專利名稱：一種用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造中使用的光刻膠涂布系統(tǒng)，尤其涉及一種 用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前，半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中光刻膠成膜往往使用旋涂法，其所形成的膜 的厚度與旋涂時的轉(zhuǎn)速，光刻膠濃度及粘度有關(guān)。對于光刻膠在一定溫度 條件下，其粘度是固定的。而實際生產(chǎn)中所使用的涂膠機，在光刻膠涂布 到硅片上之前，先經(jīng)過水浴溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)(即現(xiàn)有的光刻膠水浴溫度調(diào)節(jié)
系統(tǒng))，調(diào)整光刻膠到攝氏23度，而涂膠機中杯子(cup)的環(huán)境溫度也 是攝氏23度。在此過程中，由于光刻膠的溫度與環(huán)境溫度完全相同，所 以理論上，光刻膠的此時化學(xué)性質(zhì)是最穩(wěn)定。因此在現(xiàn)有的設(shè)備和工藝中， 光刻膠溫度調(diào)節(jié)速度比較緩慢，而在固定的溫度下， 一種光刻膠由于粘度 和濃度是固定的，因此其膜厚范圍主要受機器的轉(zhuǎn)速制約，范圍非常有限, 不能通過調(diào)整光刻膠溫度來調(diào)整光刻膠膜厚可涂布的范圍，因此對于工廠 往往需要相同性質(zhì)的幾種粘度的光刻膠來應(yīng)付實際生產(chǎn)的需要。因此對于 工廠往往需要相同性質(zhì)的幾種粘度的光刻膠來應(yīng)付實際生產(chǎn)的需要，這樣 一來大大降低了涂膠機的設(shè)備利用率，同時增加了采購成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種用于光刻膠成膜的光刻膠加熱 控制系統(tǒng)，可在涂膠過程中調(diào)節(jié)光刻膠溫度，來調(diào)整光刻膠的膜厚可涂布
范圍。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的光刻膠加熱控制系統(tǒng)除包括通常的光
刻膠管道、光刻膠噴嘴、RRC(Resist Reduction Coating光刻膠減少涂層) 噴嘴外，還包括光刻膠加熱系統(tǒng)，其位置位于光刻膠噴嘴周圍。該光刻 膠加熱系統(tǒng)包括光刻膠溫度控制器和自動反饋系統(tǒng)，其中該自動反饋系統(tǒng) 通過設(shè)定程序?qū)崟r反饋控制控制光刻膠溫度的變化速度和精確度，光刻膠 溫度控制器包括光刻膠溫度探測器和溫度控制系統(tǒng)，按自動反饋系統(tǒng)的指 令控制光刻膠溫度在預(yù)設(shè)溫度。上述溫度控制系統(tǒng)是非接觸的。該溫度控 制系統(tǒng)的加熱方式為射頻模式、紅外加熱或光源加熱等其他形式。
本發(fā)明的光刻膠加熱控制系統(tǒng)，由于采用可控的非接觸式加熱方式微 調(diào)光刻膠的溫度，來調(diào)節(jié)光刻膠的粘度，而粘度的不同，就直接影響到光 刻膠在硅片上的最終厚度，從而來調(diào)整光刻膠的膜厚可涂布范圍。同時， 它還能提高光刻膠的溫度控制精度，提高光刻膠溫度調(diào)節(jié)的速度，從而提 高涂布機的產(chǎn)能。


圖1是本發(fā)明一個具體實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
眾所周知，在實際涂膠過程中，光刻膠的溫度并不是嚴(yán)格的攝氏23 度。不同的光刻膠溫度直接影響到光刻膠的粘性，而粘性的不同，就直接 影響到光刻膠在硅片上的最終厚度。當(dāng)然，在這個過程中，光刻膠的溫度 不能任意調(diào)節(jié)，它必須在一定范圍內(nèi)，否則會改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)，以 至產(chǎn)生顆粒和缺陷。本發(fā)明系統(tǒng)設(shè)計的出發(fā)點即在在涂膠過程中，通過調(diào) 節(jié)光刻膠溫度，來調(diào)節(jié)光刻膠的粘度，而粘度的不同，就直接影響到光刻 膠在硅片上的最終厚度，從而來調(diào)整光刻膠的膜厚可涂布范圍。該系統(tǒng)是 在光刻膠涂布的噴嘴周圍加載一個光刻膠加熱系統(tǒng)，它可以按照程序設(shè)定
決定是否使用；它是一種非接觸式的加熱方法，可以迅速的給光刻膠加熱； 當(dāng)達到所需溫度時，又可以及時撤走熱源；同時，具有良好的溫度均一性。 它的實現(xiàn)方式，可以是通過射頻(RF)模式，紅外加熱，光源加熱方式， 或者其他加熱方式;它的精度可以比現(xiàn)有的水浴溫度調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)更加精 確，以達到通過調(diào)節(jié)光刻膠溫度來實現(xiàn)調(diào)整光刻膠膜厚的可涂布的范圍。
下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細(xì)的說明。
實施例
如圖1所示，是本發(fā)明一個具體實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。該系統(tǒng)包括光 刻膠管道、光刻膠噴嘴、RRC噴嘴和光刻膠加熱系統(tǒng)，其中光刻膠加熱系 統(tǒng)包括光刻膠溫度控制器和自動反饋系統(tǒng)，在進行硅片噴涂光刻膠前，RRC 噴嘴先向硅片表面噴涂一層溶劑，然后迅速甩掉，這樣可以減少光刻膠的 使用量，然后光刻膠經(jīng)光刻膠管道流到光刻膠噴嘴，在這個過程中，在光 刻膠溫度控制器上預(yù)先設(shè)定精確的光刻膠溫度23攝氏度，光刻膠溫度控 制器部分包含光刻膠溫度探測器，通過自動反饋裝置來控制光刻膠溫度的 變化速度和精確度。該實施例采用的非接觸式的加熱方法為射頻(RF)模 式，可以迅速的給光刻膠加熱，加熱時間為30秒；當(dāng)達到所需溫度時， 又可以及時撤走熱源；同時，具有良好的溫度均一性。需指出，上述光刻 膠溫度范圍為23+/-5攝氏度，非接觸式的加熱方式加熱時間0 60秒。
綜上所述，本發(fā)明通過調(diào)節(jié)光刻膠溫度，來調(diào)整光刻膠的粘度，直接
影響到光刻膠在硅片上的最終厚度，從而來調(diào)整光刻膠的膜厚可涂布范 圍。因此與現(xiàn)有的水浴溫度調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)相比擴大了膜厚的調(diào)整范圍，減 少涂膠機的光刻膠的種類，降低了采購成本。
權(quán)利要求
1、一種用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)，包括光刻膠管道、光刻膠噴嘴、RRC噴嘴；所述RRC用于在向硅片表面噴涂光刻膠前，先向硅片表面噴涂一層溶劑；光刻膠經(jīng)所述光刻膠管道流到光刻膠噴嘴噴涂于硅片表面；其特征在于，還包括光刻膠加熱系統(tǒng)，其位置位于所述光刻膠噴嘴周圍。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)，其特 征在于，所述光刻膠加熱系統(tǒng)包括光刻膠溫度控制器和自動反饋系統(tǒng)，其 中，所述自動反饋系統(tǒng)通過設(shè)定程序?qū)崟r反饋控制控制光刻膠溫度的變化 速度和精確度，所述光刻膠溫度控制器包括光刻膠溫度探測器和溫度控制 系統(tǒng)，按所述自動反饋系統(tǒng)的指令控制光刻膠溫度在預(yù)設(shè)溫度，該預(yù)設(shè)溫 度溫度范圍為18、28攝氏度。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)，其特 征在于，所述溫度控制系統(tǒng)是非接觸的。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)，其特 征在于，所述溫度控制系統(tǒng)的加熱方式為射頻模式、紅外加熱或光源，加 熱時間為0 60秒。
全文摘要
本發(fā)明公開了用于光刻膠成膜的光刻膠加熱控制系統(tǒng)，該系統(tǒng)除包括通常的光刻膠管道、光刻膠噴嘴、RRC噴嘴外，還包括光刻膠加熱系統(tǒng)，其位置位于光刻膠噴嘴周圍。該光刻膠加熱系統(tǒng)包括光刻膠溫度控制器和自動反饋系統(tǒng)，其中該自動反饋系統(tǒng)通過設(shè)定程序?qū)崟r反饋控制控制光刻膠溫度的變化速度和精確度，光刻膠溫度控制器包括光刻膠溫度探測器和溫度控制系統(tǒng)，按自動反饋系統(tǒng)的指令控制光刻膠溫度在預(yù)設(shè)溫度。上述溫度控制系統(tǒng)是非接觸的。該溫度控制系統(tǒng)的加熱方式為射頻模式、紅外加熱或光源加熱等其他形式。本發(fā)明可在涂膠過程中調(diào)節(jié)光刻膠溫度，來調(diào)整光刻膠的膜厚可涂布范圍。
文檔編號G03F7/16GK101178542SQ20061011804
公開日2008年5月14日 申請日期2006年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月8日
發(fā)明者雷 王, 陳福成, 瑋 黃 申請人:上海華虹Nec電子有限公司