(dǎo)致顆粒的形禮因錄實:jfc^發(fā)明的實施方案時已財慮到了這^R粒產(chǎn)生原國的差別.除了顆粒的產(chǎn)生，在設(shè)計光刻系統(tǒng)時，也需J^考慮顆粒的沉降.^L^發(fā)明的實施方案中使用可除去面板減少了顆4Mt所有的時候都沉降在m^的機會，當(dāng)然除了膝itit極外.明顯的顆松冗降在瀑紋外的時間內(nèi)發(fā)生，因此 使用本發(fā)明實施方案的可除去面板，即e^隊光步騍中除去蓋子的時候也能夠 顯著的保護艦不會發(fā)生顆粒沉降.最后，也必須考慮顆 :移.顆粒遷移發(fā)^快速動作和快速壓力變化導(dǎo) 致的棄'M:程中.^!^EUV系統(tǒng)中，很多移動^UL生在高真空中.閎)fc^例如^^ 架向絲iba的移動過程中的棄^i最小的.但是由于有壓力變仏因ibit個 棄流源必須予以考慮.閎WI&本發(fā)明的實施方案，i54t^t^與安lt^^Ui 的框架相連接的可除去面板，a消除了這種額外的顆粒遷移源.兩件式蓋子和其扣:t^動學(xué)的定位困l表示包括根振本發(fā)明 一個實施方案的兩件式蓋子(cover) 102的系統(tǒng) IOO的分解困.兩件式蓋子102包括一個框架2，該框架2在搬運的過程中支撐一 個模版l，并在啄光的過程中與粉"和一個平臺7##接觸.框架2包括一個比 (reticle) l的場區(qū)(field)大的開口14,以在flMyi程中允許光4t^的光線 穿過開口14.框架2還包括一個連接裝置8，它對應(yīng)于連接至平臺(st縛e)7的連 接裝置9.因A連^^裝置8^t得框彩可以由連^^裝罝9^^在平臺7上.
該實施方案還包括面板3，它與框彩在光刻艱^L前才相分開，在光刻舉 iMU&立刻重新連接至框彩.面板3可以由對可見線明的材^H成，從而可 以肉B^查和識別船U的前側(cè).如固所示.連接裝置8種處于平臺7和框fe^間，以>81^架2和面船之 間.如閨所示，可以在平臺7和框婦之間&^Se^啦一5b. ^對5a^5b可 以是"兩件之間的(bet怖en pieces)",這*^領(lǐng)離"員##此處描述 的至少一種技術(shù)可以知道的，可選自分別在每個片上的磁體和flfcte機械緊固 件，例如在一個片上的^"彈黃的閂鎖或JCl^銷存器以及在另一個片上的ft^接頭片；以及重力M裝置，例如在另一個片上的se^g&^上的位于一個片上的支靠w.絲本發(fā)明的實施方案，連接裝置8和/或9可以具有以下設(shè)計準則，包括 但不限"f: a)連接^X8和/或9可以itit兩件iU子102夕Ml5的裝置^t行拆 卸，該裝置可以位于將mi加綜平臺7上的自動IMMafe手4上或者在平臺 7內(nèi)，和/或；b〉連接裝置8和/或9的絲和再連接應(yīng)當(dāng)產(chǎn)生最小的污染顆板 從而狄污染mi (為此，優(yōu)選使用非接觸式裝置來促動連接裝置8和/或9), 和/或；c)連接^i8和/或9應(yīng)當(dāng)是自支撐的，從而一A^接裝置8和/或9已 ^SL^連接，則不需要^>外^用將這^1^#在~"^在一個實施方案中，自動操Mta手4可以用于擠壓兩個或多個l^"彈黃 的閂鎖，從而樹這辨.在另一個實施方案中，平臺7中的電磁體可以用于與閂銷中的永磁體發(fā)生 相互作用，從而使得它們分開.在另一個實施方案中，自動iMWfe手4中的電磁體m;tm^別處于蓋子102的兩錯上的4^ft體和歉間的磁性吸引而絲面^3.類似的，平臺7內(nèi) 間的^t性吸引.許多其他的實施方案也是可行的，包括但不限于，連接配件的排列變換和 結(jié)^W^置^W手中而不是在平臺定仗或者反之亦然.所有的這些排 列變換和結(jié)^P在本發(fā)明的范圍之內(nèi).繼續(xù)參考圖l,在上迷實施方案的變化中可以利用重力來將mi、框架2 和面^13^#在4具體的l自動W^t^手4可以支撐著面;feL3，框彩可
以擱靠在面;feL3上粉U可以靠在框架2內(nèi).相對應(yīng)的W^Mf5a^5b可以將框架 2與面船對準，而相對應(yīng)的Si^Mt6a^6b可以將面;feL3與自動^MU^手4對準.在各種實施方案中，Se^對5a^5b;8L6a^6b可以逸自運動支座(例如帶 有在溝槽或兩錐形M內(nèi)的球)，孔和狹槽中的^^f,以及^^Mt套在 另一個陣中.用于提供能量從而使框婦相對于平臺7^#定>(±^從平臺7幹故的 裝置可以位于平臺7內(nèi)，如田1所示，或者內(nèi)置于自動^MiC手4中.^本發(fā)明的另一個實施方案，位于平臺7內(nèi)的兩個或多個帶有彈黃的機 械閂鎖9通過利用舌片8可以用來將框彩保持在平臺7上如困2和3所示，* 下所t在另一個實施方案中，例如通過利用與平臺7連接的螺線管11瞬時施加電 磁力以克服彈簧10所^a的閉合力，由此回縮可由磁tM;^HHW成的閂鎖，從而 可以實現(xiàn)閂鎖的g8e^對14Mpl4b可以:M在面船的底部側(cè)和其它表面上，該表面必須放置有系統(tǒng)ioo(例如模版/蓋子組件) 例如，在真空庫架上以;MMt示為i3且在下文##細描迷的標;^*^口 (SMIF)吊搶^feJL.閨2表示根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案皿1和蓋子102的狀態(tài).因此困2所示 的狀態(tài)表示利用自動IMMJL^手4^框敘和面;fe3加絲平臺7上.在一個實施 方案中，該狀態(tài)是在螺線管l 1已經(jīng)波斷開能量并且閂鎖9已經(jīng)捕獲了舌片8的狀 態(tài).在該狀態(tài)中，框彩固^適當(dāng)?shù)奈恢?該狀態(tài)可以是在回縮自動# 1^ 手44L前.困3表示M本發(fā)明的實施方案的系統(tǒng)100的狀態(tài).在該狀態(tài)中，在自動操 WUWI手4 (田3中沒有顯示)已經(jīng)回縮，帶走面婦(田3中沒有顯示)之后， mi和框彩僅由平臺7支撐.在一些實施方案中，此時可以通過開口14進行光 刻漆光.自動# ^手4##*1彩而不是面*13的實財1|^簡單的，閎結(jié) 對于其他實施方案來^^優(yōu)選的.這是罔為采用了重力將面板3和框彩##在 4在框架2已經(jīng)被平臺7捕獲之后為從框勉上拆下面板3基本只需要自動操 ^L^手4的向下移動，可替換的實施方案還能便于將艦1與平臺7對準，以下將描迷用于對準的方法
如本文其它^h/斤^船w應(yīng)當(dāng)^iijt和取向為和晶片相一致.itM^t 保了當(dāng)前從衡波閨案復(fù)制到晶片上的電路M與晶片上已經(jīng)先存在的層對Ju 在以下^f細描迷的幾個實施方案中，樹u可以在容器(例如吊凇)中傳送至光刻系統(tǒng)(或"光刻工具")，該容器的一部分可以表示為13.吊舲(pod)可以包括一 支撐著樹良i的框架以A^^ut程中使污染顆粒遠離^^a的一面禮在這些實施方案中，吊搶框架的底部側(cè)可以具有與光刻工具中《6^ 的定位Sa^相對應(yīng)的定位紛f，從而SMIF吊^對于光刻工具的取向是唯一確定的.參考閨l, iiit支靠點和內(nèi)置于框架2內(nèi)的止擋器以及內(nèi)JL泉面板3中的彈 簣的結(jié)合，粉fil可以固^保持^彩頂部倒上的適當(dāng)位置.由于粉fiJ可以是平的正方形，而沒有特定的定位fie^，因此可以有8種方法將其裝fie^支靠點、止擋器和彈黃所形成的嵌套中.當(dāng)將艦l加絲吊艙中時，必須小心將艦1紅為使其帶有困案的HW 面對所需要的方向(例如右側(cè)向上)，并有需要的相對于吊搶的取向(例itp90 度).例如，困案的頂部4可以朝著吊^前側(cè).然后當(dāng)模版吊^b^t^ 工具中時，可以知道微l相對于it^工具的位置和取向.通常，位置(X，Y) 不確定性在大約l,(毫米)的數(shù)量級，角度取向(ez)不確定性在大約l度的數(shù) 量亂但是這種準確度對于目前的光朝來M不夠的.必須將位罝的不確定 , 小到幾個^取向的不確定性必須小于lSMt秒.因此，絲本發(fā)明的實施方案,it^工具可以裝備有預(yù)對準器.該預(yù)對準 器itit查看m閨案上的把并將^L按照需^t樹動以^^i置和取向， 從而將粉U中的閨案相對于itili^精確地定^對準.自動^tJU或其^ 何專用的絲城，通常將艦l從框婦絲至預(yù)對準器，并從預(yù)對準器絲 至平臺7.從預(yù)對準器絲至平臺7必須是非常準確的，罔為絲裝里所帶來的儲定位誤差會5H^a在平臺7上的布JD^確先閎樹于將mi從預(yù)對準器轉(zhuǎn)移至平臺7的關(guān)鍵步猓來亂應(yīng)當(dāng)使用非常準確和可重復(fù)的自動裝置或##精確移動的自動裝置可以位于光刻系統(tǒng)的印制臺，該光刻系統(tǒng)適用于深紫 外(DUV)光刻，但是，這不能用于EUV光刻，罔為EUV過程必須在真空下進行. it^因為如上所^EUV;fe^常壓下被完全吸札因此必須使用適用于真空的自動裝置.由于電機和電子設(shè)備產(chǎn)生熱3傘排除污染物氣化而這些在真空中是 非常難以除去的，因此逸用于真空的自動裝置被設(shè)計為使其電機和電子設(shè)備處 于真空腔O卜.在真空腔內(nèi)，使用長的機*<^動*^將動作轉(zhuǎn)移到要被處理的 物體上.這種配i是清潔的，不會在腔內(nèi)產(chǎn)生熱，但是由于具有相當(dāng)?shù)拈L度、低剛性以及聯(lián)動機構(gòu)的自由移動(play)，因此會存在閨有的定位準確性和可重 復(fù)性不好的問泉因^可獲得的真空自動HX對于^f將m^預(yù)對準器轉(zhuǎn) 移到平臺的這一關(guān)鍵步壤來狄不夠的.很清楚，需^-種替財法，使得自 動WL的精確，)^可重復(fù)性是理想的.圖汰示系統(tǒng)100的實施方案，其中面相L3可以用于在最后的轉(zhuǎn)移中準確地 和可重復(fù)的定仗由此允it^用清潔器和必要的不精確的自動裝置.iiit將面 板3運動地對接到預(yù)對準器，可以獲得面板3相對于預(yù)對準器的準確位置.下部 的V溝槽15a與圃的尖端的銷15b^噹合，在一個實施方案中該銷15Wi"f^對準 器中，下部的半^6a可以類似于尖端的銪15b,上部V溝槽16b可以類似于V溝槽使用V溝槽15a^l6b以及圃的尖端的銪15b和16a以^^m動對接是已知 的，M在著其他6知的同樣有效的運動對接(ki加旭tic dock)設(shè)計.本發(fā)明 不限于使用V溝槽和圃的尖端的銪，而是原則上可以按照所有已知的運動對接設(shè)然后自動^UW^手沐取面板/框架/;^a件，并將其移動到恰在平 臺7之下.剿《的，當(dāng)城手將面板/框架/^Oa件向上移動時，可以通過將 面杉L3中的上部V溝槽16b與平臺7中的半球16a嗜合在^而獲得面;fe3相對于平 臺7的精確運動位置.在面板3已^i^動的與平臺7嚙合^J&，可以給閂銷9一 電卡盤17供肯l分別艦舌片8夾條架2以及將mi拉靠在平臺7上.然后自 動^^手4可以將面板3向下移動，并將其縮回離開平臺7.運動的對接的固有屬性是它們可以在幾個Wt之內(nèi)重復(fù)進行，只需^^初 的對準是在配套醋的捕獲范閨(capture range)之內(nèi).例如，每個半球16a與部分.如果滿足該條件,^么與起初的對不準無關(guān)，可以獲得同樣的IU&相對 位置.捕獲范閨絲于配套,的尺寸.例如，使用圖1-4所示的R^尺寸， 容易獲得約土l咖的捕獲范圍.由預(yù)范圍大于真空自動裝置的一般重復(fù)誤差， 可以實5^斤希望的功能性械.當(dāng)面板3與平臺7運動地嗜合時，自動IMWft
手4必須傲認于(&Y)平面，從而不至于將自動^J^手4所建立的運動I^強 加在運動的對^"上，而是使得對接S6^的相互作用限^&的^^相當(dāng)大的 長度，低剛性，以>54 4*手聯(lián)動鴻的自由移動，可以提供所需的少量^UM^如上所述，本發(fā)明的實施方案利用具有準確'^可重復(fù)性的自動iW解決了將框架2從預(yù)對準器向平臺7準確絲的問亂為了有效絲之外，從艦l被 從預(yù)對準器提取的時刻到卡盤17被供能的時刻，皿1必須相對于面船而言確 切的保持在相同的位置上.確保這一點的一個方法是將船良1緊密的裝錄框架 2內(nèi)，框架定位ge^5a與它們對應(yīng)的定位9^5b有非常小的間隙.但是這可能不 是最理想的預(yù)期情況，閎為緊密裝配的零fNMi開時容易產(chǎn)生許多顆板幸運的晃^t^發(fā)明的大部分實施方案中，可能不需要緊密的M因為零件之間 的^^l^足以將它們^M^5y逸當(dāng)?shù)奈恢?由于和真空內(nèi)的電^a關(guān)的困艱并且因為抽吸W^真空內(nèi)無法工作， 適用于真空的自動裝置可以被設(shè)計為它的加# '^11到足以允*用簡單的無源夾具(passivegripper),這種夾具^Ut過重力和摩擦力來將晶片保 持在3個銷上，真空自動裝置制造商提供了g上無滑動使用的簡單的夾具.因^我們已經(jīng)側(cè)重于IU&的絲準確性問^本發(fā)明的其他實施方案顯 示出蓋子2如何利于將艦1與平臺7相對準.通常如上所述，iitNJ'J吊舲中的工 具內(nèi)的模版可以相對于面板具有約l鵬的定位誤差以及約l度的取向誤差.這些 誤差可以減小到;U8Mt和小于約ll&^秒.為了實現(xiàn)這一點，預(yù)對準器^m版i 與面板3之間的相對對準和定>{^^^ 4量和^￡^^夠的，因為面板與平臺的運 動的對接已經(jīng)是非常準確的.優(yōu)逸的充不將艦1從框彩JJ^下而進行再次 對準，從而在^T一個^L^面上不會產(chǎn)生^f顆板在各種實施方案中，翻兩件式蓋子102簡化了將mi與面板3對準的方 法.自動裝置將面板/框架/模fi^ft件送至預(yù)對準器，該預(yù)對準器裝備有一套 圃末端的銷15b.因此iiii將下部的V溝槽15a與圃末端的銷15b嚙合，該組件與 預(yù)對準器運動AM"^^.因此面^L3相對，對準器精確的對準和定位.由此為了 將微1與面板3進行精確的定錄對準，所需要的僅>01^將其相對預(yù)對準器 進行定錄對準.為J^首先要測量誤差，然后校正誤差.^#本發(fā)明的一個實施方案，測量誤差的一種方法是l^對準器裝備采用 攝脅的視覺系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以測量在m困案中的lE^永久罔定于預(yù)對準器
的并與圃;Mfe的銷相校準的把之間的角度和位置誤差.由于該困案位于皿l的底側(cè)上，攝脈必須執(zhí)面板3,該面;feL^ISL脅的IMt波長下應(yīng)當(dāng)是透明的. M—些已知的其他方法能夠?qū)ξ恢煤徒嵌日`差進^(H量，本發(fā)明不限于使用 攝IM^—套么在一個實施方案中，為了校jE^im相對于預(yù)對準器的位置和角度取向，預(yù)對準器可以裝備具鴻X Y, Z種z自由度的精度IM!L器.該預(yù)對準器可以具有能 夠iait嚙M片8而將框彩從下面^升的;Nift手.精度IMWjm首先將框架/ 模版剛好提升離開面;fe3,然后進行X,Y^0z校艮^^框架/m降低回到面 板3上.此時，艦l相對于面;feL3對準，并準備轉(zhuǎn)移至平臺7.將框婦相對于面 船重新定位需要在定位SC^5a^5b^間具有充分大的間隙.可以理解，由于已經(jīng)知道真空自動裝置能夠##物體而不會滑動，因4 種崎對可以提^fiMt確定位的準確先另外，各種糾對可以是安全的崎對, 以防止在可由;9Mt或電力3Ufc導(dǎo)致自動^X突然的停止情況下發(fā)生嚴重的意外 滑動.在那種情況下，M失精確的對準，但是各種ge^對會防jb^a從自動最后，在用于具有一個長范閨自由度(例如沿著Y軸掃描的)掃描光刻系 統(tǒng)的實施方案中，預(yù)對準器可能不必沿著與平臺7的掃描軸相一致的自由度校正 位置誤差.只需測量位置誤差，并將其通知至平臺控制器，然后該控制器艦 在掃描ii^中相應(yīng)的偏移平臺Y位置而4,置誤差.因jit在各實施方案中，各種SMt對可以導(dǎo)致只具有一個水平平移自由度 的預(yù)對準器中的精度H^L器，該自由M實施例中;IJC方向，Z種z方向也同樣 需要的，因^在預(yù)對準器中的精度賤器的設(shè)計可以針對掃描i^l工具而簡 化.閨5表示描^^發(fā)明實施方案的方法500的 誠田.方法500可以是利用兩 件式蓋子的對準和轉(zhuǎn)移方法，在步，1,用面板中的第一套《￡#對以及預(yù)對準 器中的相應(yīng)崎對，面板/框架/^&ia件可以被運動^t接至預(yù)對準器.在 步彩02，測量 ^對 對準器的位置和角度偏移.在步鵬03， ^Ml框架 以對測量的偏移進行校4它將m相對于面板重新定位.在步恥04,面板/框架/模^a件^t^預(yù)對準器中拿隊在步鵬05,面板/框架/模^a件被移 動至平臺加栽位置，幾乎沒有相J^滑動.在步彩06,利用面板中的第二套ge^
對以及平臺中的相應(yīng)se^對，面板/框架/;^a件;it^動J4^接至平臺.在步*507， ^UMS架用內(nèi)置于平臺中的夾持裝置(例如分別是靜電卡盤和M 閂鎖)來固乞在步彩08,除去面板而暴Jl^L如前所述，當(dāng)^EUV工具中處理和對準艦時，本發(fā)明的實財案用于顯著JW少顆粒污染的產(chǎn)生.在傳統(tǒng)的系統(tǒng)中，； 使用蓋子，在^-次將^ASMIF吊凇中除去/重^JL4該SMIF吊掄中時，在每次將其^JL^真空內(nèi)的庫 中或從其中除去時，在每次將其加栽和卸栽在平臺處時，都形成/打破了 *1 接觸.M本發(fā)明的實施方案，如上和如下所t通it使用兩件式蓋子可以對傳 統(tǒng)的系鍵進行isa &和框架之間的接觸不會再被打破，因為框架##為與 ^&接觸，即^ML詠itit程中4^ia^已經(jīng)設(shè)fe^處理皿的同時^波的 表面產(chǎn)生的顆粒數(shù)目直 ^與^1表面的枳>*^*觸的形成/打破的次數(shù)而變 化.通過完全消除在摘工具中形成/打破與艦的接觸的需要，與i3Ut^ 手直^Nft運^^S比，兩件式蓋子相對于傳統(tǒng)的方法中所教導(dǎo)的一件iU子有 了明顯的i4ii,而4m的方法僅^fci減少了與^^UL面直接相關(guān)的顆粒產(chǎn)生亊 件的數(shù)量.本發(fā)明該實施方案的兩件式蓋子也可以使用用于和^l接觸的柔軟材料， 而不必太多顧及該柔軟材^耐用'良西為在原刺J^ft免了重復(fù)的磨損作用.和顆粒產(chǎn)生.柔軟的材辨;如柔軟的聚合物可以易于流動，從而是顧應(yīng)于而不 ^^傷^L的^Nfc拋iyL面.相反，在不使用兩件式蓋子和直接利用自動IM!UNilt手搬運m的傳統(tǒng)系 統(tǒng)中，需要^N^手的接觸點上有M材料以使得;^Wt手具有可接受的耐用仗"-^式蓋子的接觸點的最好的^yt取中間俛因為絲一些接觸辨，^是很多.但是通過使用本發(fā)明的實施方案的兩件式蓋子，當(dāng)發(fā)生變形而使4f^度不可接受時，可以進行更換，本發(fā)明實施方案的兩件式蓋子也易于將皿與平臺預(yù)對準.iW即使利用 ^^度的自動裝置，可以實現(xiàn)從預(yù)對準器到平臺的精確IU&轉(zhuǎn)移.本發(fā)明的兩件式蓋子比自動K^m手更容易的絲清潔.而位于光刻工 具深處和真空中的自動IWLM手需^A式的維護，所以每次將;gl^UUAI 工具中彈出來清潔或者更^jl子要方便得多.本發(fā)明對利用SMIF吊舶的示例性;^J5f^i4行了描述.逸洋的描迷只^ 了方4fc^JL而不是絲本發(fā)明限制在這些示例性的絲中.事實上，在閱讀 了以下的描述之后，相關(guān)領(lǐng)域的技^A員可以理解dH^^有已知和未iMUl 的替換g中實^^發(fā)明.閎此，絲本發(fā)明的實施方案，使用一種系統(tǒng)和方法來^ig^動學(xué)^M^艦與保護蓋子對準.餅可以在預(yù)對準測量和絲至m平臺中!MH^的精確相對位置關(guān)系，由jfcift免了將^M^I^預(yù)對^it程中在光刻工具中重新進行 城定位.第二，本發(fā)明鄉(xiāng)了一種硬4fc^^接觸區(qū)域的方法，從而^J1與 蓋子接觸的時候產(chǎn)生較少的顆^田6表示本發(fā)明實施方案的兩件式蓋子102.樹良1具有能夠與框架2中的對 準豕^fr確對準的ii^601.在一個實施方案中，在船U的i^601中至少是接 鵬動對準g&^2的部^t行倒角.在另一個實財案中，mi的ii^601的 該部分成兩角而不是斜面.在又一個實施方案中，在皿l邊角處的改進邊緣部 分的t吝、在每個邊角中產(chǎn)生球形或者圃環(huán)形(toroid)扇區(qū)(球形或者圃環(huán)形的 八分之一)，然后它與框敘的每個邊角中的可適用的對準S&^602ii4t^面接 合.用戶可以選^a組的^Ui^601的哪些部分要被接觸，而哪些部分不被 接觸.關(guān)于框彩中的對準fiC^02，其位置不限于如田6所示的框架的邊角.但 a優(yōu)選的實施方案中，這可^1一個優(yōu)逸的位置.例如，框架2可以在^HW 的中部具有對準1&#602.顯然，對準《&#602的實際形狀可以是不同的，以最 好的容納^Ki^601.例如，在一個實施方案中，對準ge^602可以是V形槽， 溝撒02的每個面603是平的.這種特定的形腿合于容納在^ML^601的圃 角.可以理解，在其他實財案中，如果^Ui^601是倒角的，它們最好由對 準SE^602中的凹形(而不是平的)溝槽表面4^納.絲本發(fā)明的一個實施方案，使用對準K^602可以省略困5中的步柳3. 狄非常有利的，因為會需要相當(dāng)復(fù)雜的預(yù)對^L^ijt^M&婦.艦消除了)W彩相對于面)H3重新定位的需要，簡化了光刻工具的設(shè)計.困7表示本發(fā)明一個實施方案的系統(tǒng)100.框架2可以 # ^1, ^Hiit第 一套運動的對準S&ff地01a^201b與面;fe3運動J^準.4^f以的，面船可以通
過笫二套運動的對準崎j^202a^202b與自動IM JUW^手4運動iW準.另外， 可以使用第三^動對準S&fN203a^203b^面;tl3與真空庫架和總的由13表 示的SMIF吊搶^Lit^:動對準.在田7所示的實施方案中，運動eft202a^203b共用同一個溝槽，202a^ 溝槽的最里面通過界面連接J202b， 203a^溝橫的最外面通itl^面連接至203b. 對于核域的技"員來禮很明顯該相對位Jbi可以顛倒的.顯然，分開的 溝槽用于實a動配件的每個.在另一個實施方案中，可以使用一件i(Jl子.在該實施方案中，框婦可 以閨定于(例如粘結(jié)或者由同一塊材料制成)面板3，以形成一件式蓋子.該一 件式蓋子dNp被除去，以進^Ki的^碟尤罔此，在該一件式蓋子的實施 方案中可能不需要配件對201a^201b.硬化的艦已經(jīng)知道，艦l的EUV^fiJl^^層的沐泉是易損和柔軟的.因此該涂層在 接觸時易于產(chǎn)生顆粒.因艦想的是具有一個;^EUViUH^層的特定區(qū)成它可 以用于由其反射側(cè)支撐或者傳送艦l.為j^更硬的襯jMt料將變?yōu)椴籭taJl 的樣是"暴露的"表面.遣憾的充實際上產(chǎn)生一>|^^棵露的 ^村;1^露 的區(qū)域(M是棵點)是非常困難的.產(chǎn)生棟吝、的一種已知的方法是使用在沉 積^EUV;!U^層的粒子束栽射過^a蓋它們的掩模.^方法的一個問M由于 沉積at程的性質(zhì)，易于在掩模上形成木、牧的顆^l者薄片，并在該過程結(jié)束除 去掩模的時候會脫恭 一輛絲者薄片會^mJi并將其污染.另一個暴法的問絲預(yù)蝕刻過程也易于損if^l的其它區(qū)域.看起來^0U^t^如本說明書中所迷的成圃角的或者倒角的ii^汰可以 解決支#^1的問題.但是實際上并不如A因為EUV;Mt^層的艦性決定了空白的村;MMt涂布之前其姊必須已妙工成絲的形狀，并且由于沉積涂 層的栽4tit程的均勻的、非選棒汰的瘦蓋，未被掩蓋的倒角或者成圃角的#4fe^布有脆的材料.為了解決上迷問題，已經(jīng)提出用更硬的材^^^EUV賄材料.對這種材 料的通常選擇是沉積vj!tEUV反^料頂部上并被選棒汰蝕刻從而產(chǎn)生或者"寫 上"艦圖案的EUV峰層.遺憾的是，為了具有iMl的光學(xué)特性，該層必須是非常薄的.在柔4tSj^材料頂部上的薄的ia推層^Mfe^^觸的高水平應(yīng)力 下容易破禮可以在峰層頂部上加上一個厚層并對其進行選棒法蝕刻，但是脅昂貴并且也絲過"^ii實.閎此，需^^種能夠補^LMt^層的固有柔軟'脈脈汰，而不需JN^蓋或 者要除去涂層來產(chǎn)生棵點的過乾也需J^種在所i^觸區(qū)域中不需l^點也 不用4J1附加保護層的方法，有猜想認為EUV^4t^層的固有柔軟性是由于它的多備汰質(zhì)'W領(lǐng)i^斤 知，EUVA^層迄今為止的"多層結(jié)構(gòu)"或者簡單的表示為"多層"可以包括約 100^Hi和硅的交替層，每個成分的;^5t有幾個納米厚.不論是M是鉬通常都 不是柔軟的材料.因jH^絲本發(fā)明的實施方案，這些材料紐想的接觸點處可以局部溶^""^,以將柔軟的多層結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)楦驳膭蛸|(zhì)的合^t料層.僅為了方^Jt我們將多層局部轉(zhuǎn)變?yōu)楦参镔|(zhì)的過^4^T局部熱處理".在一些實施方案中，不需要完全熔化該多層，以獲得理想的狄奴罔 為已經(jīng)知道熱導(dǎo)致多層中的每種材妝速的擴^JiJ另一種中，由此形成更均質(zhì) 的層.即^tjt溫度低于多層的成分中任一種的熔點的溫度也可以發(fā)生這種情凡 因此顯然，也可以采用局部熱處理，以通ili相擴^Jll代替熔化而將多層轉(zhuǎn) 變?yōu)閯蛸|(zhì)的層.在其他實施方案中，外來物質(zhì)在層上的沉積+擴散可以用于增強該層.因 此對存在外來物質(zhì)的接觸區(qū)坎為使該物質(zhì)加入該層而進行的局部加熱，作 為熱處IEit私圖8表示本發(fā)明實施方案的方法800的J3Mi閨.方法800可以用于i^t將多 層結(jié)構(gòu)的EUV反^^層進行局部轉(zhuǎn)換而強4t^L中的用于搬運的區(qū)禮在步稞 802中，進行用EUV反射多層結(jié)構(gòu)(鉬-絲者鉬-釕-硅多層，如lLI ^r技術(shù) 中的狀態(tài))涂布^L襯底的操作，在步期04中，對要用于搬運的區(qū)域進行局部 的熱處理，從而將多層結(jié)構(gòu)的局部熱處理部分轉(zhuǎn)變?yōu)楦鼜姷?更硬、更堅固) 的材料.在一個實施方案中，可以通過例如有包括反應(yīng)性試刑和催化劑的化學(xué)物質(zhì) 存在情況下將大功率 束聚焦在模版的特定區(qū)域中進^#鵬04.可以使用其 他類型輻射能量來代替^bfe束.可以4吏用其他局部加熱方法，例如利用射頻電 磁場的感應(yīng)J^熱.
典型的EUV^^村JMt^多層結(jié)構(gòu)自身的低導(dǎo)熱性便于專門對所需區(qū)域 進行局部的多層轉(zhuǎn)變.可以進行這一點，而不用過于擔(dān)心在模版的有田案場區(qū) 內(nèi)或者附U意識的改變了該EUVJSUt材料.該多層結(jié)構(gòu)應(yīng)當(dāng)g為完整無缺 的，以##其獨特的光學(xué)性質(zhì).按照4本說明書中建議的將接觸區(qū)域iit3^ 版l的邊角處使得它們距離該有困案的場區(qū)的距離最大化，因此使得對接觸區(qū)域 局部熱處理的影響對于關(guān)注的^JJl有困案的場區(qū)的光學(xué)特征而言最可以忽略 的.圖9-ll表示本發(fā)明實施方案的^Ul子(reticle cover)是902.在預(yù)定 時刻可以除去的^&jl子902保護模版(例如掩模(mask))901. ^Ul/J"902對 一定的光波長可以是透明的，其包拾支撐墊或者墊閨903;嵌絲904;運動 定位器(例如掩模定位器)905;以>^孔906.孔906可以用于在蓋子902和皿 901之間注A^a壓氣體清掃，該;Ui可以包括空氣過濾器.可以使用各種材料來 制造墊903和銪904,以使它們在接喊者脫離^&901的時候不會損ifm901 或;tiMC出顆板因為/j5L^^901和嵌4H^90仗間可能需^""些間隙來除去蓋 子902， ^L會相對于蓋^902有少量的滑動.對線實施方案的j5Uibi該蓋子 902"是平的.通it^用a平的設(shè)計，在清潔過程中會存留更少的液A因 為沒有可以存留液體的絲者4JS夂閎此蓋子902是容易清潔或者是"超凈 的(superclean)".在某些實施方案中，在池里對蓋子902超聲波清潔、漂洗、 和離心烘燥清潔.罔^與^復(fù)雜的蓋子由于其自身結(jié)構(gòu)的原因而非常難以 清潔相瓦蓋子902非常容易清潔.雙重包套的皿盒(例如^1吊艙)困12- 13分別表示本發(fā)明實施方案的模版盒(reticle box)或者吊艙 (pod) 1250 (以下絲為H )的側(cè)視圖和分解困.田17顯示了示例性吊餘 1250的更多特征，以下將會詳細描迷.吊搶1250包括可以氣密的外盒1252,該 外盒具有一基部1254，基部1254固定到蓋子或者是軍1256其可以是逸Et閂鏑(未 顯示)而固定的.板1258類似于上面的蓋子902,可以^^是平的，沒有《L4者 腔穴，這樣減少了顆粒的產(chǎn)生，并使得板1258清潔起來更容易.而且，因為不 需要螺絲等，所以產(chǎn)生的顆粒更少.可以使用顆粒密封裝置1260 (例如內(nèi)部或 者第一包套)來保護皿免受顆粒侵害，并可以使用氣體密封^tjt1262 (例如 夕HP或者第二包套)來使得該外盒1252氣密封，它保護著內(nèi)部或者第一包套1263 不受分子污染.當(dāng)?shù)跖?250封閉時，顆粒密封裝置1260在氣體密封裝里1262之 前嚙合，并J^吊搶1250打開時在氣體密封裝置1262^J&解開.這與傳統(tǒng)的缺 少氣體密封裝置(因為不^t^真空)和顆粒密封裝置的系^N瓦夕峻1252內(nèi)罔定有透氣的內(nèi)敝1263，它用于防止^污染，并具有可拆 卸的部分以便于清先內(nèi)jett:1263包括兩頂1264 (例如Pyrex⑧玻璃圃頂)，它 可以具有與板1266 (例如由聚酰亞胺、ESD級聚8ISt亞Jfe^N成或^^布有聚跌 亞胺、ESD級HS^亞胺等)耦合的薄壁(例如2nm).皿l和m蓋子102 (例 如由Pyre誠玻璃^W成)iiUL^能與自動IMMOfe手沐示出)相互作用的內(nèi)膜盒 1263內(nèi).可以使用裝置1268 (例如彈黃等)將圃頂1263耦合至軍1256,并向內(nèi) 敝1263:Jfe^lM^壓力，使艦1在傳輸過程中不M動.也可以壓顆粒密封裝 置1260.船"的表面1302可以;ljat璃的、鍍鉻(例dW^MU或者利用其他耐 用材^IML的.在^過程中，吊搶1250的蓋子或者革1256可以除去以拿JM^ 版l.過濾的iiill304可以將包括在鵬頂1264和板1266之間的空間與fe^在吊舲 1250內(nèi)的其它空間相連，允許氣體在兩個空間之間流動，但是防jUH粒流動.孔:另二個示例可以是穿選長1258S^r燒結(jié)的粉末金屬氣^N^ll器等的l可 以理解，可以使用其他的位置和過濾裝置，誠領(lǐng)J^斤已知的.對準裝置1306 可以具有JMfciE胺涂布的接錄面.用于制造吊舦1250各部分的上述示例材料減少了顆粒的產(chǎn)生.可以理解， 這些材料只是優(yōu)選的示例，可以使用其他已知的材料.吊凇1250可以分兩個階段打開，如以下關(guān)于系統(tǒng)使用技術(shù)所詳細描迷的. 首先，軍1256升高預(yù)定的高充以打破氣體密封裝置1262所形成的氣體密沐 ii^H吏得氣體3ltA到吊搶1250中，并且顆粒隨著氣#*傳輸.但是顆粒不會直 接到達艦l.氣體流動^t該過濾的通道1304,將岡頂1264內(nèi)的壓力與外界的壓力相平 衡.第二，因為軍1256可以連續(xù)的升起，圃頂1264可以升高離賴L1266.在前 迷步稞中圃頂1264內(nèi)的壓力已經(jīng)與外界壓力平衡之后，當(dāng)圃頂1264^離開時 在圃頂1264內(nèi)或者是外沒有明顯的氣體或者顆粒的流動.在這些實施方案中， 圃頂1264、板1266或者是這兩絲是透氣的，樣是它們允許氣體流動以狄
圃頂1264內(nèi)外之間產(chǎn)生壓力差. 負栽鎖(load lock)困14- 15分別表示本發(fā)明實施方案的負栽鎖的側(cè)視田和分辟汰困.在一個 實施方案中，船il401 (可以在支撐銷1404的頂部上)和mil子1402iitX^ 基部1403和圃頂140記間.圃頂除去裝罝(例如圃頂抬升器)1406包括電機1407、 導(dǎo)if^fl408以及波紋管(bellow) 1409.負栽鎖也ferfe用于大氣倒和真空倒門閥 的開口1410.所有的J^部件都i5X^底部(例如真空殼)1411和頂部(例如 真空殼頂)1412所形成的封套中.負栽鎖還可包括JM^吊搶圃頂?shù)拈_口端一 致的密封M和/或顆粒密封東置，用于防j!JRiNt圃頂和^^之間流動.負栽 鎖還可包括過濾的通道1413 (例如穿過圃頂壁的孔，并JLSU有薄膜氣糾濾 器)，它使圃頂內(nèi)的氣體壓力與兩頂外的氣體壓力相平衡，還包括用于;J^PJ負 栽鎖內(nèi)空氣運栽(airborne)或者氣M栽(以下都稱為空^栽)顆粒的 (例斧傳感器或者檢測器).通常，負栽鎖是非常臟的，主要是因為密封以對負栽鎖進行抽空或者iiX 的門閥所致.每^t行密封或者開啟密封時，產(chǎn)生了空氣^lil氣^栽的顆 私而且，門閥是復(fù)雜的;^MUE件，具有許多導(dǎo)致移動、磨損和摩擦的辦以 賴滑劑.姚導(dǎo)致污物集絲負栽鎖的內(nèi)部.在負栽鎖的iiK3t程中，氣體 ^A負栽鎖并將其壓力與大氣壓力相平衡，導(dǎo)致顆粒產(chǎn)生運動.而且，當(dāng)抽空 負栽鎖時，氣體流出負栽鎖，導(dǎo)致了顆粒的流動.閎^絲本發(fā)明的實施方 案，iiit將^^L封絲圃頂和板內(nèi)，保護微不受顆粒傷害.圖16- 17分別表示本發(fā)明實施方案的模版搬運核心(reticle handler core)1701和^&搬運系統(tǒng).模版搬運系統(tǒng)包括核心環(huán)境(例如真空和#^境) 以及大氣(空氣)環(huán)境.核心環(huán)^^位于^^搬逸法心1701內(nèi).參考困16, ;gl^搬運核心1701 fe^在真空腔1602內(nèi)的皿160L皿1601通過可以具有兩 個臂的真空自動裝置1603移動通過真空腔1602.模版核心1701也包括在真空腔 1602和加工腔之間的門閥1604. ^J&核心1701還包括具有負栽鎖渴輪泵1606和 負栽鎖門閥1607的負栽鎖1605. ^i核心1701還包括打開吊掄1609的脫吊舲器 (depodder) 1608,負栽鎖和脫吊搶器中的開口連接至清潔空氣^^Jg1610, 并可以通過,境自動裝置1611而進出.200710102348.1說明書第20/23頁在IMt過程中，從打開的吊舲1609中iiUt^^t自動裝置1611除去^1 (該困中看不見).然后該^XSiS4t門閥(gate valve) 1607;&X^負栽銷1605 內(nèi).抽空負栽銷，利用真空自動裝置1603將^A負栽銷中除去.利用自動裝 置1603將mi601傳輸通過真空腔1602，并通過門閥1604^JLjUa工腔(困中 未顯示)內(nèi).在加工之后，真空自動裝置1603將^UUo工腔內(nèi)通過門閥1604 除去，并通過門閥1607^JLj5L負栽鎖1605內(nèi).然后^負栽鎖iiK mi601 ^tA^f^l610之前"至左穿過負栽鎖1605. IBUf^l610可以充有清 潔的過濾和/或者干燥的氣體(例如干燥氮氣).然后W!t自動裝置1611將模 M負栽鎖中除去，并^tJL在位于脫吊舲器1608內(nèi)的打開吊搶1609內(nèi).然后該 脫吊搶器關(guān)閉吊Jifr.參考閨17, ^&搬運系統(tǒng)也包括具有用于移動吊搶1703的大氣自動裝置 1702的空氣或者大氣減.吊艙1703可以存絲吊搶絲架上，如困所示.一種自動M嚙合的各部分來搬運吊艙1703.顯示為處于上位的吊齡脅1705 將由IMt者;M在輸入位置1706的吊搶1703li升到自動裝置1702的搬運平面. 或者，可以將吊搶1703由將吊搶1703iti在自動裝里1702可以直接到達的位置 1707的架空歸( 示)傳^i^該工具.自動HJL1702能夠?qū)⒌鯎?7034Ji 部升I^jL動器1712,吊搶務(wù)睹架1714、架空位置1707和/或者脫吊搶器1609之 間移動. 一旦吊搶1703紅在脫吊搶器1609中，^m^Uiy^心1701打開吊歉 1703，并加工該艦1601，如上所^同樣，^j5t^ll601已^b^工41^,模 版搬運核心1701絲^Xl再^i在吊搶1703中，并關(guān)閉吊搶1703.因A該^ 大氣部分之間**1分. 一這兩個子系統(tǒng)通itJK吊搶器1609彼ifc^對皿1601的搬逸^L搬i^ 心1701可以參考困16絲述，但是在田17中也可以看見，它位于大氣自動裝置 1702之下.為了便于讀者確^"向，指出了真空腔1602、 tUf^1610、脫吊 艙器1609以及鄉(xiāng)境自動裝置1611.在大氣Jf^核心減中都有絲能力.在一些實施方案中，過濾的空氣環(huán)境也可以包括識別站，用于閱讀在吊 艙1703上編碼的ID標^連接至吊搶1703的智食1#錄.在一些實施方案中，氣# ^境可以包松(a)識別站'用于讀出在掩模 上編碼的ID標i&; (b)熱調(diào)整站，用于使得輸入掩模的溫度與預(yù)定的加工溫度相 平衡(c)掩模檢驗站，用于;^W在掩模的至少一個表面上的污染物；(d)掩模 清潔站，用于從掩模的至少一個表面上除去表面污染物；和/或(e)掩模定向站, 用于相對于^**1將4^ 行精確的定向，而J^t一些實施方案中，^境用選 自以下的氣體進^f凈4t包括過濾的干燥空氣、合成空氣、千燥氮氣和干燥 氧氣的混合物、和/或干燥氮^il者其他氣體.在一些實施方案中，真空部分包拾(a)識別站，用于讀出在掩模上編碼 的ID標仏(b)庫(library),用于暫時'lMh睹至少一個4^模；(c)熱調(diào)整站，用 于使得輸入掩模的溫度與預(yù)定的加工溫度相平衡(d)^^^^J^站；(e)用于檢 測在掩模的至少一個表面上的污染物；(f)掩模清潔站，用于從掩模的至少一個 表面上除去表面污染物；(g)掩模定向站，用于相對于;Wt掩^b行精確的定 向；和/或(h)加工站，用于加工至少一個掩模.在一些實施方案中，加工站用 于利用it^掩錄面上的困案it^復(fù)制到涂有光刻膠的晶片上在一些實施方 案中，光波長對應(yīng)于光譜的極紫外(EUV)部分，在10-15納米之間，優(yōu)迭在13納方法圖18表示絲本發(fā)明的實施方案用于傳輸掩模的方法1800的3Jt^困，在步 壤1802，將掩模的第一部分用可移式顆粒蓋子(particle cover)覆蓋.it^形 成一個暫時的掩模-蓋子裝置，它保護著第一部分不受空氣運栽的顆粒污染. 在步驟1804，將掩模的第二部分留下不覆蓋.在步尿1806， #^裝置封閉在氣 密的盒子內(nèi).該盒子可以包括有掩模絲部絲能與該掩^^部分分開的革, 用于保護掩模不受空氣^的分子污染.在步驟1806，傳輸盒子內(nèi)的3ML圖19表示根據(jù)本發(fā)明的實施方案傳輸、搬^加X^模的方法1900的流程 圖.在步驟1902，將掩模的第一部分用可移式顆粒蓋子mJL 3#形成一>^ 時的掩模-蓋子裝置，以保護第一部分不受空氣運栽的顆粒污染.在步和904, 將掩模的第二部分留下不在蓋.在步槺1906,員裝置封閉在氣密的盒子內(nèi). 該盒子可以具有掩模絲部絲能與該掩模絲部分分開的革，用于保護掩模 不受空氣運栽的分子污染.在步壤1908,將帶有該裝置的盒子傳輸?shù)郊庸すぞ?該加工工具具有以下每種部件的至少一個'包拾脫吊餘器、^J5f^、 m5m^器、負栽鎖、
真空腔、真空躲器以及掩模線在步樣1910,將包含有該HJL的盒子絲脫吊搶器的第一開口上，使得盒子的革防止氣體ii4i該第一開口而流動.在步稞1912,用清潔氣M化脫吊舲器的內(nèi)部.在步碟1914,將掩模i^部^革 分開而打賴盒子，絲革在原仗用于歸氣體流動，將掩模運栽部^a 裝置移動到脫吊艙器的內(nèi)部.在步驟1916，利用^f^Mll器iW第二脫吊舦 器開口而^t裝jL^吊搶器抽WJ^ft^內(nèi)，并絲^LJLiiit第一負栽鎖 開口放到負栽鎖內(nèi)部.在步稞1918，抽空負栽鎖.在步稞1920,利用真空Kt^ ^F該裝置iiit第二負栽鎖從該負栽鎖中抽出，并絲裝置移動到真空腔內(nèi). 在步壤1922,將該裝Jt^t掩模JL^上，使^^模的iMUl部分與i^^ 觸.在步驟1924，利用該JL^^^掩樣在步碟1926,利用真空魏器，將 蓋子與掩模分開，取走或者重新定位蓋子.在步槺1928，加工掩模.困20表示用于將掩模在負栽鎖中從大氣壓力傳輸?shù)秸婵盏姆椒?000的流 程困.在步擬002，將掩^L3L在負栽銷內(nèi).在步彩004,將掩模用圃頂;jlli， 以防止負栽銷中的空^^的顆辯，J達掩樣在步彩006，關(guān)閉負栽鎖.在步 2008,抽空負栽鎖.在步彩OIO，打開負栽鎖至真空.在步啦012，縮回圃 頂而使^"模不4fcjSyL在步戲014,從負栽鎖中移開掩模.固21表示用于將掩^^隊負栽鎖中真空傳輸?shù)酱髿鈮毫Φ姆椒?100的流 程閨.在步彩102,將掩^JL在負栽鎖內(nèi).在步彩104，將掩模用圃頂莊. 該復(fù)蓋步彩014用于防止負栽鎖中變?yōu)榭諝膺\栽的顆3^KU&的ilSUMr^" 壤中到達掩模.在步《2106，關(guān)閉負栽鎖.在步彩108，對負栽鎖進行肌 在步彩IIO,將負栽銷的大氣端打開至大氣i^.在步 2112，空氣^的顆 粒沉降.在步彩114,縮回岡頂而使4f^模不4itSL^.在步彩116,從負栽鎖圖22表示用于傳輸、搬錄加工掩模的方法2200的流程圖.在步 2202, 將掩模封閉在一個氣密的盒子中，該盒子具有掩模i^部分以及能與該掩模運 栽部分分開的罩，用于保護掩模不會受到空氣運栽的分子的污染.在步彩204， 將包含有該掩模的盒子傳^i，j加工工具，該工M有以下每^HP件中的至少一 種(a)脫吊搶器；(b)^Uf^: (c)^Uf^tlM!l器；(d)負栽鏑；(e)真空腔;(f)真 空K^器以;Si^模iL良在步 2206,將包含有該掩棋的盒子;^脫吊搶器的 第一開口上，使得盒子的軍防止氣^itit該第一開口而流動.在步彩208，用H匕脫吊餘器的內(nèi)部.在步恥210，將掩模itH部 補革分開而打賴盒子，##革在原仗用于f雄氣體流動，將掩模運栽部^^掩模移動到脫吊凇器的內(nèi)部.在步彩212，利用^^IMiL器，通過第 二脫吊艙器開口而4^掩模MJPC吊搶器4iyM!imi5m^內(nèi)，并絲掩模Oit第 一負栽銷開口放到負栽鎖內(nèi)部.在步*2214，抽空負栽鎖.在步 2216,利用 真空IM^IM^r掩模通過第二負栽鎖開口從該負栽鎖中抽出，并# 掩模移動 到真空腔內(nèi).在步啦218， j^t掩^tX在掩模iL^Ji.在步 2220,加工掩 樣總之在上述幾個實施方案中，模版面臨三個環(huán)境吊搶環(huán)境(例如凈化 的干燥氣MUm)、脫吊舲器至負栽鎖Jm(例如真空)、以AA負栽鎮(zhèn)至 卡盤g.在每個環(huán)^it渡中可以將^Jfl封裝在一些實施方案中，通過如下 步驟使用雙重包套吊搶，包松打開吊搶，林脫吊搶器，等待氣絲定，打 開膜盒，賴盒中抽出 ^和/或蓋子.在另一些實施方案中，itii如下步稞使 用帶有圃頂?shù)奶厥庠O(shè)計的負栽鎖，包括將^J&和/或蓋子^X在負栽鎖中，用 圃頂4J1艦，m以凈化負栽鎖，等待氣J緣定，升高圃頂，將艦和/或蓋 子從負栽鎖中抽出.在另外的實施方案中，itit^壓力過渡中控制氣3fc^者在上的顆粒沉降.在另外的實施方案中，利用透^Jl子采用不itoR粒的物理阻 擋件來保護m或者將;gUKJL著蓋子^ H^在吊艙內(nèi)，該^M^蓋子it^負栽 鎖內(nèi)，蓋著蓋子進行壓力itat當(dāng)i4A真空環(huán)境中時除去蓋子.通過采用上述實施方案，即使對各種系統(tǒng)和系統(tǒng)的各部^frf吏用不理想的材 沐也能減少顆粒的產(chǎn)生.這部分是通過使用保護'眺架、蓋子等以及使用了 i^處理策略來實現(xiàn)的，結(jié)論盡管以上已鄉(xiāng)述了本發(fā)明的各實施方案，但是可以理解，這狄一種示 例，而不是對其的限制.相關(guān)領(lǐng)域的技"員可以理解，在不脫離本發(fā)明iHNt 和范圍的前提下可以對形式和細節(jié)作各種改變.因此本發(fā)明的范閨應(yīng)當(dāng)不限 于上述^示例性的實施方案，只應(yīng)當(dāng)由所附的權(quán)利要求和其等同內(nèi)容來限t
權(quán)利要求
1.一種方法，包括(a)用一可拆卸顆粒蓋子組件覆蓋一模版的第一部分，以形成一種裝置，該裝置保護該模版的第一部分不受污染；在對該模版進行曝光之前，當(dāng)該模版處于曝光位置時，該可拆卸顆粒蓋子組件的一部分可移動離開該模版；(b)將該裝置封閉在一盒子內(nèi)，該盒子具有一承載部分和一能與該承載部分分開的罩，該盒子保護該模版不受污染；和(c)傳送該盒子內(nèi)的該裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括使用一氣體密封裝置來防止該承載部分與該罩之間的氣體流動；和使用 一 閂鎖來將該罩可拆卸地固定至該承載部分。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括使用一處于該罩內(nèi)側(cè)的頂，該頂基本上防止該盒子內(nèi)的顆粒到達 該模版；和使用一顆粒密封裝置來基本上防止該頂與該承載部分之間的顆粒 流動。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，該氣體密封裝置與該顆粒密封裝置的工作順序地發(fā)生。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中當(dāng)閉合該盒子時，在該氣體密封裝置開始壓縮之前，該顆粒密封 裝置被至少部分地嚙合；和當(dāng)打開該盒子時，在該顆粒密封裝置開始松開之前，該氣體密封 裝置基本上被解壓，并且與該罩和該承載部分中的至少一個分開。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括使用一種裝置將該頂聯(lián)接至該罩，該裝置包括至少一個彈簧，在 閉合該盒子的過程中，當(dāng)該罩接近該承載部分時，該彈簧在該顆粒密 封裝置上施加壓力，其中，該顆粒密封裝置是可壓縮的。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括使用另一彈簧來將該模版壓靠在該承載部分上，以在傳送過程中 固定該模版，其中，該另一彈簧聯(lián)接至該頂?shù)膬?nèi)側(cè)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，還包括使用一通道來允許氣體從在該頂與該承載部分之間形成的密封腔 流動至該盒子的其余內(nèi)部空間以及返回。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括 將該可拆卸顆粒蓋子組件固定至處于曝光位置的平臺。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，該模版包括反射型模版。
11. 一種用于保持反射型掩模的框架，該框架為矩形并且基本上繞 該掩模的邊緣包圍該掩模，從而保持該掩模的反射表面敞開，該框架 包括緣邊，該緣邊在該掩模的反射表面的邊緣處支撐該掩模。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的框架，其中，該框架具有適合于與一閂 鎖相協(xié)作的舌片。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的框架，其中，該框架具有定位配件，該 定位配件接觸該掩模，從而相對于該框架定位該掩模。
14. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的框架，其中，該定位配件設(shè)于該框架的 至少一個角部。
15. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的框架，具有與運動定位器相協(xié)作的孔。
16. —種兩部件式蓋子，包括按照權(quán)利要求ll的框架以及一板，該 板與該掩模的反射表面的尺寸基本相同，該板具有面向該掩模的第一 側(cè)以及背離該掩模的第二側(cè)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的兩部件式蓋子，其中，該板具有運動定 位器，該運動定位器從該板的第一側(cè)伸出并接觸該框架。
18. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的兩部件式蓋子，其中，該板是透明的， 以允許檢查該掩模的反射表面。
19. 一種蓋子，用于覆蓋具有反射表面的模版，該蓋子包括一板， 該板與所述反射表面的尺寸基本相同，并且在使用時保持成與所述反 射表面基本平行，該板允許對該模版的反射表面進行檢查，并且具有 一框架部分，該框架部分具有定位配件，以便接觸該模版的邊緣，從 而相對于該板定位該模版。
20. 根據(jù)權(quán)利要求所述的蓋子，具有一運動定位器的一部分。
21. —種方法，包括(a)用一可拆卸顆粒蓋子覆蓋一掩模的第一部分，以形成一種裝 置，該裝置保護該第一部分不受污染，并且保持該掩模的第二部分未被覆蓋；(b) 將該裝置封閉在一氣密盒子內(nèi)，該盒子具有一掩模承載部分 和一能與該掩模承栽部分分開的罩，該盒子保護該模版不受污染；和(c) 傳送該盒子內(nèi)的該裝置。
22.根據(jù)權(quán)利要求2l所述的方法，其中，該掩模包括反射型掩模。
全文摘要
一種用于保護掩模不被空載的顆粒污染的系統(tǒng)和方法。它們包括提供一個固定在兩件式蓋子中的模版。該兩件式蓋子包括用于保護顆粒不受污染的可除去保護部分。該蓋子可以保持在用于將蓋子從大氣部分向真空部分傳送通過光刻系統(tǒng)的吊艙或者盒子內(nèi)。在真空部分，在晶片上形成模版上的圖案的曝光過程中移動該可除去的蓋子。
文檔編號G03F1/24GK101105636SQ200710102348
公開日2008年1月16日 申請日期2003年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月22日
發(fā)明者喬納森·H·費羅斯, 伍德羅·J·奧爾松, 圣地亞哥·E·德爾·普埃爾托, 埃里克·R·盧普斯特拉, 安德魯·馬薩爾, 杜安·P·基什, 阿卜杜拉·阿里汗 申請人:Asml控股股份有限公司