專利名稱：真空承載設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種真空承載設備，特別是涉及一種可提升基板吸附與釋放效率的真空承載設備。
背景技術：
在液晶顯示面板的自動化生產(chǎn)中，如何快速自動傳送、固定、移載基板為提升效率的一重要環(huán)結，而現(xiàn)在的面板廠主要是使用真空承載設備作為基板承載與固定的工具。請參考圖1，為公知真空承載設備的示意圖。如圖1所示，公知真空承載設備10包含有一真空承載平臺12，以及一傳輸管路20連接至真空承載平臺12。真空承載平臺12具有數(shù)個通孔14，通孔14的一端與傳輸管路20連通，而另一端則開孔在真空承載平臺12的一承載面16。傳輸管路20具有三個端點，其中第一端21與通孔14連通，而第二端22與第三端23則分別與一真空泵24以及一去離子水源26連接。
真空承載設備10具有吸附與釋放二種操作模式。在吸附模式下，真空承載平臺12的通孔14與真空泵24連通，此時真空泵24會開始抽氣使傳輸管路20形成真空狀態(tài)，借此吸附固定置放于真空承載平臺12的承載面16的基板18以進行工藝處理。在釋放模式下，真空承載平臺12的通孔14與去離子水源26連通，此時真空狀態(tài)會解除，同時去離子水會注入傳輸管路20中，并由真空承載平臺12的通孔14涌出，借此基板18會脫離真空承載平臺12的承載面16而釋放。
但是，公知真空承載設備10在操作上具有以下缺點，首先，在吸附模式下由于傳輸管路20具有相當?shù)拈L度與空間，因此必須耗費相當長的時間才可達到足以吸附基板18的真空狀態(tài)，且真空泵24也需具備較大的功率。再有，在釋放模式下，由于傳輸管路20的狹長，基板18脫離真空承載平臺12的過程也頗為耗時，而造成效率不高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種真空承載設備，使真空承載平臺可快速吸附與釋放基板，進而提升效率并減少成本。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種真空承載設備，用以承載與固定一基板，并與一真空泵及一去離子水源連接。上述真空承載設備包含有一真空承載平臺、一傳輸管路、一真空槽、一儲水槽與至少一閥門。該真空承載平臺，具有數(shù)個通孔。該傳輸管路，包含有一第一端、一第二端以及一第三端，該第一端連接至該真空承載平臺的該通孔，該第二端連接至該真空泵，且該第三端連接至該去離子水源。該真空槽，連接于該傳輸管路的該第一端與該第二端之間，而該儲水槽，則連接于該傳輸管路的該第一端與該第三端之間。該閥門，連接于該第一端、該真空槽與該儲水槽之間，借以控制該真空槽與該第一端或該儲水槽與該第一端的啟閉狀態(tài)。
由上述可知，本發(fā)明借助在傳輸管路內(nèi)設置預抽真空的真空槽，以及預先儲水的儲水槽，可有效加快吸附基板與釋放基板的速度，而可提升真空承載設備的效率。
以下結合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行詳細描述，但不作為對本發(fā)明的限定。


圖1為公知真空承載設備的示意圖；圖2為本發(fā)明一較佳實施例的真空承載設備的示意圖；圖3為本實施例的真空承載設備在吸附模式下的示意圖；圖4與圖5為本實施例的真空承載設備在釋放模式下的示意圖。
其中，附圖標記10 真空承載設備 12 真空承載平臺14 通孔 16 承載面18 基板 20 傳輸管路21 第一端 22 第二端23 第三端 24 真空泵26 去離子水源 30 真空承載設備
32 真空承載平臺 34 基板36 承載面 38 通孔40 傳輸管路 41 第一端42 第二端 43 第三端44 真空泵 46 去離子水源48 真空槽 50 儲水槽52 閥門 54 壓縮空氣源56 第一旁通管路 58 第二旁通管路60 閥門具體實施方式
請參考圖2，為本發(fā)明一較佳實施例的真空承載設備的示意圖。如圖2所示，本實施例的真空承載設備30包含有一真空承載平臺32，以及一傳輸管路40。真空承載平臺32具有一承載面36，用以承載與固定一基板34，且真空承載平臺32為多孔性結構設計，其包含有數(shù)個通孔38，通孔38的一端與傳輸管路40連通，而另一端則開孔在真空承載平臺32的承載面36。傳輸管路40包含有一第一端41、一第二端42以及一第三端43，其中第一端41連接至真空承載平臺32的通孔38，第二端42連接至一真空泵44，第三端43則連接至一去離子水源46。
本實施例的真空承載設備30包含有一真空槽(vacuum tank)48，連接于傳輸管路40的第一端41與第二端42之間，一儲水槽(water tank)50，連接于傳輸管路40的第一端41與第三端43之間，以及至少一閥門52，連接于第一端41、真空槽48與儲水槽50之間，借以控制真空槽48與第一端41或儲水槽50與第一端41的啟閉狀態(tài)。本實施例的真空承載設備，還包含有一壓縮空氣源(compressed dry air，CDA)54，連通于儲水槽50，并可連通于真空槽48。在真空承載設備30運轉期間，真空槽48隨時保持在預抽真空的狀態(tài)，同時儲水槽50內(nèi)也預先儲存有去離子水。另外，在本實施例中真空槽48與儲水槽50皆連接于靠近第一端41的傳輸管路40，且在設置真空槽48與儲水槽50的位置時，真空槽48與儲水槽50的位置越靠近傳輸管路40的第一端41，也就是越靠近真空承載平臺32，在進行基板34的吸附或釋放時的效果越好。本實施例的真空承載設備30還可包含有一第一旁通管路(bypass pipe)56，連接真空槽48與真空泵44，以及一第二旁通管路58，連接儲水槽50與去離子水源46。此外，傳輸管路40還可設置數(shù)個閥門60，分別設于真空承載設備30的各單元之間，借以在操作過程中控制空氣或去離子水的流動路徑或流量。
請參考圖3，為本實施例的真空承載設備在吸附模式下的示意圖，其中在圖中粗線部分表示氣體或液晶的流動路線。如圖3所示，在設定為吸附模式時，閥門52會調(diào)整為對真空槽48開啟而對儲水槽50關閉的狀態(tài)，也就是傳輸管路40的第一端41與真空槽48(第二端42)導通，而由于真空槽48已預抽真空，真空承載平臺32的通孔38可短時間內(nèi)就達到真空狀態(tài)以吸附基板34。此外，在吸附模式下，第一旁通管路56與真空槽48間的閥門60為開啟，借此在真空泵44抽真空時可經(jīng)由第一旁通管路56，而避免吸入真空槽48底部可能積存的水。
請參考圖4與圖5，圖4與圖5為本實施例的真空承載設備在釋放模式下的示意圖，其中在圖中粗線部分表示氣體或液晶的流動路線。如圖4所示，在釋放模式下的第一階段，閥門52會被調(diào)整為對儲水槽50開啟而對真空槽48為關閉，借此第一端41會與儲水槽50(第三端43)導通，而由于儲水槽50內(nèi)預先儲存了去離子水，再借助壓縮空氣源54所注入的壓縮空氣，儲水槽50內(nèi)的去離子水會經(jīng)真空承載平臺32的通孔38涌出以使基板34脫離真空承載平臺32。另外，位于壓縮空氣源54與真空槽48間的閥門60也可被開啟，借此壓縮空氣也可注入真空槽48內(nèi)，將真空槽48底部的積存水經(jīng)真空泵44排放出去。
如圖5所示，在釋放模式下的第二階段，儲水槽50內(nèi)的去離子水到達低水位時，去離子水源48會開始供水，并經(jīng)第二旁通管路58繼續(xù)將去離子水注入真空承載平臺32的通孔38內(nèi)，以釋放基板34，同時去離子水源48也可在此時持續(xù)補充儲水槽50內(nèi)的去離子水至高水位。
由上述可知，本發(fā)明借助在傳輸管路內(nèi)設置預抽真空的真空槽，以及預先儲水的儲水槽，可有效加快吸附基板與釋放基板的速度，而可提升真空承載設備的效率。值得說明的是，本發(fā)明的真空承載設備的應用并不限于上述實施例的設計配置，而是可依實際需要而加以變更設計。舉例來說，基于成本與效率的考慮，本發(fā)明的真空承載設備也可單獨設置真空槽而不設置儲水槽，或是單獨設置儲水槽而不設置真空槽。另外，傳輸管路的閥門的設置也不限于上述實施例，例如用以選擇吸附模式或釋放模式之閥門，可不限于上述實施例的附圖所示的單一可變閥門，而可為任何具有轉向的閥門或由數(shù)個閥門所組合而成。此外值得說明的是，本發(fā)明的真空承載設備可應用于液晶顯示面板的各類工藝流程，例如彩色濾光片基板的研磨工藝流程，或是任何可利用真空吸附加以承載固定的基板的工藝處理流程。
當然，本發(fā)明還可有其他多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質的情況下，熟悉本領域的技術人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明所附的權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種真空承載設備，用以承載與固定一基板，并與一真空泵及一去離子水源連接，其特征在于，包含有一真空承載平臺，具有數(shù)個通孔；一傳輸管路，包含有一第一端、一第二端以及一第三端，該第一端連接至該真空承載平臺的該通孔，該第二端連接至該真空泵，該第三端連接至該去離子水源；一真空槽，連接于該傳輸管路的該第一端與該第二端之間；一儲水槽，連接于該傳輸管路的該第一端與該第三端之間；以及至少一閥門，連接于該第一端、該真空槽與該儲水槽之間，借以控制該真空槽與該第一端或該儲水槽與該第一端的啟閉狀態(tài)。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空承載設備，其特征在于，還包含有一壓縮空氣源，連通于該儲水槽。
3.根據(jù)權利要求2所述的真空承載設備，其特征在于，該壓縮空氣源還連通于該真空槽。
4.根據(jù)權利要求1所述的真空承載設備，其特征在于，該真空槽連接于靠近該第一端的該傳輸管路上。
5.根據(jù)權利要求1所述的真空承載設備，其特征在于，該儲水槽連接于靠近該第一端的該傳輸管路上。
6.根據(jù)權利要求1所述的真空承載設備，其特征在于，還包含有一第一旁通管路，連接該真空槽與該真空泵。
7.根據(jù)權利要求1所述的真空承載設備，其特征在于，還包含有一第二旁通管路，連接該儲水槽與該去離子水源。
8.根據(jù)權利要求1所述的真空承載設備，其特征在于，該閥門包含有一吸附模式與一釋放模式，在該吸附模式下該閥門對該真空槽為開啟而對該儲水槽為關閉，使該第一端與該真空槽導通，在該釋放模式下該閥門對該儲水槽為開啟而對該真空槽為關閉，使該第一端與該儲水槽導通。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種真空承載設備，包含一真空承載平臺、一傳輸管路、一真空槽、一儲水槽與至少一閥門。真空承載平臺具有通孔，傳輸管路的第一端連接至通孔，第二端連接至真空泵，第三端連接至去離子水源。真空槽連接于第一端與第二端之間，而儲水槽則連接于第一端與第三端之間。閥門用以控制真空槽與第一端或儲水槽與第一端的啟閉。
文檔編號G02F1/13GK1959487SQ20061013828
公開日2007年5月9日 申請日期2006年11月10日 優(yōu)先權日2006年11月10日
發(fā)明者莊爵豪, 梁淑斐, 王泳麒, 曾建春 申請人:友達光電股份有限公司