專利名稱：投影式光刻機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導體集成電路制造領(lǐng)域的光刻技術(shù)，特別是設(shè)計一種投 影式光刻機。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的光刻機光學系統(tǒng)包括光源，傳統(tǒng)的G線光刻機(波長為436nin)， H線光刻機(波長為406nm)和I線的光刻機(波長為365nm)，都采用了高 壓汞弧光燈或高壓汞-氙弧光燈作為光源。這是因為高壓汞弧光燈或高壓汞 -氙弧光燈都是寬譜光源，覆蓋了G線，H線和I線波段。通過濾波片濾波， 就可以調(diào)整輸出波段。
如圖1所示，已有的投影式光刻機光學系統(tǒng)的高壓汞弧光燈或高壓汞-氙弧光燈的光源通過濾波片照射到掩膜版上，從掩膜版上出射的光再經(jīng)過 透鏡組投射到硅平面上，并進行光刻。但是以前的光刻機都是單一波段進 行曝光。例如G線的光刻機，它的工作波段就只是在G波段。然而，在光 刻不同的工藝的光刻尺寸時，可能需要不同工作波長的光刻機?，F(xiàn)在一般 采用波長不同的多臺光刻機進行不同尺寸的光刻，但是采用多臺光刻機的 成本是很高的，不利于規(guī)模化生長。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種投影式光刻機，只采用一臺光 刻機就可以進行不同尺寸的光刻。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明投影式光刻機的技術(shù)方案是，其光學系 統(tǒng)包括光源、掩膜版平面、透鏡組，在光源和掩膜版平面之間還包括一個 濾波片組，該濾波片組上包括多個濾波片，從光源出射的光線經(jīng)過濾波片 組中的一個濾波片照射到掩膜版上，并通過透鏡組最后投射到硅片平面上。
作為本發(fā)明的進一步改進是，所述的濾波片組包括三個濾波片，通過
這三個濾波片可以分別得到G線、H線和I線。
作為本發(fā)明另一種進一步改進是，所述的濾波片組設(shè)置在一個可以旋 轉(zhuǎn)的圓盤上，三個濾波片的中心距離圓盤的中心距離相等，且圓盤中心到 濾波片中心的距離與光源中心在圓盤上的投影到圓盤中心的距離相等。
本發(fā)明通過在一個圓盤上設(shè)置三個濾波片，可以分別得到G線、H線和 I線，從而實現(xiàn)在一臺光刻機上進行幾種不同尺寸的光刻。


下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步詳細的說明 圖1為已有技術(shù)的投影式光刻機光學系統(tǒng)簡單示意圖； 圖2為本發(fā)明投影式光刻機光學系統(tǒng)示意圖； 圖3為本發(fā)明濾波片組和光源的位置示意圖； 圖4為本發(fā)明濾波片組在圓盤上分布示意圖。
具體實施例方式
如圖2所示，投影式光刻機的光學系統(tǒng)包括光源、掩膜版平面、透鏡 組，在光源和掩膜版平面之間還包括一個濾波片組，該濾波片組上包括多 個濾波片，從光源出射的光線經(jīng)過濾波片組中的一個濾波片照射到掩膜版上，并通過透鏡組最后投射到硅片平面上。
如圖4所示，G指G線濾波片，H指H線濾波片，I指I線濾波片，濾 波片組包括三個濾波片，這三個濾波片可以為圖中顯示的圓形，也可以為 其他形狀。當濾波片為圓形時，三個濾波片的中心與圓盤的中心的連線之 間成120度角。通過這三個濾波片可以分別得到G線、H線和I線。濾波片
組嵌入式設(shè)置在一個可以旋轉(zhuǎn)的圓盤上，濾波片組也可以其他方法設(shè)置在 圓盤上。在圖2中，輪盤上的虛線為放置三個濾波片的孔，孔的中心在光 路的中心，三個孔的中心到輪盤中心的距離相等。即三個濾波片的中心距 離圓盤的中心距離相等，如圖3所示，圓盤中心到濾波片中心的距離與光 源中心在圓盤上的投影到圓盤中心的距離相等。這使得通過旋轉(zhuǎn)圓盤可使 得濾波片的中心在光路的中心。
在利用本發(fā)明的投影式光刻機時，只要轉(zhuǎn)動圓盤，將所需要的濾波片 轉(zhuǎn)動至光路處，使其中心與光路中心重合，就可以利用該尺寸的濾波片進 行相應的光刻。當需要更換進行另一種尺寸的光刻時，再次轉(zhuǎn)動圓盤，找 到相應的濾波片進入光路，就可以實現(xiàn)光刻波長的更換。
本發(fā)明在光刻機的光源和掩膜版之間加入濾波片組，從而達到在一臺 光刻機上進行不同波長的光刻。當濾波片組設(shè)置在圓盤上時，不僅轉(zhuǎn)動圓 盤就改變光刻機的工作波長，而且能減少由于濾波片傾斜等問題引起光束 能量的分布不均勻。
權(quán)利要求
1. 一種投影式光刻機，其光學系統(tǒng)包括光源、掩膜版平面、透鏡組，其特征在于，在光源和掩膜版平面之間還包括一個濾波片組，該濾波片組上包括多個濾波片，從光源出射的光線經(jīng)過濾波片組中的一個濾波片照射到掩膜版上，并通過透鏡組最后投射到硅片平面上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影式光刻機，其特征在于，所述的濾波片 組包括三個濾波片，通過這三個濾波片可以分別得到G線、H線和I線。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投影式光刻機，其特征在于，所述的濾 波片組設(shè)置在一個可以旋轉(zhuǎn)的圓盤上，三個濾波片的中心距離圓盤的中心 距離相等，且圓盤中心到濾波片中心的距離與光源中心在圓盤上的投影到 圓盤中心的距離相等。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影式光刻機，其特征在于，所述的濾波片 組嵌入式設(shè)置在一個可以旋轉(zhuǎn)的圓盤上。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影式光刻機，其特征在于，所述的濾波片為圓形。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影式光刻機，其特征在于，所述的三個濾 波片的中心與圓盤的中心的連線之間成120度角。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種投影式光刻機，其光學系統(tǒng)包括光源、掩膜版平面、透鏡組，在光源和掩膜版平面之間還包括一個濾波片組，該濾波片組上包括多個濾波片，從光源出射的光線經(jīng)過濾波片組中的一個濾波片照射到掩膜版上，并通過透鏡組最后投射到硅片平面上。本發(fā)明在光刻機的光源和掩膜版之間加入濾波片組，從而達到在一臺光刻機上進行不同波長的光刻。當濾波片組設(shè)置在圓盤上時，不僅轉(zhuǎn)動圓盤就改變光刻機的工作波長，而且能減少由于濾波片傾斜等問題引起光束能量的分布不均勻。
文檔編號G03F7/20GK101458453SQ20071009442
公開日2009年6月17日 申請日期2007年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月11日
發(fā)明者駿 朱, 陳福成 申請人:上海華虹Nec電子有限公司